JPS62180314A - Focus detecting device - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
奮又上曵且ユ立旦
本発明は、−眼レフカメラに好適したアクティブタイプ
の焦点検出装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an active type focus detection device suitable for an eye reflex camera.
l米Ω韮玉
カメラの焦点検出方式には、外界の光を利用して焦点位
置の検出を行うパッシブ方式と、光を投射し被写体から
の反射光を検知して焦点位置の検出を行うアクティブ方
式とがある。−眼レフカメラでは、焦点距離や開放F値
の異なる種々の交換レンズに対応する為に、撮影距離に
制限のないパッシブ方式が主流であるが、外界の明るさ
が暗い時には焦点検出精度が悪くなったり、焦点調節が
できなくなる欠点がある。そこで本出願人は、先に特願
昭60−76.86号においてフラッシュに補助照明装
置を組み込んで、暗い時にも焦点検出が行えるシステム
を提案した。この提案技術の概略を第8図に示す。There are two focus detection methods for laser cameras: a passive method that uses external light to detect the focal point, and an active method that detects the focal point by projecting light and detecting the reflected light from the subject. There is a method. - In reflex cameras, passive methods with no limitations on shooting distance are mainstream in order to accommodate various interchangeable lenses with different focal lengths and aperture f-numbers, but focus detection accuracy is poor when the outside brightness is dark. The drawback is that the focus may become distorted or the focus cannot be adjusted. Therefore, the present applicant previously proposed a system in Japanese Patent Application No. 1986-76.86 in which an auxiliary illumination device is incorporated into a flash and focus detection can be performed even in the dark. An outline of this proposed technology is shown in FIG.
図において、1はカメラボディ、2は交換可能な撮影レ
ンズであって、撮影レンズ2によって形成された被写体
像を焦点検出用モジュール3で受光し、焦点検出を行う
。撮影レンズ光軸OAに関して対称なSu、SRで規定
される範囲が焦点検出エリアである。カメラに着脱可能
なフラッシュ4には補助照明装置5が設けられていて、
夜間等の暗い時にこの補助照明装置5から光を投射し、
反射光を検出して焦点検出を行う様に構成しである。補
助照明装置5は、撮影レンズ光軸OAより距離Bo離し
た場所に角度θ傾けて配置してあり、Ru、Rj2で規
定される広がりの光を投射する。OBは投射光の光軸で
ある。In the figure, 1 is a camera body, 2 is an exchangeable photographic lens, and a focus detection module 3 receives a subject image formed by the photographic lens 2 to perform focus detection. The range defined by Su and SR that is symmetrical with respect to the optical axis OA of the photographing lens is the focus detection area. A flash 4 that is detachable from the camera is provided with an auxiliary illumination device 5,
Projecting light from this auxiliary lighting device 5 during dark times such as at night,
It is configured to perform focus detection by detecting reflected light. The auxiliary illumination device 5 is arranged at a distance Bo from the optical axis OA of the photographic lens and inclined at an angle θ, and projects light having a spread defined by Ru and Rj2. OB is the optical axis of the projection light.
発…左厘伏しようとする間逍嘉
上記の焦点検出システムでは、照明光学系と焦点ヰ食出
光学系との距離(Bo)分だけ投射光は斜めから焦点検
出エリアを照明することとなり、照明可能な距離領域(
図でりの範囲)に自ずと限界が生じる。この照明可能な
距離領域を長くしようとすれば、投射光の照射角を広げ
なければならないが、そうすると被写体での照度が減少
するため、結局は焦点検出可能な距離が長くならない。In the above focus detection system, the projected light illuminates the focus detection area from an angle corresponding to the distance (Bo) between the illumination optical system and the focus extraction optical system. Illuminable distance area (
There is a natural limit to the range shown in the figure. In order to lengthen this distance range that can be illuminated, it is necessary to widen the irradiation angle of the projection light, but this reduces the illuminance at the subject, so the distance at which focus can be detected does not increase in the end.
またフラッシュを携帯していない時には、焦点検知がで
きないとった問題がある。There is also the problem of not being able to detect focus when you are not carrying a flash.
上記の問題は、特開昭54−155832号公報に開示
されている手段、即ち、撮影レンズを通して光を投射し
、被写体で反射してもどって来た光を同じ撮影レンズを
通して焦点検出センサで受光するという手段によって解
消することができるが、この場合には、投射した光が撮
影レンズを構成するレンズの面間で反射して焦点検出セ
ンサに入射する有害光に対する対策が必要となる。The above problem can be solved by the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-155832, in which light is projected through a photographic lens, and the light reflected by the subject is received by a focus detection sensor through the same photographic lens. However, in this case, it is necessary to take measures against the harmful light that the projected light reflects between the surfaces of the lenses constituting the photographic lens and enters the focus detection sensor.
かかる有害光が焦点検出センサに入射しないよう工夫し
たものとして特開昭57−22210号公報に記載され
た技術がある。この先行技術は撮χレンズの主平面上に
於いてその光軸に対して投射用光軸と受光(焦点検出)
用光軸とが点対称の関係を満足しない様に配置すること
を要旨としている。There is a technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 57-22210 that is devised to prevent such harmful light from entering the focus detection sensor. This prior art is based on the optical axis for projection and light reception (focus detection) on the main plane of the χ lens.
The main idea is to arrange the optical axis so that it does not satisfy a point-symmetric relationship with the optical axis.
光学の理論によれば、このように投光用光軸と受光用光
軸とを主平面上に於いて撮影レンズ光軸に関し点対称と
ならない様に配置すると、撮彦レンズの面間反射による
有害光の影響を除去することができる。According to optical theory, if the light-emitting optical axis and the light-receiving optical axis are arranged on the principal plane so that they are not point symmetrical with respect to the optical axis of the photographing lens, then reflection between the surfaces of the Tokuhiko lens will occur. The effects of harmful light can be removed.
ところで、上記の焦点検出システムを一眼レフカメラに
適用するためには、開放F値や焦点距離の異なる種々の
交換レンズの全てに対応し得るものでなければならない
。そのためには、予想される最も瞳径の小さな撮影レン
ズに対応できるよう、投光用光軸及び受光用光軸を撮影
レンズの光軸近傍に配置する必要があるが、上記した様
に投光光軸と受光光軸とが撮影レンズ光軸に近い位置に
設定されていると、有害光の影響を理論通りには解消で
きないものである。By the way, in order to apply the above-described focus detection system to a single-lens reflex camera, it must be compatible with all of the various interchangeable lenses with different aperture F numbers and focal lengths. To do this, it is necessary to place the light emitting and receiving optical axes near the optical axis of the photographic lens in order to accommodate the expected smallest pupil diameter of the photographic lens. If the optical axis and the light-receiving optical axis are set close to the optical axis of the photographing lens, the influence of harmful light cannot be eliminated as theoretically possible.
ここで、I最影レンズを通して被写体に光照射し、その
反射光を受光して、焦点検出を行う場合における撮γレ
ンズの面間反射による有害光について少し詳しく説明し
ておく。第9図は有害光を発生する焦点検出光学系の一
例を示す図、第10図は第9図とは90°異なった方向
からながめた図であり、図中、LOは撮影レンズ、Fは
焦点面であり、その後方に焦点検出用光学系AOが配置
されている。QとPはそれぞれレンズの前に配置された
マスクであり、CはCOD等の受光素子である。Here, we will explain in some detail the harmful light caused by inter-plane reflection of the γ-photographing lens when light is irradiated onto the subject through the I-most shadow lens and the reflected light is received to perform focus detection. Fig. 9 is a diagram showing an example of a focus detection optical system that generates harmful light, and Fig. 10 is a diagram viewed from a direction 90 degrees different from Fig. 9. In the figure, LO is a photographing lens, and F is a diagram. This is a focal plane, behind which a focus detection optical system AO is arranged. Q and P are masks placed in front of the lenses, and C is a light receiving element such as a COD.
第11図は撮影レンズの面間反射によって発生する有害
光を説明するための投光光学系の光路図の一例である。FIG. 11 is an example of an optical path diagram of a light projection optical system for explaining harmful light generated by inter-plane reflection of a photographic lens.
説明の都合上、投光光学系は省略し光線のみを示した。For convenience of explanation, the projection optical system is omitted and only the light beam is shown.
撮影レンズ光軸上で予定焦点面上の一点Oから図の様な
角度で投光された光線は、撮影レンズを構成する各レン
ズ表面で反射して入射方向にもどってくるが、第11図
(A)には、代表的な例として1面、2面6面で反射し
てもどってくる光線を示した。(1回反射)第11図(
B)には、3回反射の例を示した。(反射面6面−1面
一6面)第12図(A)は、第9図において第1のマス
ク0面上における有害光の広がりを示したものであり、
有害光が光軸に対して点対称の範囲に広がっている様子
が示されている。尚、1つ1つの円が撮影レンズを構成
する各レンズ表面で反射された有害光の広がりに対応し
ている。ここでは、1回反射によって生じる有害光の広
がりのみ示したが、3回以上の反射についても同様であ
る。第12図(B)は、第2のマスク(絞りマスク)2
面上における有害光の広がりを表したものである。第2
のマスクに到達する有害光は第1のマスクを通過したも
のであるから、有害光はかなり減少している。A ray of light projected from a point O on the planned focal plane on the optical axis of the photographing lens at an angle as shown in the figure is reflected by the surfaces of each lens that makes up the photographic lens and returns in the direction of incidence. (A) shows light rays that are reflected from one surface, two surfaces, and six surfaces and return as a typical example. (One reflection) Figure 11 (
B) shows an example of three reflections. (Reflecting surfaces 6 - 1 and 6) FIG. 12 (A) shows the spread of harmful light on the 0th surface of the first mask in FIG. 9,
It is shown that the harmful light spreads over a point-symmetric range with respect to the optical axis. Note that each circle corresponds to the spread of harmful light reflected on the surface of each lens making up the photographic lens. Although only the spread of harmful light caused by one reflection is shown here, the same applies to three or more reflections. FIG. 12(B) shows the second mask (aperture mask) 2
This shows the spread of harmful light on a surface. Second
Since the harmful light reaching the first mask has passed through the first mask, the harmful light is considerably reduced.
第13図は、有害光が異なるタイプの撮影レンズでどの
様に変わるかを計算したものである。第12図(b)と
同様、第2のマスク2面上におけるものである。上段は
撮影レンズの繰り出し位置が■の時、下段は最近接の時
を示している。FIG. 13 shows calculations of how harmful light changes with different types of photographic lenses. Similar to FIG. 12(b), this is on the second surface of the second mask. The upper row shows when the photographing lens is extended to the ■ position, and the lower row shows when it is at its closest position.
同図かられかるように焦点距離f = 50 mm、開
放F値F=1.7の標準レンズと、f=35−1051
−、F=3.5−4.5のズームレンズとでは、有害光
の形状が大きく異なっている。また、同じ35−105
/3.5−4.5のズームレンズであっても、ズーミン
グ位置が異なると有害光の広がりも変わってくる。これ
はズーミングによって撮影レンズの光学系が変化するか
らである。As you can see from the figure, a standard lens with a focal length of f = 50 mm and an open F value of F = 1.7, and f = 35-1051.
-, the shape of harmful light is significantly different from a zoom lens of F=3.5-4.5. Also, the same 35-105
Even with a /3.5-4.5 zoom lens, the spread of harmful light changes depending on the zooming position. This is because the optical system of the photographic lens changes due to zooming.
例えば、(L)の1051會に対して(S)の351■
の場合には、有害光の影響が大きく表れている。さらに
繰り出し量が変化しても微妙に変わる。For example, for (L)'s 1051 meetings, (S)'s 351 ■
In this case, the influence of harmful light is significant. Furthermore, even if the amount of payout changes, it will change slightly.
この様に、絞りマスクPが撮影レンズ光軸に近い領域(
第13図の場合は、F′−6〜16の範囲をにらんでい
る。)に配置されていると、ズーミングや繰り出しによ
る有害光の影V3が大きく、従って既述した特開昭57
−22210号の公報の技術によっては有害光の影響を
解消できないことが理解される。尚、上記有害光に関す
る説明は、第14図に示すように投光光軸と撮影レンズ
光軸との角度を5.5°、投光レンズ前の絞り径を41
會φ、投光レンズの焦点距離を12龍とし、光源には球
状のガラス玉(直径0.5u+)付きの発光ダイオード
(発光径40μmφ)を用いた際のものである。また、
前記投光光学系の光軸は、絞りマスクPの並び方向に対
して、撮影レンズ光軸を含んで直交する面内に設定され
ているものとする。In this way, the aperture mask P is close to the optical axis of the photographing lens (
In the case of FIG. 13, the range from F'-6 to F'-16 is observed. ), the shadow of harmful light V3 caused by zooming or moving out is large, and therefore
It is understood that the influence of harmful light cannot be eliminated by the technique disclosed in Publication No. -22210. The explanation regarding the above harmful light is based on the assumption that the angle between the light emitting optical axis and the photographing lens optical axis is 5.5 degrees, and the aperture diameter in front of the light emitting lens is 41 degrees, as shown in Fig. 14.
The focal length of the light projecting lens was 12 mm, and a light emitting diode (emission diameter: 40 μm) with a spherical glass ball (diameter: 0.5 μm) was used as the light source. Also,
It is assumed that the optical axis of the light projection optical system is set within a plane that includes the photographing lens optical axis and is orthogonal to the direction in which the aperture masks P are arranged.
問題屯を”決するための千「′
本発明は上記の考察に基づき、有害光の影響を受は難い
ように巧みに工夫された焦点検出装置を提供するもので
あり、要旨とするところは、アクティブ焦点検出方式に
おいて、被写体に投光する投光光学系として撮影レンズ
を通じて行う第1の投光光学系(TTL照明)と撮影レ
ンズを通さないで外部から行う第2の投光光学系(外部
照明)の2種を有し、一方、被写体からの反射光を受光
する焦点検出系として撮影レンズの光軸に近い光路を通
って受光する第1の焦点検出系と、撮影レンズの光軸か
ら離れた光路を通って受光する第2の焦点ヰ★出系を有
し、撮影レンズの種類に対応して前記TTLの照明と外
光照明、及び第1の焦点検出系と第2の焦点検出系を選
択的に切換で用いるようにした点に存する。Based on the above considerations, the present invention provides a focus detection device that is skillfully devised to be less susceptible to the effects of harmful light. In the active focus detection method, there is a first light projection optical system (TTL illumination) that projects light onto the subject through the photographic lens, and a second light projection optical system (external light projection system) that emits light from outside without passing through the photographic lens. On the other hand, there is a first focus detection system that receives reflected light from the subject through an optical path close to the optical axis of the photographic lens, and a first focus detection system that receives light reflected from the photographic lens through the optical axis. It has a second focal point output system that receives light through a separate optical path, and the TTL illumination and the external light illumination, and the first focus detection system and the second focus detection system, depending on the type of photographic lens. This system consists in that the system can be selectively switched and used.
前記第2の焦点検出系は1個に限らず、撮影レンズ光軸
からの距離の異なるものを祖数設けることができる。The number of the second focus detection systems is not limited to one, and systems having different distances from the optical axis of the photographic lens may be provided.
作ニー−」−
上記構成によれば照明系と焦点検出系の組合わせは4種
類以上ある。従って、瞳径の小さな(F値の大きい)撮
影レンズの場合に、TTL照明−第1の焦点検出系の組
合わせでは有害光の影Bがあるなら外光照明−第1の焦
点検出系の組合わせを選択することにより有害光の形3
を防止することができるし、また、瞳径の大きな撮影レ
ンズでも繰り出し量によって有害光のHWがある場合に
は、TTL照明−第2の焦点検出系、或いは外光照明−
第1又は第2の焦点検出系という組合わせを選択するこ
とにより有害光の応響を効果的に防止することができる
。According to the above configuration, there are four or more types of combinations of the illumination system and the focus detection system. Therefore, in the case of a photographing lens with a small pupil diameter (large F value), if there is a harmful light shadow B in the combination of TTL illumination and the first focus detection system, then the combination of external light illumination and the first focus detection system Shape of harmful light 3 by selecting the combination
In addition, if there is HW of harmful light depending on the amount of extension even with a photographic lens with a large pupil diameter, TTL illumination - second focus detection system or external light illumination - can be used.
By selecting a combination of the first or second focus detection system, it is possible to effectively prevent the echo of harmful light.
照明系と焦点検出系の組合わせのうちいずれかを選択す
るかは、撮影レンズ個々によって異なるので、撮影レン
ズ毎にその中の記憶手段、例えばROM回路等に組合わ
せの選択に必要な内容を記憶させておくのが望ましい。The selection of one of the combinations of illumination system and focus detection system differs depending on the individual photographic lens, so the contents necessary for selecting the combination are stored in the storage means, such as a ROM circuit, for each photographic lens. It is advisable to remember it.
その場合、選択の基準としては、照明系は、照明可能な
距離範囲の広いTTL照明を優先し、焦点検出系は有害
光の影口を受けにくい第2の焦点検出系を優先させるの
がよい。In that case, the selection criteria is that the illumination system should give priority to TTL illumination, which has a wide range of illumination distances, and the focus detection system should give priority to a second focus detection system that is less susceptible to the shadows of harmful light. .
入−」L−興
第1図は、本発明に係わる焦点検出装置を有する一眼レ
フカメラの一実施例を示す。図に於いて、100はカメ
ラボディー、101は交換可能な撮影レンズ、102は
レフレックスミラーであり撮影レンズ101を屈折、透
過して来た光をファインダー光学系の方向に反射すると
共に、一部の光を透過する。103はその透過光を焦点
検出用光学系104に導く為の全反射鏡である。105
は撮影レンズ101の予定焦点面付近に配置された光学
部材であり、その中央部には発光ダイオード107より
発せられる波長の光を反射し、可視光を透過する様な波
長選択性のハーフミラ−105aが光軸に対して約45
°の傾きで設けられている。上記光学部材105の側面
に面してプリズム106が配置されていて、発光ダイオ
ード107より発せられた光線を偏向して上記光学部材
105内に導入する。108は反射鏡であり、発光ダイ
オード107より放射された光線を下方に曲げる作用を
する。上記反射鏡108とファインダー構成要素である
接眼レンズ113との間には第■の投光レンズ109が
配され、このレンズ109によって、ダイオード107
より放射された光線を平行にする。上記第1の投光レン
ズ109と接眼レンズ113との間で、第1の投光レン
ズ109の直前には第1の投光マスク110が設けられ
ている。このマスクは投光光束を絞る為のものである。FIG. 1 shows an embodiment of a single-lens reflex camera having a focus detection device according to the present invention. In the figure, 100 is a camera body, 101 is an exchangeable photographing lens, and 102 is a reflex mirror, which refracts the light that has passed through the photographic lens 101 and reflects it in the direction of the viewfinder optical system. Transmits light. 103 is a total reflection mirror for guiding the transmitted light to a focus detection optical system 104. 105
is an optical member disposed near the planned focal plane of the photographic lens 101, and in the center thereof is a wavelength-selective half mirror 105a that reflects light of the wavelength emitted from the light emitting diode 107 and transmits visible light. is approximately 45% relative to the optical axis.
It is set at an inclination of °. A prism 106 is disposed facing the side surface of the optical member 105, and deflects the light beam emitted from the light emitting diode 107 and introduces it into the optical member 105. Reference numeral 108 denotes a reflecting mirror, which serves to bend the light beam emitted from the light emitting diode 107 downward. A third projection lens 109 is disposed between the reflecting mirror 108 and the eyepiece 113, which is a component of the finder.
Make the rays emitted more parallel. A first light projection mask 110 is provided between the first light projection lens 109 and the eyepiece 113 and immediately before the first light projection lens 109 . This mask is used to narrow down the projected light flux.
尚、接眼レンズ113は発光ダイオードより放射された
光線の通路も兼ねている。111は上記接眼レンズ11
3の下側に配置された第2の投光レンズであり、第1の
投光レンズ109によって平行にされた光線−を集光し
て撮影レンズ101の予定結像面付近に結像させる。1
12は、上記第2の投光レンズ111の直前に設けられ
た第2の投光マスクである。Note that the eyepiece lens 113 also serves as a passage for light rays emitted from the light emitting diode. 111 is the eyepiece lens 11
3, which focuses the light rays made parallel by the first projection lens 109 and forms an image near the planned imaging plane of the photographing lens 101. 1
Reference numeral 12 denotes a second light projection mask provided immediately in front of the second light projection lens 111.
この構成によれば、発光ダイオード107より放射され
た光線は投光レンズ109,111、投光マスク110
,112によって集光されて、撮影レンズの予定集点面
上に於いて撮影レンズ光軸を通過し、撮影レンズ光軸に
対してわずかの角度傾斜して投光される。この傾き角度
は、F値の大きな暗い撮影レンズを使用した時にも投射
光がケラれることのない様に充分小さな値、例えばF値
に換算してF=4ないし5.6ぐらいに設定しである。According to this configuration, the light beam emitted from the light emitting diode 107 passes through the light projection lenses 109 and 111 and the light projection mask 110.
, 112, passes through the optical axis of the photographic lens on the predetermined focal plane of the photographic lens, and is projected at a slight angle inclination to the optical axis of the photographic lens. This tilt angle should be set to a sufficiently small value so that the projected light will not be vignetted even when using a dark photographic lens with a large F value, for example, F = 4 to 5.6 in terms of F value. be.
以上述べた構成部材105〜113は第1の投光光学系
を構成している。The constituent members 105 to 113 described above constitute a first light projection optical system.
114は別の発光ダイオードであり、ペンタプリズム1
18の前方上部に配置されている。115はプリズムで
、発光ダイオード114より放射された光線をカメラの
前方に屈曲させるものである。116は、プリズム11
5の光線が射出される面に対向して配置された投光レン
ズであり、発光ダイオード114より放射された光線を
集光して、被写体に向けて放射する。117は上記投光
レンズ116の前面に設けられたパネルであり、その一
部には楔状の凸部117aが形成されている。この楔状
の凸部117aは、投光レンズ116より放射された光
線の一部を下方(図で撮影レンズの光軸方向)に偏向さ
せて、近距離の被写体を照明する作用をする。以上述べ
た構成部材114〜117は第2の投光光学系を構成し
ている。114 is another light emitting diode, pentaprism 1
It is located at the front upper part of 18. A prism 115 bends the light beam emitted from the light emitting diode 114 in front of the camera. 116 is the prism 11
This is a light projecting lens disposed opposite to the surface from which the light beam No. 5 is emitted, and collects the light beam emitted from the light emitting diode 114 and emits it toward the subject. Reference numeral 117 denotes a panel provided in front of the light projecting lens 116, and a wedge-shaped convex portion 117a is formed in a part of the panel. This wedge-shaped convex portion 117a has the function of deflecting a portion of the light rays emitted from the projection lens 116 downward (in the direction of the optical axis of the photographing lens in the figure) to illuminate a nearby object. The constituent members 114 to 117 described above constitute a second light projection optical system.
次ぎに、第2図に焦点検出用光学系104の詳細図を掲
げる。図において、200は撮影レンズであり、201
は該撮χレンズ200の予定焦点面の近くに配置された
視野マスクである。202は視野マスク201の直後に
配置されたコンデンサレンズで、後述する絞り板204
,205の絞り開口(A、A’、B、B’)の像を撮影
レンズ200の射出瞳付近に結像させる。203は上記
コンデンサレンズ202の後方に配置された偏向光学部
材で、図(A)及び図(B)の背面視図の双方に示すよ
うに撮影レンズ光軸OCに対して45°傾斜した5つの
反射面203a〜203eが形成されている。反射面2
03aと203Cは上記視野マスク201の視野開口2
01aの長手方向に沿って光軸OCを挟んで対称に配置
され、それらの面で反射した光線を同じ方向(光軸OC
に対して直角で上向き)に反射させるように面が形成さ
れている0反射面203bは反射面203a、203c
に対して90°傾いていて、この面で反射した光線は反
射面203a、203cで反射された光線とは逆方向に
進む0反射面203dと203eは上記視野マスク20
1の視野開口201aの短辺方向に沿って光軸OCを挟
んで対称に配置されており、反射面203dは反射面2
03a、203cと、反射面203eは反射面203b
と同一の傾きを有している。この偏向光学部材203は
、撮影レンズ200の射出瞳の内側からの光線と外側か
らの光線とが、受光素子基板21Oの異なった所に結像
する様に作用する。すなわち、射出瞳の外側(a、a’
)からの光線は偏向光学部材203の反射面(203a
、 203 c)に入射し、反射された後、反射面2
03dに入射し反射されて2次結像レンズ(206,2
07)に入射し、該2次結像レンズ(206,207)
によりラインセンサ211に結像する。射出瞳の内側(
b、b’)からの光線は偏向光学部材203の反射面2
03bと2030で反射された後、2次結像レンズ(2
08,209)によりラインセンサ212王に結像する
。Next, FIG. 2 shows a detailed diagram of the focus detection optical system 104. In the figure, 200 is a photographing lens, and 201
is a field mask placed near the intended focal plane of the χ lens 200. 202 is a condenser lens placed immediately after the field mask 201, and a diaphragm plate 204 to be described later.
, 205 are formed near the exit pupil of the photographic lens 200. Reference numeral 203 denotes a deflection optical member disposed behind the condenser lens 202, and as shown in both the rear view of FIG. Reflective surfaces 203a to 203e are formed. reflective surface 2
03a and 203C are field apertures 2 of the field mask 201
They are arranged symmetrically across the optical axis OC along the longitudinal direction of 01a, and the light rays reflected by those surfaces are directed in the same direction (optical axis
The reflective surface 203b is formed so as to reflect the light upward at right angles to the reflective surfaces 203a and 203c.
The reflective surfaces 203d and 203e are inclined at 90 degrees to the field mask 20, and the light rays reflected on this surface travel in the opposite direction to the light rays reflected on the reflective surfaces 203a and 203c.
The reflective surfaces 203d and 2 are arranged symmetrically along the short side direction of the field aperture 201a of No. 1 with the optical axis OC in between.
03a, 203c and the reflective surface 203e are reflective surfaces 203b
has the same slope as . This deflection optical member 203 acts so that the light rays from the inside and the outside of the exit pupil of the photographing lens 200 form images at different locations on the light receiving element substrate 21O. That is, outside the exit pupil (a, a'
) from the reflective surface (203a) of the deflection optical member 203.
, 203 c), and after being reflected, the reflection surface 2
03d, is reflected, and enters the secondary imaging lens (206, 2
07) and the secondary imaging lens (206, 207)
An image is formed on the line sensor 211. Inside the exit pupil (
The light beams from b, b') are reflected by the reflective surface 2 of the deflection optical member 203.
After being reflected by 03b and 2030, the secondary imaging lens (2
08, 209), the image is formed on the line sensor 212.
204と205は、上記偏向光学部材203の直後に配
置された絞り坂で2次結像レンズ206〜209に入射
する光束の領域を制限する。AとA′は絞り板204に
設けられた開口で、反射面203dで反射されて偏向光
学部材203より射出する光束の光路を規制する。Bと
B′は絞り板205に設けられた開口で、反射面203
eで反射されて偏向光学部材203より射出する光束の
光路を規制する。204 and 205 are aperture slopes arranged immediately after the deflection optical member 203, and limit the area of the light beams incident on the secondary imaging lenses 206 to 209. A and A' are apertures provided in the diaphragm plate 204, which regulate the optical path of the light beam reflected by the reflecting surface 203d and exiting from the deflection optical member 203. B and B' are apertures provided in the aperture plate 205, and the reflecting surface 203
The optical path of the light beam reflected by e and exiting from the deflection optical member 203 is regulated.
前記2次結像レンズ206と207は、上記絞り開口A
、A’を通過した光線の光路中に配置°されていて、視
野開口201aを受光素子基板210上に配置されたラ
インセンサ211上に結像させる様に構成されている。The secondary imaging lenses 206 and 207 have the aperture aperture A.
, A', and is arranged in the optical path of the light beam passing through the light receiving element substrate 210.
2次結像レンズ208と209は、上記絞り開口B、B
’を通過した光線の光路中に配置されていて、視野開口
201aを受光素子基Ji210上に配置されたライン
センサ212上に結像させる様に構成されている。The secondary imaging lenses 208 and 209 have the above-mentioned aperture apertures B and B.
The field aperture 201a is arranged in the optical path of the light beam passing through the light receiving element base Ji210, and is configured to form an image on the line sensor 212 arranged on the light receiving element base Ji210.
第3図は本発明の焦点検出装置の一例とてのブロック図
を示したもので、図中、300は第1の受光センサであ
り、例えば第2図のラインセンサ211に相当する。3
01は第2の受光センサであり、例えば第2図のライン
センサ212に相当している。302及び303はA/
D変換およびCCD駆動回路であって、受光センサ30
0.301より出力される信号をA/D変換して出力す
ると共に、受光センサ300.301に駆動のための信
号を出力する。セレクト回路304は、A/D変換CC
D駆動回路302,303より出力されるデータのいず
れかを選択して、アルゴリズムプロセッサ305に出力
する。アルゴリズムプロセッサ305は、入力データを
所定のアルゴリズムに従って処理し、撮影レンズのデフ
ォーカス量を算出する。306は、アルゴリズムプロセ
ッサ305によって得られた情報に基づいて、撮影レン
ズ駆動用のモータを制御するモータ駆動回路である。3
07は撮影レンズごとに設けられたROMで、F値、有
害光の情報が固定的に格納されている。F値の情報はデ
ータ線aを通ってセレクト回路304に与えられ、セレ
クト回路304はその信号に基づいて、A/D変換、C
OD駆動回路302又は303の情報を選択的にアルゴ
リズムプロセッサ305に出力する。すなわち、撮形レ
ンズのF値が前もって決めておいた一定値よりも大きい
とき(暗いレンズ)には、撮影レンズ200の射出瞳の
内側からの光線を受光している受光センサ301 (第
2図でラインセンサ212)の出力をA/D変換CCD
駆動回路303でデジタル信号に変換し、アルゴリズム
プロセッサ305に出力する。一方、撮影レンズのF値
が前もって決めておいた一定値よりも小さい時(明るい
レンズ)には、撮影レンズ200の射出瞳の外側からの
光線を受光している受光センサ300 (第2図のライ
ンセンサ211に相当)の出力をA/D変換、CCD駆
動回路302でデジタル信号に変換し、アルゴリズムプ
ロセ・ノサ305に出力する308は第1の発光ダイオ
ードで、発光回路310よりの信号により点灯、消灯が
制御されている。第1の発光ダイオード308は、第1
図の107に相当している。309は第2の発光ダイオ
ードで、発光回路311よりの信号により点灯、消灯が
制御される。第2の発光ダイオード309は、第1図の
114に相当している。発光回路310.311はセレ
クト回路312の出力信号によって選択的に駆動される
。セレクト回路312は、測光回路314の出力を、R
OM307より出力される有害光の情報に基づいて、発
光回路310.311のいずれかに択一的に出力する。FIG. 3 shows a block diagram of an example of the focus detection device of the present invention, and in the figure, 300 is a first light receiving sensor, which corresponds to, for example, the line sensor 211 in FIG. 2. 3
01 is a second light receiving sensor, which corresponds to the line sensor 212 in FIG. 2, for example. 302 and 303 are A/
D conversion and CCD drive circuit, the light receiving sensor 30
The signal outputted from 0.301 is A/D converted and outputted, and a signal for driving is outputted to the light receiving sensor 300.301. The select circuit 304 is an A/D conversion CC
One of the data output from the D drive circuits 302 and 303 is selected and output to the algorithm processor 305. The algorithm processor 305 processes input data according to a predetermined algorithm and calculates the amount of defocus of the photographic lens. 306 is a motor drive circuit that controls a motor for driving the photographing lens based on information obtained by the algorithm processor 305. 3
Reference numeral 07 denotes a ROM provided for each photographic lens, in which information on the F number and harmful light is fixedly stored. Information on the F value is given to the select circuit 304 through the data line a, and the select circuit 304 performs A/D conversion, C
Information on the OD drive circuit 302 or 303 is selectively output to the algorithm processor 305. That is, when the F value of the photographic lens is larger than a predetermined constant value (dark lens), the light receiving sensor 301 (see FIG. The output of the line sensor 212) is converted to A/D by the CCD.
The drive circuit 303 converts it into a digital signal and outputs it to the algorithm processor 305. On the other hand, when the F value of the photographic lens is smaller than a predetermined constant value (bright lens), the light receiving sensor 300 (see FIG. The output of the line sensor (corresponding to the line sensor 211) is converted into a digital signal by A/D conversion and a CCD drive circuit 302, and output to the algorithm processor 305. 308 is a first light emitting diode, which is lit by a signal from the light emitting circuit 310. , lights out is controlled. The first light emitting diode 308
This corresponds to 107 in the figure. A second light emitting diode 309 is turned on and off by a signal from a light emitting circuit 311. The second light emitting diode 309 corresponds to 114 in FIG. The light emitting circuits 310 and 311 are selectively driven by the output signal of the select circuit 312. The selection circuit 312 selects the output of the photometry circuit 314 as R.
Based on the harmful light information output from the OM 307, it is selectively output to either of the light emitting circuits 310 and 311.
すなわち、絞り開口の間隔(第2図で絞り板204に形
成された開口A、!:A’又は絞りFj、205に形成
された開口BとB′の間隔)が狭くても(BとB′との
場合)有害光のifがない場合(この場合は絞り開口の
間隔が広く、AとA′であっても当然有害光のに9はな
い)と、絞り開口の間隔が広ければ(AとA′との場合
)有害光の影響がないが狭ければ影響がある場合には、
測光回路314の出力を発光回路310に出力する。In other words, even if the distance between the aperture apertures (the distance between the apertures A, !:A' formed in the aperture plate 204 in FIG. 2 or the apertures B and B' formed in the aperture Fj, 205) is narrow ( ′) If there is no if of harmful light (in this case, the distance between the diaphragm apertures is wide, and even if it is A and A′, there is of course no 9 for harmful light), and if the distance between the diaphragm apertures is wide ( In the case of A and A') If there is no effect of harmful light but there is an effect if the space is narrow,
The output of the photometric circuit 314 is output to the light emitting circuit 310.
逆に絞り開口の間隔が広くても(AとA′の場合)有害
光の影響がある場合(この場合は絞り開口の間隔が狭く
、B−B’であっても当然有害光のM59がある)には
、測光回路314の出力を発光回路311に出力する。On the other hand, even if the distance between the aperture apertures is wide (in the case of A and A'), if there is an influence of harmful light (in this case, the distance between the aperture apertures is narrow, and even if it is B-B', the harmful light M59 will naturally occur). ), the output of the photometric circuit 314 is output to the light emitting circuit 311.
撮影レンズの種類によっていずれの発光ダイオード30
8,309を発光させるか、及びいずれの絞り開口を通
った光を受光すべきかの選択は第1表に示す通りである
。Depending on the type of photographic lens, which light emitting diode 30
Table 1 shows the selection of whether to emit light from the lens 8 or 309 and which diaphragm aperture should receive the light.
第1表(アクティブモード)
測光回路314は、被写体の明るさを測光して測光値が
予め決められたレベル以下の時に、セレクト回路312
を介して発光回路310又は311に発光ダイオードを
点灯させる為の信号を出力する。測光回路314の測光
値が予め決められたレベル以上の時には、測光回路31
4はセレクト回路312へ信号を出力しない。従って、
いずれの発光ダイオード308,309も発光されない
。この場合は外界の光を利用したパッシブモードで焦点
検出が行われる。このモードにおいて、撮影レンズのF
値に対し選択される絞り開口は第2表の通りである。Table 1 (Active mode) The photometry circuit 314 measures the brightness of the subject, and when the photometry value is below a predetermined level, the selection circuit 312
A signal for lighting the light emitting diode is output to the light emitting circuit 310 or 311 via the light emitting circuit 310 or 311. When the photometric value of the photometric circuit 314 is equal to or higher than a predetermined level, the photometric circuit 31
4 does not output a signal to the select circuit 312. Therefore,
Neither light emitting diode 308, 309 emits light. In this case, focus detection is performed in passive mode using external light. In this mode, the F of the photographing lens is
The apertures selected for the values are as shown in Table 2.
第2表(パッシブモード)
トリガ回路313は、シャツタ釦又は別設のスイッチの
ON、 OFFに応じて焦点検知スタート信号を発生
させるものであり、その信号は測光回路314とA/D
変換、CCD駆動回路302゜303に印加される。Table 2 (passive mode) The trigger circuit 313 generates a focus detection start signal in response to the ON/OFF of the shutter button or a separate switch, and this signal is sent to the photometry circuit 314 and the A/D.
The signal is applied to the conversion and CCD drive circuits 302 and 303.
315はオア回路で、A/D変換、CCD駆動回路30
2,303から受光センサ300,301へCCD駆動
停止信号が伝達されると、その信号を信号線c、dを介
して取り込み、発光回路310.311へ伝達して発光
ダイオード308゜309の発光を停止させる。315 is an OR circuit, A/D conversion, CCD drive circuit 30
When a CCD drive stop signal is transmitted from 2, 303 to the light receiving sensors 300, 301, the signal is taken in via signal lines c, d and transmitted to the light emitting circuits 310, 311 to cause the light emitting diodes 308 and 309 to emit light. make it stop.
上記構成によれば、シャツタ釦を押し又は別設のスイッ
チをオンすると、トリガ回路313が焦点検知スタート
信号を発し、測光回路314を駆動して被写体の明るさ
を測定する。この明るさが所定のレベル以上であればパ
ッシブモードで焦点検出が行われ、一方、所定レベル以
下であればアクティブモードで焦点検出が行われる。パ
ンシブモードは外界の光を利用して焦点検出を行うもの
でありアクティブモードと異なる点は発光ダイオード3
08,309が点灯されない点だけであるから、ここで
は省略し、アクティブモードの焦点検出動作について説
明する。According to the above configuration, when the shirt button is pressed or a separate switch is turned on, the trigger circuit 313 issues a focus detection start signal, drives the photometry circuit 314, and measures the brightness of the subject. If the brightness is above a predetermined level, focus detection is performed in passive mode, while if it is below a predetermined level, focus detection is performed in active mode. Pensive mode uses external light to detect focus, and differs from active mode in that the light emitting diode 3
Since the only point is that 08 and 309 are not lit, the description will be omitted here, and the focus detection operation in the active mode will be explained.
被写体の明るさが所定レベル以下であると、セレクト回
路312がレンズROM307からの情報に基づきいず
れの発光ダイオード308.309を発光させるかの選
択を行う。そして、選択された側の発光ダイオード30
8又は309が発光する。If the brightness of the subject is below a predetermined level, the selection circuit 312 selects which light emitting diode 308 or 309 should emit light based on information from the lens ROM 307. Then, the light emitting diode 30 on the selected side
8 or 309 emits light.
この発光に伴う被写体からの反射光は、セレクト回路3
04で選択された側の受光センサ300.301、A/
D変換、CCD駆動回路302゜303及びセレクト回
路304を通ってアルゴリズムプロセッサ305に入力
される。アルゴリズムプロセッサ305は入力されたデ
ータをアルゴリズムに従って処理し、撮影レンズのデフ
ォーカス量を算出する。かくして算出されたデフォーカ
ス量に基づきモータ駆動回路306が駆動され、撮影レ
ンズの焦点合わせが行われる。The light reflected from the subject accompanying this light emission is sent to the select circuit 3.
Light receiving sensor 300.301 on the side selected in 04, A/
The signal is inputted to the algorithm processor 305 through the D conversion, CCD drive circuits 302 and 303, and the selection circuit 304. The algorithm processor 305 processes the input data according to an algorithm and calculates the amount of defocus of the photographing lens. The motor drive circuit 306 is driven based on the defocus amount thus calculated, and the photographing lens is focused.
次に第4図は焦点検出光学系の別実施例を示す。この実
施例では、2次結像レンズ401,402の直前に場所
的に透過率の可変なECD等の電気光学系素子403を
設けて、撮影レンズ200の射出瞳の外側<a、a’)
からの光線と、内側(b、b’)からの光線を電気光学
素子403の場所的な透過率の変化によって選択的にラ
インセンサ404に入射するようにしている。Next, FIG. 4 shows another embodiment of the focus detection optical system. In this embodiment, an electro-optical system element 403 such as an ECD whose transmittance is locally variable is provided immediately before the secondary imaging lenses 401 and 402, and outside the exit pupil of the photographing lens 200 <a, a')
The light rays from the inside and the light rays from the inside (b, b') are made to selectively enter the line sensor 404 by changing the transmittance locally of the electro-optical element 403.
この実施例によれば、構造的には第2図に示した焦点検
出光学系に比べて偏光光学部材203が不要となるし、
2次結像レンズや受光センサの数が半減できる。そのた
め、第3図に示したように受光センサ300,301か
らの信号をセレクト回路304によって選択する必要も
なくなる。但し、電気光学素子403の場所的な透過率
を変化させるためセレクト回路304によって電気光学
素子403を制御する必要がある。第5図(A)は前記
電気光学素子403を組み込んだ部材405の平面図を
、同図(B)はX−X断面図を示している。According to this embodiment, structurally, the polarizing optical member 203 is unnecessary compared to the focus detection optical system shown in FIG.
The number of secondary imaging lenses and light receiving sensors can be halved. Therefore, there is no need for the selection circuit 304 to select the signals from the light receiving sensors 300, 301 as shown in FIG. However, in order to change the transmittance of the electro-optical element 403 locally, it is necessary to control the electro-optical element 403 by the select circuit 304. FIG. 5(A) is a plan view of a member 405 incorporating the electro-optical element 403, and FIG. 5(B) is a sectional view taken along line XX.
第5図(A)および第5図CB)において、431〜4
43が電気光学素子403に対応している。423は絞
り板で、これには2つの絞り423a、423bが形成
されている。In Figure 5 (A) and Figure 5 CB), 431-4
43 corresponds to the electro-optical element 403. 423 is a diaphragm plate, and two diaphragms 423a and 423b are formed on this plate.
以下電気光学素子403の構成について説明すると、4
31は無色透明なガラス板で、この表面には上記の絞り
板423が密着して設けである。The configuration of the electro-optical element 403 will be explained below.
Reference numeral 31 denotes a colorless and transparent glass plate, on the surface of which the aperture plate 423 described above is provided in close contact.
またガラス板432の他の表面には、第5図(A)に点
線で示すように、長方形を凹部と凸部で二分割する第1
.第2分割透明導電膜432と433が形成されている
。第1分割透明導電膜432は、絞り坂に形成された絞
り423aと423bのA及びA′で領域(第5図(A
)において斜線を付して示す領域)をカバーする様に、
一方、第2分割透明導電膜433は、B及びB′領域を
カバーする様に形成されている。434は、酸化タング
ステン、水酸化イリジウム等のエレクトロクロミック膜
であり、441は電解質である。エレクトロクロミック
材料が酸化タングステンの場合には、これと接する電極
を負電位にして通電することにより着色し、水酸化イリ
ジウムの場合には、正電位にして通電することにより着
色する。443はガラス板であた、その内側表面には共
通の当面導電膜442がコーI・されている。435及
び436はシール材であり、437,438は夫々第1
.第2分割透明導電膜432に導通する導体、439,
4.40は共通の透明電極膜442に4ifflする導
体である。エレクトロクロミック材料が酸化タングステ
ンの場合、導体437と439の間に導体437が負電
位となるようにして通電すると透明導電膜432の部分
が着色するから、絞り423aと423bのA及びA′
領域が着色するから、絞り423aと423bのA及び
Aんて領域が着色する。また、導体438と440の間
に導体438が負電位となるようにして通電すると透明
導電膜433の部分が着色するから、絞り423aと4
23bのB及びB′領域が着色する。In addition, on the other surface of the glass plate 432, as shown by the dotted line in FIG.
.. Second divided transparent conductive films 432 and 433 are formed. The first divided transparent conductive film 432 is formed in areas A and A' of the apertures 423a and 423b formed on the aperture slope (Fig.
) to cover the shaded area).
On the other hand, the second divided transparent conductive film 433 is formed to cover the B and B' regions. 434 is an electrochromic film such as tungsten oxide or iridium hydroxide, and 441 is an electrolyte. When the electrochromic material is tungsten oxide, the material is colored by setting the electrode in contact with it to a negative potential and applying electricity, and in the case of iridium hydroxide, it is colored by setting the electrode to a positive potential and applying electricity. 443 is a glass plate, and a common conductive film 442 is coated on the inner surface thereof. 435 and 436 are sealing materials, and 437 and 438 are first sealing materials, respectively.
.. A conductor electrically connected to the second divided transparent conductive film 432, 439,
4.40 is a conductor connected to the common transparent electrode film 442 by 4iffl. When the electrochromic material is tungsten oxide, if electricity is applied between the conductors 437 and 439 so that the conductor 437 has a negative potential, the transparent conductive film 432 will be colored.
Since the areas are colored, areas A and A of the apertures 423a and 423b are colored. Furthermore, if electricity is applied between the conductors 438 and 440 so that the conductor 438 has a negative potential, the portion of the transparent conductive film 433 will be colored.
The B and B' regions of 23b are colored.
第6図は上記エレクトロクロミック材料の分光透過率を
示したものである。曲線(I)は消色時の特性を示し、
曲線(n)は着色時の特性を示している。着色時には、
可視域に対し特に近赤外での吸収が増大する。投光よう
のLED光源の波長を700nm以上の近赤外に選べば
、この波長帯ではこのエレクトロクロミック材料はシャ
ッターとして機能することになる。今、絞り423a、
423bのA及びA′領域を着色したとすると、B及び
B′領域のみ光が透過するから、光軸に近い部分をにら
むことになる。これに対しB及びB′領域を着色したと
すると、A及びA′領域のみ光が透過することになるか
ら、光軸より遠い部分をにらむことになる。アクティブ
AF時に、このようにして光の透過領域う切り換えるこ
とにより、撮影レンズの面間反射によるフレアーやゴー
ストの影響を除去することができる。FIG. 6 shows the spectral transmittance of the electrochromic material. Curve (I) shows the characteristics when decolored,
Curve (n) shows the characteristics when colored. When coloring,
Absorption especially in the near infrared region increases compared to the visible region. If the wavelength of the LED light source for light projection is selected to be near infrared 700 nm or more, the electrochromic material will function as a shutter in this wavelength range. Now, aperture 423a,
If the A and A' areas of 423b are colored, light will pass through only the B and B' areas, so you will be looking at the area near the optical axis. On the other hand, if areas B and B' are colored, only areas A and A' will transmit light, so the user will be looking at areas farther from the optical axis. By switching the light transmission area in this manner during active AF, it is possible to eliminate the influence of flare and ghost caused by inter-plane reflection of the photographic lens.
以上、絞りを切り換える手段として、エレクトロクロミ
ック素子を例にあげて説明してきたが、他に液晶や電気
光学セル、さらには機械式シャッターを用いてもよいこ
とを付は加えておく。Although the electrochromic element has been described above as an example of means for switching the aperture, it should be noted that liquid crystals, electro-optic cells, and even mechanical shutters may also be used.
第7図は第4図の焦点検出用光学系の光路中、例えば視
野マスクの直前位置に配置された光学フィルタ(If)
(I[I) (第4図には図示せず)と発光ダイ
オードの発光波長(I)との関係を示したものである。FIG. 7 shows an optical filter (If) placed in the optical path of the focus detection optical system shown in FIG. 4, for example, at a position immediately before the field mask.
This figure shows the relationship between (I[I) (not shown in FIG. 4) and the emission wavelength (I) of a light emitting diode.
光学フィルタ(Il)は、赤外光をカットして撮影レン
ズの色収差の影響を除く為のものであり、光学フィルタ
(III)は紫外光(4501以下くらい)をカットし
て、着色時に於けるエレクトロクロミック素子(ECD
)の光線遮断機能をより効率よくする為のものである。The optical filter (Il) is for cutting infrared light and eliminating the effects of chromatic aberration of the photographic lens, and the optical filter (III) is for cutting ultraviolet light (approximately 4501 or less) and is used for coloring. Electrochromic device (ECD)
) to make the light blocking function more efficient.
介皿■処工
本発明に係る焦点検出装置は以上の如く構成したので、
撮影レンズとして各種のものを用いても有害光の形1を
受は難い状態でアクティブ方式での焦点検出を行うこと
ができ、−眼レフカメラにとって頗る使用価値高いもの
である。Since the focus detection device according to the present invention is constructed as described above,
Even if various types of photographic lenses are used, active focus detection can be performed in a state where it is difficult to receive harmful light type 1, and it is extremely useful for reflex cameras.
第1図は本発明の焦点検出装置の適用された一眼レフカ
メラの透視図、第2図は本発明装置に用いる焦点検出光
学系を示す図、第3図は本発明装置の一例としての焦点
検出システムを示すブロック図、第4図は焦点検出光学
系の別実施例を示す図、第5図(A)は電気光学素子の
周辺を示す平面図、同図(B)は図(A)のX−X断面
図、第6図は電気光学素子の透過率特性を示す図、第7
図は第4図の実施例の光路中に配した光学フィルタと発
光ダイオードの波長−透過率特性を示す図、第8図(A
)は従来の焦点検知装置を備えた一眼レフカメラの透視
図、図(B)は前記カメラの焦点検出エリヤを示す図、
第9図乃至第14図は有害光の説明のための図で、第9
図は焦点検出光学系を示す図、第10図は第9図を90
゛異なる方向からみた図、第11図(A)(B)は夫々
有害光の発生状況を示す図、第12図(A)は第1マス
ク面上での有害光の広がりを示す図、同図(B)は第2
マスク面上での有害光の広がりを示す図、第13図は各
種レンズにおける有害光の広がりを示す図、第13図は
各種レンズにおける有害光の広がりを示す図、第14図
は第11図から前回までの有害光の測定に用いた投光光
学系の具体的構成を示す図である。
107.308・・・は第1の投光手段114.309
・・・は第2の投光手段206〜209.401,40
2・・・2次結像手段
204A、A’、205B、B’・・・絞り開口312
・・・切換手段(セレクト回路)211.212,30
0,301・・・受光センサ304・・・選択手段(セ
レクト回路)403・・・電気光学素子
特許出願人 ミノルタカメラ株式会社第1図
第4図FIG. 1 is a perspective view of a single-lens reflex camera to which the focus detection device of the present invention is applied, FIG. 2 is a diagram showing a focus detection optical system used in the device of the present invention, and FIG. 3 is a focus diagram as an example of the device of the present invention. FIG. 4 is a block diagram showing the detection system, FIG. 4 is a diagram showing another embodiment of the focus detection optical system, FIG. 5 (A) is a plan view showing the vicinity of the electro-optical element, and FIG. FIG. 6 is a diagram showing the transmittance characteristics of the electro-optical element, and FIG.
The figure shows the wavelength-transmittance characteristics of the optical filter and light emitting diode arranged in the optical path of the embodiment shown in Fig. 4, and Fig. 8 (A
) is a perspective view of a single-lens reflex camera equipped with a conventional focus detection device, and Figure (B) is a diagram showing the focus detection area of the camera.
Figures 9 to 14 are diagrams for explaining harmful light.
The figure shows the focus detection optical system, and Figure 10 is the same as Figure 9.
Figures 11 (A) and 11 (B) are diagrams showing the generation of harmful light, respectively, and Figure 12 (A) is a diagram showing the spread of harmful light on the first mask surface. Figure (B) is the second
Figure 13 is a diagram showing the spread of harmful light on the mask surface, Figure 13 is a diagram showing the spread of harmful light in various lenses, Figure 14 is Figure 11. It is a figure which shows the specific structure of the light projection optical system used for the measurement of harmful light from to the previous time. 107.308... is the first light projecting means 114.309
... is the second light projecting means 206 to 209, 401, 40
2...Secondary imaging means 204A, A', 205B, B'...Aperture aperture 312
...Switching means (select circuit) 211, 212, 30
0,301... Light receiving sensor 304... Selection means (select circuit) 403... Electro-optical element patent applicant Minolta Camera Co., Ltd. Figure 1 Figure 4
Claims (2)
射する第1の投光手段と、 撮影レンズ外部より光を投射する第2の投光手段と、 撮影レンズの予定結像面付近に配された二次結像手段と
、 上記二次結像手段の直近で撮影レンズ光軸からの距離が
異なる少なくとも2つの位置に配された少なくとも2対
の絞り開口と、 上記第1の投光手段と第2の投光手段とを切り換える切
換手段と、 上記少なくとも2対の絞り開口を通過した光を受光する
少なくとも2つの受光センサと、 上記切換手段の切換に応じて2つの受光センサの一方を
選択する選択手段とを備え、 上記受光センサの出力信号から撮影レンズの焦点位置の
検出を行うようにしたことを特徴とする焦点検出装置。(1) A first light projection means that projects light through the photographic lens from behind the photographic lens; a second light projection means that projects light from outside the photographic lens; and a second light projection means that projects light from outside the photographic lens; at least two pairs of aperture apertures arranged at at least two positions at different distances from the optical axis of the photographing lens in the immediate vicinity of the secondary imaging means; and the first light projection. a switching means for switching between the first light projecting means and the second light emitting means; at least two light receiving sensors that receive light passing through the at least two pairs of apertures; and one of the two light receiving sensors in response to switching of the switching means. A focus detection device, comprising: selection means for selecting a focus position of a photographing lens from an output signal of the light receiving sensor.
射する第1の投光手段と、 撮影レンズ外部より光を投射する第2の投光手段と、 撮影レンズの予定結像面付近に配された二次結像手段と
、 上記二次結像手段の直近に配された電気光学素子と、 上記第1の投光手段と第2の投光手段とを切り換える切
換手段と、 上記二次結像手段を通過した光を受光する少なくとも1
個の受光センサとを備え、 上記電気光学素子は撮影レンズ光軸からの距離が異なる
少なくとも2つの場所の光の透過率を可変とすることに
よって絞り開口として機能すると共に、この電気光学素
子の上記場所的透過率の変化を上記切換手段と連動して
切り換えるよう構成し、もって、上記受光センサの出力
信号から撮影レンズの焦点位置の検出を行うようにした
ことを特徴とする焦点検出装置。(2) A first light projection means that projects light from behind the photographic lens through the photographic lens; a second light projection means that projects light from outside the photographic lens; an electro-optical element disposed in the immediate vicinity of the secondary imaging means; a switching means for switching between the first light projecting means and the second light projecting means; At least one receiving light that has passed through the next imaging means
The electro-optical element functions as an aperture aperture by varying the transmittance of light at at least two locations having different distances from the optical axis of the photographing lens, and A focus detection device, characterized in that it is configured to switch the change in local transmittance in conjunction with the switching means, and thereby detect the focal position of the photographing lens from the output signal of the light receiving sensor.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2271086A JPS62180314A (en) | 1986-02-04 | 1986-02-04 | Focus detecting device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2271086A JPS62180314A (en) | 1986-02-04 | 1986-02-04 | Focus detecting device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62180314A true JPS62180314A (en) | 1987-08-07 |
Family
ID=12090387
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2271086A Pending JPS62180314A (en) | 1986-02-04 | 1986-02-04 | Focus detecting device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62180314A (en) |
-
1986
- 1986-02-04 JP JP2271086A patent/JPS62180314A/en active Pending
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