JPS6215744A - イオン打込装置 - Google Patents

イオン打込装置

Info

Publication number
JPS6215744A
JPS6215744A JP15225785A JP15225785A JPS6215744A JP S6215744 A JPS6215744 A JP S6215744A JP 15225785 A JP15225785 A JP 15225785A JP 15225785 A JP15225785 A JP 15225785A JP S6215744 A JPS6215744 A JP S6215744A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ion
magnetic field
electromagnet
ions
deflection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15225785A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoichi Fujikura
藤倉 洋一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP15225785A priority Critical patent/JPS6215744A/ja
Publication of JPS6215744A publication Critical patent/JPS6215744A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、質量分離された所定のイオンを、複数の打込
室に偏向する方法に係り、特にイオン打込装置に使用す
るに好適な自動イオン偏向に関する。
〔発明の背景〕
装置の小形、軽量化と均一な打込を実現する目的で、従
来は、特開昭57−15349号公報に記載のように、
分離用電磁石とスリットの間に偏向走査電磁石を設置し
、その偏向方向を分離用電磁石の偏向方向と垂直にし、
偏向電磁石の磁極端面を磁石の長さにほぼ等しい半径の
凸面にすることで、電流密度の変化を少なくする方法が
あった。しかし1分離されたイオンを偏向して最大イオ
ン電流を得る方法については配慮されていなかった。ま
検出器10a、10bL、、て検出されるイオン電流は
制御計算機5に読み込んでいたが、分離磁石用制御電源
7.偏向磁石制御電源8への設定は手動であり、また、
これらのコイル電流の実測値も制御計算機5に読み込ま
れていなかった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、質量分離用電磁石により質量分離され
た所定のイオンを、磁場強度により複数の打込室に偏向
する特性を効果的に発揮させ、偏向用電磁石の端縁磁場
の影響や、打込室への偏向角の誤差等を補正することに
より、所定のイオンの最大電流を精度良く偏向するイオ
ン打込装置を提供するにある。
〔発明の概要〕
本発明は、分離磁場部におけるイオン光学系にお今で、
所定のイオンが質量分離される時の電磁石電流および磁
場強度と、上記所定のイオンが偏向磁場部に入射し、偏
向され、偏向用イオン検出器にて最大のイオン電流が検
出される為の磁場電流と磁場強度の間には、イオン軌道
半径、磁極間距離、コイルの巻数等の比により決定され
る。ゆえに、一度、分離用イオン検出器にて所定のイオ
ンが検出された時の磁場電流あるいは、磁場強度を制御
用計算器に記憶し、偏向時に諸室数より計算して偏向磁
場部および、偏向磁場強度を設定し、偏向時の最大イオ
ン電流を求めるようにしたものである。
〔発明の実施例〕
第1図は、本発明の一実施例を示す分離磁場部および偏
向磁場部におけるイオン光学系とその要部構成図である
図において、1はイオンビーム、2は質量分離用電磁石
、3は偏向用電磁石、4は分離イオン検出器、5は制御
計算機、6a、6b、6c+ 6dはA/D変換器、7
は分離電磁石用制御電源、8は偏向電磁石用制御電源、
9a、9tz 9c。
9dは増巾器、10a、10bは偏向イオン検出器であ
る。
イオン源内でイオン化され、加速電圧(V)により加速
されたイオンビーム1は、質量分離用電磁石2に発生し
た磁場強度(B、)により偏向され、質量の相違により
分離される。この時、所定のイオンビーム1が、イオン
コレクタ4にて検出されるように、質量分離用電磁石2
の磁場強度CB、)を設定することにより、所定のイオ
ン種を選択できる。また1分離磁場部におけるイオン光
学系は、イオン加速電圧:v、磁場強度:B、。
質量分離用電磁石のイオン軌道半径:R1,イオン質量
数:M、イオン価数:z、定数二にとすると、次の関係
式が成り立つ6 BAXRA=K  (M/Z)XV   (1)制御計
算機5から転送された信号により、分離電磁石制御電源
7により質量分離用電磁石2に電流を流す。この時の実
際の磁場電流は増巾器9aに゛より増巾され、A/D変
換器6aにて変換され、磁場電流データとして制御計算
機5に読み込む。
偏向用電磁石3の磁場強度(BD )が零の時は、質量
分離されたイオンビーム1は1分離イオン検出器4に到
達する。このイオンビーム1を増巾器9bにて増巾し、
A/D変換器6bにて変換し、イオンビーム電流として
制御計算機5に読み込む。
このようにして、所定のイオン種のイオンビーム1が最
大電流となるように順次、磁場強度(B、)を変化し、
最大イオンビーム1時の磁場電流を求める。
また、分離用電磁石において、コイル電流:I A I
コイルの巻数:T1.磁場強度二81.磁極間距離二〇
、、漏洩磁場の補正係数二に、、とすると2次の関係式
が成り立つ。
IAXTA= (10/’1c)XBAXGAXKA 
  (2)次に、偏向磁場部におけるイオン光学系にお
いて、イオン加速電圧:v、磁場強度二Bl、、偏向用
電磁石の軌道半径:R,、イオン質量数:M、イオン価
数:Z、定数二にとすると、次の関係式が成り立つ。
、1.いB、XR,=K i7(3) )・パ−・ (1)、(3)より、偏向イオン検出器10a。
10bにて検出される最大イオン電流の偏向磁場強度は 13D= (R,/R,)B、        (4)
トする。このとき、偏向用電磁石において、コイる電流
:工。、コイルの巻数: TD、磁場強度:B、とする
と、次の関係式が成り立つ。
111XTE+= (10/4π) XBDXG、XK
D(5)(2)、(4)、(5)より、偏向イオン検出
器10a、10bにて検出される最大イオン電流の偏向
磁場流工ゎは ID=(T、/T、)(R,/R,) (G、/GA)
(K+、/に、)1.=K X I、 (6)となる。
ゆえに、制御計算機5により計算された(6)の電流設
定値は、偏向磁石用制御電源8により偏向用電磁石3に
電流を流す。一方、実際の偏向用電磁石。は、増巾器9
eにより増巾され、A/D変換器6eにより変換され、
磁場電流データとして、制御計算機5に読み込む。偏向
用電磁石3により、偏向されたイオンビーム1は、その
9dにて増巾し、A/D変換器6c、6dにて変換し、
イオンビーム電流として制御計算機5に読み込む。
無偏向時1分離イオン検出器4にて検出されるイオンビ
ーム電流値と、偏向時、偏向イオン検出器10a、10
bで検出されるイオンビーム電流値と比較し、同値とな
るように、さらに偏向電磁石用制御電源8に帰還を行う
ように、制御計算機5からデータを転送し、イオンビー
ムの自動偏向を行う。
本発明の実施例によれば、分離電磁石により分離される
イオン光学系を満足するだけで、自動的に分離されたイ
オンが偏向されるので、省力化が期待できるとともに、
常にイオン電流が監視されるために、安定なイオンビー
ム電流が得られる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、所定のイオン種が分離された後、自動
的に、かつ再現性良く偏向され、所定のイオンの最大電
流が得られ、またその状態を監視しながら状態維持制御
が出来るので、イオン打込装置の信頼性、安定性の向上
となるとともに、全自動イオン打込装置の実現が可能と
なる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例を示す要部構成図。 第2図(a)は、従来の無偏向時を示す要部構成図、第
2図(b)は、従来の偏向時を示す要部構成図である。 1・・・イオンビーム、2・・・質量分離用電磁石、3
・・・偏向用電磁石、4・・・分離イオン検出器、5・
・・制御計算機、6・・・A/D変換器、7・・・分離
電磁石用制御電源、8・・・偏向電磁石用制御電源、9
・・・増巾器、10・・・偏向イオン検出器。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、試料をイオン化し、加速できるイオン源と、任意の
    イオンを選択できる質量分離用電磁石と、質量分離され
    たイオンを偏向する偏向電磁石、および複数のウェハを
    装着して回転、走査する円盤を内蔵した複数の打込室よ
    り構成されるイオン打込装置において、質量分離される
    イオン軌道部に分離用イオン検出器、偏向されるイオン
    軌道部に複数の偏向用イオン検出器を備え、分離用イオ
    ン検出器にて検出された所定のイオンを、分離用電磁石
    の磁場強度に応じ、制御計算機にて偏向用電磁石の磁場
    強度を設定し、偏向用イオン検出器にて、所定のイオン
    を検出することを特徴とするイオン打込装置。
JP15225785A 1985-07-12 1985-07-12 イオン打込装置 Pending JPS6215744A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15225785A JPS6215744A (ja) 1985-07-12 1985-07-12 イオン打込装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15225785A JPS6215744A (ja) 1985-07-12 1985-07-12 イオン打込装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6215744A true JPS6215744A (ja) 1987-01-24

Family

ID=15536525

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15225785A Pending JPS6215744A (ja) 1985-07-12 1985-07-12 イオン打込装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6215744A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62500674A (ja) * 1984-10-10 1987-03-19 ガスパワ− インタ−ナシヨナル リミテツド 燃料制御装置
JPH0587271A (ja) * 1991-09-27 1993-04-06 Zsi Inc U字ボルトクランプアツセンブリ用の2ピースクツシヨンインサート

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62500674A (ja) * 1984-10-10 1987-03-19 ガスパワ− インタ−ナシヨナル リミテツド 燃料制御装置
JPH0587271A (ja) * 1991-09-27 1993-04-06 Zsi Inc U字ボルトクランプアツセンブリ用の2ピースクツシヨンインサート

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Wasserburg et al. A programmable magnetic field mass spectrometer with on‐line data processing
Orient et al. Production of negative ions by dissociative electron attachment to SO2
EP0179294A1 (en) Ion microbeam apparatus
Jertz et al. Direct determination of the mass of 28Si as a contribution to a new definition of the kilogram
JPS6215744A (ja) イオン打込装置
Jeanjean et al. A low-density, cylindrical MWPC with simultaneous anode and cathode read-out for use in a magnetic detector
US2959676A (en) Mass spectrometer
Arakawa et al. Construction and first year's operation of the JAERI AVF cyclotron
Kamber et al. Single-electron capture spectra for collisions of O2+ on He, N2 and H2
Gieler et al. Lα emission from (0.1–20-keV) H+ impact on Li, Na, and K
Sato Depolarizing Resonance Correction in Polarized Proton Beam Acceleration up to 5.0 GeV at the KEK PS
Braams et al. Composition of Noble Gas Ion Beams Produced with a Duoplasmatron
JPH03226998A (ja) 電磁石電源装置
JPH10162772A (ja) エネルギーフィルタ
JP2978191B2 (ja) イオンビームの照射方法
JPH10208653A (ja) イオン源装置及びこれを用いた集束イオンビーム装置
RU1457707C (ru) Способ изготовлени магнитной периодической фокусирующей системы дл СВЧ-приборов 0-типа
Isler A stabilized electron‐bombardment ion source
Glenn A Time of Flight Mass Spectrograph
Grime et al. An ion accelerator facility for the preparation of nuclear bombardment targets
Hazewindus et al. The axial injection system of the SIN injector cyclotron: II. Description and experiments
JPH065397A (ja) 電子ビーム加速器および該加速器に用いる偏向電磁石
Kubischta Multiple target extraction sharing scheme at the CPS
Suter et al. A deceleration lens system for hybrid mass spectrometers
JPH05144599A (ja) 荷電ビーム加速装置