JPS62192280A - 電子ビ−ム溶接機のシ−ムトラツカ− - Google Patents
電子ビ−ム溶接機のシ−ムトラツカ−Info
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- JPS62192280A JPS62192280A JP3329786A JP3329786A JPS62192280A JP S62192280 A JPS62192280 A JP S62192280A JP 3329786 A JP3329786 A JP 3329786A JP 3329786 A JP3329786 A JP 3329786A JP S62192280 A JPS62192280 A JP S62192280A
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- 238000003466 welding Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 13
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 abstract description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
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- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
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- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野J
本発明は、1L子ビーム溶接慎の自動化に関し、特に、
″電子ビームと、被濯接物の溶接線との位置−+− ズレ量を、偏向走査にエリ得られた反射電子の信号によ
り検出し、それを補正するシームトラッカーに関する。
″電子ビームと、被濯接物の溶接線との位置−+− ズレ量を、偏向走査にエリ得られた反射電子の信号によ
り検出し、それを補正するシームトラッカーに関する。
〔従来の技術3
従来の、この種装置の構成を示すブロックダイヤグラム
が第2図である。図で、1は′電子ビーム9の加速電源
で1′で接地される。6は37−ドで6′で接地される
。3はフィラメント(カソード)5の加熱型の、2は、
ウェネルト4にバイアス電圧を供給するバイアス電分、
4Oは主レンズコイル7にレンズ電流を供給するレンズ
重分、41け補正レンズコイル8にレンズ電流全供給す
る、補正レンズ電源24 、24’は被溶接物で、その
接合部は溶接線22として示されている。2oは溶接点
で電子ビーム9が被溶接物24に照射され溶接を実行し
ている点である。被溶接物24は31で接地された試料
台30の土に固定され、図示されない駆動系により矢印
の方向に移動される。溶接の完了した、溶接ビ・−ドけ
21として示される。
が第2図である。図で、1は′電子ビーム9の加速電源
で1′で接地される。6は37−ドで6′で接地される
。3はフィラメント(カソード)5の加熱型の、2は、
ウェネルト4にバイアス電圧を供給するバイアス電分、
4Oは主レンズコイル7にレンズ電流を供給するレンズ
重分、41け補正レンズコイル8にレンズ電流全供給す
る、補正レンズ電源24 、24’は被溶接物で、その
接合部は溶接線22として示されている。2oは溶接点
で電子ビーム9が被溶接物24に照射され溶接を実行し
ている点である。被溶接物24は31で接地された試料
台30の土に固定され、図示されない駆動系により矢印
の方向に移動される。溶接の完了した、溶接ビ・−ドけ
21として示される。
12は反射ML子23の検出アンテナである。46はシ
ームトラッカー制御部で、偏向コイル10のV軸に、鋸
歯状波発振器44お工びアンプ42を介して、偏向電流
合流し、電子ビーム9を溶接点から未溶接部分に先行さ
せ先行ビーム11とし、偏向コイル10のH軸に、鋸歯
状波発振器45お工びアンプ43全介して、偏向電流5
0全流し、先行ビーム11を溶接線22を横切る様に偏
向走査させ、溶接接合部における反射電子23の減少金
、切り込みパルス53として作成し、偏向走査タイムカ
ウンター47のストップ13号として送り込む、52は
波形整形器である。さらにシームトラッカー制御部46
は、タイムカウンター47に鋸歯状波発生器に与える走
査指令信号と、第3図に示す様な関係にある、タイム力
つ/メスタートパルス51全出し、偏向スタートから、
接合部に相当する切込みパルス53まで走査するに要し
た時間toを時間値54として受取り、同じく第3図で
tlとして示した、偏向スタートから偏向市流50がゼ
ロすなわち、′重子ビーム11が走査方向のオリジナル
ポイントラ通過するまでの時間との差t。
ームトラッカー制御部で、偏向コイル10のV軸に、鋸
歯状波発振器44お工びアンプ42を介して、偏向電流
合流し、電子ビーム9を溶接点から未溶接部分に先行さ
せ先行ビーム11とし、偏向コイル10のH軸に、鋸歯
状波発振器45お工びアンプ43全介して、偏向電流5
0全流し、先行ビーム11を溶接線22を横切る様に偏
向走査させ、溶接接合部における反射電子23の減少金
、切り込みパルス53として作成し、偏向走査タイムカ
ウンター47のストップ13号として送り込む、52は
波形整形器である。さらにシームトラッカー制御部46
は、タイムカウンター47に鋸歯状波発生器に与える走
査指令信号と、第3図に示す様な関係にある、タイム力
つ/メスタートパルス51全出し、偏向スタートから、
接合部に相当する切込みパルス53まで走査するに要し
た時間toを時間値54として受取り、同じく第3図で
tlとして示した、偏向スタートから偏向市流50がゼ
ロすなわち、′重子ビーム11が走査方向のオリジナル
ポイントラ通過するまでの時間との差t。
−t1′!i−求め、走査速度Vを垂じてビーム11と
、溶接線22との位置ズレ量を算出して、鋸歯状波発生
器45に対してl)Cオフセットデータ分与え最終的に
は、電子ビーム9を、位置ズレを補正する方向にシフト
させる。尚、溶接を実行させる時は、電子ビームの被溶
接物に対す焦点の位置は、被溶接物表面ではなく、被溶
接物の内部又は、手前に結ばせて、被溶接物表面では若
干焦点をずらす方が、溶接の仕上り状態が良好である事
が知られており、焦点をずらすのが一般的である。とこ
ろが、鮮明な切シ込みパルス53孕得るためVCは、定
歪時のビームrj:、出来る限り細く絞る心安がある。
、溶接線22との位置ズレ量を算出して、鋸歯状波発生
器45に対してl)Cオフセットデータ分与え最終的に
は、電子ビーム9を、位置ズレを補正する方向にシフト
させる。尚、溶接を実行させる時は、電子ビームの被溶
接物に対す焦点の位置は、被溶接物表面ではなく、被溶
接物の内部又は、手前に結ばせて、被溶接物表面では若
干焦点をずらす方が、溶接の仕上り状態が良好である事
が知られており、焦点をずらすのが一般的である。とこ
ろが、鮮明な切シ込みパルス53孕得るためVCは、定
歪時のビームrj:、出来る限り細く絞る心安がある。
この為、補正レンズ8に対(〜て、補正レンズ電源41
を介して、シームトラッカー副側j部46は、走査期間
中は、あらかじめ定められた量だけ、補正レンズ電流を
流し、焦点を被溶接物の表面に結ばせる。上記のシステ
ムに工す、溶接?極めて短時間中断して間欠的に走査し
、補正信号を作り出し、ビームを偏向させて位置ズレ會
補正するのである。
を介して、シームトラッカー副側j部46は、走査期間
中は、あらかじめ定められた量だけ、補正レンズ電流を
流し、焦点を被溶接物の表面に結ばせる。上記のシステ
ムに工す、溶接?極めて短時間中断して間欠的に走査し
、補正信号を作り出し、ビームを偏向させて位置ズレ會
補正するのである。
〔発明が解決しようとする問題点J
ところが、上記システムでは、反射電子検出信号53を
得る過程で、ノイズの除去手段は、波形整形器52は設
けであるものの、その方法は、アナログ的積分法又はコ
ンビーータを用いたデジタル的積分法によるもので、必
らずしも満足の出来るソN比が得られるものではなかっ
た。加えて溶接ビーム電流そのものを利用して走査を行
うため、被溶接物の板厚が増加して、溶接電力が増加す
ると、走査中に被溶接物の表面が融けて、反射電子信号
に欠落を生じ、トラッキング精度を劣化させていた。
得る過程で、ノイズの除去手段は、波形整形器52は設
けであるものの、その方法は、アナログ的積分法又はコ
ンビーータを用いたデジタル的積分法によるもので、必
らずしも満足の出来るソN比が得られるものではなかっ
た。加えて溶接ビーム電流そのものを利用して走査を行
うため、被溶接物の板厚が増加して、溶接電力が増加す
ると、走査中に被溶接物の表面が融けて、反射電子信号
に欠落を生じ、トラッキング精度を劣化させていた。
〔問題点全解決するための手段J
この発明は、かかる問題を解決すべく構成したもので、
偏向走査期間中に電子ビーム電流を高速でパルス制御し
、これと同期して反射電子検出信号をサンプリングして
、反射電子信号53のS/N比を向上させると共に、走
査期間中のビームをパルス制御する事で、平均熱入力を
下げ、走査期間中に被溶接物表面が溶融して、反射電子
信号に欠落が生じない様にしたものである。
偏向走査期間中に電子ビーム電流を高速でパルス制御し
、これと同期して反射電子検出信号をサンプリングして
、反射電子信号53のS/N比を向上させると共に、走
査期間中のビームをパルス制御する事で、平均熱入力を
下げ、走査期間中に被溶接物表面が溶融して、反射電子
信号に欠落が生じない様にしたものである。
第1図は、この発明の一実施例を示すプロ、ツクダイヤ
グラムで、第2図のそれと同一の構成要素には、同一番
号を付しであるので、説明を省略する。図で101はパ
ルス発生器で、シームトラッカー制御部46から走査期
間中に出される信号にニジ発振を開始して、ビームパル
ス制御回路102により、ウェネルト4にかかるバイア
ス電圧をパルス制御してビーム電流をパルス化すると共
に、これと同期してサンプリング制御回路100を動作
させて、反射電子23による検出信号103を、選択的
に抽出する。この様子を、偏向走査と関連して図示した
ものが第4図である。図で、ビーム電流が偏向走査の期
間パルス状に制御されるため、検出信号103もパルス
状になる、これをサンプリング回路100お工び波形整
形器52を通して、反射電子検出信号53を得る、尚、
パルスの数は、説明をわかり易くするため大幅に少なく
してめるが、実際は、1偏向走査期間に数百パルス必要
であることは申すまでもない。
グラムで、第2図のそれと同一の構成要素には、同一番
号を付しであるので、説明を省略する。図で101はパ
ルス発生器で、シームトラッカー制御部46から走査期
間中に出される信号にニジ発振を開始して、ビームパル
ス制御回路102により、ウェネルト4にかかるバイア
ス電圧をパルス制御してビーム電流をパルス化すると共
に、これと同期してサンプリング制御回路100を動作
させて、反射電子23による検出信号103を、選択的
に抽出する。この様子を、偏向走査と関連して図示した
ものが第4図である。図で、ビーム電流が偏向走査の期
間パルス状に制御されるため、検出信号103もパルス
状になる、これをサンプリング回路100お工び波形整
形器52を通して、反射電子検出信号53を得る、尚、
パルスの数は、説明をわかり易くするため大幅に少なく
してめるが、実際は、1偏向走査期間に数百パルス必要
であることは申すまでもない。
これにzp、反射電子検出信号53のソN比が、大幅に
向上する事は、ロックインアンプ等の実例および、通信
理論一般からも明らかである。又、走査時の熱入力の減
少もパルスのデー−ティファクターを05とすれば、熱
入力は半分になり、さらには、反射電子検出信号53の
ソN比の向上とあいまって、パルスのピーク高さ、すな
わち、走査時のビームのピーク電流も低く抑える事が出
来るため、トラッキング制御の分解能が向上し、トラッ
キング精度が向上するわけである。
向上する事は、ロックインアンプ等の実例および、通信
理論一般からも明らかである。又、走査時の熱入力の減
少もパルスのデー−ティファクターを05とすれば、熱
入力は半分になり、さらには、反射電子検出信号53の
ソN比の向上とあいまって、パルスのピーク高さ、すな
わち、走査時のビームのピーク電流も低く抑える事が出
来るため、トラッキング制御の分解能が向上し、トラッ
キング精度が向上するわけである。
第1図はこの発明の一実施例のブロックダイヤグラムを
示す図、第2図は従来のこの種装置のブロックダイヤグ
ラムを示す図、第3図は従来のこの種装置の動作を説明
する図、第4図はこの発明の装置の動作全説明する図で
ある。 図で1は加速電源、2はバイアス電源、3はフィラメン
ト電倣、4はウェネルト、5はフィラメント、6はアノ
ード、7は主レンズコイル、8は補正レンズコイル、9
は電子ビーム、10は偏向コイル、11は偏向コイルに
より未溶接部に偏向された先行ビーム、20は溶接点、
21は溶接ビード、23は反射電子、24は被溶接物、
30は試料台、31はその接地点である。40は主レン
ズ電源、41は補正レンズ電源、42はV111]アン
プ、43はH軸アンプ、44. 、45は各々V軸とH
軸の鋸歯状及発振器、46はシームトラッカー制御部。 47は偏向走査スタートから溶接接合点にビームが到達
するまでの時間ヲ測足するタイムカウンターで51は、
そのスタート信号、53は反射電子検出信号でストップ
信号となる。52は波形整形器、101はパルス発振器
で、サンプリング回路100お工ひビームパルス制御回
路102塔3 図 第lL 図
示す図、第2図は従来のこの種装置のブロックダイヤグ
ラムを示す図、第3図は従来のこの種装置の動作を説明
する図、第4図はこの発明の装置の動作全説明する図で
ある。 図で1は加速電源、2はバイアス電源、3はフィラメン
ト電倣、4はウェネルト、5はフィラメント、6はアノ
ード、7は主レンズコイル、8は補正レンズコイル、9
は電子ビーム、10は偏向コイル、11は偏向コイルに
より未溶接部に偏向された先行ビーム、20は溶接点、
21は溶接ビード、23は反射電子、24は被溶接物、
30は試料台、31はその接地点である。40は主レン
ズ電源、41は補正レンズ電源、42はV111]アン
プ、43はH軸アンプ、44. 、45は各々V軸とH
軸の鋸歯状及発振器、46はシームトラッカー制御部。 47は偏向走査スタートから溶接接合点にビームが到達
するまでの時間ヲ測足するタイムカウンターで51は、
そのスタート信号、53は反射電子検出信号でストップ
信号となる。52は波形整形器、101はパルス発振器
で、サンプリング回路100お工ひビームパルス制御回
路102塔3 図 第lL 図
Claims (1)
- 溶接ビームを溶接線に沿って未溶接方向に先行させて
、未溶接溶接線を横切る方向に偏向走査し、被溶接物表
面からの反射電子の量が、溶接接合部において低下する
ととを検出して、溶接接合部と電子ビームとの位置ズレ
を補正するシームトラッカーで、偏向走査期間にビーム
電流をパルス状に制御する手段と、それに同期して、反
射電子検出アンテナからの検出信号をサンプリングする
検出手段を有する事を特徴とするシームトラッカー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3329786A JPS62192280A (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 電子ビ−ム溶接機のシ−ムトラツカ− |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3329786A JPS62192280A (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 電子ビ−ム溶接機のシ−ムトラツカ− |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62192280A true JPS62192280A (ja) | 1987-08-22 |
JPH0545356B2 JPH0545356B2 (ja) | 1993-07-08 |
Family
ID=12382611
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3329786A Granted JPS62192280A (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 電子ビ−ム溶接機のシ−ムトラツカ− |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62192280A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007167868A (ja) * | 2005-12-19 | 2007-07-05 | Toyota Motor Corp | 電子ビームによる円周溶接位置の補正方法 |
RU2495737C1 (ru) * | 2012-02-21 | 2013-10-20 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Российский федеральный ядерный центр - Всероссийский научно-исследовательский институт технической физики имени академика Е.И. Забабахина" | Способ контроля электронно-лучевой сварки |
RU2760201C1 (ru) * | 2020-12-30 | 2021-11-22 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ") | Способ электронно-лучевой сварки с осцилляцией луча |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55122693A (en) * | 1979-01-12 | 1980-09-20 | Steigerwald Strahltech | Method and device for controlling position of charge carrierrbeam in charge carrierrbeam machine tool |
-
1986
- 1986-02-17 JP JP3329786A patent/JPS62192280A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55122693A (en) * | 1979-01-12 | 1980-09-20 | Steigerwald Strahltech | Method and device for controlling position of charge carrierrbeam in charge carrierrbeam machine tool |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007167868A (ja) * | 2005-12-19 | 2007-07-05 | Toyota Motor Corp | 電子ビームによる円周溶接位置の補正方法 |
RU2495737C1 (ru) * | 2012-02-21 | 2013-10-20 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Российский федеральный ядерный центр - Всероссийский научно-исследовательский институт технической физики имени академика Е.И. Забабахина" | Способ контроля электронно-лучевой сварки |
RU2760201C1 (ru) * | 2020-12-30 | 2021-11-22 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ") | Способ электронно-лучевой сварки с осцилляцией луча |
RU2760201C9 (ru) * | 2020-12-30 | 2021-12-21 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ") | Способ электронно-лучевой сварки с осцилляцией луча |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0545356B2 (ja) | 1993-07-08 |
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