JPS62156133A - Production of polyarylene sulfide resin - Google Patents
Production of polyarylene sulfide resinInfo
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- JPS62156133A JPS62156133A JP60294647A JP29464785A JPS62156133A JP S62156133 A JPS62156133 A JP S62156133A JP 60294647 A JP60294647 A JP 60294647A JP 29464785 A JP29464785 A JP 29464785A JP S62156133 A JPS62156133 A JP S62156133A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の:3fIBな説明
[産業上の利用分野]
この発明は、ポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法
に関し、さらに詳しく言うと、残存上含量の少ないポリ
アリーレンスルフィド樹脂を容易に得ることができるポ
リアリーレンスルフィド樹脂の製造方法に関する。Detailed Description of the Invention 3. Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for producing polyarylene sulfide resin, and more specifically, the present invention relates to a method for producing polyarylene sulfide resin. The present invention relates to a method for producing easily obtainable polyarylene sulfide resin.
[従来の技術およびその問題点]
ポリフェニレンスルフィド樹脂等のポリアリーレンスル
フィド樹脂は、一部熱硬化性を有する熱可塑性樹脂であ
り、優れた耐薬品性、広い温度範囲における良好な機械
的性質、耐熱剛性などの、エンジニアリングプラスチッ
クとしての優れた特性を有している。[Prior art and its problems] Polyarylene sulfide resins such as polyphenylene sulfide resins are thermoplastic resins that partially have thermosetting properties, and have excellent chemical resistance, good mechanical properties in a wide temperature range, and heat resistance. It has excellent properties as an engineering plastic, such as rigidity.
ポリフェニレンスルフィド樹脂等のポリアリーレンスル
フィド樹脂は、通常極性溶媒中でジハロゲン芳香族化合
物とアルカリ金属硫化物とを重合反応させることによっ
て得られることが知られており、たとえば、ポリフェニ
レンスルフィド樹脂の製造は、通常p−ジクロロベンゼ
ンと硫化ナトリウムとを極性溶媒中で重合反応すること
により行なわれている(特公昭52−1224Q号など
)が、重合反応によって副生ずる食塩等の塩が、通常、
樹脂中にt 、ooo〜3,000 ppm残存してい
る0食塩等の塩が残存すると、ポリフェニレンスルフィ
ド樹脂等のポリアリーレンスルフィド樹脂を電気、電子
分野に適用すると、回路の耐湿絶縁性が低下し、誤動作
の原因となる。このため、食]′!!等の塩を除去する
ために樹脂を再度生成する必要があるという問題点があ
る。It is known that polyarylene sulfide resins such as polyphenylene sulfide resins are usually obtained by polymerizing a dihalogen aromatic compound and an alkali metal sulfide in a polar solvent. This is usually carried out by polymerizing p-dichlorobenzene and sodium sulfide in a polar solvent (Japanese Patent Publication No. 52-1224Q, etc.), but salts such as common salt produced by the polymerization reaction are usually
If salts such as t, ooo to 3,000 ppm of common salt remain in the resin, when polyarylene sulfide resins such as polyphenylene sulfide resins are applied to electrical and electronic fields, the moisture-resistant insulation of circuits will deteriorate. , causing malfunction. For this reason, food]′! ! There is a problem in that the resin needs to be regenerated in order to remove the salts.
前記問題点を解消することを目的として、従来、食塩等
の塩含睦の少ないポリフェニレンスルフィド樹脂を製造
する方法として、ポリオキシエチレンエーテルの存在下
で重合反応を行なう方法(特開昭59−74127号)
が提案されているが1重合反応終了後、前記ポリオキシ
エチレンエーテ)Ly(1)除去が必要となるため実用
上不利であるという新たな問題点がある。一方、ポリフ
ェニレンスルフィド樹脂を製造後精製する方法(特開昭
57−108138号)も提案されているが、精製効率
が悪く、またプロセス上不利であるという別の問題点が
ある。In order to solve the above-mentioned problems, conventional methods for producing polyphenylene sulfide resins with low salt content, such as common salt, have been proposed, in which a polymerization reaction is carried out in the presence of polyoxyethylene ether (Japanese Patent Application Laid-Open No. 74127/1983). issue)
has been proposed, but there is a new problem in that it is practically disadvantageous because the polyoxyethylene ether)Ly(1) must be removed after the completion of the first polymerization reaction. On the other hand, a method for purifying polyphenylene sulfide resin after production (Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-108138) has been proposed, but this method has other problems such as poor purification efficiency and disadvantages in terms of process.
[発り1の目的] この発明は前記“1警情に基いてなされたものである。[Purpose of Departure 1] This invention was made based on the above-mentioned "1.
すなわち、この発明の目的は、前記問題点を解消し、樹
脂中に残存する食a!等の塩の除去のための再精製工程
を必要とせず、たとえ樹脂を精製するとしてもその精製
効率が著しく向上して実用上右利であり、その結果食塩
等の塩含最の少ないポリフェニレンスルフィド樹脂等の
ポリアリーレンスルフィド樹脂を製造することができる
。新規な製造方法を提供することである。That is, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and reduce the amount of acetate remaining in the resin! There is no need for a re-purification process to remove salts such as salts, and even if the resin is purified, the purification efficiency is significantly improved and is of practical benefit.As a result, polyphenylene sulfide with minimal salt content such as common salt Polyarylene sulfide resins such as resins can be produced. The objective is to provide a new manufacturing method.
[前記問題点を解決するための手段]
前記目的を達成するために、本発明者が食塩等の塩含量
の少ないポリフェニレンスルフィド樹脂を製造する方法
を械々検討したところ、驚くべきことに、重合反応を生
成する樹脂の融点以上で行なうことより容易に上記目的
を達成することができることを見出してこの発明に到達
した。[Means for solving the above problems] In order to achieve the above object, the present inventor conducted extensive research on methods for producing polyphenylene sulfide resin with a low salt content such as common salt, and surprisingly found that polymerization The present invention was achieved by discovering that the above object can be easily achieved by carrying out the reaction at a temperature above the melting point of the resin to be produced.
前記問題点を解決するためのこの発明の概要は、極性溶
媒中でジハロゲン芳香族化合物とアルカリ金属硫化物と
を重合反応させてポリアリ−1/ンスルフイド樹脂を製
造する方法において、前記重合反応を前記樹脂の融点以
上の温度で行なうことを特徴とするポリアリーレンスル
フィド樹脂の製造方法である。The outline of the present invention for solving the above problems is a method for producing a polyaryl-1/sulfide resin by polymerizing a dihalogen aromatic compound and an alkali metal sulfide in a polar solvent. This is a method for producing a polyarylene sulfide resin, characterized in that it is carried out at a temperature higher than the melting point of the resin.
この発明の方法に使用することができる前記極性溶媒と
しては、アミド化合物、ラクタム化合物、尿素化合物、
環式有機リン化合物等がある。The polar solvents that can be used in the method of this invention include amide compounds, lactam compounds, urea compounds,
There are cyclic organic phosphorus compounds, etc.
これらのうち、適当な溶媒の例を具体的に例示すると、
たとえば、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジ
メチルアセトアミド、N、N−ジエチルアセトアミド、
N、N−ジプロピルアセト・アミド、N、N−ジメチル
安息香酸アミド、カプロラクタム、N−メチルカプロチ
クタム、N−エチルカプロラクタム、N−インプロピル
カプロラクタム、N−インブチルカプロラクタム、N−
プロピルカプロラクタム、N−ブチルカプロラクタム、
N−シクロヘキシルカプロラクタム、N−メチル−2−
ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドン、N−イソプ
ロピル−2−ピロリドン、N−インブチル−2−ピロリ
ドン、N−プロピル−2−ピロリドン、N−ブチル−2
−ピロリドン、N−シクロへキシル−2−ピロリドン、
N−メチル−3−メチル−2−ピロリドン、N−シクロ
ヘキシル−2−ピロリドン、N−メチル−3−メチル−
2−ピロリドン、N−メチル−3,4,5−)サメチル
−2−ピロリドン、N−メチル−2−ピペリドン、N−
エチル−2−ピペリドン、N−イソプロピル−2−ピペ
リドン、N−メチル−6−メチル−2−ピペリドン、N
−メチル−3−エチル−2−ピペリドン、N−メチル−
2−オキソ−へキサメチレンイミン、N−エチル−2−
オキソ−へキサメチレンイミン、テトラメチル尿素、1
.3−ジメチルエチレン尿素、1.3−ジメチルプロピ
レン尿素、l−メチル−1−オキソスルホラン、1−エ
チル−1〜オキンスルホラン、l−フェニル−1−オキ
ソスルホラン、1〜メチル−1−オキソホスファン、1
−プロピル−1−才午ソホスファン、l−フェニル−1
−オキソホスファン等が挙げられる。これらの溶媒は、
1種単独で用いても、2種以上混合して用いてもよい。Among these, specific examples of suitable solvents are:
For example, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N,N-diethylacetamide,
N,N-dipropylacetamide, N,N-dimethylbenzoic acid amide, caprolactam, N-methylcaprotictam, N-ethylcaprolactam, N-inpropylcaprolactam, N-inbutylcaprolactam, N-
Propyl caprolactam, N-butyl caprolactam,
N-cyclohexylcaprolactam, N-methyl-2-
Pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, N-isopropyl-2-pyrrolidone, N-inbutyl-2-pyrrolidone, N-propyl-2-pyrrolidone, N-butyl-2-pyrrolidone
-pyrrolidone, N-cyclohexyl-2-pyrrolidone,
N-methyl-3-methyl-2-pyrrolidone, N-cyclohexyl-2-pyrrolidone, N-methyl-3-methyl-
2-pyrrolidone, N-methyl-3,4,5-)samethyl-2-pyrrolidone, N-methyl-2-piperidone, N-
Ethyl-2-piperidone, N-isopropyl-2-piperidone, N-methyl-6-methyl-2-piperidone, N
-Methyl-3-ethyl-2-piperidone, N-methyl-
2-oxo-hexamethyleneimine, N-ethyl-2-
Oxo-hexamethyleneimine, tetramethylurea, 1
.. 3-dimethylethyleneurea, 1,3-dimethylpropyleneurea, l-methyl-1-oxosulfolane, 1-ethyl-1-oxosulfolane, l-phenyl-1-oxosulfolane, 1-methyl-1-oxophos fan, 1
-propyl-1-saigo sofosphan, l-phenyl-1
-Oxophosphan and the like. These solvents are
They may be used alone or in combination of two or more.
さらに前記各種の極性溶媒のなかでもN−フルキルラク
タム、N−フルキルピロリドンが好適であり、N−メチ
ルピロリドンは特に好適である。Furthermore, among the various polar solvents mentioned above, N-furkyllactam and N-furkylpyrrolidone are preferred, and N-methylpyrrolidone is particularly preferred.
前記ジハロゲン芳香族化合物としては、たとえば、m−
ジクロはベンゼン、p−ジクロロベンゼン、p−ジブロ
モベンゼン、m−ジブロモベンゼン、p−ショートベン
ゼン、1−クロロ−4−ブロモベンゼン、l−クロロ−
4−ヨードベンゼンなどのジハロゲン化ベンゼン:2,
5−ジクロロトルエン、2,5−ジグロロキシレン、1
−エチル−2,5−ジクロロベンゼン、l−エチル−2
,5−ジブロモベンゼン、l−エチル−2−ブロモー5
−クロロベンゼン、 1,2,4.5−テトラメチル−
3,6−ジクロロベンゼン、l−シクロヘキシル−2,
5−’;クロロベンゼン、l−フェニル−2,5−ジク
ロロベンゼン、1−ベンジル−2,5−ジクロロベンゼ
ン、l−フェニル−2,5−ジブロモベンゼン、1−P
−トルイル−2,5−ジクロロベンゼン、1−p−)シ
イルー2.5−ジブロモベンゼン、l−へキシル−2,
5−ジクロロベンゼンなどのジハロゲン置換ベンゼン、
4.4°−ジクロロビフェニルなどのジハロゲン置換ビ
フェニル、1,4−ジクロロナフタレン、l、8−ジク
ロロナフタレンなどのジハロゲン置換ナフタレンなどが
挙げられる。これらの中でも好適なものは、ジハロゲン
置換ベンゼンテアリ、特にp−ジクロロベンゼンが好適
である。As the dihalogen aromatic compound, for example, m-
Dichloro is benzene, p-dichlorobenzene, p-dibromobenzene, m-dibromobenzene, p-shortbenzene, 1-chloro-4-bromobenzene, l-chloro-
Dihalogenated benzenes such as 4-iodobenzene: 2,
5-dichlorotoluene, 2,5-dichloroxylene, 1
-ethyl-2,5-dichlorobenzene, l-ethyl-2
, 5-dibromobenzene, l-ethyl-2-bromo 5
-chlorobenzene, 1,2,4.5-tetramethyl-
3,6-dichlorobenzene, l-cyclohexyl-2,
5-'; Chlorobenzene, l-phenyl-2,5-dichlorobenzene, 1-benzyl-2,5-dichlorobenzene, l-phenyl-2,5-dibromobenzene, 1-P
-toluyl-2,5-dichlorobenzene, 1-p-)silyl-2,5-dibromobenzene, l-hexyl-2,
dihalogen-substituted benzenes such as 5-dichlorobenzene,
Examples include dihalogen-substituted biphenyls such as 4.4°-dichlorobiphenyl, dihalogen-substituted naphthalenes such as 1,4-dichloronaphthalene, and 1,8-dichloronaphthalene. Among these, preferred are dihalogen-substituted benzene tearyl, particularly p-dichlorobenzene.
前記アルカリ金属硫化物としては、たとえば、硫化リチ
ウム、硫化ナトリウム、硫化カリウム。Examples of the alkali metal sulfide include lithium sulfide, sodium sulfide, and potassium sulfide.
硫化ルビジウム、硫化セシウム等、およびこれらの混合
物が挙げられる。そして、この発明の方法では1通常、
永和物又は水性混合物として使用することもできる。こ
のアルカリ金属硫化物として、好適なものは、硫化リチ
ウム、硫化ナトリウムであり、硫化ナトリウムは特に好
適である。Examples include rubidium sulfide, cesium sulfide, and mixtures thereof. In the method of this invention, 1 usually:
It can also be used as permanent product or aqueous mixture. Preferred alkali metal sulfides are lithium sulfide and sodium sulfide, with sodium sulfide being particularly preferred.
この発明の方法は、前記ジハロゲン芳香族化合物(A)
と、前記アルカリ金属硫化物(B)とを、前記極性溶媒
(C)中で、重合反応することによりポリアリーレンス
ルフィドを製造することができる。The method of this invention comprises the dihalogen aromatic compound (A)
Polyarylene sulfide can be produced by polymerizing and the alkali metal sulfide (B) in the polar solvent (C).
重合反応に際し、前記各成分の配合比は、通常つぎの通
りにするのが望ましい。During the polymerization reaction, the blending ratio of each component is preferably as follows.
すなわち、(A) r&分/(B)成分ノモル比は0.
75〜2.0.好ましくは0,90〜1.2である。こ
のジハロゲン芳香族化合物(A)とアルカリ金属硫化物
(B)との反応は等モル反応であるから1通常、前記範
囲とするのである。That is, the no molar ratio of (A) r&min/(B) component is 0.
75-2.0. Preferably it is 0.90-1.2. Since the reaction between the dihalogen aromatic compound (A) and the alkali metal sulfide (B) is an equimolar reaction, it is usually within the above range.
(C) L&、分/(B)成分のモル比は、1−15、
好ましくは2〜10である。このモル比が1よりも小さ
いと反応が不均一となることがあり、また、モル比が1
5より大きいと生産性が低下することがある。(C) L&, min/molar ratio of component (B) is 1-15,
Preferably it is 2-10. If this molar ratio is smaller than 1, the reaction may become non-uniform;
If it is larger than 5, productivity may decrease.
本発明においては、ポリアリーレンスルフィドの製造に
際して、前記(A) 、 CB)および(G)成分のほ
かに、重合反応系中にさらに活性水素含有のジハロゲン
芳香族化合物などのポリハロゲン芳香族化合物(D)お
よび/またはジハロゲン芳香族ニトロ化合物(E)を添
加して行なうこともでさる。In the present invention, in the production of polyarylene sulfide, in addition to the components (A), CB), and (G), a polyhalogen aromatic compound (such as an active hydrogen-containing dihalogen aromatic compound) is further added to the polymerization reaction system. D) and/or a dihalogen aromatic nitro compound (E) may also be added.
前記(D)成分および/または(E)成分の共存下で重
合反応を行なうことによって、溶融流れの小さい高分子
量ポリアリーレンスルフィド樹脂を製造することができ
る。By carrying out the polymerization reaction in the coexistence of component (D) and/or component (E), a high molecular weight polyarylene sulfide resin with a small melt flow can be produced.
前記([l)成分の一例としてのジハロゲン芳香族化合
物としては、次の第(1)弐〜第(3)式で示す化合物
が挙げられる。Examples of the dihalogen aromatic compound as an example of the component ([l)] include compounds represented by the following formulas (1) II to (3).
[前記第(1)式中、Xはフッ素、塩素、臭素等のハロ
ゲン原子を表わし、Yは−NHR(ただし、Rはアルキ
ル基またはアリール基を表わす、)、 −N’H2、−
3H1−OHを表わし、nは1〜4の整数を示す、]
[ただし、前記第(2)式中、X、Yおよびnは前記と
同じ意味を表わし、Zは単結合、−〇−1−S−1−S
O−5−502−1−CO−。[In the above formula (1), X represents a halogen atom such as fluorine, chlorine, or bromine, and Y represents -NHR (provided that R represents an alkyl group or an aryl group), -N'H2, -
3H1-OH, and n represents an integer of 1 to 4.] [However, in the above formula (2), X, Y and n represent the same meanings as above, Z is a single bond, -〇-1 -S-1-S
O-5-502-1-CO-.
−+−CH2→、−を表わし、mはl以上の整数である
。〕
Y o Y p ・・・(3)
[ただし、x、y、zは前記と同じ意味を表わし、0は
1〜3の整数であり、pは1〜5の整数である。]
前記第(1)式で表わされる活性水素含有のジハロゲン
芳香族化合物としては、たとえば、 2.8−ジクロロ
アニリン、2.5−ジクロロアニリン、2.4−ジクロ
ロアニリン、2.3−ジクロロアニリン、2.4−ジブ
ロモアニリン:2,8−ジクロロチオフェノール、2.
5−ジクロロチオフェノール、2.4−ジクロロチオフ
ェノール;2.6−ジクロロフェノール、2.5−ジク
ロロフェノール、2,4−ジクロロフェノール、2.3
−ジクロロフェノール、3.4−ジクロロフェノール、
3,5−ジクロロフェノール、2,4−ジブロモフェ/
−ル、2.6−ジクロロフェノール、2.6−ジクロロ
(フェニル)アミノベンゼン、2,5−ジクロロ(フェ
ニル)アミンベンゼン、2.4−ジクロロ(フェニル)
アミンベンゼン、2.3−ジクロロ(フェニル)アミノ
ベンゼン等が挙げられる。−+−CH2→, − is represented, and m is an integer greater than or equal to l. ] Y o Y p...(3)
[However, x, y, and z have the same meanings as above, 0 is an integer of 1 to 3, and p is an integer of 1 to 5. ] Examples of the active hydrogen-containing dihalogen aromatic compound represented by the above formula (1) include 2.8-dichloroaniline, 2.5-dichloroaniline, 2.4-dichloroaniline, and 2.3-dichloroaniline. , 2.4-dibromoaniline: 2,8-dichlorothiophenol, 2.
5-dichlorothiophenol, 2.4-dichlorothiophenol; 2.6-dichlorophenol, 2.5-dichlorophenol, 2,4-dichlorophenol, 2.3
-dichlorophenol, 3,4-dichlorophenol,
3,5-dichlorophenol, 2,4-dibromophene/
-l, 2,6-dichlorophenol, 2,6-dichloro(phenyl)aminobenzene, 2,5-dichloro(phenyl)aminebenzene, 2,4-dichloro(phenyl)
Examples include aminebenzene, 2,3-dichloro(phenyl)aminobenzene, and the like.
前記第(2)式で表わされる活性水素含有のジハロゲン
芳香族化合物としては、たとえば、2.2°−ジアミノ
−4,4°−ジクロロジフェニルエーテル、2.4゛−
ジアミノ−2′、4−ジクロロジフェニルエーテル、
2.2’−ジアミノ−4,4゛−ジクロロジフェニルチ
オエーテル、 2.4’−ジアミノ−2゛4−ジクロロ
ジフェニルチオエーテル:2,2°−ジアミノ−4,4
°−ジクロロジフェニルスルホキシド、 2.2’−ジ
アミノ−4,4゛−ジクロロジフェニルメタン、2.4
′−ジアミノ−2°、4−ジクロロジフェニルメタン、
2.2’−ジメルカプト−4,4’−ジクロロジフェ
ニルエーテル、2,4゛−ジメルカプト−2°、4−ジ
クロロジフェニルエーテル;2.2°−ジメルカプロト
ー4.4’−ジクロロジフェニルチオエーテル、2,4
゜−ジメルカプト−2°、4−ジクロロジフェニルチオ
エーテル:2,2°−ジメルカプト−4,4′−ジクロ
ロジフェニルスルホキシド
2°.4−ジクロロジフェニルスルホキシド、2.2’
−ジメルカプト−4.4゛−ジクロロジフェニルメタン
、2.4°−ジメルカプト−2°,4−ジクロロジフェ
ニルメタン、 2.2’−ジヒドロキシ−4.4゛−ジ
クロロジフェニルエーテル、 2.4’−ジヒドロキシ
−2°,4−ジクロロジフェニルエーテル;2,2°−
ジヒドロキシ−4.4°−ジクロロジフェニルチオエー
テル、2,4°−ジヒドロキシ−21.4−ジクロロジ
フェニルチオエーテル;2,2°−ジヒドロキシ−4,
4°ージクロロジフエニルスルホキシド、2.4′−ジ
ヒドロキシ−2°,4−ジクロロジフェニルスルホキシ
ド、 2.2’−ジヒドロキシ−4,4°−ジクロロジ
フェニルメタン、2.4’−ジヒドロキシ−2′,4−
ジクロロジフェニルメタン等が挙げられる。Examples of the active hydrogen-containing dihalogen aromatic compound represented by formula (2) include 2.2°-diamino-4,4°-dichlorodiphenyl ether, 2.4°-
diamino-2',4-dichlorodiphenyl ether,
2.2'-diamino-4,4'-dichlorodiphenylthioether, 2.4'-diamino-2'4-dichlorodiphenylthioether: 2,2'-diamino-4,4
°-dichlorodiphenyl sulfoxide, 2.2'-diamino-4,4'-dichlorodiphenylmethane, 2.4
'-diamino-2°, 4-dichlorodiphenylmethane,
2.2'-dimercapto-4,4'-dichlorodiphenyl ether, 2,4'-dimercapto-2',4-dichlorodiphenyl ether; 2.2'-dimercapto-4,4'-dichlorodiphenylthioether, 2,4
°-Dimercapto-2°,4-dichlorodiphenylthioether: 2,2°-dimercapto-4,4'-dichlorodiphenyl sulfoxide 2°. 4-dichlorodiphenyl sulfoxide, 2.2'
-dimercapto-4.4'-dichlorodiphenylmethane, 2.4°-dimercapto-2°,4-dichlorodiphenylmethane, 2.2'-dihydroxy-4.4'-dichlorodiphenyl ether, 2.4'-dihydroxy-2° ,4-dichlorodiphenyl ether; 2,2°-
Dihydroxy-4.4°-dichlorodiphenylthioether, 2,4°-dihydroxy-21.4-dichlorodiphenylthioether; 2,2°-dihydroxy-4,
4°-dichlorodiphenyl sulfoxide, 2.4'-dihydroxy-2°,4-dichlorodiphenyl sulfoxide, 2.2'-dihydroxy-4,4°-dichlorodiphenylmethane, 2.4'-dihydroxy-2',4 −
Examples include dichlorodiphenylmethane.
前記第(3)式で表わされる活性水素含有のジハロゲン
芳香族化合物としては,たとえば、2,5−ジクロロ−
4°−7ミノジフエニルエーテル、2.5−ジブロモ−
4′−7ミノジフエニルエーテル;2、5−ジクロロ−
4゛−7ミノジフエニルチオエーテル、2,5−ジブロ
モ−4゛−アミノジフェニルチオエーテル;2,5−ジ
クロロ−4°−アミノジフェニルスルホキシド、2.5
−ジブロモ−41−アミノジフェニルスルホキシド;2
.5−ジクロロ−4゛−アミノジフェニルメタン、2.
5−ジブロモ−4°−アミノジフェニルメタン;2,5
−ジクロロ−4’−メルカプトジフェニルエーテル、2
.5−ジブロモ−4°−メルカプトジフェニルエーテル
;2.5−ジクロロ−4°−メルカプトジフェニルチオ
エーテル、2.5−ジブロモ−4°−メルカプトジフェ
ニルチオエーテル;2.5−ジクロロ−4′−メルカプ
トジフェニルスルホキシド、2.5−ジブロモ−4”−
メルカプトジフェニルスルホキシド;2,5−ジクロロ
−4′−メルカプトジフェニルメタン、2.5−ジブロ
モ−4°−メルカプトジフェニルメタン:2.5−ジク
ロロ−4゛−ヒドロキシジフェニルエーテル、2.5−
ジブロモ−4°−ヒドロキシジフェニルエーテル;2,
5−ジクロロ−4′−ヒドロキシジフェニルチオエーテ
ル、2.5−ジブロモ−4°−ヒドロキシジフェニルチ
オエーテル;2,5−ジクロロ−4゛−ヒドロキシジフ
エニルスルホキシド、2.5−ジブロモ−4°−ヒドロ
キシジフェニルスルホキシド;2,5−ジクロロ−4゛
−ヒドロキシジフェニルメタン、2,5−ジブロモ−4
′−ヒドロキシジフェニルメタン等が挙げられる。Examples of the active hydrogen-containing dihalogen aromatic compound represented by formula (3) include 2,5-dichloro-
4°-7 minodiphenyl ether, 2,5-dibromo-
4'-7 minodiphenyl ether; 2,5-dichloro-
4'-7 minodiphenyl thioether, 2,5-dibromo-4'-aminodiphenyl thioether; 2,5-dichloro-4'-aminodiphenyl sulfoxide, 2.5
-dibromo-41-aminodiphenylsulfoxide; 2
.. 5-dichloro-4′-aminodiphenylmethane, 2.
5-dibromo-4°-aminodiphenylmethane; 2,5
-dichloro-4'-mercaptodiphenyl ether, 2
.. 5-dibromo-4°-mercaptodiphenyl ether; 2.5-dichloro-4°-mercaptodiphenylthioether; 2.5-dibromo-4°-mercaptodiphenylthioether; 2.5-dichloro-4'-mercaptodiphenyl sulfoxide; 2 .5-dibromo-4”-
Mercaptodiphenyl sulfoxide; 2,5-dichloro-4'-mercaptodiphenylmethane, 2.5-dibromo-4°-mercaptodiphenylmethane: 2.5-dichloro-4'-hydroxydiphenyl ether, 2.5-
Dibromo-4°-hydroxydiphenyl ether; 2,
5-Dichloro-4'-hydroxydiphenylthioether, 2,5-dibromo-4'-hydroxydiphenylthioether;2,5-dichloro-4'-hydroxydiphenyl sulfoxide, 2,5-dibromo-4'-hydroxydiphenyl sulfoxide ;2,5-dichloro-4'-hydroxydiphenylmethane, 2,5-dibromo-4
'-hydroxydiphenylmethane and the like.
この発明においては、前記(D)成分として前記第(1
)〜(3)式で表わされる活性水素含有のジハロゲン芳
香族化合物の外に1.2.3〜トリクロロベンゼン、1
,2.4− )ジクロロベンゼン、1.3−ジクロロ−
5−ブロモベンゼン、2,4.8− トリクロロトルエ
ン、 1,2,3.5−テトラブロモベンゼン。In this invention, as the (D) component, the (1)
) to (3) In addition to the active hydrogen-containing dihalogen aromatic compounds represented by the formulas, 1.2.3 to trichlorobenzene, 1
, 2.4-) dichlorobenzene, 1.3-dichloro-
5-bromobenzene, 2,4.8-trichlorotoluene, 1,2,3.5-tetrabromobenzene.
へt−410ロベンゼン、 1,3.5− ) IJ7
0el−2,4,6−)リメチルベンゼン、2.2°、
4.4° −テトラクロロビフェニル、 2.2’ 、
J8°−テトラブロモ−3,3°、5,5°−テトラメ
チルビフェニル、1.2,3゜4−テトラクロロナフタ
レン、1,2.4− )ジブロモ−6−メチルナフタレ
ンなども使用することができ、さらには、ナフタレン核
に、活性水素含有のたとえばアミツノ人、メルカプト基
、ヒドロキシ基等を置換すると共にハロゲン原子を置換
する化合物も使用することができる。het-410 lobenzene, 1,3.5- ) IJ7
0el-2,4,6-)limethylbenzene, 2.2°,
4.4°-tetrachlorobiphenyl, 2.2',
J8°-tetrabromo-3,3°,5,5°-tetramethylbiphenyl, 1,2,3°4-tetrachloronaphthalene, 1,2,4-)dibromo-6-methylnaphthalene, etc. can also be used. Furthermore, compounds in which active hydrogen-containing groups such as Amitsuno group, mercapto group, hydroxyl group, etc. are substituted on the naphthalene nucleus and halogen atoms can also be used.
以」−例示の各種の活性水素含有のポリハロゲン芳香族
化合物の中でも、前記第(1)式で表わされるものが好
ましく、特にジクロロアニリンが好ましい。Among the various active hydrogen-containing polyhalogen aromatic compounds exemplified above, those represented by the above formula (1) are preferred, and dichloroaniline is particularly preferred.
この発明においては、前記(D)成分は、前記(A)
Ijj、分に対して、通常O〜2,0モル%の範囲で使
用することができる。なお、本発明の目的に加えてさら
に高分子FBのポリアリーレンスルフィド樹脂を製造す
ることを目的とする場合には、前記(D)成分を、前記
(A)成分に対して0.005〜2.0モル%とすると
好適であり、0.O1〜1.5モル%とするとさらに好
適である。前記(It) It分が0.005モル%よ
りも少ないと、高分子徒のポリアリーレンスルフィド樹
脂を製造するのが困難となることがあり、また、2.0
モル%よりも多くなると、場合によってはゲル化するこ
とがある。In this invention, the component (D) is the component (A).
It can be used usually in a range of 0 to 2.0 mol% with respect to Ijj, min. In addition to the purpose of the present invention, when the purpose is to produce a polyarylene sulfide resin of polymer FB, the amount of the component (D) is 0.005 to 2% relative to the component (A). It is preferable to set it as 0.0 mol%, and 0.0 mol%. It is more preferable to set the content to 1 to 1.5 mol % of O. (It) If the It content is less than 0.005 mol%, it may be difficult to produce a polymeric polyarylene sulfide resin, and
If the amount exceeds mol%, gelation may occur in some cases.
この発明においては、前記(E) It分は、前記(A
)成分に対して、通常0〜3.0モル%の範囲で使用す
ることができる。なお、本発明の目的に加えてさらに、
溶融流れの小さな高分子!−のポリアリーレンスルフィ
ド樹脂を製造することを目的とする場合には、前記(E
)成分を、前記(A)成分に対して、0.025〜2.
6モル%とすると好適であり、0.08〜1.1モル%
とするとさらに好適である。前記(E)成分が0.02
5モル%より少ないと、得られるポリマーの溶融流れが
小さくならないことがあり、一方、2.6モル%より多
くなると、ポリマーがゲル化することがある。In this invention, the (E) It portion is the (A)
) It can be used usually in a range of 0 to 3.0 mol % with respect to the component. In addition to the purpose of the present invention, furthermore,
Small polymers with melt flow! - If the purpose is to produce the polyarylene sulfide resin of (E),
) component to the component (A) in an amount of 0.025 to 2.
It is suitable to be 6 mol%, and 0.08 to 1.1 mol%
It is even more preferable to do so. The component (E) is 0.02
If it is less than 5 mol%, the resulting polymer may not have a small melt flow, while if it is more than 2.6 mol%, the polymer may gel.
なお、この発明においては、ポリアリーレンスルフィド
の製造に際して1重合反応系中にアルカリ水酸化物(F
)、触媒(G)としてカルボン酸金属塩、芳香族スルホ
ン酸塩および還元剤の少なくとも一種を共存させてもよ
い。In addition, in this invention, when producing polyarylene sulfide, alkali hydroxide (F
), at least one of a carboxylic acid metal salt, an aromatic sulfonate, and a reducing agent may be present as the catalyst (G).
前記アルカリ水酸化物(F)としては、たとえば、水酸
化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸
化ルビジウム、水酸化セシウム等が挙げられる。これら
の中でも好適なのは、水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムである。Examples of the alkali hydroxide (F) include lithium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, rubidium hydroxide, and cesium hydroxide. Among these, preferred are lithium hydroxide, sodium hydroxide, and potassium hydroxide.
前記カルボン酸金属塩としては、たとえば、酢酸リチウ
ム、プロピオン酸リチウム、2−メチルプロピオン酸リ
チウム、2−メチルプロピオン酸リチウム、醋酸リチウ
ム、3−メチル醋酸リチウム、吉草酸リチウム、ヘキサ
ン酸リチウム、ヘプタン酸リチウム、安、α香酸リチウ
ム、安、q香酸ナトリウム、酢酸亜鉛、リン酸三カルシ
ウム等が挙げられ、これらの中でもカルボン酸リチウム
が好ましく、特に酢酸リチウムが好ましい、このような
カルボン酸金属塩はその水和物を用いても良い。Examples of the carboxylic acid metal salts include lithium acetate, lithium propionate, lithium 2-methylpropionate, lithium 2-methylpropionate, lithium acetate, lithium 3-methyl acetate, lithium valerate, lithium hexanoate, and heptanoate. Examples of such carboxylic acid metal salts include lithium, ammonium, lithium alpha fragrant, sodium ammonium, q fragrant, zinc acetate, tricalcium phosphate, etc. Among these, lithium carboxylate is preferred, and lithium acetate is particularly preferred. may also be used as a hydrate.
また、芳香族スルホン#塩としてはP−1ルエンスルホ
ン酸ナトリウムなどが挙げられる。Further, examples of the aromatic sulfone #salt include sodium P-1 luenesulfonate.
前記還元剤としては、たとえば、ヒドラジン、水素化物
、ギ酸アルカリ等が挙げられ、好適なものは、水素化物
、特に水素化ホウ素物[水素化ホウ素リチウム、水素化
ホウ素ナトリウム(Na BF2)、水素化ホウ;にカ
リウム]、水素化カルシウム(Ca H2)である。Examples of the reducing agent include hydrazine, hydrides, alkali formates, etc., and preferred ones include hydrides, especially borohydrides [lithium borohydride, sodium borohydride (Na BF2), hydride] potassium] and calcium hydride (CaH2).
(G)成分/(B)成分のモル比は1通常、2.0以下
であり、好ましくは0.01−1.5である。The molar ratio of component (G)/component (B) is 1, usually 2.0 or less, and preferably 0.01-1.5.
nii記アシアルカル水酸化物重合反応系をアルカリ性
とするためであるから、その添加量に特に制限がない。Since the purpose is to make the acyal hydroxide polymerization reaction system alkaline, there is no particular restriction on the amount added.
これらの各成分は重合反応に際し、全部を同時に接触し
ても良いし、別々に接触しても良い、各成分の接触の順
序、方式に特に制限がないのである。All of these components may be contacted simultaneously or separately during the polymerization reaction, and there are no particular restrictions on the order or method of contacting each component.
この発’51において、重要な点の1つは、前記重合反
応を生成樹脂の融点以上、好ましくはその融点よりさら
に5℃以上高い反応温度で行なう点である。反応温度が
融点未満であると生成するポリアリーレンスルフィド樹
脂中に残存する食塩等の1!工の含rヨが少なくならな
い、1Fi記重合反応の反応温度の北限は前記ジハロゲ
ン芳香族化合物の種類などの他の様々の条件によって異
なるので一様に規定できないが、通常320℃、好まし
くは300℃である0反応温度が320℃より高いと、
副反応を誘発したり、ポリアリーレンスルフィド樹脂の
生産征が低下することがある。One of the important points in this publication '51 is that the polymerization reaction is carried out at a reaction temperature higher than the melting point of the resulting resin, preferably at least 5° C. higher than the melting point. 1! If the reaction temperature is below the melting point, salt, etc. remaining in the polyarylene sulfide resin produced! The northern limit of the reaction temperature of the polymerization reaction described in 1Fi, which does not reduce the content of R, cannot be uniformly defined because it varies depending on various other conditions such as the type of the dihalogen aromatic compound, but it is usually 320°C, preferably 300°C. When the reaction temperature in °C is higher than 320 °C,
This may induce side reactions or reduce the production of polyarylene sulfide resin.
たとえば、典型的なポリフェニレンスルフィド樹脂の融
点は、284℃付近であるので、この樹脂を製造するに
際し、未発IJIの方法における前記重合反応の反応温
度は284〜285℃、好ましくは289〜282℃で
ある。For example, the melting point of a typical polyphenylene sulfide resin is around 284°C, so when producing this resin, the reaction temperature of the polymerization reaction in the undeveloped IJI method is 284-285°C, preferably 289-282°C. It is.
前記重合反応の反応圧力は、特に制限はないが、通常、
溶媒等の重合反応系の自圧〜50Kg/cゴ(絶対圧)
、好ましくは1重合反応系の自圧〜10Kg/crry
’ (絶対圧)である。The reaction pressure of the polymerization reaction is not particularly limited, but usually
Self-pressure of polymerization reaction system such as solvent ~50Kg/c (absolute pressure)
, preferably the autogenous pressure of one polymerization reaction system ~10Kg/crry
' (absolute pressure).
前記重合反応は、窒素、二酸化炭素、水蒸気などの不活
性ガスの雰囲気下で行なってもよい。The polymerization reaction may be performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen, carbon dioxide, or water vapor.
前記重合反応の反応時間は1通常、20時間以内、特に
0.1〜8時間以内である。The reaction time of the polymerization reaction is usually within 20 hours, particularly within 0.1 to 8 hours.
重合反応終了後、ポリアリーレンスルフィドは、たとえ
ばろ過または遠心分離などによる標準的な方法により直
接に反応溶液から分別し、あるいは、例えば木および/
または稀釈した酸を添加した後、反応溶液から分別して
、得ることができる。After the polymerization reaction is complete, the polyarylene sulfide can be separated directly from the reaction solution by standard methods, e.g. by filtration or centrifugation, or alternatively, e.g.
Alternatively, it can be obtained by adding diluted acid and then fractionating it from the reaction solution.
ろ過[程に続いて一般に重合体に付着し1!)るいずれ
かの無機成分例えばアルカリ金属硫化物及びアルカリ水
酸化物を除去するために水で洗r11する。またこの洗
浄工程に加えて、またはその後に、行ない得るメタノー
ルなどの他の洗浄液を用いる洗浄または抽出が回部であ
る0反応容器から溶媒を留去し、続いて上記のように洗
浄することにより重合体を回収することもできる。Filtration [after moderation generally adheres to the polymer and 1! ) to remove any inorganic components such as alkali metal sulfides and alkali hydroxides. In addition to or after this washing step, washing or extraction with other washing liquids such as methanol may also be carried out by distilling off the solvent from the reaction vessel, followed by washing as described above. The polymer can also be recovered.
このようにして回収されたポリアリーレンスルフィト樹
脂中に残存する食塩等の塩の含有埴は、従来の方法によ
って製造されるポリアリーレンスルフィド樹脂に比較し
て1/4もしくはそれ以下と著しく少ないので、該樹脂
は、その後特に脱塩処理を行なうことなく成形、加工し
、電気・電子分野に好適に利用することもできるが、必
要に応じて、前記洗浄工程に加えて、またはその後に、
種々の脱塩処理を行なって、さらに樹脂中の食塩などの
塩濃度を低減して利用することもできる。The content of salts such as common salt remaining in the polyarylene sulfide resin recovered in this way is extremely small, at 1/4 or less, compared to polyarylene sulfide resin produced by conventional methods. The resin can then be molded and processed without any particular desalination treatment and can be suitably used in the electrical and electronic fields; however, if necessary, in addition to or after the washing step,
It is also possible to further reduce the concentration of salt such as common salt in the resin by performing various desalting treatments.
この発明の方法により得られるポリアリーレンスルフィ
ド樹脂を各種の製品に成形する場合は。When molding the polyarylene sulfide resin obtained by the method of this invention into various products.
他の重合体、顔料および充填剤、例えばグラファイト、
金属粉、ガラス粉、石英粉もしくはガラス繊維、または
ポリアリーレンスルフィドに対して通常用いる添加剤、
例えば通常の安定剤もしくは離型剤と混合することがで
きる。Other polymers, pigments and fillers, such as graphite,
additives commonly used for metal powders, glass powders, quartz powders or glass fibers, or polyarylene sulfides;
For example, it can be mixed with customary stabilizers or mold release agents.
この発明の方法により得られるポリフェニレンスルフィ
ト樹脂等のポリアリーレンスルフィド樹脂は、樹1指中
の食塩などの塩含量が低いので、耐湿電気絶縁性が高く
、また、これに加えて必要により、溶融流れの小さい高
分子量の樹脂として製造することができるので1種々の
成形品や複合材のマトリックス樹脂として使用すること
ができ、また、各種成形品、フィルム、繊維などにする
ことができ、機械部品はもとより電気・電子部品などに
好適に利用することができる優れたエンジニアリングプ
ラスチックである。Polyarylene sulfide resin such as polyphenylene sulfite resin obtained by the method of this invention has a low salt content such as common salt in the tree, so it has high moisture resistance and electrical insulation. Since it can be produced as a high molecular weight resin with low flow, it can be used as a matrix resin for various molded products and composite materials, and can also be made into various molded products, films, fibers, etc., and can be used for mechanical parts. It is an excellent engineering plastic that can be suitably used in electrical and electronic parts.
[発明の効果]
この発明によると、食塩等の塩の含有量が著しく少ない
ポリフェニレンスルフィド樹脂等のポリアリーレンスル
フィド樹脂を製造することができる。この発明の方法に
よって得られるポリフェニレンスルフィドm ll’i
’i等のポリアリーレンスルフィド樹脂は、食塩等の塩
含有針が少ないので電気◆電子分野に利用する際に、回
路の耐湿絶縁性の添加を防止するために従来必要とされ
ていた再精製脱塩工程を必ずしも必要としないので、プ
ロセス上著しく有利であり、また、必要に応じてさらに
再精製脱塩を行なう場合にもプロセスの効率を向上させ
ることができるなどの利点を有している。[Effects of the Invention] According to the present invention, a polyarylene sulfide resin such as a polyphenylene sulfide resin containing significantly less salt such as common salt can be produced. Polyphenylene sulfide obtained by the method of this invention
Polyarylene sulfide resins such as 'i' have less salt-containing needles such as common salt, so when used in the electrical and electronic fields, re-refining and de-refining, which was conventionally required to prevent the addition of moisture-resistant insulation to circuits, can be used in the electrical and electronic fields. Since a salting step is not necessarily required, it is extremely advantageous in terms of the process, and it also has the advantage that the efficiency of the process can be improved even when further repurification and desalting is performed as necessary.
[実施例]
次にこの発明の実施例および比較例を示し、この発明を
さらに具体的に説明する。[Examples] Next, Examples and Comparative Examples of the present invention will be shown to further specifically explain the present invention.
(実施例1)
2文オートクレーブに、硫化ナトリウム9水塩[0,4
g (0,54モル)およびN−メチルピロリドン36
8m文を入れ、水88m文を共沸蒸留により除、h し
た、その後、p−ジクロロベンゼン81.5g(0,5
6モル)、水素化ホウ累ナトリウム0.91 g(0,
024モル)、p−ジクロロアニリン0.483g(0
,0029モル)およびN−メチルピロリドン212m
文を窒素雰囲気下で加え、窒素雰囲気F285℃で3時
間反応を行なった0反応生成物を11のイオン交換水に
注ぎ、ろ別、水洗、メタノール洗浄の順に行なった。得
られたポリマーの1−クロロナフタレン中206℃での
溶液粘度ηLnhは0.13で、ポリマー中に含まれる
Na’を原子吸光分析した結果630 ppmであった
。(Example 1) Sodium sulfide nonahydrate [0,4
g (0,54 mol) and N-methylpyrrolidone 36
88 m of water was removed by azeotropic distillation, and then 81.5 g of p-dichlorobenzene (0,5 m) was added.
6 mol), sodium borohydride 0.91 g (0,
024 mol), p-dichloroaniline 0.483 g (0
,0029 mol) and N-methylpyrrolidone 212m
The reaction product was reacted for 3 hours at 285° C. in a nitrogen atmosphere, and the reaction product was poured into ion-exchanged water in Step 11, followed by filtration, washing with water, and washing with methanol in this order. The solution viscosity ηLnh of the obtained polymer in 1-chloronaphthalene at 206°C was 0.13, and Na' contained in the polymer was 630 ppm as a result of atomic absorption analysis.
(実施例?)
実施例1で反応温度を230℃とした外は同様の操作を
行なった。ηinh =0.12、Na・の含ゆは45
0pp鳳であった。(Example?) The same operation as in Example 1 was performed except that the reaction temperature was changed to 230°C. ηinh = 0.12, Na content is 45
It was 0pp Otori.
(実施例3)
実施例1において、水素化ホウ素ナトリウムとp−ジク
ロロアニリンを用いないで同様に行なった。ηは0.0
9、Na+は250ppmであった。(Example 3) The same procedure as in Example 1 was carried out without using sodium borohydride and p-dichloroaniline. η is 0.0
9. Na+ was 250 ppm.
(比較例1)
実施例1と同様の反応を283℃で行なった外は同様操
作を行なった。ηI!Ihは0.13、Na’は240
0ppmであったe
(比較例2)
実施例3において、200℃で反応させた後、同様の後
処理を行なった。ηinhは0.09、Na・は250
0ppmであった。さらにこの試料を沸Rイオン交検水
で2時間煮沸した後、ろ別、メタノール洗浄した。得ら
れた試料中のNa”はteoopp■であった。(Comparative Example 1) The same operation as in Example 1 was carried out except that the same reaction was carried out at 283°C. ηI! Ih is 0.13, Na' is 240
0 ppm (Comparative Example 2) In Example 3, after reacting at 200° C., the same post-treatment was performed. ηinh is 0.09, Na・ is 250
It was 0 ppm. Further, this sample was boiled in boiling R ion exchange water for 2 hours, filtered, and washed with methanol. Na'' in the obtained sample was teoopp■.
(比較例3)
tiのオートクレーブ中に硫化リチウム 13.8g
(0,30モル)、p−ジクロロベンゼン45.0 g
(0,31モル)、酢酸リチウム 19.8 g (0
,30モル)炭酸リチウム(0,30モル)およびN−
メチルピロリドン188 m文を加え、窒素雰囲気下2
62〜265℃で3時間反応させた0反応生成物は実施
例1と同様の方法で後処理した。Lioを原子吸光法で
分析した結果、 930 PP■であった。尚、ηin
hは0.14であった。(Comparative Example 3) 13.8g of lithium sulfide in a ti autoclave
(0.30 mol), p-dichlorobenzene 45.0 g
(0.31 mol), lithium acetate 19.8 g (0
, 30 mol) lithium carbonate (0,30 mol) and N-
Add 188 m of methylpyrrolidone and add 2 ml of methylpyrrolidone under nitrogen atmosphere.
The 0 reaction product reacted at 62-265°C for 3 hours was post-treated in the same manner as in Example 1. As a result of analyzing Lio by atomic absorption method, it was found to be 930 PP■. Furthermore, ηin
h was 0.14.
r、続補11日、I) 閉和62年1月2c7 IIr, continuation 11th, I) January 1962 2c7 II
Claims (3)
金属硫化物とを重合反応させてポリアリーレンスルフィ
ド樹脂を製造する方法において、前記重合反応を前記樹
脂の融点以上の温度で行なうことを特徴とするポリアリ
ーレンスルフィド樹脂の製造方法。(1) A method for producing a polyarylene sulfide resin by polymerizing a dihalogen aromatic compound and an alkali metal sulfide in a polar solvent, characterized in that the polymerization reaction is carried out at a temperature equal to or higher than the melting point of the resin. A method for producing polyarylene sulfide resin.
温度で行なう前記特許請求の範囲第1項に記載のポリア
リーレンスルフィド樹脂の製造方法。(2) The method for producing a polyarylene sulfide resin according to claim 1, wherein the polymerization reaction is carried out at a temperature 5° C. or more higher than the melting point of the resin.
ゼンである前記特許請求の範囲第1項または第2項に記
載のポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法。(3) The method for producing a polyarylene sulfide resin according to claim 1 or 2, wherein the dihalogen aromatic compound is p-dichlorobenzene.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60294647A JPS62156133A (en) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | Production of polyarylene sulfide resin |
CA000515316A CA1262006A (en) | 1985-08-20 | 1986-08-05 | Method for producing of polyarylene sulfides |
US06/894,369 US4810773A (en) | 1985-08-20 | 1986-08-05 | Method for producing polyarylene sulfide with lithium halide catalyst |
BR8603952A BR8603952A (en) | 1985-08-20 | 1986-08-19 | PROCESS TO PRODUCE POLYARYLENE SULPHIDE |
DE8686111458T DE3684541D1 (en) | 1985-08-20 | 1986-08-19 | METHOD FOR PRODUCING POLYARYL SULFIDES. |
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KR1019860006821A KR910001757B1 (en) | 1985-08-20 | 1986-08-19 | Method for producing of polyarylene sulfides |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPS62156133A true JPS62156133A (en) | 1987-07-11 |
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ID=17810470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62156133A (en) |
-
1985
- 1985-12-27 JP JP60294647A patent/JPS62156133A/en active Pending
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