JPS6216162A - Apparatus for controlling ion current - Google Patents

Apparatus for controlling ion current

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Publication number
JPS6216162A
JPS6216162A JP15511885A JP15511885A JPS6216162A JP S6216162 A JPS6216162 A JP S6216162A JP 15511885 A JP15511885 A JP 15511885A JP 15511885 A JP15511885 A JP 15511885A JP S6216162 A JPS6216162 A JP S6216162A
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JP
Japan
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ion
focusing
flow control
electrode
ion flow
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Application number
JP15511885A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichi Mori
幸一 森
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To enhance the density of an ion current, by providing an ion converging part to an ion current control head to form an electric field converging an ion. CONSTITUTION:An ion current control head 1 is formed so that a pair of electrodes 12, 14 respectively having through-holes 10 permitting the passage of an ion current are held in such a state that the hole axes of the through-holes 10 are allowed to coincide and a predetermined distance is held between both electrodes 12, 14 by an insulating member 16. A ion converging part 4 is arranged between an ion current control head 1 and a corona discharge device 2 and consists of a converging electrode 42 having an opening part 40 of which the diameter is larger than that of each through-hole 10 and the insulating member 44 supporting said converging electrode 42. An electric field is formed so as to be directed from the converging electrode 42 toward the electrode 12 and the straight polarity ion generated from a corona wire 20 is converged toward the through-holes 10. The ions absorbed by a casing 22 and the electrode 12 can be gathered to the through-holes 10 and the density of the ion current is enhanced.

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、一対の電極に加える電界によってイオン流を
制御するイオン流制御装置に関し、より詳細には複写機
や、情報処理システムの出力装置として使用されるプリ
ンタもしくはプロフタなどの記録装置において、記録部
材にイオン流を照射して静電潜像を形成する場合に適用
しうるイオン流制御装置に関する。
Detailed Description of the Invention Technical Field The present invention relates to an ion flow control device that controls ion flow by an electric field applied to a pair of electrodes, and more specifically to a printer used as an output device for a copying machine or an information processing system. Alternatively, the present invention relates to an ion flow control device that can be applied when forming an electrostatic latent image by irradiating a recording member with an ion flow in a recording device such as a profilter.

従来技術 複写機や、情報処理システムの出力装置として使用され
るプリンタもしくはプロッタなどの記録装置において、
イオン流を画素毎に制御して画像の記録を行ライオンプ
ロジェクション記録方式による場合には、記録すべき画
像情報に基づいて中間媒体に照射するイオン流を制御す
るためイオン流制御装置が用いられる。
Conventional technology In recording devices such as copying machines and printers or plotters used as output devices of information processing systems,
When recording an image by controlling the ion flow for each pixel using the lion projection recording method, an ion flow control device is used to control the ion flow applied to the intermediate medium based on the image information to be recorded.

このようなイオン流制御装置におけるイオン流制御ヘッ
ドは、一般に、イオン流を画素に対応した小孔を通して
記録部材の表面に照射するように構成されている。その
イオン流を通す小孔(以下、通孔と称する)の入側と出
側に一対の電極を配近し、この電極間に電圧を印加して
イオン流の通過、遮断を選択的に制御可能とし、その電
極間電圧を画像情報に基づいて制御することによって記
録部材に静電潜像を形成するように構成されている。
The ion flow control head in such an ion flow control device is generally configured to irradiate the surface of the recording member with an ion flow through small holes corresponding to pixels. A pair of electrodes is placed near the entrance and exit sides of a small hole (hereinafter referred to as a through hole) through which the ion flow passes, and a voltage is applied between the electrodes to selectively control the passing or blocking of the ion flow. The electrostatic latent image is formed on the recording member by controlling the voltage between the electrodes based on image information.

ところが、従来のイオン流制御装置によれば、イオン発
生源から供給されるイオンが通孔以外の方向にも拡散さ
れるため、通孔を通過するイオン流の密度が低くなる。
However, according to the conventional ion flow control device, the ions supplied from the ion source are diffused in directions other than through the through holes, so the density of the ion flow passing through the through holes becomes low.

すなわち電流密度が低くなるので、従来のイオン流制御
装置を用いた記録装置はSN比が悪く、記録密度を高く
することができず、したがって記録スピードを上げるこ
とができないという問題があった。
That is, since the current density becomes low, a recording device using a conventional ion flow control device has a problem that the signal-to-noise ratio is poor and the recording density cannot be increased, and therefore the recording speed cannot be increased.

目   的 本発明はこのような従来技術の欠点を解消し、通孔を通
過するイオン流の密度を低下させることの少ないイオン
流制御装置を提供することを目的とする。
OBJECTS It is an object of the present invention to eliminate the drawbacks of the prior art and to provide an ion flow control device that does not reduce the density of the ion flow passing through the through hole.

構成 本発明は上記の目的を達成させるため、イオン発生源か
ら供給されるイオンが通過する通孔をそれぞれ有する一
対の電極を距離を隔てて配置してなるイオン流制御ヘッ
ド手段と、一対の電極に印加する電圧を制御し、通孔の
長手方向に形成される電界を制御することによって、通
孔をイオンが通過するのを制御する制御電源手段とを有
するイオン流制御装置において、イオン流制御ヘッド手
段とイオン発生源との間に配置され、通孔よりも大きな
開口部を有する収束電極手段と、収束電極手段とイオン
流制御ヘッド手段との間にイオンを収束するための電界
を形成するイオン収束電源手段を有することを特徴とし
たものである。以下、本発明の実施例に基づいて具体的
に説明する。
Structure In order to achieve the above object, the present invention provides an ion flow control head means comprising a pair of electrodes arranged at a distance from each other, each having a through hole through which ions supplied from an ion source pass, and a pair of electrodes. An ion flow control device comprising a control power supply means for controlling passage of ions through the through hole by controlling a voltage applied to the through hole and controlling an electric field formed in the longitudinal direction of the through hole. A focusing electrode means disposed between the head means and the ion source and having an opening larger than the through hole, and forming an electric field for focusing ions between the focusing electrode means and the ion flow control head means. This device is characterized by having an ion focusing power source means. Hereinafter, the present invention will be specifically explained based on examples.

第1図に本発明が適用されてなる一実施例のイオン流制
御装置の原理的構成図を示す0本実施例は、イオン流制
御へラド1、コロナ放電器2.イオンスイッチ3、イオ
ン収束部4.直流電源Vl、直流電源V2.イオン発生
型[V3 、イオン収束電源v4を含んで形成されてい
る。
FIG. 1 shows a basic configuration diagram of an ion flow control device according to an embodiment to which the present invention is applied. This embodiment includes an ion flow control device 1, a corona discharger 2. Ion switch 3, ion focusing section 4. DC power supply Vl, DC power supply V2. It is formed to include an ion generation type [V3] and an ion convergence power supply V4.

イオン流制御ヘッドlは、イオン流が通過する通孔10
をそれぞれ有する一対の電極12.14を、それら通孔
lOの孔軸を一致させかつ絶縁部材1Bにより所定の距
離を保って保持させて形成されている。
The ion flow control head l has a through hole 10 through which the ion flow passes.
A pair of electrodes 12 and 14, each having a through hole 10, are formed by aligning the axes of the through holes 10 and holding them at a predetermined distance by the insulating member 1B.

コロナ放電器2はイオン流制御ヘッドlの通孔、10の
位置に一致させて設けられたコロナワイヤ20と、イオ
ン流制御ヘッドlと相まってコロナワイヤ20を包囲す
るごとく設けられたケーシング22とを有して形成され
ている。コロナワイヤ20は本実施例では正のイオンを
発生するようになっており、正極性のイオン発生電源v
3に接続されている。ケーシング22は接地されている
The corona discharger 2 includes a corona wire 20 provided in alignment with the through hole 10 of the ion flow control head l, and a casing 22 provided so as to surround the corona wire 20 in conjunction with the ion flow control head l. It is formed with In this embodiment, the corona wire 20 is designed to generate positive ions, and is connected to a positive ion generation power supply v.
Connected to 3. Casing 22 is grounded.

直流電源Vlは電極14に正の電圧を付与するものであ
り、スイッチ3により電極14に接続されるように構成
されている。直流電源v2は電極14に負の電圧を付与
するものであり、スイッチ3により電極14に接続され
るように構成されている。直流電源Vlおよびv2の他
方の電極は接地されている。スイッチ3は2つの接続位
置30および32を有し、画像情報に応動する駆動回路
(図示せず)によってこれらの接続位2t30および3
2のいずれかを選択的にとる。
The DC power supply Vl applies a positive voltage to the electrode 14, and is configured to be connected to the electrode 14 by the switch 3. The DC power source v2 applies a negative voltage to the electrode 14, and is configured to be connected to the electrode 14 by the switch 3. The other electrodes of DC power supplies Vl and v2 are grounded. The switch 3 has two connection positions 30 and 32, which are connected by a drive circuit (not shown) responsive to image information.
Select either of 2.

電極12は接地されている。Electrode 12 is grounded.

イオン収束部4は、イオン流制御へラド1とコロナ放電
器2との間に配置され、通孔10よりも大きい径の開口
部40を有する収束電極42とこの収束電極42を支持
する絶縁部材44とからなっている。
The ion focusing section 4 is disposed between the ion flow controller rad 1 and the corona discharger 2, and includes a focusing electrode 42 having an opening 40 with a larger diameter than the through hole 10, and an insulating member supporting the focusing electrode 42. It consists of 44.

イオン収束部4およびイオン流制御へラドlをコロナ放
電器2の側から見た図を第2図(a)に、反対側から見
た図を第2図(b)に示す、第2図(a)かられかるよ
うに収束電極42はコロナ放電器2の長手方向に長く配
設され、その開口部40の幅方向の中・しは通孔40の
中心と一致するように配置されている。また、電極12
1を複数の直線状に配列されたすべての通孔40の周囲
に同一の電圧が印加されるようになっている。一方、電
極14は第2図(b)かられかるように複数の通孔40
のそれぞ゛れの周囲に異った電圧が印加されるように通
孔40ごとに分離されている。なお、電極14は図のよ
うに直線状に配列する他、千鳥状に配列してもよい。
FIG. 2(a) shows the ion convergence unit 4 and the ion flow control controller l viewed from the side of the corona discharger 2, and FIG. 2(b) shows the view from the opposite side. As shown in (a), the focusing electrode 42 is arranged long in the longitudinal direction of the corona discharger 2, and the center of the opening 40 in the width direction is arranged so as to coincide with the center of the through hole 40. There is. In addition, the electrode 12
The same voltage is applied around all the through holes 40 arranged in a plurality of straight lines. On the other hand, the electrode 14 has a plurality of through holes 40 as shown in FIG. 2(b).
The through holes 40 are separated so that different voltages are applied around each hole. Note that the electrodes 14 may be arranged in a staggered manner instead of being arranged linearly as shown in the figure.

イオン収束電源v4は収束電極42に正の電圧を付与す
るものであり、収束電極42と電極12とに接続されて
いる。このイオン収束電源v4により収束電極42は電
極12に対して正の電位となっている。
The ion focusing power supply v4 applies a positive voltage to the focusing electrode 42, and is connected to the focusing electrode 42 and the electrode 12. The focusing electrode 42 has a positive potential with respect to the electrode 12 due to this ion focusing power source v4.

このように構成される実施例の動作を次に説明する。The operation of the embodiment configured as described above will be explained next.

コロナ放電器2においてコロナワイヤ20とケーシング
22との間でコロナ放電が発生し、正極性のイオンがケ
ーシング22内に放散される。
Corona discharge occurs between the corona wire 20 and the casing 22 in the corona discharger 2, and positive ions are diffused into the casing 22.

画像情報に基づいてスイッチ3が制御され、スイッチ3
が接続位置30に接続されているときは電極14が正極
性の直流電源■1に接続される。そこでイオン流制御へ
ラド1の電ai14には正の電圧が印加され、第3図の
一点鎖線のように、これによって通孔10内には電at
tから電極12に向う方向の電界が形成されるため、正
極性のイオンは通孔10を通過しない。
The switch 3 is controlled based on the image information, and the switch 3
When the electrode 14 is connected to the connection position 30, the electrode 14 is connected to the positive polarity DC power supply ■1. Therefore, a positive voltage is applied to the electric current ai14 of the ion flow controller 1, and as shown by the dashed line in FIG.
Since an electric field is formed in the direction from t toward the electrode 12, ions of positive polarity do not pass through the through hole 10.

次にスイッチ3が接続位置32に接続されているときは
;[極14が負極性の直流電源v2に接続され、イオン
流制御へラド1の電極14には負の電圧が印加される。
Next, when the switch 3 is connected to the connection position 32; the pole 14 is connected to the negative polarity DC power source v2, and a negative voltage is applied to the electrode 14 of the rad 1 for ion flow control.

そこで第4図の一点鎖線のように通孔lO内には電極1
2から電極14に向う方向の電界が形成されるため、正
極性のイオンは通孔10を通過する。
Therefore, as shown in FIG.
Since an electric field is formed in the direction from 2 to the electrode 14, positive ions pass through the through hole 10.

このようにして画像情報に応じてイオン流が制御される
In this way, the ion flow is controlled according to the image information.

ところが従来はこのようなイオン流制御装置において、
本実施例のようなイオン収束部4を設けていなかったの
で、コロナワイヤ20から発生したイオンは全方向に拡
散し、一部はケーシング22に吸収され、また一部は電
極12に吸収されるため、通孔10に到達するイオンが
少なく、通孔10を通過するイオン!iL密度が低かっ
た。
However, in conventional ion flow control devices like this,
Since the ion convergence unit 4 as in this embodiment was not provided, the ions generated from the corona wire 20 are diffused in all directions, and some are absorbed by the casing 22 and some are absorbed by the electrode 12. Therefore, fewer ions reach the through hole 10, and fewer ions pass through the through hole 10! iL density was low.

したがって従来のイオン流制御装置を用いた記録装置は
SN比が悪く記録速度を上げることができなかった。
Therefore, a recording device using a conventional ion flow control device has a poor signal-to-noise ratio and cannot increase the recording speed.

これに対し本実施例ではイオン収束部4を設け、イオン
収束電源v4により収束電極42が電極12に対して正
の電位となるようにしているから、収束電極42から電
極12に向う方向の電界が形成され、この電界によりコ
ロナワイヤ20から発生した正極性のイオンは通孔10
に向う方向に収束される。この場合に正極性のイオンは
開口部40の幅方向の中心から通孔10の中心に向う力
を受けるとともに、開口部40が通孔10よりも大きく
形成されているから、開口部40の周辺部から中心部に
向う力を受けることになり、通孔10に向って有効に収
束される。したがって従来、イオン収束部4を設けない
場合に、拡散されてケーシング22および電極12に吸
収されていたイオンを通孔10に集めることができるか
ら通孔10を通過するイオンfitVE度を高くするこ
とができる。したがって本実施例によるイオン流制v4
装置を用いた記録部δは、記録部材に照射されるイオン
流密度が高くなり、SN比の高い静電潜像が得られると
いう効果がある。
On the other hand, in this embodiment, the ion focusing section 4 is provided and the focusing electrode 42 is set to have a positive potential with respect to the electrode 12 by the ion focusing power supply v4, so that the electric field in the direction from the focusing electrode 42 to the electrode 12 is is formed, and positive ions generated from the corona wire 20 due to this electric field enter the through hole 10.
It is converged in the direction of . In this case, positive polarity ions receive a force from the center of the opening 40 in the width direction toward the center of the through hole 10, and since the opening 40 is formed larger than the through hole 10, the ions around the opening 40 A force is applied from the center portion to the center portion, and is effectively focused toward the through hole 10. Therefore, since the ions that were conventionally diffused and absorbed into the casing 22 and the electrode 12 when the ion converging section 4 was not provided can be collected in the through hole 10, the fitVE degree of ions passing through the through hole 10 can be increased. I can do it. Therefore, the ion flow control v4 according to this embodiment
The recording section δ using the apparatus has the effect that the density of the ion flow irradiated onto the recording member is increased, and an electrostatic latent image with a high signal-to-noise ratio can be obtained.

第5図に本発明が適用されてなる他の実施例のイオン流
制御装置の原理的構成図を示す。
FIG. 5 shows a fundamental configuration diagram of an ion flow control device according to another embodiment to which the present invention is applied.

この実施例においては、イオン収束部4は、通孔10よ
りも大きい幅の開口部400を有する収束電極402と
この収束電極402を支持する絶縁部材404および開
口部400よりも大きい幅の開口部410を有する収束
電極412とこの収束電極412を支持する絶縁部材4
14とからなっている。収束電極402および収束電極
412は、開口部400、開口部410の幅方向の中心
と通孔10の孔軸が一致するように配置され、収束電極
402と収束電極412は接触しないようにされている
In this embodiment, the ion focusing section 4 includes a focusing electrode 402 having an opening 400 with a width larger than that of the through hole 10, an insulating member 404 supporting this focusing electrode 402, and an opening with a width larger than the opening 400. 410 and an insulating member 4 that supports this focusing electrode 412.
It consists of 14. The focusing electrode 402 and the focusing electrode 412 are arranged so that the centers of the openings 400 and 410 in the width direction and the hole axis of the through hole 10 coincide with each other, and the focusing electrodes 402 and 412 are not in contact with each other. There is.

イオン収束電源v5は収束電極402に正の電圧を付与
するものであり、収束電極402と電極12とに接続さ
れている。このイオン収束電源V5により収束電極40
2は電極12に対して正の電位となっている。
The ion focusing power supply v5 applies a positive voltage to the focusing electrode 402, and is connected to the focusing electrode 402 and the electrode 12. By this ion focusing power supply V5, the focusing electrode 40
2 has a positive potential with respect to the electrode 12.

またイオン収束電源■8は収束電極412に正の電圧を
付与するものであり、収束型8i412と収束電極40
2とに接続されている。このイオン収束電源v8により
収束電極412は収束電極402に対して正の電位とな
っている。その他の構成は第1図に示す実施例と同様で
ある。
In addition, the ion focusing power supply ■8 applies a positive voltage to the focusing electrode 412, and connects the focusing type 8i 412 and the focusing electrode 40.
It is connected to 2. The focusing electrode 412 has a positive potential with respect to the focusing electrode 402 due to this ion focusing power supply v8. The rest of the structure is the same as the embodiment shown in FIG.

この実施例においては、イオン収束電源V5により収束
電極402が電極12に対して正の電位となるようにし
ているから、収束電極402から電極12に向う方向の
電界が形成されるとともに、イオン収束電源v8により
収束電極412が収束電極402に対して正の電位とな
るようにしているから、収束電極412から収束電極4
02に向う方向の電界が形成される。
In this embodiment, since the focusing electrode 402 is made to have a positive potential with respect to the electrode 12 by the ion focusing power supply V5, an electric field is formed in the direction from the focusing electrode 402 toward the electrode 12, and the ion focusing Since the power supply v8 causes the focusing electrode 412 to have a positive potential with respect to the focusing electrode 402, the focusing electrode 412 is connected to the focusing electrode 4.
An electric field is formed in the direction toward 02.

これらの電界によりコロナワイヤ20から発生した正極
性のイオンは通孔10に向う、方向に収束される。すな
わち正極性のイオンは、まず収束電極412から収束電
極402に向う方向の電界により収束され、次に収束電
極402から電極12に向う方向の電界により収束され
て1通孔lOに集められる。
Positive ions generated from the corona wire 20 are focused in the direction toward the through hole 10 by these electric fields. That is, positive polarity ions are first focused by an electric field in a direction from the focusing electrode 412 toward the focusing electrode 402, and then focused by an electric field in a direction from the focusing electrode 402 toward the electrode 12, and collected in one hole IO.

第6図に本発明が適用されてなる他の実施例のイオン流
制御装置の原理的構成図を示す。
FIG. 6 shows a fundamental configuration diagram of an ion flow control device according to another embodiment to which the present invention is applied.

この実施例においては、バイアス電源V7が設けられ、
直流電源V1および■2の一方の電極はノ曳イアス電s
v7に接続されている。イオン収束″IrL源v4の一
方の電極および電極12もバイアス電源v7に接続され
ている。その他の構成は第1図に示す実施例と同様であ
る。
In this embodiment, a bias power supply V7 is provided,
One electrode of the DC power supply V1 and ■2 is connected to the
Connected to v7. One electrode of the ion focusing "IrL source v4 and the electrode 12 are also connected to the bias power supply v7. The other configurations are the same as the embodiment shown in FIG.

電極12.14および収束電極42にはイオンを吸収す
る作用があるため1本実施例のようにバイアス電源v7
を設けないと、開口部40および通孔10を通過するイ
オンの一部が電極12.14および収束電極42に吸収
され、通孔10を通過するイオン流密度が低下する欠点
があった6本実施例においてはバイアス電源v7が設け
られ、電極12、】4および収束電極42に正のバイア
ス電圧が印加されているから、電極12、■4および収
束電極42のイオン吸収を防止でき、通孔lOを通過す
るイオン流密度を第1図に示す実施例の場合よりもさら
に高くすることができる。
Since the electrodes 12, 14 and the focusing electrode 42 have the function of absorbing ions, one bias power supply v7 is used as in this embodiment.
If not provided, some of the ions passing through the opening 40 and the through hole 10 would be absorbed by the electrode 12.14 and the focusing electrode 42, resulting in a decrease in the density of the ion flow passing through the through hole 10. In the embodiment, a bias power supply v7 is provided and a positive bias voltage is applied to the electrodes 12, 4 and the focusing electrode 42, so that ion absorption by the electrodes 12, 4 and the focusing electrode 42 can be prevented, and the through hole The ion flow density through the IO can be even higher than in the embodiment shown in FIG.

第7図に本発明が適用されてなる他の実施例のイオン流
制御装置の原理的構成図を示す。
FIG. 7 shows a fundamental configuration diagram of an ion flow control device according to another embodiment to which the present invention is applied.

この実施例は、イオン収束電源v4の電圧を可変とした
ものであり、その他の構成は第6図に示す実施例と同様
である。
In this embodiment, the voltage of the ion focusing power source v4 is made variable, and the other configurations are the same as the embodiment shown in FIG.

この実施例によれば、イオン収束電源v4の電圧を変化
させることができるから、イオン収束のための電界の強
度を変化させることができ、この結果、通孔10を通過
するイオン流密度を変化させることができる。したがっ
て本実施例によるイオン流制御装置を用いた記録装置は
、記録部材に照射されるイオン流密度を変化させること
により静電潜像の強度を変え、画像全体の濃度の調整を
行うことができる。
According to this embodiment, since the voltage of the ion focusing power supply v4 can be changed, the strength of the electric field for ion focusing can be changed, and as a result, the density of the ion flow passing through the through hole 10 can be changed. can be done. Therefore, the recording device using the ion flow control device according to this embodiment can change the intensity of the electrostatic latent image by changing the density of the ion flow irradiated onto the recording member, and can adjust the density of the entire image. .

また上記実施例ではコロナワイヤ20は、正のイオン発
生電源■3に接続され、正のイオンを発生するようにな
っているが、負のイオン発生電源に接続し、負のイオン
を発生するようにしてもよい、コロナ放電器2から発生
させるイオンの極性を負とする場合には、使用する各直
流電源の極性を逆にすればよい。
Further, in the above embodiment, the corona wire 20 is connected to the positive ion generating power source 3 to generate positive ions, but it is connected to the negative ion generating power source to generate negative ions. However, if the polarity of the ions generated from the corona discharger 2 is to be negative, the polarity of each DC power source used may be reversed.

効  果 本発明によれば、イオン収束部を設けてイオンを収束さ
せる電界を形成するから、イオン流の密度を高くするこ
とができる。
Effects According to the present invention, since the ion focusing section is provided to form an electric field for focusing ions, the density of the ion flow can be increased.

したがって記録装置に用いることによってSN比ノ高い
高コントラストな画像を得ることができ、また静電潜像
形成に必要な時間を短縮できるから、記録スピードを上
げることができる。
Therefore, by using it in a recording device, a high-contrast image with a high signal-to-noise ratio can be obtained, and the time required to form an electrostatic latent image can be shortened, so that the recording speed can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

7FS1図は本発明が適用されてなる一実施例のイオン
流制御装置の原理的構成図、 第2図(a)はコロナ放電器側から見たイオン流制御へ
一/ Fおよびイオン収束部の一実施例を示す平面図、 第2図(b)は第2図(a)と反対側から見たイオン流
制御ヘッドおよびイオン収束部の一実施例を示す底面図 第3図、第4図は第1図に示す実施例のイオン流制御ヘ
ッドの動作を説明するための動作状態図、 第5図、第6図、第7図は本発明が適用されてなる他の
実施例のイオン流制御装置の原理的構成図である。 主要部分の符号の説明 1、、、、、イオン流制御ヘッド 2 、、、、、コロナ放電器 3、、、、、スイッチ 4  、、、、、イオン収束部 10、、、、、通孔 12、、、、、電極 14、、、、、電極 20、、、、、コロナワイヤ 22、、、、、ケーシング 40、、、、、開口部 42・・・・・収束電極 400 、410 、開口部 402 、412 、収束電極 Vl、 V2. 、 、直流電源 V3.、、、、イオン発生電源 v4、v5、VB、イオン収束電源 V7.....バイアス電源
Figure 7FS1 is a basic configuration diagram of an ion flow control device according to an embodiment of the present invention, and Figure 2 (a) is a diagram of the ion flow control unit and the ion focusing section as seen from the corona discharger side. FIG. 2(b) is a plan view showing an embodiment, and FIG. 2(b) is a bottom view showing an ion flow control head and an ion convergence unit as viewed from the opposite side from FIG. 2(a). is an operating state diagram for explaining the operation of the ion flow control head of the embodiment shown in FIG. 1, and FIGS. 5, 6, and 7 are ion flow diagrams of other embodiments to which the present invention is applied. FIG. 2 is a diagram showing the basic configuration of a control device. Explanation of symbols of main parts 1 Ion flow control head 2 Corona discharger 3 Switch 4 Ion focusing section 10 Through hole 12 , Electrode 14 , Electrode 20 , Corona wire 22 , Casing 40 , Opening 42... Focusing electrode 400 , 410 , Opening 402, 412, focusing electrode Vl, V2. , , DC power supply V3. ,,, ion generation power supply v4, v5, VB, ion convergence power supply V7. .. .. .. .. bias power supply

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、イオン発生源から供給されるイオンが通過する通孔
をそれぞれ有する一対の電極を距離を隔てて配置してな
るイオン流制御ヘッド手段と、前記一対の電極に印加す
る電圧を制御し、前記通孔の長手方向に形成される電界
を制御することによって、該通孔をイオンが通過するの
を制御する制御電源手段とを有するイオン流制御装置に
おいて、 前記イオン流制御ヘッド手段とイオン発生源との間に配
置され、前記通孔よりも大きな開口部を有する収束電極
手段と、 該収束電極手段と前記イオン流制御ヘッド手段との間に
イオンを収束するための電界を形成するイオン収束電源
手段を有することを特徴とするイオン流制御装置。 2、特許請求の範囲第1項記載の装置において、前記収
束電極手段は開口部を有する1つの収束電極であること
を特徴とするイオン流制御装置。 3、特許請求の範囲第1項記載の装置において、前記収
束電極手段は開口部を有する複数の収束電極をイオンの
通過方向に積層して構成され、該複数の収束電極の開口
部は前記イオン流制御ヘッド手段から遠いものほど大き
く形成されるとともに、前記イオン収束電源手段が該複
数の収束電極間にもイオンを収束するための電界を形成
するものであることを特徴とするイオン流制御装置。 4、特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記
載の装置において、前記イオン収束電源手段は可変電源
手段であることを特徴とするイオン流制御装置。 5、特許請求の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記
載の装置において、前記一対の電極および収束電極手段
はバイアス電源手段によりバイアス電圧を印加されてい
ることを特徴とするイオン流制御装置。
[Claims] 1. Ion flow control head means comprising a pair of electrodes arranged at a distance from each other, each having a through hole through which ions supplied from an ion source pass; and a control power supply means for controlling passage of ions through the through hole by controlling a voltage and controlling an electric field formed in the longitudinal direction of the through hole, the ion flow control device comprising: a focusing electrode means disposed between the head means and the ion source and having an opening larger than the through hole; and an electric field for focusing ions between the focusing electrode means and the ion flow control head means. An ion flow control device characterized by having an ion focusing power source means for forming an ion flow control device. 2. The ion flow control device according to claim 1, wherein the focusing electrode means is one focusing electrode having an opening. 3. In the apparatus according to claim 1, the focusing electrode means is constructed by stacking a plurality of focusing electrodes each having an opening in the ion passing direction, and the opening of the plurality of focusing electrodes An ion flow control device characterized in that the ion flow control head means is formed to be larger as it is farther from the flow control head means, and the ion focusing power supply means forms an electric field for focusing ions also between the plurality of focusing electrodes. . 4. An ion flow control device according to any one of claims 1 to 3, wherein the ion focusing power source means is a variable power source means. 5. The ion flow control device according to any one of claims 1 to 4, wherein a bias voltage is applied to the pair of electrodes and the focusing electrode means by a bias power supply means. Device.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH023839U (en) * 1988-06-14 1990-01-11

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