JPS62162658A - 石膏の焼成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は石膏の焼成方法に関する。

従来の技術 α型半水石膏は水和凝結後の強度が大きく、しかも製品
乾燥工程でのエネルギーが節約できる等の利点を有する
ので、新しい建策基材として有望視されており、このα
型半水石膏は、二水石膏金膏の水利反応及び脱水反応を
抑える形で付着水分のみを蒸発させる蒸発工程を余分に
必要とするため、乾式法の方が望ましい。ところで、こ
れまでの乾式法によると、二本石膏をオートクレーブに
入れて飽和水蒸気で加熱して焼成していた。

発明が解決しようとする問題点 上記従来の乾式法によると、バッチ式のため作業能率お
よび熱効率が悪い。焼石膏の品質にバラツキがある。装
置の大型化の限界にょｐ処理量が少ないという問題があ
った。

そこで、本発明は上記問題を解消し得る石膏の焼成方法
を提供することを目的とする。

問題点を解決するための手段 上記問題を解消するため、本発明の石膏の焼成方法は、
回転キルン本体内に原料石膏を投入すると共に水蒸気を
導入して加圧下で焼成する際に、キルン本体の供給口に
接続された２個の供給槽内に原料石膏を大気圧下で供給
した後、各供給槽内をキルン本体内圧力と同一圧力に加
圧した状態で原料石膏を２個の供給槽から交互に排出し
てキルン本体内に連続供給し、供給側では飽和水蒸気圧
とほぼ等しい温度に保ち、排出側では飽和水蒸気圧の温
度より高い過熱状態下にして一定時間保持し、付着水分
の蒸発と結晶水を脱水してα型半水石膏を主成分とする
石膏に焼成すると共に、キルン本体の排出口に接続され
た２個の排出槽内圧力をキルン本体内圧力（５Ｋｆ／ｃ
ｎＧ以下）と同一圧力に加圧した状態で焼成量ｌｆを連
続的に排出槽内に排出した後、排出槽内圧力を大気圧し
して焼成石膏を両排出槽から交互に排出する方法である
。

作用 上記の石膏の焼成方法によると、それぞれ２個の供給槽
及び排出槽内圧力をキルン本体内圧力と同一圧力に加圧
した状態で、原料石膏及び焼成石膏の給排出を連続的に
行なうようにしたので、従来のパッチ式の場合に比べて
作業能率及び熱効率が良いと共に焼石膏の品質が均一で
あり、また処理量（焼成量）を大幅に増加させることが
できる等の利点がある。

実施例 以下、本発明の一実施例を図面に基づき説明する。第１
図において（１）は原料石膏（＝水石前を主成分とする
粉体状の石膏に添加剤を添加したもの）を焼成して焼成
石膏（α型半水石膏）を得るためのロータリキルン（回
転乾燥機）　、（２）は加圧状態でロータリキルン（１
）に原料石膏（以下、原料という）を供給するための供
給装置、（３）はロータリキルン（１）からの焼成石膏
（以下、焼成物という）を加圧状態で排出する排出装置
である。上記供給及び排出袋Ｗｔ（２）　（３）は後で
詳しく説明する。上記ロータリキルン（１）は、円筒状
のキルン本体αυと、このキルン本体（６）を回転させ
る回転駆動装置（図示せず）と、キルン本体（ロ）前端
に接続配置されると共に原料の供給口（２）が形成され
た原料供給用の前部スクリュウコンベアα１と、キルン
本体Ｑｌ）後端に接続配置されると共に、中間部に水蒸
気供給口ｑ尋及びドレン排出口（至）を、後端部に焼成
物の排出口αＱが形成された焼成物排出用の後部スクリ
ュウコンベアαηとから構成されている。０］）はロー
タリキルン（１）から出た排ガスから粉塵を除去するた
めの集塵装置で、集塵機（財）と、集塵機Ｃａの下部に
接続されたダストチャンバー（至）と、このダストチャ
ンバー（至）の下部に接続されて、ダストをダスト移送
フィン（財）を介して後述する搬出コンベア（１１３）
に移送するための移送用スクリュウコンベア（至）とか
ら構成されている。

次に、原料供給装置α１）を第２図に基づき詳しく説明
する。（５１Ａ　）及び（５１Ｂ）は原料を一時的に貯
える第２供給漕で、それぞれ原料供給口（５２ＡＸ５２
Ｂ）、原料排出口（５３Ａ）（５３Ｂ）、気体供給口（
５４Ａ）（５４Ｂ）、フィルター（５５Ａ）（５５Ｂ）
部分に対応して配置された気体排出口（５６Ａ）（５６
Ｂ）及びガス抜き口（５７Ａ）（５７Ｂ）が形成された
円筒形の槽本体（５８Ａ）（５８Ｂ）と、この槽本体（
５８Ａ）（５８Ｂ）内底部に配置された原料攪拌用の攪
拌羽根（５９Ａ）（５９Ｂ）と、槽本体（５８Ａ）（５
８Ｂ）上面に配置されて上記攪拌羽根（５９Ａ）（５９
Ｂ）を回転させるモータ（６０Ａ）（６０Ｂ）とから構
成されている。なお、上記各供給槽（５１Ａ）（５１Ｂ
）の槽本体（５８Ａ）（５８Ｂ）には保温用のジャケッ
ト（図示せず）が設けられている。例は投入コンベア働
からの原料（Ａｌｅ第１、第２供給槽（５１Ａ）（５１
Ｂ）に交互に供給するため第１スクリユウコンベアで、
中央に一個の供給口−、両端部に２個の排出口（６４Ａ
）（６４Ｂ）が形成されている。

そして、上記各排出口（６４Ａ）（６４Ｂ）とそれに対
応する各供給槽（５１Ａ）（５１Ｂ）の原料供給口（５
２Ａ）（５２Ｂ）とは、第１、第２開閉弁（６５Ａ）（
６５Ｂ）を有する第１、第２供給ライン（６６Ａ８６６
Ｂ）によって接続されている。■は各供給槽（５１Ａ）
（５１Ｂ）からの原料を連続的にロータリキルン（１）
の前部スクリュウコンベアα１に供給するための第２ス
クリユウコンベアで、両端部に２個の供給口（６８Ａ）
（６８Ｂ）、中央に１個の排出口−が形成されている。

そして上記各供給口（６８Ａ）（６８Ｂ）と各供給槽（
５１Ａ）（５１Ｂ）の排出口（５３Ａ）（５３Ｂ）とは
、上流から下流に向って順に原料の供給を調整する第１
、第２調整弁（弁体（７１Ａ）（７１Ｂ）とこれを揺動
させるシリンダー装置（７２Ａ）（７２Ｂ）とから構成
されている）　（７０Ａ）（７０Ｂ）と、第１、第２中
間スクリュウコンベア（７３Ａ）（７３Ｂ）と、第３、
゛第４開閉弁（７４Ａ）（７４Ｂ）とを有する第３及び
第４供給フイン（７５Ａ）（７５Ｂ）によって接続され
ている。（７７Ａ）（７７Ｂ）は途中筒５、第６開閉弁
（７６Ａ）（７６Ｂ）を有する第１、第２排ガスライン
で、排ガス（Ｂ）を各供給槽（５１Ａ）（５１Ｂ）の気
体供給口（５４Ａ）（５４Ｂ）に供給するためのもので
ある。（７９Ａ）（７９Ｂ）は途中に第７、第８開閉弁
（７８Ａ）（７８Ｂ）　’！ｆ−有する第１、第２水蒸
気ラインで、水蒸気（Ｃ）を上記気体供給口（５４Ａ）
（５４Ｂ）に供給するためのものである。（８３Ａ）（
８３Ｂ）は途中に第９、第１０開閉弁（８０Ａ）（８０
Ｂ）を有する第１、第２気体排出ラインで、上記気体排
出口（５６Ａ）（５６Ｂ）’を介して供給槽（５１Ａ）
（５１Ｂ）内の気体を煙突わりに連通された煙突ライン
翰に排出するためのものである。

（８５Ａ）（８５Ｂ）は途中に第１１、第１２開閉弁（
８４Ａ）（８４Ｂ）を有する第１、第２ガス抜きライン
で、それぞれ一端が各ガス抜き口（５７Ａ）（５７Ｂ）
に接続されると共に他端が上記第１、第２気体排出ツイ
ン（８３ＡＸ８３Ｂ）に接続されている。（８７Ａ）（
８７Ｂ）は途中に第１３、第１４開閉弁（８６Ａ）（８
６Ｂ）を有する第１、第２逆洗ラインで、第１又は第２
水蒸気ライン（７９Ａ）（７９Ｂ）ライン中の水蒸気を
、第１、第２気体排出ライン（８３Ａ）（８３Ｂ）の一
部を介して気体排出口（５６Ａ）（５６Ｂ）に導くため
のものである。上記各供給槽（５１Ａ）（５１Ｂ）内に
配置、された攪拌羽根（５９Ａ）（５９Ｂ）は、槽内の
原料を均一にならして定量排出を目的とすると共に、槽
内が昇圧された際、熱を内部まで均一に伝達するもので
特殊な形状にされている。また、各供給槽（５１Ａ）（
５１Ｂ）ｔ”ジャケット構造としたのは、原料が槽壁に
固着するのを防止するためである。また、上記各スクリ
ュウコンベア＠（７３Ａ）（７３Ｂ）及び前記スクリュ
ウコンベア（４）も同様の目的でジャケット構造とされ
ると共に、第２スクリユウコンベアーは両方の供給ｔ！
？　（５１Ａ）（５１Ｂ）からの原料を中央から排出す
るため、スクリュウ羽根自体は互いに半分づつ逆方向に
形成されている。なお、■は第２スクリユウコンベア匈
と前部スクリュウコンベア（至）とを接続する接続フィ
ンである。また、上記各排ガスライン（７７Ａ）（７７
Ｂ）は一本にされ、集塵機（２）の頂部に接続されてい
る。

次に、焼成物の排出装置（３）ヲ第３図に基づき詳しく
説明する。（１００Ａ）及び（１００Ｂ）は焼成物（Ｄ
Ｉを一時的に貯える第１及び第２排出槽で、それぞれ焼
成物供給口（ＩｏｌＡ）（ＩＯＩＢ）、焼成物排出口（
１０２ＡＸ１０Ｂ）、気体供給口（１０３ＡＸ１０３Ｂ
）及びフィルター（１０４ＡＸ１０４Ｂ）部分に対応し
て配置された気体排出口（１０５ＡＸ１０５Ｂ）が形成
された槽本体（１０６Ａ）（１０６Ｂ）と、この槽本体
（１０６ＡＸ１０６Ｂ）内底部に配置された焼成物取出
用の第１、第２取出用スクリュウ羽根（１０７Ａ）（１
０７Ｂ）と、このスクリュウ羽根（１０７ＡＸ１０７Ｂ
）　？回転させるモータ（図示せず）とから構成されて
いる。（１０８）は後部スクリュウコンベアα０からの
焼成物を第１、第２排出＋１　（１００ＡＸ１００Ｂ）
に交互に供給するための第３スクリユワコンベアで、中
央に一個の供給口（１０９）、両端部に２個の排出口（
ＩＩＯＡＸ／／□Ｂ）が形成されている。そして、上記
各排出口（ＩＩＯＡＸＩＩＯＢ）とそれに対は、第１５
、第１６開閉弁（ＩＩＩＡＸＩＩＩＢ）を有する第１、
第２排出フイン（１１２ＡＸ１１２Ｂ）によって接続さ
れている。（１１３）は各排出槽（１００ＡＸ１００Ｂ
）からの焼成物を連続的にホッパー（１１４）を送るた
めの搬出コンベアで、２個の供給口（１１５ＡＸ１１５
Ｂ）と１個の補助供給口（１１５Ｃンが設けられ九ケー
ンング本体（１１６）と、ケーシング本体（１１６）内
に配置されたスクリュウ羽根（１１６ａ）と、このスク
リュウ羽根の駆動装置（図示しないが例えばモータ）と
から構成されている。そして、上記各供給１：Ｉ　（１
１５Ａ）（１１５Ｂ）と各排出槽（１００ＡＸ１００Ｂ
）の排出口（１０２ＡＸ１０２Ｂ）とは、第１７、第１
８開閉弁（１１７ＡＸ１１７Ｂ）を有する第３及び第４
排出ライン（１１８ＡＸ１１８Ｂ）によって接続されて
いる。（１１９ＡＸ１１９Ｂ）は途中に第１９、第２０
開閉弁（１２０ＡＸ１２０Ｂ）を有する第１、第２温風
フインで、温風（Ｅａｆ：各排出１Ｗ（１００ＡＸ１０
０Ｂ）の気体供給口（１０３ＡＸ１０３Ｂ）に供給する
ためのものである。（１２１Ａ）（１２１Ｂ）は途中に
第２１、第２２開閉弁（１２２ＡＸ１２２Ｂ）を有する
第３、第４気体排出ラインで、上記排出槽（１００ＡＸ
１００Ｂ）内の気体を煙突６１）に連通された煙突うイ
ン□に排出するためのものである。（１２３ＡＸ１２３
Ｂ）は途中に第２３、第２４開閉弁（１２４ＡＸ１２４
Ｂ）ｔ−有する第３、第４ガス抜きラインで、一端が各
排出槽（１００Ａ）（ＩｏｏＢ）の各気体供給口（１０
３ＡＸ１０３Ｂ）に連通されると共に他端が煙突ライン
頓にそれぞれ接続されている。（１２５ＡＸ１２５Ｂ）
は途中に第２５、第２６開閉弁（１２６Ａ）（１２６Ｂ
）を有する第３、第４逆洗ラインで、第１、第２温風ラ
イン（１１９ＡＸ１１９Ｂ）内の温風を第３、第４気体
排出ライン（１２１ＡＸ１２１Ｂ）の一部を介して気体
排出口（１０５ＡＸ１０５Ｂ）に導くためのものである
。なお、持っている。従って、加圧水蒸気の雰囲気にな
る供給槽、スクリュウコンベア、排出槽内面では水蒸気
がドレン化して、焼成物が内面に固着する虞れが生じる
。このため、各コンベアαＱ　（１０８）（１１３）　
及び各排出槽（１０臥バ１００Ｂ）は保温のための耐圧
ジャケット構造にされている。

次に、原料の供給手順を項目類に説明する。

■　第１供給槽（５１Ａ）への原料供給準備として、第
１開閉弁（６５Ａ）が開かれる。（この時、第１供給槽
（５１Ａ）内は大気圧に降圧されている。）■　第１ス
クリユウコンベアＩＩ）が正転されて原料が第１供給槽
（５１Ａ）内に供給される。

■　第１供給摺（５１Ａ）内に原料が所定量投入される
と、第１開閉弁（６５Ａ）が閉じられる。

■　第５開閉弁（７６Ａ）が開かれて集塵機−からの排
ガスが第１供給槽（５１Ａ　）内に導かれて１次昇圧が
される。１次昇圧完了後、第５開閉弁（７６Ａ　）が閉
じられる。

■　第１３開閉弁（８６Ａ）が開かれ水蒸気がフィルタ
ー（５５Ａ）に供給されて２次昇圧がされると共に逆洗
浄が成される。これは、前回の降圧作業時に付着したダ
ストヲ取除くためである。

２次昇圧完了後、第１３開閉弁（８６Ａ）が閉じられる
。

■　第７開閉弁（７８Ａ）が開かれ水蒸気が供給されて
３次昇圧が成される。この場合、昇圧時間を短縮するた
めに、フィルター＜５５ｈ＞＊ｍさずに直接に槽内に供
給される。３次昇圧完了後、第７開閉弁（７８Ａ）が閉
じられる。この時、槽内の圧力はロータリキルン（１）
内の圧力と同圧又は少し高い圧力になっている。

■　第３−開閉弁（７４Ａ）が開かれ、且つ第１中間ス
クリュウコンベア（７３Ａ）が駆動されると共に第１調
整弁（７０Ａ）が断続的に開閉される。

従って、攪拌羽根（５９Ａ）によって第３供給ライン（
７５Ａ）に落下された原料は、第１中間スクリュウコン
ベア（７３Ａ）　’＆介して第２スクリエウコンベア拘
に導かれ、そして前部スクリュウコンベア（４）よりキ
ルン本体（２）内に供給される。

この後、第１供給槽（５１Ａ）内の降圧が行なわれるが
、この降圧時に、上記と同じ手順で昇圧された第２供給
槽（５１Ｂ）内から原料が、第４供給ライン（７５Ｂ）
及び第２スクリユウコンベアβηを介してキルン本体（
２）内に供給される。従って、キルン本体（２）内と同
−又は少し高い圧力状態で、２つの供給槽（５１Ａ）（
５１Ｂ）から原料が交互に連続的にキルン本体（２）内
に供給される。

■　第１供給＠　（５１Ａ）からの原料の供給が済むと
、第１調整弁（７０Ａ）を閉じ、第１中間ヌクリュウコ
ンベア（７３Ａ）を停止する。そして、その後第３開閉
弁（７４Ａ）　ｅ閉じる。このように、第１中間スクリ
ュウコンベア＜７３Ａ）ｋ％止させた後、第３開閉弁（
７４Ａ）を閉じるので、原料が弁の摺動面に堆積してい
ない状態の時に、弁が作動するので、弁口体に摩耗が生
じない。

続いて降圧手順について説明する。

■　第９開閉弁（８０Ａ）を開き、第１供給槽（５１Ａ
）内の気体金フィルター（５５Ａ）を通して排出し、１
次降圧を行なう。勿論、フィルター（５５Ａ）を通すの
は、ダスト補修の目的である。１次降圧完了後、第９開
閉弁（８０Ａ）を閉じる。

［相］　第１１開閉弁（８４Ａ）を開き、２次降圧金行
なう。この場合、フィルター（５５Ａ）を通さないのは
、槽内の圧力が１次降圧によりダストが飛散しない程度
まで降下されていること及び降圧時間短縮のためである
。２次降圧が完了すると・第１１開閉弁（８４Ａ）が閉
じられる。以上の手順によシ降圧が完了する。この後、
再び第１開閉弁（６５Ａ）が開かれると共に第１スクリ
ユウコンベア６］）が逆転から正転にされて第２供給槽
（５１Ｂ）に原料を供給していたのが第１供給１　（５
１Ａ）に供給され、以下上記手順が繰返される。

上記のように、前部スクリュウコンベア（２）ヲ介して
キルシン本体Ｑυ内に供給された原料は、圧力下で水蒸
気により焼成され、後述する手順により排出される。な
お、キルシン本体αυ内の圧力はゲージ圧で５Ｋｙ／ｃ
ｄ以下とされ、α型半水石膏に要求される品質に応じて
選択される。通常の場合は略３　Ｋｇ／ｄ以下で安定し
てα型半水石膏が得られる。また、キルン本体θη内の
温度及び圧力は、２次石膏供給側で飽和蒸気圧温度に近
く、α型半水石膏となった排出側では供給側の温度よシ
高い傾向を示すようにコントロールされる。また、キル
シン本体αυ内の圧力をコントロールするために、過剰
の水蒸気を排出する位置は、原料石膏供給側からの排出
も可能であるが、操作上及びα型半水石膏側の圧力をコ
ントローｐする方がよいため、排出側がよい。

なお、圧力不足により、水蒸気をキルシン本体Ｏυ内に
供給する位置は、逆に２次石膏供給側がよい。

次に、焼成物の排出手順を項目類に説明する。

Ｏ）　第１排出槽（１００Ａ＞への焼成物排出準備とし
て、第１５開閉弁（ＩＩＩＡ）が開かれる（この時、第
１排出槽（ＩＯＱＡ）内はキルン本体Ｑｌ）内圧力と同
−又は少し低い圧力に昇圧されている。）。

■　第３スクリユウコンベア（１０８）が正転されて焼
成物が第１排出槽（ＩＯＱＡ）内に排出される。

■　第１排出槽（１００Ａ）内に焼成物が所定量投入さ
れると、第１５開閉弁（ＩＩＩＡ）が閉じられる。

■　第２１開閉弁（１２２Ａ）を開きフィルター（１０
４Ａ）を通して第１排出摺（１００Ａ）内の気体を排出
して、１次降圧を行なう。勿論、フィルター（１０４Ａ
）を通すのは、ダスト捕集の目的である。

１次降圧完了後、第２１開閉弁（１２２Ａ）　’に閉じ
る。

■　第２３開閉弁（１２４Ａ）を開９２次降圧を行なう
。

この場合、フィルター（１０４Ａ）　ｔ−通さないのは
、槽内の圧力が１次降圧によりダストが飛散しない程度
まで降下されていること及び降圧時間短縮のためである
。２次降圧が完了すると、第２３開閉弁（１２４Ａ）が
閉じられる。以上の手順により降圧が完了する。

■　次に、第１７開閉弁（１１７Ａ）　ｔ−開いた後、
第１取出用スクリエウ羽根（１０７Ａ）を回転させて、
槽内の焼成物を第３排出ツイン（１１８Ａ）を介して排
出コンベア（１１３）に排出する。

この後、第１排出ｔ！　（１００Ａ）内の昇圧が行なわ
れるが、この昇圧時に、上記と同じ手順で降圧された第
２排出［（１００Ｂ）内から焼成物が、第４排出ツイン
（１１８Ｂ）　ｔ−介して搬出コンベア（１１３）に排
出される。従って、キルン本体Ｑｌ）内と同一圧力状態
で、２つの排出（曹（１００ＡＸ１００Ｂ）から焼成物
が交互に連続的に排出される。

続いて昇圧手順について説明する。

■　第１７開閉弁（１１７Ａ）を閉じた後、第２５開閉
弁（１２６Ａ）を開き、熱風をフィルター（１０４Ａ）
を介して第１排出ｍ　（１０ＱＡ）内に供給して１次昇
圧を行なう。この時、フィルター（１０４Ａ）は逆洗さ
れて、１次降圧時に付着したダストが落とされる。１次
外圧完了後、第２５開閉弁（１２６Ａ）が閉じられる。

■　第２３開閉弁（１２４Ａ）を開き、２次降圧が行な
われる。この場合、昇圧時間を短縮するために、フィル
ター（１０４Ａ）を通さずに直接に槽内に供給される。

２次昇圧完て後、第２３開閉弁（ＩＺ４Ａ）が閉じられ
る。この時、槽内の圧力は、キルン本体（ロ）内の圧力
と同−又は少し低い圧力になっている。この後、再び第
１５開閉弁（ＩＩＩＡ）が開かれると共に第３スクリユ
ウコンベア（１０８）が逆転から正転にされて第２排出
漕（１００Ｂ）に焼成物を排出していたのが第１排出槽
（１００Ａ）に供給され、以下上記手順が繰返して行な
われ、排出が行なわれる。また、ロータリキルン（１）
からの排ガスは集塵機（イ）に送られてここでダストが
除去された後、煙突６１）及び各排ガスライン（７７Ａ
）（７７Ｂ）に送られる。更に、集塵機（至）からのダ
ストは、ダスト移送ライン（ロ）及び搬出コンベア（１
１３）　’ｉ介してホッパー（１１４）に送られる。

なお、上記各コンベア、開閉弁等は、あらかじめ電気的
に設定されたシーケンスにより正確にコントロールされ
ている。

ところで、上記実施例において、投入される石膏は、付
着水分が２５係以下の副産化学石膏及び天然石膏の粉体
状とする。付着水分が２５４より多い場合は予備乾燥に
より２５係以下にして使用する。

また、石膏には媒晶剤が添加されるが、この媒晶剤とし
ては、クエン酸ナトリウム、コハク酸ナトリウム等力〜
ポキシ〃基金有する有機酸塩と、アスパラギン酸ナトリ
ウム、グルタミン酸ナトリウム等アミノ基を有する有機
酸塩と、ガスクトース、マン／　　／”Ｉ　ノ炭水化物
と、硫酸アルミニュウム、硫酸第２鉄等の無機塩類等が
あシ、これらはα型半水石膏に要求される品質に応じて
焼成石膏のＯ〜５憾の範囲内で選択できる。

発明の効果 上記本発明の石膏の焼成方法によると、それぞれ２個の
供給槽及び排出槽内圧力管キルン本体内圧力と同一圧力
に加圧した状態で、原料石膏及び焼成石膏の給排出を連
続的に行なうようにしたので、作業能率および熱効率が
良いと共に焼石膏の品質が均一で１４７、また従来のバ
ッチ式の場合に比べて、処理量（焼成量）ｔ−大幅に増
加させることができる等の利点がある。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の一実施例を示すもので、第１図は全体構
成図、第２図は供給装置の構成図、第３図は排出装置の
構成図である。 （１）・・・ロータリキルン（回転乾燥機）　、（２）
・・・供給装置、（３）・・・排出装置、Ｑｌ）・・・
キμン本体、＠・・・供給口、０３・・・前部スクリエ
ウコンベア、ＱＯ・・・排出口、αη・・・後部スクリ
エウコンベア、（５１Ａ）・・・第１供給槽、（５１Ｂ
）・・・第２供給槽、（５２Ａ）（５２Ｂ）・・・原料
供給口、（５３Ａ）（５３Ｂ）・・・原料排出口、（５
４ＡＸ５４Ｂ）・・・気体供給口、（５６Ａ）（５６Ｂ
＞・・・気体排出口１、（５９Ａ）（５９Ｂ）・・・攪
拌羽根、参１・・・第１スクリエウコンベア、−・・・
供給口、（６４ＡＸ６４Ｂ）・・・排出口、（６５Ａ）
・・・第１開閉弁、（６５Ｂ）・・・第２開閉弁、（６
６Ａ）・・・第１供給フイン、（６６Ｂ）・・・第２供
給ライン、旬・・・第２ヌクリユウコンヘア、…・・・
排出口、（７３Ａ）・・・第１中間スクリュウコンベア
、（７３Ｂ）・・・第２中間スクリュウコンベア、（７
４Ａ）・・・第３開閉弁、（７４Ｂ）・・・第４開閉弁
、（７５Ａ）・・・第３供給ライン、（７５Ｂ）・・・
第４供給フイン、（１００Ａ）・・・第１排出槽、（１
００Ｂ）・・・第２排出槽、（ＩｏｌＡＸｌｏｌＢ）・
・・焼成物供給口、（１０２ＡＸ１０２Ｂ）・・・焼成
物排出口、（１０３ＡＸ１０３Ｂ）・・・気体供給口、
（１０５ＡＸ１０５Ｂ）・・・気体排出口、（１０７Ａ
Ｘ１０７Ｂ）・・・スクリュウ羽根、（１０８）・・・
第３スクリユウコンベア、（ＩＩＩＡ）・・・第１５開
閉弁、（１１１Ｂ）・・・第１６開閉弁、（１１２Ａ）
・・・第１排出フイン、（１１２Ｂ）・・・第２排出フ
イン、（１１３）・・・搬出コンベア、（１１７Ａ）・
・・第１７開閉弁、（１１７Ｂ）・・・第１８開閉弁、
（１１８Ａ）・・・第３排出フイン、（１１８Ｂ）・・
・第４排出ライン代理人　　　　森　　　本　　　義　
　　弘第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、回転乾燥機のキルン本体内に原料石膏を投入すると
   共に水蒸気を導入して加圧下で焼成する際に、キルン本
   体の供給口に接続された２個の供給槽内に原料石膏を大
   気圧下で供給した後、各供給槽内をキルン本体内圧力と
   同一圧力に加圧した状態で原料石膏を２個の供給槽から
   交互に排出してキルン本体内に連続供給すると共に、キ
   ルン本体の排出口に接続された２個の排出槽内圧力をキ
   ルン本体内圧力と同一圧力に加圧した状態で焼成石膏を
   連続的に排出槽内に排出した後、排出槽内圧力を大気圧
   にして焼成石膏を両排出槽から交互に排出することを特
   徴とする石膏の焼成方法。