JPS62195618A - Optical scanner - Google Patents

Optical scanner

Info

Publication number
JPS62195618A
JPS62195618A JP3747086A JP3747086A JPS62195618A JP S62195618 A JPS62195618 A JP S62195618A JP 3747086 A JP3747086 A JP 3747086A JP 3747086 A JP3747086 A JP 3747086A JP S62195618 A JPS62195618 A JP S62195618A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
lenses
disk
resist
scanning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3747086A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaya Ooyama
大山 正弥
Maki Yamashita
山下 牧
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Omron Corp
Original Assignee
Omron Tateisi Electronics Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Omron Tateisi Electronics Co filed Critical Omron Tateisi Electronics Co
Priority to JP3747086A priority Critical patent/JPS62195618A/en
Publication of JPS62195618A publication Critical patent/JPS62195618A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

PURPOSE:To attain linear scanning by arranging plural scanning lenses around the periphery of a rotary disk along the peripheral direction. CONSTITUTION:Many scanning lenses 12 are arranged and fixed on the outer periphery of the rotary disk 1 along the circumference of the disk 1. The lenses 12 are constituted of Fresnel lenses such that the phase distribution (thickness distribution) is vertical to radiant rays extended from the center of the disk 1. Namely, the thickness distribution of the lenses 12 is uniform on the radiant rays. The thickness distribution can be obtained by condensing optical beams in the reaction vertical to the radiant rays. Since the lenses 12 having such a kind of thickness distribution is provided with a function for bending the optical beams only in the direction vertical to the radiant rays without having a function for bending the optical beams in the radial directions of the disk 1, the optical beams made incident upon the lenses 12 in accordance with the rotation of the disk 1 are scanned only in the Y direction.

Description

【発明の詳細な説明】 発明の要約 回転ディスクの外周付近に庚数個のスキャニング・レン
ズが周方向に配置されている光スキャナにおいて、上記
スキャニング・レンズが3位相分布が回転ディスク中心
からのびる放射線に対して垂直となるようなフレネル・
レンズから構成されており、これによって光ビームを上
下方向にのみスキャニングし1.横ノj向への振れを無
くシたことを特徴とする。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Summary of the Invention In an optical scanner in which several scanning lenses are arranged in the circumferential direction near the outer periphery of a rotating disk, the scanning lens has a three-phase distribution that detects radiation extending from the center of the rotating disk. Fresnel curve perpendicular to
It consists of a lens that scans the light beam only in the vertical direction.1. It is characterized by eliminating vibration in the lateral direction.

発明の背景 技術分野 この発明は、いわゆるホログラム・ディスクといわれる
回転ディスクを有し、この回転ディスクの回転にしたが
って1回転ディスクの周辺に配置されたホログラム・レ
ンズによって入射光ビームをスキャンする光スキャナに
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION TECHNICAL FIELD This invention relates to an optical scanner that has a rotating disk called a hologram disk and scans an incident light beam with a hologram lens disposed around the rotating disk as the rotating disk rotates. .

従来技術 従来の光スキャナの概略構成が第1図に示されている。Conventional technology A schematic configuration of a conventional optical scanner is shown in FIG.

回転ディスクlはその中心で軸lOにより回転自在に支
持され、かつ回転駆動装置によって回転駆動される。こ
の回転ディスク1の外周部には、多数のホログラム・レ
ンズ2がその周方向にそって配置されている。
The rotating disk 1 is rotatably supported at its center by a shaft 1O, and is rotationally driven by a rotational drive device. A large number of hologram lenses 2 are arranged along the circumferential direction of the rotating disk 1 at its outer circumference.

レーザ3から出射した光ビームは、レンズ4で平行光に
変換され、さらにシリンドリカル・レンズ5によってY
方向に収束され偏平な光に変換され、穴あき鏡6の穴を
通って1回転ディスク1の周辺に配置されたホログラム
・レンズ2に入射する。
The light beam emitted from the laser 3 is converted into parallel light by a lens 4, and further converted into Y by a cylindrical lens 5.
The light is converged in the same direction and converted into flat light, which passes through the hole of the perforated mirror 6 and enters the hologram lens 2 arranged around the one-rotation disk 1 .

第2図および第3図に示すように1回転ディスク1の回
転にともないホログラム・レンズ2は。
As shown in FIGS. 2 and 3, the hologram lens 2 rotates as the disk 1 rotates once.

その中心の軌跡をAで示すように1円運動をする。光ビ
ームBは、レンズ2の円運動にともない相対的にこのレ
ンズ2上を円弧上に走査されることになる。この結果、
ホログラム・レンズ2を通過した光はY方向に走査され
ながら物体7に照射される。
It makes a circular motion as the locus of its center is indicated by A. As the lens 2 moves circularly, the light beam B is relatively scanned on the lens 2 in an arc. As a result,
The light that has passed through the hologram lens 2 is irradiated onto the object 7 while being scanned in the Y direction.

物体7から反射して戻ってきた光は、鏡6で反射して、
ライン・センサ8によって受光される。
The light reflected from the object 7 is reflected by the mirror 6, and
The light is received by the line sensor 8.

これによって、物体7の表面上の情報が得られる。1つ
のホログラム・レンズ2の通過によって光ビームはY方
向に1往復走査される。物体7がX方向に移動していれ
ば、ディスク1の回転にともなって光ビームがレンズ2
に次々と走査されることによって、物体7の表面全体の
情報か検知される。
This provides information on the surface of the object 7. By passing through one hologram lens 2, the light beam is scanned back and forth once in the Y direction. If the object 7 is moving in the X direction, the light beam will be directed to the lens 2 as the disk 1 rotates.
By scanning the object 7 one after another, information on the entire surface of the object 7 can be detected.

しかしながら、光ビームBのレンズ2上における相対的
な走査軌跡は、レンズ2の中心の軌跡と同じように円弧
を描くので、レンズ2から出射する光ビームはY方向に
走査されるのみならず。
However, since the relative scanning locus of the light beam B on the lens 2 draws an arc in the same way as the locus of the center of the lens 2, the light beam emitted from the lens 2 is not only scanned in the Y direction.

X方向にも偏向されることになる。この結果、物体7上
における光ビームの走査軌跡も実際は円弧状になり、厳
密な意味での直線状の走査はできなかった。
It will also be deflected in the X direction. As a result, the scanning locus of the light beam on the object 7 actually became arcuate, and linear scanning in the strict sense of the word was not possible.

発明の概要 発明の目的 この発明は、直線状の走査を達成することのできる光ス
キャナを提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION OBJECTS OF THE INVENTION It is an object of the invention to provide an optical scanner capable of achieving linear scanning.

発明の構成と効果 この発明による光スキャナは1回転ディスクの外周付近
に戊数個のスキャニング・レンズが周方向にそって配置
されている光スキャナにおいて。
Structure and Effects of the Invention The optical scanner according to the present invention is an optical scanner in which several scanning lenses are arranged along the circumferential direction near the outer periphery of a one-rotation disk.

上記スキャニング・レンズが1位相分布が回転ディスク
中心からのびる放射線に対して垂直となるようなフレネ
ル・レンズから構成されていることを特徴とする。
The scanning lens is characterized in that it is constituted by a Fresnel lens in which one phase distribution is perpendicular to the radiation extending from the center of the rotating disk.

フレネル・レンズの位相分布(厚さの分布)が回転ディ
スク中心からのびる放射線に対して垂直になるように形
成されている。すなわち回転ディスクの中心を中心とす
る同心円上に分布しているので1回転ディスクの回転に
ともなってこのレンズに入射する光ビームは上記放射線
に垂直な方向(Y方向)にのみ走査され、左右(X方向
)への振れが無くなる。したがって、常に直線状の光ビ
ーム・スキャンを実現できる。
The Fresnel lens is formed so that its phase distribution (thickness distribution) is perpendicular to the radiation extending from the center of the rotating disk. In other words, since they are distributed on concentric circles centered on the center of the rotating disk, the light beam incident on this lens as the disk rotates once is scanned only in the direction perpendicular to the radiation (Y direction), The vibration in the X direction is eliminated. Therefore, linear light beam scanning can always be achieved.

好ましくは1.I−記フレネル・レンズを次の工程によ
って作製する。
Preferably 1. I-A Fresnel lens is manufactured by the following steps.

すなわち、基板」二に電子線レジストを塗布し。That is, apply electron beam resist to the substrate.

電子線描画法によりこのレジスト上にレンズ等の所定パ
ターンを描画し、その後レジストを現像し、この基板上
の残膜レジスト・パターンを雄型として電鋳法によって
雌型を作成し、この雌型を用いてプラスチック射出成形
によってレンズを作製する。
A predetermined pattern such as a lens is drawn on this resist using an electron beam lithography method, and then the resist is developed. Using the residual film resist pattern on the substrate as a male mold, a female mold is created using an electroforming method. Lenses are manufactured by plastic injection molding using

この作製法によると、電子線描画装置において電子線照
射量と描画位置をコンピュータでコントロールできるた
め、収差のない理想的なレンズ・パターンが得られる。
According to this manufacturing method, the amount of electron beam irradiation and the writing position can be controlled by a computer in the electron beam writing apparatus, so that an ideal lens pattern without aberrations can be obtained.

平板状でしかも単レンズで充分な能力を持つレンズが得
られるので小型でスペースをとらないレンズ系の構成が
可能となる。
Since a lens having a flat plate shape and sufficient performance can be obtained with a single lens, it is possible to construct a compact lens system that does not take up much space.

研磨等の工程が省け、製作が容易である。プラスチック
を型どりして作れるので4産性に優れている。レンズ形
状はコンピュータ・ソフトウェアにより決定されるので
形状の変更、改良等が自由でフレキシビリティが高い等
の効果が得られる。
Processes such as polishing can be omitted and manufacturing is easy. Since it can be made by molding plastic, it has excellent productivity. Since the lens shape is determined by computer software, the shape can be freely changed and improved, resulting in high flexibility.

実施例の説明 第4図はこの発明の実施例を示している。第4図におい
て、第1図に示すものと同一物には同一符号が付けられ
ている。
DESCRIPTION OF THE EMBODIMENT FIG. 4 shows an embodiment of the invention. In FIG. 4, parts that are the same as those shown in FIG. 1 are given the same reference numerals.

回転ディスク1の外周上には、多数のスキャニング・レ
ンズ12が円周にそって配置されかつ固定されている。
On the outer periphery of the rotating disk 1, a large number of scanning lenses 12 are arranged and fixed along the circumference.

第5図はこの回転ディスク1を平面からみたものであり
、第6図は第5図の鎖線の円で囲まれたレンズ12を斜
めからみたものであり、第7図はこのレンズ12を側方
からみたものである。これらの図からも分るように、ス
キャニング・レンズ12は、その位相分布(厚さの分布
)が1回転ディスク1の中心からのびる放射線に対して
垂直となるようなフレネル・レンズから構成されている
。すなわち、このフレネル・レンズ12の厚さ分布は、
上記放射線上で均一となっている。この厚さ分布は、上
記放射線に垂直となる方向に光ビームを集光するような
分布とすればよい。
FIG. 5 shows this rotating disk 1 viewed from above, FIG. 6 shows the lens 12 surrounded by the chain line circle in FIG. 5 viewed from an angle, and FIG. This is the view from the other side. As can be seen from these figures, the scanning lens 12 is composed of a Fresnel lens whose phase distribution (thickness distribution) is perpendicular to the radiation extending from the center of the one-rotation disk 1. There is. That is, the thickness distribution of this Fresnel lens 12 is
It is uniform on the above radiation. This thickness distribution may be such that the light beam is focused in a direction perpendicular to the radiation.

このような厚さ分布をもつフレネル・レンズ12は1回
転ディスク1の放射線方向に光ビームを曲げる作用を全
く持たず、放射線に垂直な方向にのみ光ビームを曲げる
機能のみをもつから2回転ディスク1の回転にともなっ
てレンズ12に入射する光ビームはY方向にのみ走査さ
れる。
The Fresnel lens 12 having such a thickness distribution does not have any function of bending the light beam in the radial direction of the single-rotation disk 1, but has the function of bending the light beam only in the direction perpendicular to the ray, so it is a double-rotation disk. The light beam incident on the lens 12 as the lens 1 rotates is scanned only in the Y direction.

このレンズ12は円形ビームを偏平な光ビームに変換す
る機能をもっているから、シリンドリカル・レンズ5は
必ずしも必要ではない。
Since this lens 12 has the function of converting a circular beam into a flat light beam, the cylindrical lens 5 is not necessarily required.

このフレネル・レンズ12は好ましくは次のようにして
作製される。
This Fresnel lens 12 is preferably manufactured as follows.

第8図において、基板21.たとえばSi表面上に電子
線レジスト22a、たとえばCM S −EX(R)(
ネガ形レジスト)を一様に塗布し。
In FIG. 8, the substrate 21. For example, an electron beam resist 22a, such as CM S-EX(R) (
Apply a negative resist (negative resist) uniformly.

電子線描画装置によってこのレジスト22a上に電子線
23を照射し、所定のレンズ雄型パターンを描画する(
第8図(A))。そして、このレジスト22aを現像処
理すると、基板21上には残膜レジストによる所定のレ
ンズ雄型パターン22bが残る(第8図(B))。電子
線レジストは、電子線の照射量を場所に応じてコントロ
ールすると。
An electron beam 23 is irradiated onto this resist 22a by an electron beam drawing device to draw a predetermined lens male pattern (
Figure 8(A)). When this resist 22a is developed, a predetermined lens male pattern 22b remains on the substrate 21 due to the residual film resist (FIG. 8(B)). For electron beam resist, the amount of electron beam irradiation is controlled depending on the location.

それを現像したのちに残る膜の厚さが照射量に依存して
場所に応じて変わる。電子線描画装置はコンピュータで
制御され、電子線の照射はを基板」二に定めた座標位置
ごとに任意に変化させることができる。また、その変化
パターンもソフトウェアにより自由に決定しまたは選択
することができる。
The thickness of the film that remains after it is developed depends on the irradiation dose and varies depending on the location. The electron beam drawing device is controlled by a computer, and the electron beam irradiation can be arbitrarily changed for each coordinate position determined on the substrate. Moreover, the change pattern can also be freely determined or selected by software.

このようにして形成された所定のレンズ雄型パターンの
残膜レジスト22bをもつ基板21上に金を蒸着して電
極層24を形成する(第8図(C))。さらにその上に
クロムをめっきすることによりめっき層25をつくる゛
(第8図(D))。蒸着により形成した金の電極層24
はめっき処理を行なうときの電極として用いられるもの
で、その19さは数十オングストローム程度、めっき層
25は射出成形の雌型となるものであるから数ミクロン
以上が好ましい。残膜レジスト22b、および必要なら
ばSt基板21を、有機溶剤、エツチング液等で溶解し
て除去すれば、電極層24とめっき層25とからなる雌
型が残る。
Gold is evaporated onto the substrate 21 having the residual film resist 22b of the predetermined lens male pattern thus formed to form the electrode layer 24 (FIG. 8(C)). Further, a plating layer 25 is formed by plating chromium thereon (FIG. 8(D)). Gold electrode layer 24 formed by vapor deposition
The layer 25 is used as an electrode during plating processing, and its thickness is approximately several tens of angstroms.Since the plating layer 25 serves as a female mold for injection molding, it is preferably several microns or more. If the residual film resist 22b and, if necessary, the St substrate 21 are dissolved and removed using an organic solvent, an etching solution, etc., a female mold consisting of the electrode layer 24 and the plating layer 25 remains.

このようにして形成された雌型を用いて射出成形によっ
て、プラスチック・レンズ12を作製する(第8図(E
))。
A plastic lens 12 is manufactured by injection molding using the female mold thus formed (Fig. 8 (E).
)).

雌型25(電極層24も角むが便宜的に符号25を用い
る)を用いてプラスチック・レンズ12を成形するやり
方にはいくつかあろう。たとえば、第9図(A)に示す
ように、四部30aをもつ金型30の凹部30a内に嵯
型25を収め。
There are several ways to mold the plastic lens 12 using the female mold 25 (the electrode layer 24 is also square, but the reference numeral 25 is used for convenience). For example, as shown in FIG. 9(A), a mold 25 is placed in a recess 30a of a mold 30 having four parts 30a.

上から紫外線硬化樹脂を流し込み、この樹脂を紫外線の
照射によって硬化させることにより、レンズ12ができ
る。
The lens 12 is formed by pouring an ultraviolet curing resin from above and curing this resin by irradiating ultraviolet light.

また、2つの割型31.32を用い、一方の割型31の
凹部31aに雌!!![225を収め9両型31.32
を向いあわせにして接合する。そして割Hi132の凹
部32a内に樹脂を射出する。
Also, using two split molds 31 and 32, fill the recess 31a of one of the split molds 31 with a female! ! ! [Contains 225, 9-car type 31.32
Connect them facing each other. Then, resin is injected into the recess 32a of the split Hi 132.

最後に、−例としてフレネル・・レンズの雄型パターン
すなわち残存レジスト・パターンについて2徴的に示し
ておく。
Finally, as an example, two characteristics of the male pattern of a Fresnel lens, that is, the residual resist pattern will be shown.

フレネル中レンズの雄型パターン形状(フレネル・レン
ズ雄パターン形状) F (r)は次式で表わされる。
The male pattern shape of a Fresnel medium lens (Fresnel lens male pattern shape) F (r) is expressed by the following equation.

F(r)=d− (d/ 2 yr) ・([(πr 2)ハλf )]
 (mod2yr )1d−λ/(n−1) ただし。
F(r)=d- (d/2yr) ・([(πr 2)haλf)]
(mod2yr)1d-λ/(n-1) However.

r:レンズの中心から上記放射線に垂直な方向に向って
とった距離 d レンズの厚さ λ:レンズに入射する光の波長 f:レンズの焦点lll′i離 n:レンズ177、成物質の屈折率
r: distance d from the center of the lens in the direction perpendicular to the above radiation; thickness of the lens λ: wavelength of light incident on the lens; f: focal point of the lens; rate

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来の光スキャナの構成を示す斜視図、第2図
および第3図は、」−2先スキャナによって光ビームが
走渣される様子を示すもので。 (A)は正面図、(B)は断面図である。 第4図はこの発明の実施例を示す斜視図、第5図は1回
転ディスクの平面図、第6図はスキャニング・レンズの
斜視図、第7図は同レンズの断面図である。 第8図(A)から(E)は、スキャニング・レンズを作
製する工程を順を追って説明するための工程図、第9図
(A)お゛よび(B)は同レンズの成形工程の例をそれ
ぞれ示す断面図である。 ■・・・回転ディスク。 12・・・スキャニング・レンズ (フレネル・レンズ)。 以  上 特許出願人  立石電機株式会社 代 理 人   弁理士 牛 久 健 司(外1名) 第8 図 (A) (D) (E) 第9図 3I    Zコ   5z
FIG. 1 is a perspective view showing the configuration of a conventional optical scanner, and FIGS. 2 and 3 show how a light beam is scanned by the 2-point scanner. (A) is a front view, and (B) is a sectional view. FIG. 4 is a perspective view showing an embodiment of the invention, FIG. 5 is a plan view of a one-rotation disk, FIG. 6 is a perspective view of a scanning lens, and FIG. 7 is a sectional view of the same lens. Figures 8 (A) to (E) are process diagrams for explaining step-by-step the steps of manufacturing a scanning lens, and Figures 9 (A) and (B) are examples of the molding process of the same lens. FIG. ■...Rotating disk. 12...Scanning lens (Fresnel lens). Patent applicant Tateishi Electric Co., Ltd. Agent Patent attorney Kenji Ushiku (and one other person) Figure 8 (A) (D) (E) Figure 9 3I Z 5z

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)回転ディスクの外周付近に複数個のスキャニング
・レンズが周方向に配列されている光スキャナにおいて
、上記スキャニング・レンズが、位相分布が回転ディス
ク中心からのびる放射線に対して垂直となるようなフレ
ネル・レンズから構成されていることを特徴とする光ス
キャナ。
(1) In an optical scanner in which a plurality of scanning lenses are arranged circumferentially near the outer periphery of a rotating disk, the scanning lenses are configured so that the phase distribution is perpendicular to the radiation extending from the center of the rotating disk. An optical scanner characterized by comprising a Fresnel lens.
(2)上記フレネル・レンズがプラスチック・フレネル
・レンズであって、それは、基板上に電子線レジストを
塗布し、電子線描画法によりレジスト上にレンズ等の所
定パターンを描画し、その後レジストを現像し、この基
板上の残膜レジスト・パターンを雄型として電鋳法によ
って雌型を形成し、この雌型を用いて作製されるもので
ある、特許請求の範囲第(1)項に記載の光スキャナ。
(2) The above-mentioned Fresnel lens is a plastic Fresnel lens, in which an electron beam resist is applied onto a substrate, a predetermined pattern such as a lens is drawn on the resist by an electron beam drawing method, and then the resist is developed. A female mold is formed by electroforming using the residual film resist pattern on this substrate as a male mold, and this female mold is used to produce the product. optical scanner.
JP3747086A 1986-02-24 1986-02-24 Optical scanner Pending JPS62195618A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3747086A JPS62195618A (en) 1986-02-24 1986-02-24 Optical scanner

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3747086A JPS62195618A (en) 1986-02-24 1986-02-24 Optical scanner

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62195618A true JPS62195618A (en) 1987-08-28

Family

ID=12498413

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3747086A Pending JPS62195618A (en) 1986-02-24 1986-02-24 Optical scanner

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62195618A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02136817A (en) * 1988-09-30 1990-05-25 Gold Star Co Ltd Holography scanner for laser printer

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02136817A (en) * 1988-09-30 1990-05-25 Gold Star Co Ltd Holography scanner for laser printer

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8263318B2 (en) Methods for mastering microstructures through a substrate using negative photoresist
US7763417B2 (en) Methods for fabricating optical microstructures using a cylindrical platform and a rastered radiation beam
JP4989223B2 (en) System and method for forming a microstructure by imaging a radiation sensitive layer sandwiched between outer layers and the microstructure formed thereby
JPS58145916A (en) Disk type lens optical scanner
US5289231A (en) Apparatus for manufacturing disc medium
JPS62195618A (en) Optical scanner
US3995948A (en) Phase mask for use in holographic apparatus
US5292550A (en) Manufacturing method of substrate means for optical recording disk and apparatus therefor
JPH0625829B2 (en) Holographic scanner spinner
JP2005524104A (en) Lithographic apparatus, method and computer program product
JPH05253535A (en) Spin coating method
JP2648048B2 (en) Hologram disk stamper manufacturing method
JP3058958B2 (en) Hologram lens manufacturing method and hologram lens manufacturing apparatus
US6307662B1 (en) Blazed diffraction scanner
JPH07270705A (en) Hologram disk and positioning method therefor
JPH06101150B2 (en) Disk blank manufacturing method and device
JPS5872125A (en) Optical scanning device
JPH0991771A (en) Production of optical recording medium
JPH03269409A (en) Hologram scanner
JPH04102886A (en) Jig for hologram duplication and manufacture of duplicated hologram
JPH05309319A (en) Rotary coating method
JPH01277346A (en) Manufacture of optical disk
JPH05323853A (en) Production of stamper of hologram
JPH07146638A (en) Hologram duplicating device and duplicating method
JPS601635A (en) Manufacture of preridged matrix for optical disk