JPS6215506Y2 - - Google Patents

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JPS6215506Y2
JPS6215506Y2 JP9383182U JP9383182U JPS6215506Y2 JP S6215506 Y2 JPS6215506 Y2 JP S6215506Y2 JP 9383182 U JP9383182 U JP 9383182U JP 9383182 U JP9383182 U JP 9383182U JP S6215506 Y2 JPS6215506 Y2 JP S6215506Y2
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vane
rotor
circumferential surface
type rotary
pressure
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、ポンプまたはモータなどとして用い
られるベーン式回転流体機械に関するものであ
る。
[Detailed Description of the Invention] The present invention relates to a vane type rotary fluid machine used as a pump or a motor.

従来のベーン式回転流体機械では、流入ポート
および流出ポートとベーン室との間の流体の流入
出の際に、ロータの外周面の側端角部の形状が流
体の流入出の障害となり、体積効率を低下させ、
ポンプ効率を鑑みた場合、はなはだ効率の悪いも
のであつた。
In conventional vane-type rotary fluid machines, when fluid flows in and out between the inflow and outflow ports and the vane chamber, the shape of the side end corners of the rotor's outer circumferential surface becomes an obstacle to fluid inflow and outflow, and the volume reduce efficiency,
In terms of pump efficiency, it was extremely inefficient.

すなわち、従来のベーン式回転流体機械とりわ
けベーン式高圧高速回転流体機械において、ベー
ンとロータ外周面、カムリング内周面及びサイド
プレートで囲まれたベーン室内では、ベーン室内
の容積が増加する過程で相対的に大きな断面積を
有する吸込ポートより小さな断面積を有するベー
ン室内に流体が流入する際に、流体が流れる通路
面積が階段状に急激に減少するためベーン室への
流入抵抗が増大し、ベーン室への流体の流入量が
減少するので、結果として流体機械の体積効率を
低下させていた。また、ロータ外周面の吸込ポー
ト側付近にて縮流が生じ、等価的にベーン室の断
面積以上に管路が狭められ、ベーン室を構成する
壁から流れが剥離して、渦および気泡が発生する
とともに、流体の流速が速くなり、ベーン室内の
圧力が局部的に低下し、空気分離圧に達すると溶
解空気などが分離して気泡(キヤビテーシヨン)
を生ずる。また流入の際に流体に混在していた微
く小さな気泡が圧力の低下に伴いその容積を増大
し、これらの気泡の生成または増大した分だけベ
ーン室への流体の流入量が減少する。そして、ベ
ーン室が吸込ポートと切離され、吐出ポートにの
ぞく過程で気泡を混在した流体が吐出圧に到達す
るまでに、圧力の上昇に伴い気泡の体積が減少
し、或いは流体に溶解する。それにより減少した
気泡の体積分の流体充足のために余分な吐出ポー
トからの流体の還流を要し、ポンプ効率を低下さ
せる原因となるほか、吐出ポートでの流体の送流
量の瞬時的変動を増大させ、それが圧力脈動とな
り振動・騒音などの発生原因ともなる。また、急
激な噴流も流体音を誘引し騒音の発生原因とな
る。
In other words, in conventional vane-type rotary fluid machines, especially vane-type high-pressure, high-speed rotary fluid machines, the vane chamber, which is surrounded by the vane, the outer peripheral surface of the rotor, the inner peripheral surface of the cam ring, and the side plate, has a relative displacement as the volume inside the vane chamber increases. When fluid flows into the vane chamber, which has a smaller cross-sectional area than the suction port, which has a larger cross-sectional area, the passage area through which the fluid flows rapidly decreases in a stepwise manner, which increases the resistance to flow into the vane chamber. Since the amount of fluid flowing into the chamber is reduced, the volumetric efficiency of the fluid machine is reduced as a result. In addition, contracted flow occurs near the suction port side of the rotor's outer peripheral surface, which equivalently narrows the pipeline by more than the cross-sectional area of the vane chamber, causing the flow to separate from the walls that make up the vane chamber, causing vortices and bubbles. As this occurs, the flow rate of the fluid increases, the pressure inside the vane chamber decreases locally, and when the air separation pressure is reached, dissolved air etc. separates and bubbles (cavitation) occur.
will occur. Moreover, the volume of very small bubbles mixed in the fluid during inflow increases as the pressure decreases, and the amount of fluid flowing into the vane chamber decreases by the amount that these bubbles are generated or increased. Then, the vane chamber is separated from the suction port, and in the process of entering the discharge port, by the time the fluid mixed with bubbles reaches the discharge pressure, the volume of the bubbles decreases as the pressure increases, or the bubbles dissolve in the fluid. As a result, an extra amount of fluid must be returned from the discharge port to fill the volume of the reduced bubbles, which not only causes a decrease in pump efficiency, but also causes instantaneous fluctuations in the amount of fluid delivered at the discharge port. This causes pressure pulsations and causes vibrations, noise, etc. In addition, rapid jet flow also induces fluid sound and causes noise generation.

これらを防止する目的で、従来第1図に示す如
くロータ外周面3の側端角部4に全周面にわたる
面取りを施すことを行なつている。すなわち、こ
れは、ベーン室5が吸込領域にある場合に、吸込
ポート1からベーン室に流体が流入する際の通路
面積の急激な減少を少なくするもので、流体の流
入抵抗を緩和し、流体の縮流を防ぐことによつて
流入圧損を極力小さくし、キヤビテーシヨン防止
を図ろうとするものである。
In order to prevent these problems, conventionally, as shown in FIG. 1, the side end corners 4 of the rotor outer circumferential surface 3 are chamfered over the entire circumferential surface. That is, this is to reduce the rapid decrease in the passage area when fluid flows into the vane chamber from the suction port 1 when the vane chamber 5 is in the suction region. By preventing contraction of the flow, the inflow pressure loss is minimized and cavitation is prevented.

しかし、上記の如きロータ外周面の側端角部の
全周面にわたる面取りを施した従来のベーン式回
転流体機械にあつては、面取りによつて確かに流
入抵抗の減少およびキヤビテーシヨン防止の効果
を奏し得たが、逆にそれがために以下に述べる如
き弊害を生じる。
However, in conventional vane-type rotary fluid machines in which the side end corners of the rotor outer peripheral surface are chamfered over the entire circumference, chamfering certainly reduces inflow resistance and prevents cavitation. However, this causes the disadvantages described below.

その全周面面取りの弊害の1つは、ロータ外周
面側端角部4に施された面取りに相当する分だけ
ベーンVAに直接圧力が作用する領域が増大して
ベーンVAとサイドプレート(図示せず)とのシ
ールの長さが長くなり、それだけ高圧流体の漏れ
量が増大し、回転流体機械の体積効率が低下する
ことである。
One of the disadvantages of chamfering the entire circumference is that the area where direct pressure acts on the vane VA increases by the amount corresponding to the chamfering applied to the end corner 4 on the rotor outer circumferential surface. (not shown) becomes longer, the leakage amount of high-pressure fluid increases accordingly, and the volumetric efficiency of the rotary fluid machine decreases.

全周面面取りの弊害の他の1つは、ロータ外周
部の側端角部の全周面に渡る面取りを施したため
に、ベーン溝の最外周部のロータ軸方向の長さ、
すなわちベーンの高圧側から低圧側への圧力を受
けるベーンのロータ最外周支持幅が面取り分だけ
減少し、ベーンのロータ支持幅の線圧つまり単位
長さ当りの接触力が増加し、さらに吸込領域にお
いては、ベーンの底部に作用する吐出圧力或いは
それに準じた高い圧力によつてベーンをカムリン
グ内周面に追従させるために押しつけており、そ
こにおいてベーンとカムリング内周面との接触力
が生じその接触力によつてベーンの背面がロータ
最外周支持幅に押しつけられベーンの摺動が悪く
なり、カムリング内周面への不連続な追従が起こ
るために圧力流体の洩れや圧力脈動が増加し、異
質な騒音などの発生を誘引することである。
Another disadvantage of chamfering the entire circumference is that because the chamfering is applied to the entire circumferential surface of the side end corners of the rotor outer circumference, the length of the outermost circumference of the vane groove in the rotor axial direction,
In other words, the outermost support width of the rotor of the vane, which receives pressure from the high-pressure side of the vane to the low-pressure side, is reduced by the amount of the chamfer, and the linear pressure of the rotor support width of the vane, that is, the contact force per unit length, increases, and the suction area In this system, the vane is pressed against the inner circumferential surface of the cam ring by the discharge pressure acting on the bottom of the vane or a similar high pressure, and a contact force is generated between the vane and the inner circumferential surface of the cam ring. Due to the contact force, the back surface of the vane is pressed against the rotor's outermost circumferential support width, making it difficult for the vane to slide, and discontinuously following the inner circumferential surface of the cam ring, which increases pressure fluid leakage and pressure pulsation. This is to induce the generation of foreign noise.

そこで、本考案者らは、従来の吸込み特性を損
うことなく上記の弊害を取り除くべく系統的実験
及び理論的解析を重ねた結果、本考案をなすに至
つたのである。
Therefore, the inventors of the present invention conducted systematic experiments and theoretical analyses in order to eliminate the above-mentioned problems without impairing the conventional suction characteristics, and as a result, they came up with the present invention.

本考案の目的は、ベーン室と流出入ポートとの
間における流体の流出入を容易ならしめ、キヤビ
テーシヨンの防止を計り、ロータに設けたベーン
溝最外周部との接触力を低減してベーンの摺動を
滑らかにしカムリング内周面への追従を容易なら
しめると共に、ベーンとサイドプレートとの隙間
からの流体漏れ量を減らし、機械効率の向上、体
積効率の向上、そして圧力脈動及び騒音の低減を
可能にするベーン式回転流体機械を提供すること
にある。
The purpose of this invention is to facilitate the flow of fluid between the vane chamber and the inflow and outflow ports, to prevent cavitation, and to reduce the contact force with the outermost part of the vane groove provided on the rotor. Smooth sliding makes it easier to follow the inner circumferential surface of the cam ring, and reduces fluid leakage from the gap between the vane and side plate, improving mechanical efficiency, volumetric efficiency, and reducing pressure pulsation and noise. The objective is to provide a vane-type rotary fluid machine that enables.

すなわち、本考案のベーン式回転流体機械は、
ハウジングと、該ハウジング内に挿置され位置調
整自在に固定されたカムリングと、前記ハウジン
グに回転可能に軸支された駆動軸と、該駆動軸に
より駆動されるべく連結されかつ該駆動軸と同軸
に配したロータと、ロータ外周壁に放射状に設け
たガイド溝内に摺動可能に挿置された複数個のベ
ーンと、ロータとベーンとカムリングとの間に形
成されるベーン室と、前記ハウジング内ロータ側
に配設したベーン室に連通する流入ポート及び流
出ポートとを有するベーン式回転流体機械におい
て、ロータ外周面の側端角部にベーン溝から適宜
の間隔を置いてかつロータ外周面の幅方向の側端
部にいくに従つて深くなる面取りを形成したこと
を特徴とするものである。
In other words, the vane type rotary fluid machine of the present invention is
a housing, a cam ring inserted into the housing and fixed in a position-adjustable manner; a drive shaft rotatably supported by the housing; and a cam ring connected to be driven by the drive shaft and coaxial with the drive shaft. a plurality of vanes slidably inserted into guide grooves provided radially on the outer peripheral wall of the rotor; a vane chamber formed between the rotor, the vanes, and the cam ring; and the housing. In a vane-type rotary fluid machine having an inlet port and an outlet port that communicate with a vane chamber arranged on the inner rotor side, a vane groove is placed at an appropriate distance from the vane groove at the side end corner of the rotor outer circumferential surface and It is characterized by forming a chamfer that becomes deeper toward the side edges in the width direction.

上記の構成によるベーン式回転流体機械は、ロ
ータ外周面の側端角部にベーン溝から適宜の間隔
を置いて面取りを施すので、ベーン溝の最外周の
ロータ軸方向の長さ、すなわちベーンの高圧側か
ら低圧側への圧力を受けるベーンのロータ最外周
支持幅が面取りに影響されず全周面面取りの従来
例に比して支持幅が増加するので、ベーンのロー
タ支持幅の線圧を減少させて、ベーン溝における
摺動抵抗を減少させ、ベーンのカムリング内周面
への不連続な追従を防止して、圧力脈動及び振
動・騒音等を低減することができ、機械効率、ポ
ンプ効率、モータ効率等を向上することができ
る。
In the vane-type rotary fluid machine with the above configuration, the side end corners of the rotor outer peripheral surface are chamfered at an appropriate distance from the vane groove, so the length of the outermost circumference of the vane groove in the rotor axial direction, that is, the length of the vane. The rotor outermost support width of the vane, which receives pressure from the high-pressure side to the low-pressure side, is not affected by chamfering, and the support width increases compared to the conventional example of chamfering the entire circumference, so the linear pressure of the rotor support width of the vane can be reduced. This reduces sliding resistance in the vane groove, prevents the vane from discontinuously following the inner circumferential surface of the cam ring, reduces pressure pulsations, vibrations, noise, etc., and improves mechanical efficiency and pump efficiency. , motor efficiency etc. can be improved.

また、本考案のベーン式回転流体機械は、ロー
タ外周面の側端角部の全周面にわたつて面取りす
るのではなく、ロータ外周面の側端角部にベーン
溝からの適宜の間隔を置いて面取りを施すことに
より、ベーン室の流体の圧力が作用していた面取
り部分をなくしたので、ベーン側壁に於けるベー
ン半径方向上のシール長さを短かくするので、ベ
ーンの高圧側から低圧側への流体の漏れ量が減少
し、体積効率の向上ひいてはポンプ効率を向上す
ることができる。
In addition, the vane type rotary fluid machine of the present invention does not chamfer the entire circumference of the side end corners of the rotor's outer circumferential surface, but instead chamfers the side end corners of the rotor's outer circumferential surface at an appropriate distance from the vane groove. By chamfering the vane, the chamfered part where the pressure of the fluid in the vane chamber was applied is removed, and the seal length on the vane side wall in the radial direction of the vane is shortened. The amount of fluid leaking to the low-pressure side is reduced, and the volumetric efficiency can be improved, and thus the pump efficiency can be improved.

更に、本考案のベーン式回転流体機械は、ロー
タ外周面の側端角部にベーン溝から適宜の間隔を
置いて面取りをするので、ベーンの高圧側から低
圧側への流体の圧力を受けるベーンの面積が、ロ
ータ外周面の側端角部の全周面にわたつて面取り
した場合に比して、ベーン溝から適宜の間隔を置
いた部分だけ減少し、それだけベーンに作用する
流体の圧力による作用力が減少し、ベーンの摺動
抵抗が減少してベーンのカムリング内周面への不
連続な追従を防止でき、機械効率を向上させ、ひ
いてはポンプ効率を向上させることができる。
Furthermore, in the vane-type rotary fluid machine of the present invention, the side end corners of the rotor's outer peripheral surface are chamfered at an appropriate distance from the vane groove, so that the vane receives fluid pressure from the high-pressure side to the low-pressure side of the vane. The area of the rotor is reduced by an appropriate distance from the vane groove compared to the case where the entire circumferential surface of the side end corners of the rotor's outer circumferential surface is chamfered, and this is due to the pressure of the fluid acting on the vane. The acting force is reduced, the sliding resistance of the vane is reduced, and it is possible to prevent the vane from discontinuously following the inner circumferential surface of the cam ring, thereby improving mechanical efficiency and, by extension, pump efficiency.

また、本考案のベーン式回転流体機械は、ロー
タ外周面の側端角部へロータ外周面の幅方向の側
端部にいくに従つて深くなる面取りを施すことに
よつて、ベーン室と流出入ポートとの間の流体の
流出入を容易にする効果およびキヤビテーシヨン
防止の効果を保持している。
In addition, the vane type rotary fluid machine of the present invention has chamfers that become deeper as it goes to the side edges of the rotor outer circumferential surface in the width direction to the side end corners of the rotor outer circumferential surface. It maintains the effect of facilitating the flow of fluid into and out of the inlet port and the effect of preventing cavitation.

本考案を実施するに当り、次の様な態様を採り
得る。
In carrying out the present invention, the following aspects may be adopted.

本考案の第1の態様は、ベーンにより区画され
る2つのベーン室の低圧側のベーン室を構成する
ロータ外周面の側端角部にベーン溝から適宜の間
隔を置いて面取りを形成する様にしたものであ
る。
A first aspect of the present invention is to form a chamfer at an appropriate distance from the vane groove at the side end corner of the rotor outer peripheral surface that constitutes the low-pressure side vane chamber of the two vane chambers partitioned by the vanes. This is what I did.

本第1の態様は、ロータ外周面の側端角部に於
いてベーンの低圧側にベーン溝から適宜の間隔を
置いて面取りを施すので、ベーン溝の最外周のロ
ータ軸方向の長さ、すなわち流体の吸込から吐出
に至る過程におけるベーンの高圧側から低圧側へ
の流体の圧力を受けるベーンのロータ最外周支持
幅が面取りに影響されず、ベーンの支持幅の線圧
を従来に比べ低くするので、ベーン溝に於けるベ
ーンの摺動抵抗が減少し、ベーンのカムリング内
周面への不連続な追従を防止して、流体の洩れ、
圧力脈動および振動・騒音等を低減することがで
き、ポンプ効率を向上することができる。
In the first aspect, since chamfering is performed at the side end corners of the rotor outer circumferential surface on the low pressure side of the vane at an appropriate distance from the vane groove, the length of the outermost circumference of the vane groove in the rotor axial direction, In other words, the rotor outermost support width of the vane, which receives the pressure of the fluid from the high pressure side to the low pressure side of the vane during the process from suction to discharge, is not affected by chamfering, and the linear pressure of the vane support width is lower than before. Therefore, the sliding resistance of the vane in the vane groove is reduced, preventing the vane from discontinuously following the inner peripheral surface of the cam ring, and preventing fluid leakage.
Pressure pulsations, vibrations, noise, etc. can be reduced, and pump efficiency can be improved.

また、本第1の態様は、ロータ外周面の側端角
部の全周面に渡つて面取りするのではなく、ロー
タ外周面の側端角部において、ベーンの低圧側に
ベーン溝から適宜の間隔を置いて面取りを施すの
で、ベーンの高圧側のロータの面取部からの流体
の漏れが低圧側のベーン溝側端部で防止されるの
で、結果的にベーン側壁におけるシール長さつま
りロータの半径方向上の長さが適宜の間隔を置い
て面取りした分だけ、即ち面取りしなかつた分だ
け減少することになり、ベーンの高圧側から低圧
側への流体の漏れ量を低減でき、ポンプ効率を向
上することができる。
In addition, in the first aspect, instead of chamfering the entire circumferential surface of the side end corners of the rotor outer circumferential surface, appropriate chamfering is performed from the vane groove to the low pressure side of the vane at the side end corners of the rotor outer circumferential surface. Since the chamfers are applied at intervals, fluid leakage from the chamfered part of the rotor on the high-pressure side of the vane is prevented at the end of the vane groove on the low-pressure side.As a result, the seal length on the vane side wall, that is, the rotor The length in the radial direction of the vane is reduced by the amount of chamfering at appropriate intervals, that is, by the amount of not chamfering, which reduces the amount of fluid leaking from the high-pressure side of the vane to the low-pressure side. Efficiency can be improved.

更に、本第1の態様は、ロータ外周面の側端角
部にベーン溝の一方から適宜の間隔を置いて面取
りを施すので、面取形成領域の制約が一方だけで
あるため、加工が容易である。
Furthermore, in the first aspect, the side end corners of the rotor outer circumferential surface are chamfered at an appropriate distance from one side of the vane groove, so the chamfer formation area is restricted to only one side, which facilitates machining. It is.

また、本第1の態様は、ロータ外周面の側端角
部に面取りを施すので、ベーン室と流出入ポート
との間における流体の流出入を容易ならしめ、ま
たキヤビテーシヨンの防止効果を奏するので、ポ
ンプ効率を向上することができる。
In addition, in the first aspect, the side end corners of the rotor's outer circumferential surface are chamfered, which facilitates the flow of fluid between the vane chamber and the inflow and outflow ports, and also has the effect of preventing cavitation. , pump efficiency can be improved.

本考案の第2の態様は、ベーンにより区画され
る2つのベーン室を構成するロータ外周面の側端
角部にベーン溝から適宜の間隔を置いてそれぞれ
面取りを形成する様にしたものである。
A second aspect of the present invention is that chamfers are formed at appropriate intervals from the vane grooves at the side end corners of the rotor outer peripheral surface constituting two vane chambers partitioned by the vanes. .

本第2の態様は、ロータ外周面の側端角部にベ
ーン溝から適宜の間隔を置いて面取りを施すの
で、ベーン溝の最外周のロータ軸方向の長さ、す
なわちベーンの高圧側から低圧側への流体の圧力
を受けるベーンのロータ最外周支持幅が面取りに
影響されず、ロータ外周部の側端角部に全周面に
わたる面取りを施した従来例に比して支持幅が増
加するので、ベーンのロータ支持幅の線圧を低く
して、ロータのガイド溝におけるベーンの摺動抵
抗が減少し、ベーンのカムリング内周面への不連
続な追従を防止して、圧力脈動および振動・騒音
等を低減でき、ポンプ効率を向上することができ
る。
In this second aspect, since the side end corners of the rotor outer peripheral surface are chamfered at an appropriate distance from the vane groove, the length of the outermost circumference of the vane groove in the rotor axial direction, that is, from the high pressure side of the vane to the low pressure side. The supporting width of the rotor outermost periphery of the vanes that receive the pressure of the fluid to the side is not affected by the chamfering, and the supporting width is increased compared to the conventional example in which the side end corners of the rotor outer periphery are chamfered over the entire circumference. Therefore, by lowering the linear pressure of the rotor support width of the vane, the sliding resistance of the vane in the rotor guide groove is reduced, and discontinuous tracking of the vane to the inner peripheral surface of the cam ring is prevented, thereby reducing pressure pulsation and vibration.・Noise etc. can be reduced and pump efficiency can be improved.

また、本第2の態様は、ロータ外周面の側端角
部の全周面にわたつて面取りするのではなく、ロ
ータ外周面の側端角部にベーン溝の両側に適宜の
間隔を置いて面取りを施すので、ベーン室の流体
の高圧が作用していた面取り部分もなくすること
により、ベーン側壁におけるロータ半径方向上の
シールの長さを短かくするので、ベーンの低圧側
だけに適宜の間隔を置いて面取りを設けて間接的
に漏れを防止した上述の第1の態様よりも、一層
ベーンの高圧側から低圧側への流体の漏れ量が減
少し、体積効率をより向上させ、ひいてはポンプ
効率をより向上させることができる。
In addition, in the second aspect, instead of chamfering the entire circumferential surface of the side end corners of the rotor outer circumferential surface, the side end corners of the rotor outer circumferential surface are chamfered at appropriate intervals on both sides of the vane groove. Since the chamfer is applied, the chamfered part where the high pressure of the fluid in the vane chamber was applied is also removed, and the length of the seal in the rotor radial direction on the vane side wall is shortened, so an appropriate adjustment is made only on the low pressure side of the vane. Compared to the first embodiment described above in which chamfers are provided at intervals to indirectly prevent leakage, the amount of fluid leaking from the high-pressure side of the vane to the low-pressure side is further reduced, and the volumetric efficiency is further improved. Pump efficiency can be further improved.

更に、本第2の態様は、ロータ外周面の側端角
部にベーン溝の両側から適宜の間隔を置いて面取
りを施すので、ベーンの高圧側から低圧側への流
体の圧力を受けるベーンの面積がロータ外周面の
側端角部の全周面にわたつて面取りした場合に比
して、適宜の間隔を置いた分だけ減少し、ベーン
に作用する流体の圧力による作用力が減少するの
で、ベーンの摺動抵抗が減少してベーンのカムリ
ング内周面への不連続な追従を防止でき、機械効
率を向上させ、ひいてはポンプ効率を向上するこ
とができる。
Furthermore, in this second aspect, the side end corners of the rotor outer circumferential surface are chamfered at appropriate intervals from both sides of the vane groove, so that the vane receives the pressure of the fluid from the high pressure side to the low pressure side of the vane. Compared to the case where the entire circumferential surface of the side end corners of the rotor's outer circumferential surface is chamfered, the area is reduced by the appropriate spacing, and the acting force due to the fluid pressure acting on the vane is reduced. , the sliding resistance of the vane is reduced, preventing the vane from discontinuously following the inner circumferential surface of the cam ring, improving mechanical efficiency and, in turn, improving pump efficiency.

また、本第2の態様は、ロータ外周面の側端角
部へ面取りを施すことによつて、ベーン室と流出
入ポートとの間における流体の流出入を容易なら
しめ、キヤビテーシヨンの防止の効果を奏するの
で、ポンプ効率を向上させることができる。
In addition, the second aspect makes it easier for fluid to flow in and out between the vane chamber and the inflow and outflow ports by chamfering the side end corners of the outer peripheral surface of the rotor, thereby preventing cavitation. Therefore, pump efficiency can be improved.

本第2の態様は、ベーン溝の両側に面取りを形
成しない領域を形成するので、ポンプおよびモー
タを正逆回転で使用しても、同様の作用効果を得
る。
In the second aspect, since regions without chamfers are formed on both sides of the vane groove, similar effects can be obtained even when the pump and motor are used in forward and reverse rotation.

ここで、ロータ外周面の側端角部にベーン溝か
ら適宜の間隔を置いて面取りを施す際の「適宜の
間隔」の数値範囲は、好ましくは0.1ないし20mm
であり、より好ましくは0.5ないし5mmである。
「適宜の間隔」の数値範囲を20mm以下としたの
は、20mmを越えると、面取りによるベーン室と流
出入ポートとの間の流体の流出入を容易ならしめ
る効果およびキヤビテーシヨン防止する効果を十
分に発揮させることができないからである。
Here, when chamfering the side end corners of the rotor outer peripheral surface at an appropriate interval from the vane groove, the numerical range of the "appropriate interval" is preferably 0.1 to 20 mm.
and more preferably 0.5 to 5 mm.
The numerical range of "appropriate spacing" is set to 20 mm or less because if it exceeds 20 mm, the effect of facilitating the flow of fluid between the vane chamber and the inflow/outflow port and the effect of preventing cavitation due to chamfering will be insufficient. This is because they cannot make full use of their abilities.

また、0.1mm以上としたのは、0.1mm未満の場
合、「間隔」を置くことによつて面取りに影響さ
れないベーンのロータ最外周支持幅の回転方向の
厚みが薄くなり、摺動抵抗の低減効果を十分に発
揮できず、また「間隔」を置くことによつて短か
くなつたベーンの側壁におけるロータ半径方向上
のシールの長さの幅が狭くなり、流体の漏れ量の
抵減効果を十分に発揮することができないからで
ある。更に「適宜の間隔」が0.5mmないし5mmの
場合には、一層本考案の効果を達成し得る。
In addition, the reason why it is set to 0.1 mm or more is because if it is less than 0.1 mm, the thickness in the rotation direction of the rotor outermost support width of the vane, which is not affected by chamfering, becomes thinner due to the "spacing", which reduces sliding resistance. In addition, the length of the seal in the radial direction of the rotor on the side wall of the vane, which has become shorter due to the "spacing", has become narrower, and the effect of reducing the amount of fluid leakage has been reduced. This is because they are unable to perform to their full potential. Furthermore, when the "appropriate interval" is 0.5 mm to 5 mm, the effects of the present invention can be further achieved.

また、上記「適宜の間隔」は、ベーン間毎にロ
ータ外周面の側端角部に同様の「間隔」を設けて
もよいし、或いは異なつた「間隔」を設けてもよ
く、上記の範囲内にあればよい。
Further, the above-mentioned "appropriate interval" may be a similar "interval" provided at the side end corner of the rotor's outer circumferential surface for each vane, or a different "interval" may be provided, and the above-mentioned range It's fine if it's inside.

また、ロータ外周面の側端角部にベーン溝の両
端から適宜の間隔を置いて面取りを施す際の「適
宜の間隔」は、ベーン溝の両端から同様の「間
隔」を設けてもよいし、或いは異なつた「間隔」
を設けてもよく、上記の範囲内にあればよい。
In addition, when chamfering the side end corners of the rotor outer circumferential surface at appropriate intervals from both ends of the vane groove, the "appropriate interval" may be a similar "interval" from both ends of the vane groove. , or different "intervals"
may be provided, as long as it is within the above range.

以下、本考案の第1の態様に属する第1実施例
のベーン式回転流体機械を第2図ないし第4図を
用いて説明する。
Hereinafter, a vane type rotary fluid machine according to a first embodiment of the first aspect of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 to 4.

本第1実施例のベーン式回転流体機械は、本考
案を定容量形のベーンモータに適用し、ロータ
は、ベーンにより区画される2つのベーン室の低
圧側のベーン室を構成するロータ外周面の側端角
部にベーン溝から適宜の間隔を置いて直線的に切
削した形状としたことを特徴とするものである。
The vane-type rotary fluid machine of the first embodiment applies the present invention to a constant displacement vane motor, and the rotor has an outer peripheral surface of the rotor constituting the vane chamber on the low pressure side of two vane chambers partitioned by the vanes. It is characterized in that the side end corners are cut linearly at an appropriate distance from the vane groove.

以下に、本第1実施例のベーン式回転流体機械
の構成と作用効果について詳述する。
Below, the configuration and effects of the vane type rotary fluid machine of the first embodiment will be explained in detail.

本第1実施例のベーン式回転流体機械は、先づ
ハウジングHA内に打ち込まれた平軸受BRによつ
て回転可能に駆動軸DSが軸支されている。サイ
ドプレートSP1とサイドプレートSP2間に挾ま
れて、駆動軸DSに駆動されるべく連結されかつ
駆動軸DSと同軸に配した駆動軸DSと一体に回転
するロータRTと、その周囲のカムリングCRとが
配設されている。カムリングCRとサイドプレー
トSP1、サイドプレートSP2とは2本の共通な
平行ピンPPでハウジングHAに対して回転しない
様に支持されている。
In the vane type rotary fluid machine of the first embodiment, a drive shaft DS is rotatably supported by a flat bearing BR driven into a housing HA. A rotor RT, which is sandwiched between the side plate SP1 and the side plate SP2, is connected to be driven by the drive shaft DS, and rotates together with the drive shaft DS, which is arranged coaxially with the drive shaft DS, and a cam ring CR surrounding the rotor RT. is installed. The cam ring CR, side plate SP1, and side plate SP2 are supported by two common parallel pins PP so as not to rotate relative to the housing HA.

ロータRTには、第3図に示す如く、ベーンVA
により区画される2つのベーン室の低圧側のベー
ン室を構成するロータ外周面13の側端角部14
にベーン溝16から適宜の間隔を置いてフライス
盤の外周面に刃のついた円筒状の工具を直線状に
スライドさせて平面を形成させることにより面取
りを設けた。
The rotor RT has a vane VA as shown in Figure 3.
A side end corner 14 of the rotor outer circumferential surface 13 that constitutes the low-pressure side vane chamber of the two vane chambers partitioned by
A chamfer was provided by sliding a cylindrical tool with a blade in a straight line on the outer peripheral surface of the milling machine at an appropriate distance from the vane groove 16 to form a flat surface.

ロータRTのベーン溝16には、放射状に複数
個のベーンVAが配設され、これらベーンVAの底
部17にはベーン押上げバネ(図示せず)が配さ
れ、常時ベーンVAがカムリングCRの内周面に接
する位置まで摺動し、ベーン先端18がカムリン
グ内周面20に沿つてロータRTとともに回転す
る。
A plurality of vanes VA are arranged radially in the vane groove 16 of the rotor RT, and vane push-up springs (not shown) are arranged at the bottoms 17 of these vanes VA, so that the vanes VA always move inside the cam ring CR. The vane tip 18 slides to a position where it contacts the circumferential surface, and the vane tip 18 rotates together with the rotor RT along the inner circumferential surface 20 of the cam ring.

カムリング内周面20は、楕円形に形成されロ
ータRTとの距離が回転に伴つて変化し、これに
よりロータRTと隣り合う2つのベーン、カムリ
ングCR、サイドプレートSP1およびSP2によつ
て形成される空間すなわちベーン室の容積を駆動
軸DSの1回転につき2回ずつ圧縮と膨張を繰り
返す様になつている。そして、膨張行程の途中の
ベーン室と連通する位置のサイドプレートSP1
およびSP2に高圧ポート11aおよび11b
を、また圧縮行程の途中のベーン室と連通する位
置のサイドプレートSP1に低圧ポート12を設
け、ベーン室は膨張行程において高圧ポートに開
口して流体を高圧ポートから受け、圧縮行程にお
いては低圧ポートに開口してベーン室内の流体を
出す。
The cam ring inner circumferential surface 20 is formed into an elliptical shape, and the distance from the rotor RT changes as the cam ring rotates.Therefore, the cam ring inner peripheral surface 20 is formed by the two vanes adjacent to the rotor RT, the cam ring CR, and the side plates SP1 and SP2. The volume of the space, that is, the vane chamber, is repeatedly compressed and expanded twice per rotation of the drive shaft DS. Then, the side plate SP1 is located at a position communicating with the vane chamber in the middle of the expansion stroke.
and high pressure ports 11a and 11b on SP2
In addition, a low pressure port 12 is provided on the side plate SP1 at a position communicating with the vane chamber in the middle of the compression stroke, and the vane chamber opens to the high pressure port during the expansion stroke to receive fluid from the high pressure port, and during the compression stroke, the low pressure port opens to the high pressure port. Open to drain the fluid inside the vane chamber.

サイドプレートSP1は、外蓋OCとの間に挾み
込んだスプリングSRによつて常にカムリングCR
の側面に押付けられ、更にサイドプレートSP1
の側面には高圧ポートの流入圧力が作用し、ベー
ン室の気密が保持される。
The side plate SP1 is always connected to the cam ring CR by the spring SR inserted between it and the outer cover OC.
is pressed against the side of the side plate SP1.
The inflow pressure of the high pressure port acts on the side surface of the vane chamber to maintain airtightness of the vane chamber.

ハウジングHAには、流入口FIと流出口FOと
があり、それぞれ高圧ポート11aおよび11b
と低圧ポート12に連通される。
The housing HA has an inlet FI and an outlet FO, which are high pressure ports 11a and 11b, respectively.
and is communicated with the low pressure port 12.

以上の様にして、本第1実施例のベーン式回転
流体機械は、ベーンVAに区画される2つのベー
ン室の低圧側のベーン室を構成するロータ外周面
の側端角部にベーン溝16から適宜の間隔を置い
て面取りを施すので、ベーン溝16のロータ最外
周支持幅が面取りに影響されず、ベーン溝16に
おけるベーンの摺動抵抗が減少し、モータ効率を
向上することができる。
As described above, the vane type rotary fluid machine of the first embodiment has a vane groove 16 in the side end corner of the rotor outer peripheral surface that constitutes the low pressure side vane chamber of the two vane chambers partitioned into the vane VA. Since the chamfering is performed at appropriate intervals from the vane groove 16, the support width of the rotor outermost periphery of the vane groove 16 is not affected by the chamfering, the sliding resistance of the vane in the vane groove 16 is reduced, and motor efficiency can be improved.

また、本第1実施例のベーン式回転流体機械
は、ロータ外周面の側端角部14の全周面に渡つ
て面取りするのではなく、ベーンに区画される2
つのベーン室の低圧側のベーン室を構成するロー
タ外周面の側端角部にベーン溝16から適宜の間
隔を置いて面取りを施すので、ベーンVAの高圧
側のロータRTの面取部からの弐流体の漏れが低
圧側のベーン溝側端部で防止されるので、ベーン
側壁におけるシール長さつまりロータRTの半径
方向上の長さが適宜の間隔を置いて面取りした分
だけ、すなわち面取りしなかつた分だけ減少する
ことになり、ベーンVAの高圧側から低圧側への
流体の漏れ量を低減できモータ効率を向上するこ
とができる。
In addition, in the vane-type rotary fluid machine of the first embodiment, instead of chamfering the entire circumferential surface of the side end corner portion 14 of the rotor outer circumferential surface, two
Since the side end corners of the rotor outer circumferential surface constituting the low-pressure side vane chamber of the two vane chambers are chamfered at an appropriate distance from the vane groove 16, the chamfered portion of the rotor RT on the high-pressure side of the vane VA is chamfered. Since fluid leakage is prevented at the end of the vane groove on the low-pressure side, the seal length on the vane side wall, that is, the length in the radial direction of the rotor RT, is equal to the chamfered length at appropriate intervals, that is, The amount of fluid leaked from the high pressure side to the low pressure side of the vane VA can be reduced and the motor efficiency can be improved.

更に、本第1実施例のベーン式回転流体機械
は、ベーンVAにより区画される2つのベーン室
の低圧側のベーン室を構成するロータ外周面13
の側端角部14にベーンVAから適宜の間隔を置
いて面取りを形成したので、高圧ポート11aお
よび11bからベーン室に流体が流入する際にお
いて、ベーンVAの前面側に流入する流体に抵抗
を与える様にしたので、ベーンVAの前面側に作
用する油圧力の上昇を低減でき、モータ効率を向
上することができる。
Furthermore, the vane type rotary fluid machine of the first embodiment has a rotor outer circumferential surface 13 constituting the vane chamber on the low pressure side of the two vane chambers partitioned by the vane VA.
Since a chamfer is formed on the side end corner 14 at an appropriate distance from the vane VA, when fluid flows into the vane chamber from the high-pressure ports 11a and 11b, there is resistance to the fluid flowing into the front side of the vane VA. This makes it possible to reduce the increase in hydraulic pressure acting on the front side of the vane VA and improve motor efficiency.

また、ロータ外周面側端角部14への面取り
は、一行程による直線的な切削により形成するの
で、加工が容易である。
Further, the chamfering of the end corner 14 of the outer peripheral surface of the rotor is formed by linear cutting in one stroke, so that machining is easy.

以下、本考案の第1の態様に属する第2実施例
のベーン式回転流体機械を第5図ないし第7図を
用いて説明する。
Hereinafter, a vane type rotary fluid machine according to a second embodiment of the first aspect of the present invention will be explained with reference to FIGS. 5 to 7.

本第2実施例のベーン式回転流体機械は、本考
案を可変容量形のベーンポンプに適用し、ベーン
により区画される2つのベーン室の低圧側のベー
ン室の構成するロータ外周面の側端角部にベーン
溝から適宜の間隔を置いて円周方向上で面取り量
が一様である様にかつ縦断面を見た場合端部が或
る曲率の円弧で構成した面取りを施したことを特
徴とするものである。
The vane type rotary fluid machine of the second embodiment applies the present invention to a variable displacement vane pump, and the side end angle of the outer circumferential surface of the rotor constituting the vane chamber on the low pressure side of two vane chambers partitioned by vanes. The vane groove is chamfered at an appropriate distance from the vane groove so that the amount of chamfering is uniform in the circumferential direction, and the end portion is chamfered with an arc of a certain curvature when viewed in longitudinal section. That is.

以下に、第2実施例のベーン式回転流体機械の
構成と作用効果について第1実施例との相違点を
中心に詳述する。
Below, the configuration and effects of the vane type rotary fluid machine of the second embodiment will be explained in detail, focusing on the differences from the first embodiment.

本第2実施例のベーン式回転流体機械は、先づ
ハウジングHA内に打ち込まれた軸受(図示せ
ず)によつて回転可能に駆動軸DSが軸支され
る。次に、該駆動軸DSに駆動されるべく連結さ
れかつ駆動軸DSと同軸に配し駆動軸DSと一体に
回転するロータRTと、その周囲の真円形状のカ
ムリングCRが配設される。カムリングCRは、押
し棒PRを介してバネ81の調整により位置を変
えられる。また、スラストブロツクTBは、カム
リングCRの上下方向の移動を防ぐと共にその左
右への移動を滑らかにするために設けられる。
In the vane type rotary fluid machine of the second embodiment, the drive shaft DS is rotatably supported by a bearing (not shown) driven into the housing HA. Next, a rotor RT connected to be driven by the drive shaft DS, disposed coaxially with the drive shaft DS, and rotating integrally with the drive shaft DS, and a perfectly circular cam ring CR surrounding the rotor RT are disposed. The position of the cam ring CR can be changed by adjusting the spring 81 via the push rod PR. Further, the thrust block TB is provided to prevent the cam ring CR from moving in the vertical direction and to smoothen its movement from side to side.

ロータRTのベーン溝26には、放射状に複数
個のベーンVAが配設され、これらベーンVAは、
ベーンVAに作用する回転遠心力と油留溝29に
導いたポンプ吐出圧によるベーン底部27に作用
する油圧力によりカムリングCRの内周面に接す
る位置まで摺動し、ベーン先端28がカムリング
内周面30に沿つてロータRTと共に回動する。
A plurality of vanes VA are arranged radially in the vane groove 26 of the rotor RT, and these vanes VA are
Due to the rotational centrifugal force acting on the vane VA and the hydraulic pressure acting on the vane bottom 27 due to the pump discharge pressure guided to the oil sump groove 29, the vane tip 28 slides to a position touching the inner circumferential surface of the cam ring CR, and the vane tip 28 is moved to the inner circumference of the cam ring. It rotates along the plane 30 together with the rotor RT.

ロータRTは、ベーンVAにより区画される2つ
のベーン室の低圧側のベーン室を構成するロータ
外周面23の側端角部24にベーンVAから適宜
の間隔を置いて、第7図に示す如く円周方向上で
面取量が一様である様に円周に沿つてかつ縦断面
を見た場合端部が或る曲率の円弧で構成されてい
る形状に面取りを形成したもので、該面取りは、
フライス盤のエンドミル工具をロータ外周面側端
角部の被面取部にあてて直線にしかも端面が曲率
を形成する様に移動させることにより行なつた。
The rotor RT is arranged at an appropriate distance from the vane VA at the side end corner 24 of the rotor outer peripheral surface 23 that constitutes the low-pressure side vane chamber of the two vane chambers partitioned by the vane VA, as shown in FIG. A chamfer is formed so that the amount of chamfering is uniform in the circumferential direction, and the end is formed by an arc of a certain curvature when viewed along the circumference and in a longitudinal section. The chamfer is
This was done by applying the end mill tool of a milling machine to the chamfered portion of the end corner of the outer peripheral surface of the rotor and moving it in a straight line so that the end surface formed a curvature.

カムリング内周面30は、ロータRTの外周面
より大きな内径の円周面で構成され、その軸心位
置をロータRTのそれに対して移動させることに
よりロータRTとの距離が回転に伴つて変化する
様に形成自在で、これによりロータRTと隣り合
う2つのベーン、カムリングCR、サイドプレー
ト(図示せず)により形成される空間即ちベーン
室25の容積を駆動軸DSの1回転につき1回ず
つ圧縮と膨張を繰り返す様になつている。そし
て、膨張行程の途中のベーン室と連通する位置の
サイドプレートに吸込ポートを、また圧縮行程の
途中のベーン室と連通する位置のサイドプレート
に吐出ポートを設け、ベーン室25は、膨張行程
において吸込ポートに開口して流体を吸込ポート
から吸込み、圧縮行程においては、吐出ポートに
開口してベーン室内の流体を吐出す。
The cam ring inner circumferential surface 30 is composed of a circumferential surface having an inner diameter larger than the outer circumferential surface of the rotor RT, and by moving its axis position relative to that of the rotor RT, the distance from the rotor RT changes as the cam ring rotates. As a result, the volume of the space formed by the rotor RT, the two adjacent vanes, the cam ring CR, and the side plate (not shown), that is, the vane chamber 25, is compressed once per rotation of the drive shaft DS. It seems to be expanding repeatedly. A suction port is provided in the side plate at a position communicating with the vane chamber in the middle of the expansion stroke, and a discharge port is provided in the side plate at a position communicating with the vane chamber in the middle of the compression stroke. It opens to the suction port to suck in fluid from the suction port, and in the compression stroke, opens to the discharge port to discharge the fluid in the vane chamber.

以上の様にして、本第2実施例のベーン式回転
流体機械は、上述した第1の態様の作用効果を奏
する他に、ロータ外周面23の側端角部24に円
周方向上で面取量が一様である様に面取りを施し
たので、ロータRTが回転しても吸込ポートとベ
ーン室25との間における流体の流入面積が変化
せず、流入量が一定となり、ポンプ効率を向上す
ることができる。
As described above, the vane type rotary fluid machine of the second embodiment not only achieves the effects of the first aspect described above, but also has a surface on the side end corner 24 of the rotor outer peripheral surface 23 in the circumferential direction. Since the chamfer is applied so that the intake amount is uniform, the inflow area of the fluid between the suction port and the vane chamber 25 does not change even when the rotor RT rotates, and the inflow amount remains constant, improving pump efficiency. can be improved.

また、ロータ外周面23の側端角部24におけ
る面取りを、縦断面を見た場合端部が或る曲率の
円孤で構成されている形状としたので、流入ポー
トおよび流出ポートとベーン室との間の流体の流
れがなめらかで容易となり、縮流が緩和され、体
積効率を向上することができ、またキヤビテーシ
ヨン防止の効果も奏し、ポンプ効率を向上するこ
とができる。
In addition, the chamfering at the side end corners 24 of the rotor outer circumferential surface 23 is shaped so that the end is an arc of a certain curvature when viewed in longitudinal section, so that the inflow port, outflow port, and vane chamber are The flow of fluid between the pumps becomes smooth and easy, the contraction of flow is alleviated, and the volumetric efficiency can be improved. Also, the effect of preventing cavitation can be achieved, and the pump efficiency can be improved.

以下、本考案の第2の態様に属する第3実施例
のベーン式回転流体機械を第8図および第9図を
用いて説明する。
Hereinafter, a vane type rotary fluid machine according to a third embodiment of the second aspect of the present invention will be described with reference to FIGS. 8 and 9.

本第3実施例のベーン式回転流体機械は、本考
案を定容量形のベーンポンプに適用し、ベーンに
より区画される2つのベーン室を構成するロータ
外周面の側端角部の隣り合うベーン溝から適宜の
間隔を置いた中央部を円形に切削して面取りを施
すことを特徴とするものである。
The vane-type rotary fluid machine of the third embodiment applies the present invention to a constant-displacement vane pump, and has vane grooves adjacent to each other at the side end corners of the outer circumferential surface of the rotor, which constitute two vane chambers partitioned by vanes. The feature is that the center portion is cut circularly and chamfered at appropriate intervals.

以下に、本第3実施例のベーン式回転流体機械
の構成と作用効果について前述した実施例との相
違点を中心に詳述する。
Below, the configuration and effects of the vane type rotary fluid machine of the third embodiment will be explained in detail, focusing on the differences from the above-mentioned embodiments.

本第3実施例のベーン式回転流体機械は、ロー
タRTの外周壁には放射状に8個のベーン摺動用
のベーン溝36を配設する。
In the vane type rotary fluid machine of the third embodiment, eight vane grooves 36 for sliding the vanes are arranged radially on the outer peripheral wall of the rotor RT.

ロータRTには、第8図および第9図に示する
如く、ロータ外周面33の側端角部34のベーン
溝36から両側に適宜の間隔を置いた中央部に、
フライス盤の円筒面に刃を形成した工具を押しあ
て円孤状に切削し、縦断面から見た場合切削端部
が直線に面取りを形成する。
As shown in FIGS. 8 and 9, the rotor RT has a central portion located at an appropriate interval on both sides from the vane groove 36 of the side end corner 34 of the rotor outer circumferential surface 33.
A tool with a blade formed on the cylindrical surface of a milling machine is pressed against the cylindrical surface of the milling machine to cut it into a circular arc shape, and when viewed from a longitudinal section, the cutting edge forms a straight chamfer.

以上の様にして、本第3実施例のベーン式回転
流体機械は、ロータ外周面33の側端角部34に
ベーンの両側に適宜の間隔を置いて面取りを施し
たので、ベーン溝36の最外周のロータ軸方向の
長さ、すなわちベーンの高圧側から低圧側への流
体の圧力を受けるベーンの支持幅が面取りに影響
されず、ロータ外周面の最外周部全周面にわたる
面取りを施した従来例に比して支持幅が増加する
ので、ベーンVAのロータ支持幅の線圧を低くし
てロータRTのベーン溝36におけるベーンVAの
摺動抵抗が減少し、ベーンVAのカムリング内周
面への不連続な追従を防止して圧力脈動及び振
動・騒音等を低減でき、ポンプ効率を向上するこ
とができる。
As described above, in the vane-type rotary fluid machine of the third embodiment, the side end corners 34 of the rotor outer peripheral surface 33 are chamfered at appropriate intervals on both sides of the vane, so that the vane grooves 36 are chamfered. The length of the outermost circumference in the axial direction of the rotor, that is, the support width of the vane that receives the pressure of the fluid from the high pressure side to the low pressure side of the vane, is not affected by the chamfering, and the chamfering is applied to the entire outermost circumferential surface of the rotor outer circumferential surface. Since the support width is increased compared to the conventional example, the linear pressure of the rotor support width of the vane VA is lowered, the sliding resistance of the vane VA in the vane groove 36 of the rotor RT is reduced, and the inner circumference of the cam ring of the vane VA is reduced. It is possible to prevent discontinuous tracking to the surface, reduce pressure pulsations, vibrations, noise, etc., and improve pump efficiency.

また、ロータ外周面33の側端角部34にベー
ン溝36の両側に適宜の間隔を置いて面取りを施
したので、ベーンVAの側壁におけるシールの長
さつまりロータ半径方向上の長さが適宜の間隔を
置いて面取りした分だけ減少し、ベーンVAの片
側のみに適宜の間隔を置いて面取りを設けた場合
に比し、より一層ベーンVAの高圧側から低圧側
への流体の漏れ量が減少し、ポンプ効率を向上す
ることができる。
In addition, since the side end corners 34 of the rotor outer peripheral surface 33 are chamfered at appropriate intervals on both sides of the vane groove 36, the length of the seal on the side wall of the vane VA, that is, the length in the rotor radial direction, can be adjusted appropriately. The amount of fluid leaking from the high-pressure side of the vane VA to the low-pressure side is reduced by the amount of chamfering at intervals of can be reduced and pump efficiency improved.

更に、ロータ外周面33の側端角部34にベー
ン溝36の両側に適宜の間隔を置いて面取りを施
したので、ベーンVAの高圧側から低圧側への流
体の圧力を受けるベーンVAの面積がロータ外周
面33の側端角部34の全周面にわたつて面取り
した場合に比して、ベーンVAの高圧側に適宜の
間隔を置いた分だけ減少し、ベーンVAの摺動抵
抗が減少してベーンVAのカムリング内周面への
不連続な追従を防止でき、ポンプ効率を向上する
ことができる。
Furthermore, since the side end corners 34 of the rotor outer peripheral surface 33 are chamfered at appropriate intervals on both sides of the vane groove 36, the area of the vane VA that receives the pressure of the fluid from the high pressure side to the low pressure side of the vane VA is reduced. Compared to the case where the entire circumferential surface of the side end corner 34 of the rotor outer circumferential surface 33 is chamfered, it is reduced by an appropriate distance on the high pressure side of the vane VA, and the sliding resistance of the vane VA is reduced. This can prevent the vane VA from discontinuously following the inner peripheral surface of the cam ring, and can improve pump efficiency.

また、ロータ外周面33の側端角部34に面取
りを施したので、吸込ポート及び吐出ポートとベ
ーン室との間における流体の流出入が容易となり
体積効率を向上することができ、キヤビテーシヨ
ン防止の効果も奏し、ポンプ効率を向上すること
ができる。
In addition, since the side end corners 34 of the rotor outer circumferential surface 33 are chamfered, fluid can easily flow in and out between the suction port, the discharge port, and the vane chamber, improving volumetric efficiency, and preventing cavitation. It is also effective, and pump efficiency can be improved.

また本第2の態様は、ベーン溝の両側に面取り
を形成したい領域を形成するので、ポンプを正・
逆回転させても、同様の作用効果を得る。
In addition, in this second aspect, since regions where chamfering is desired are formed on both sides of the vane groove, the pump can be
Even if the rotation is reversed, the same effect can be obtained.

更に、ロータ外周面33の側端角部34への面
取りは、ベーンVAの両側に適宜の間隔を置いて
フライス盤の円筒面に刃を形成した工具を押しあ
てて切削するので、面取り作業が容易である。
Further, the chamfering of the side end corners 34 of the rotor outer circumferential surface 33 is performed by pressing a tool with a blade formed on the cylindrical surface of a milling machine at appropriate intervals on both sides of the vane VA, making the chamfering work easy. It is.

以下、本考案第2の態様に属する第4実施例の
ベーン式回転流体機械を第10図ないし第12図
を用いて説明する。
A vane type rotary fluid machine according to a fourth embodiment of the second aspect of the present invention will be described below with reference to FIGS. 10 to 12.

本第4実施例のベーン式回転流体機械は、本考
案を可変容量形のベーンモータに適用し、ベーン
により区画される2つのベーン室を構成するロー
タ外周面の側端角部の隣り合うベーン溝から適宜
の間隔を置いた中央部を直線的に切削して面取り
を形成することを特徴とするものである。
The vane type rotary fluid machine of the fourth embodiment applies the present invention to a variable displacement vane motor, and has adjacent vane grooves at the side end corners of the rotor outer peripheral surface that constitute two vane chambers partitioned by the vanes. It is characterized by forming chamfers by linearly cutting the central portion at appropriate intervals.

以下に、本第4実施例のベーン式回転流体機械
の構成と作用効果について前述した実施例との相
違点を中心に説明する。
The configuration and effects of the vane-type rotary fluid machine according to the fourth embodiment will be explained below, focusing on the differences from the above-mentioned embodiments.

本第4実施例のベーン式回転流体機械は、先づ
ハウジングHA内に打ち込まれた玉軸受BRに依つ
て回転可能に駆動軸DSが軸支されている。サイ
ドプレートSPと、カバープレートCPの間に挾ま
れて、駆動軸DSに駆動されるべく連結されかつ
駆動軸DSと同軸に配した駆動軸DSと一体に回転
するロータRTと、その周囲のカムリングCRとが
配設されている。カムリングCRは内周面50に
作用する油圧力によつて上方に押し上げられ、調
節ねじ82の端面83に押し付けられると共に、
左方にはスプリング(図示せず)によるバネ力が
作用し、右方にはカムリングの位置を制御してロ
ータRTおよび駆動軸DSの回転数を制御するピス
トン(図示せず)が当接している。
In the vane type rotary fluid machine of the fourth embodiment, a drive shaft DS is rotatably supported by a ball bearing BR driven into a housing HA. The rotor RT is sandwiched between the side plate SP and the cover plate CP, is connected to be driven by the drive shaft DS, and rotates together with the drive shaft DS, which is arranged coaxially with the drive shaft DS, and the cam ring surrounding it. CR is provided. The cam ring CR is pushed upward by the hydraulic pressure acting on the inner circumferential surface 50 and is pressed against the end surface 83 of the adjusting screw 82.
A spring force (not shown) acts on the left side, and a piston (not shown) that controls the position of the cam ring and the rotation speed of the rotor RT and drive shaft DS is in contact with the right side. There is.

ロータRTのベーン溝46には、放射状に4個
のベーンVAが配設され、これらベーンの底部4
7には、ガイドリング(図示せず)が配され、常
時ベーンVAがカムリングCAの内周面50に接す
る位置まで摺動し、ベーン先端48がカムリング
内周面50に沿つてロータRTとともに回転す
る。
Four vanes VA are arranged radially in the vane groove 46 of the rotor RT, and the bottom 4 of these vanes
A guide ring (not shown) is disposed at 7, and the vane VA always slides to a position where it touches the inner circumferential surface 50 of the cam ring CA, and the vane tip 48 rotates along the inner circumferential surface 50 of the cam ring together with the rotor RT. do.

ロータRTは、ベーンVAにより区画される2つ
のベーン室を構成するロータ外周面43の側端角
部44にベーン溝46から適宜の間隔を置いて第
12図に示す如く縦断面を見た場合端部が或る曲
率の円孤で構成されている様に、ベーンVA間の
中間部分にフライス盤で外周面に刃のついた円筒
状の工具を曲線状にスライドさせて平面を形成す
るように切削して面取りをした。
When the rotor RT is viewed in longitudinal section as shown in FIG. 12 with an appropriate distance from the vane groove 46 at the side end corner 44 of the rotor outer circumferential surface 43 that constitutes two vane chambers partitioned by the vane VA. A cylindrical tool with a cutting edge on the outer circumferential surface is slid in a curved shape using a milling machine to form a flat surface in the middle part between the vanes VA so that the end part is composed of an arc with a certain curvature. I cut and chamfered it.

カムリング内周面50は、ロータRTとの距離
が回転に伴つて変化する様に形成され、これによ
りロータRTと隣り合う2枚のベーン、カムリン
グCR、サイドプレートSPおよびカバープレート
CPにより形成される空間すなわちベーン室の容
積を駆動軸DSの1回転につき1回ずつ膨張と圧
縮を繰り返すようになつている。
The cam ring inner circumferential surface 50 is formed so that the distance from the rotor RT changes as it rotates.
The volume of the space formed by the CP, that is, the vane chamber, is expanded and compressed repeatedly once per rotation of the drive shaft DS.

以下、本実施例の油圧回路について第10図に
基づいて説明する。
Hereinafter, the hydraulic circuit of this embodiment will be explained based on FIG. 10.

サイドプレートSPおよびカバープレートCPに
は、AポートAP1およびAP2とBポートBP1
およびBP2が設けられている。油圧供給装置8
4からの圧力油を電磁弁85によつてPライン
PLとXラインXLを連通させると、圧力油はXラ
インXLを通り流入出口FB1からAポートAP1
およびAP2に供給される。ベーン室は、膨張行
程において、PラインPLとXラインXLを連通さ
せることによつて高圧ポートとなつているAポー
トAP1およびAP2に開口して流体をAポート
AP1およびAP2から受け、ベーン背面に作用す
る流体力によつてロータRTが回転し、圧縮行程
においては、低圧ポートとなつているBポート
BP1およびBP2に開口してベーン室内の低圧流
体を出す。それにより、ロータRTおよび駆動軸
DSはM方向に回転させられる。
Side plate SP and cover plate CP have A ports AP1 and AP2 and B port BP1.
and BP2 are provided. Hydraulic supply device 8
Pressure oil from 4 is connected to P line by solenoid valve 85.
When PL and X line XL are connected, pressure oil passes through X line XL and flows from inlet port FB1 to A port AP1.
and is supplied to AP2. During the expansion stroke, the vane chamber opens to A ports AP1 and AP2, which are high-pressure ports by communicating P line PL and X line XL, and supplies fluid to A port.
The rotor RT rotates due to the fluid force received from AP1 and AP2 and acts on the back surface of the vane, and during the compression stroke, the B port serves as a low pressure port.
Opens in BP1 and BP2 to let out the low pressure fluid in the vane chamber. Thereby, rotor RT and drive shaft
DS is rotated in the M direction.

他方、電磁弁85によつてPラインPLとYラ
インYLを連通させると、圧力油は流出入口FB2
からBポートBP1およびBP2に供給されてロー
タRTおよび駆動軸DSをN方向に回転させ、低圧
ポートとなつているAポートAP1およびAP2か
ら流出入口FB1を経て油槽86へ戻る。
On the other hand, when the P line PL and the Y line YL are communicated by the solenoid valve 85, the pressure oil flows through the outflow port FB2.
The oil is supplied to the B ports BP1 and BP2 to rotate the rotor RT and the drive shaft DS in the N direction, and returns to the oil tank 86 from the A ports AP1 and AP2, which are low pressure ports, through the inlet and outlet FB1.

以上の様にして、本第4実施例のベーン式回転
流体機械は、上述した第2の態様の作用効果を奏
しモータ効率を向上させるほか、以下の様な作用
効果をも有する。
As described above, the vane type rotary fluid machine of the fourth embodiment not only achieves the effects of the second aspect described above and improves motor efficiency, but also has the following effects.

本第4実施例のベーン式回転流体機械は、ロー
タ外周面43の側端角部44の両側に直線的な面
取りを施したので、ロータの回転に対しポートと
ベーン室との連通面積が急激に変化しないためA
ポートおよびBポートとベーン室との間の流体の
流出入の変動がなめらかになりモータ効率を向上
することができる。
In the vane-type rotary fluid machine of the fourth embodiment, since both sides of the side corner portions 44 of the rotor outer circumferential surface 43 are chamfered linearly, the communication area between the port and the vane chamber sharply increases as the rotor rotates. A because it does not change to
Fluctuations in fluid flow between the port and the B port and the vane chamber are smoothed, and motor efficiency can be improved.

また、ロータ外周面43の側端角部44への面
取りは、上述の如くフライス盤にて一行程で切削
できるので面取り作業が容易である。
Further, the chamfering of the side end corners 44 of the rotor outer circumferential surface 43 can be done in one stroke with a milling machine as described above, so that the chamfering work is easy.

更に、本実施例のベーン式回転流体機械は、回
転方向を制御できるベーンモータであるが、ベー
ン溝46の両側に適宜の間隔を置いて面取りを施
したので、回転方向が変化しても上述の第2の態
様の作用効果を同様に奏し得る。
Furthermore, although the vane type rotary fluid machine of this embodiment is a vane motor that can control the rotation direction, since the vane grooves 46 are chamfered at appropriate intervals on both sides, even if the rotation direction changes, the above-mentioned effect can be maintained. The effects of the second aspect can be achieved similarly.

以下、本考案の第2の態様に属する第5実施例
のベーン式回転流体機械を第13図ないし第15
図を用いて説明する。
Hereinafter, a vane-type rotary fluid machine according to a fifth embodiment of the second aspect of the present invention will be illustrated in FIGS. 13 to 15.
This will be explained using figures.

本第5実施例のベーン式回転流体機械は、本考
案を定容量形のベーンポンプに適用し、ベーンに
より区画される2つのベーン室を構成するロータ
外周面の側端角部にベーンから適宜の間隔を置い
て円周方向上で面取り量が一様である様にかつ縦
断面を見た場合端部が成る曲率の円孤で構成した
面取りを施したことを特徴とするものである。
The vane-type rotary fluid machine of the fifth embodiment applies the present invention to a constant displacement vane pump, and provides suitable airflow from the vanes to the side end corners of the outer circumferential surface of the rotor, which constitute two vane chambers partitioned by the vanes. The chamfer is characterized in that the amount of chamfering is uniform in the circumferential direction at intervals, and the chamfering is formed by an arc of curvature at the end when viewed in longitudinal section.

以下に、本第5実施例のベーン式回転流体機械
の構成と作用効果について、前述した実施例との
相違点を中心に詳述する。
Below, the configuration and effects of the vane type rotary fluid machine of the fifth embodiment will be explained in detail, focusing on the differences from the above-mentioned embodiments.

本第5実施例のベーン式回転流体機械は、先づ
ハウジングHAは中空円筒部材からなり、ハウジ
ングHAは大径部HA1および小径部HA2を有す
る。ハウジングHAの小径部HA2は、平軸受BR
および駆動軸DSを有し、ハウジングHA内に打ち
込まれた平軸受BRによつて回転可能に駆動軸DS
が軸支されている。ハウジングHAの大径部HA
1は、ロータRTとベーンVA、カムリングCR、
サイドプレートSP1およびSP2、平行ピンPP、
スプリングSRおよび外蓋OC等を有する。
In the vane type rotary fluid machine of the fifth embodiment, first, the housing HA is made of a hollow cylindrical member, and the housing HA has a large diameter portion HA1 and a small diameter portion HA2. The small diameter part HA2 of the housing HA is a plain bearing BR.
and a drive shaft DS, which can be rotated by a flat bearing BR driven into the housing HA.
is pivoted. Large diameter part HA of housing HA
1 is rotor RT, vane VA, cam ring CR,
Side plates SP1 and SP2, parallel pin PP,
Includes spring SR and outer cover OC.

サイドプレートSP1およびSP2の間に挟まれ
て、駆動軸DSに駆動されるべくスプライン結合
されかつ駆動軸DSと同軸に配し駆動軸DSと一体
に回転するロータRTと、その周囲にベーンの往
復運動を規制する案内輪としてのカムリングCR
とが配設されている。カムリングCRとサイドプ
レートSP1およびSP2とは、2本の共通な平行
ピンPPによりハウジングHAに対して回転しない
様な状態で組込まれている。
A rotor RT is sandwiched between side plates SP1 and SP2, spline-coupled to be driven by the drive shaft DS, arranged coaxially with the drive shaft DS, and rotates together with the drive shaft DS, and a reciprocating vane around the rotor RT. Cam ring CR as a guide wheel that regulates movement
and are provided. The cam ring CR and the side plates SP1 and SP2 are assembled in a non-rotatable manner relative to the housing HA by two common parallel pins PP.

ロータRTのベーン溝56には、放射状に8個
のベーンVAが配設され、これらベーンVAは、ベ
ーンVAに作用する回転遠心力と油溜溝59に導
いたポンプ吐出圧によるベーン底部57に作用す
る油圧力によりカムリングCRの内周面60に接
する位置まで摺動し、ベーン先端58がカムリン
グ内周面60に沿つてロータRTと共に回転す
る。
Eight vanes VA are arranged radially in the vane groove 56 of the rotor RT, and these vanes VA are caused by the rotational centrifugal force acting on the vanes VA and the pump discharge pressure led to the oil sump groove 59 to cause the vane bottom 57 to The applied hydraulic pressure causes the vane tip 58 to slide to a position where it contacts the inner circumferential surface 60 of the cam ring CR, and the vane tip 58 rotates along the cam ring inner circumferential surface 60 together with the rotor RT.

ロータRTは、ベーンVAにより区画される2つ
のベーン室を構成するロータ外周面53の側端角
部54にベーン溝56から低圧側に1mmの、高圧
側に2mmの間隔を置いて円周方向上で面取量H=
5mmで一様である様にかつ縦断面を見た場合端部
が或る曲率の円孤で面取りを形成し、該面取は、
フライス盤のエンドミル工具をロータ外周面53
の側端角部54の被面取部にあてて直線にしかも
端面が曲率を形成する様に移動させながら切削す
ることにより行なつた。
The rotor RT is circumferentially spaced from a vane groove 56 by 1 mm on the low pressure side and 2 mm on the high pressure side at a side end corner 54 of the rotor outer peripheral surface 53 that constitutes two vane chambers partitioned by the vane VA. Chamfer amount H=
A chamfer is formed so that it is uniform at 5 mm, and the end is an arc of a certain curvature when viewed in a longitudinal section, and the chamfer is
The end mill tool of the milling machine is attached to the rotor outer peripheral surface 53.
This was done by applying the cut to the chamfered portion of the side end corner 54 of the cutter and cutting it in a straight line while moving it so that the end face formed a curvature.

カムリング内周面60は、ロータRTとの距離
が回転に伴つて変化する様に形成され、これによ
りロータRTと隣り合う2つのベーン、カムリン
グCR、サイドプレートSP1およびSP2により形
成される空間すなわちベーン室の容積を駆動軸
DSの1回転につき2回ずつ圧縮と膨張を繰り返
す様になつている。そして、膨張行程の途中のベ
ーン室と連通する位置のサイドプレートSP1お
よびSP2の吸込ポート51aおよび51bを、
また圧縮行程の途中のベーン室と連通する位置の
サイドプレートSP1に吐出ポート52を設け、
ベーン室は膨張行程に於いて吸込ポートに開口し
て流体を吸込ポートから吸込み、圧縮行程に於い
ては吐出ポートに開口してベーン室内の流体を吐
出される。
The cam ring inner circumferential surface 60 is formed so that the distance from the rotor RT changes as it rotates, and thereby the space formed by the rotor RT and the two adjacent vanes, the cam ring CR, and the side plates SP1 and SP2, that is, the vane. Shaft driving chamber volume
Compression and expansion are repeated twice per rotation of the DS. Then, the suction ports 51a and 51b of the side plates SP1 and SP2, which are in communication with the vane chamber in the middle of the expansion stroke, are
In addition, a discharge port 52 is provided on the side plate SP1 at a position communicating with the vane chamber in the middle of the compression stroke.
During the expansion stroke, the vane chamber opens to the suction port to suck in fluid from the suction port, and during the compression stroke, the vane chamber opens to the discharge port to discharge the fluid in the vane chamber.

サイドプレートSP1は、外蓋OCとの間に挾み
込んだスプリングSPに依つて常にカムリングCR
の側面に押付けられ、更にサイドプレートSP1
の側面には吐出圧力が作用し、ベーン室の気密が
保持される。
The side plate SP1 is always connected to the cam ring CR by the spring SP inserted between the outer cover OC.
is pressed against the side of the side plate SP1.
Discharge pressure acts on the side surfaces of the vane chamber to maintain airtightness of the vane chamber.

ハウジングHAには、吸込口FIと吐出口FOと
があり、それぞれ吸込ポート51aおよび51b
と吐出ポート52に連通される。
The housing HA has a suction port FI and a discharge port FO, which are suction ports 51a and 51b, respectively.
and is communicated with the discharge port 52.

以上の様にして、本第5実施例のベーン式回転
流体機械は、ロータ外周面53の側端角部54に
ベーンVAの両側に適宜の間隔を置いて面取りを
施したので、ロータRTのベーン溝56の最外周
の軸方向の長さすなわちベーンの高圧側から低圧
側への圧力を受けるベーンVAの支持幅が面取り
に影響されず、全周面に渡る面取りを施した従来
例に比して支持幅が増加するので、ベーン溝56
におけるベーンVAの摺動抵抗が減少し、ベーン
VAのカムリング内周面60への不連続な追従を
防止して、流体の洩れや圧力脈動及び振動・騒音
等を低減でき、機械効率を向上させ、延いてはポ
ンプ効率を向上させることができる。
As described above, in the vane type rotary fluid machine of the fifth embodiment, the side end corners 54 of the rotor outer peripheral surface 53 are chamfered at appropriate intervals on both sides of the vane VA, so that the rotor RT The axial length of the outermost circumference of the vane groove 56, that is, the support width of the vane VA that receives pressure from the high-pressure side to the low-pressure side of the vane, is not affected by the chamfer, compared to the conventional example in which the entire circumferential surface is chamfered. Since the support width increases, the vane groove 56
The sliding resistance of the vane VA is reduced, and the vane
By preventing VA from discontinuously following the cam ring inner peripheral surface 60, it is possible to reduce fluid leakage, pressure pulsation, vibration, noise, etc., and improve mechanical efficiency, which in turn improves pump efficiency. .

また、本第5実施例のベーン式回転流体機械
は、ロータ外周面53の側端角部54にベーン
VAの両側から適宜の間隔を置いて面取りを施し
たので、ベーンVAの側壁に於けるシールの長さ
つまりロータRTの半径方向上の長さが適宜の間
隔を置いて面取りした分だけ減少し、ベーンVA
の片側のみに適宜の間隔を置いて面取りを設けた
場合よりも、一層ベーンVAの高圧側から低圧側
への流体の漏れ量が減少し、体積効率をより向上
でき、延いてはポンプ効率をより向上させること
ができる。
In addition, the vane type rotary fluid machine of the fifth embodiment has vanes at the side end corners 54 of the rotor outer circumferential surface 53.
Since the chamfers are placed at appropriate intervals from both sides of the VA, the length of the seal on the side wall of the vane VA, that is, the length in the radial direction of the rotor RT, is reduced by the chamfers at appropriate intervals. , Vane VA
Compared to the case where chamfers are provided at appropriate intervals on only one side of the vane, the amount of fluid leaking from the high-pressure side to the low-pressure side of the vane VA is further reduced, which further improves volumetric efficiency, which in turn increases pump efficiency. It can be further improved.

更に、本第5実施例のベーン式回転流体機械
は、ロータ外周面53の側端角部54にベーン
VAの両側に適宜の間隔を置いて面取りを施した
ので、ベーンVAの高圧側から低圧側への流体圧
力を受けるベーンVAの面積がロータ外周面53
の側端角部54の全周面に渡つて面取りした場合
に比して、ベーンVAの高圧側に適宜の間隔を置
いた部分だけ減少し、ベーンVAの摺動抵抗が減
少してベーンVAのカムリング内周面60への不
連続な追従を防止でき、機械効率を向上させ、延
いてはポンプ効率を向上することができる。
Furthermore, the vane type rotary fluid machine of the fifth embodiment has vanes at the side end corners 54 of the rotor outer circumferential surface 53.
Since chamfering is performed at appropriate intervals on both sides of the vane VA, the area of the vane VA that receives fluid pressure from the high pressure side to the low pressure side of the vane VA is reduced to the rotor outer peripheral surface 53.
Compared to the case where the entire circumferential surface of the side end corner portion 54 is chamfered, only a portion placed at an appropriate interval on the high pressure side of the vane VA is reduced, the sliding resistance of the vane VA is reduced, and the vane VA can be prevented from discontinuously following the cam ring inner circumferential surface 60, improving mechanical efficiency and, by extension, pump efficiency.

また、本第5実施例のベーン式回転流体機械
は、ロータ外周面53の側端角部54に円周方向
上で面取量が一様である様に面取りを施したの
で、面取りを形成した領域内でロータRTが回転
しても吸込ポート51aおよび51bとベーン室
との間における流体の流入面積が変化せず流入量
が一定となり、ポンプ効率を向上することができ
る。
In addition, in the vane type rotary fluid machine of the fifth embodiment, the side end corners 54 of the rotor outer circumferential surface 53 are chamfered so that the amount of chamfering is uniform in the circumferential direction. Even if the rotor RT rotates within this region, the inflow area of the fluid between the suction ports 51a and 51b and the vane chamber does not change, and the inflow amount remains constant, making it possible to improve pump efficiency.

また、ロータ外周面53の側端角部54におけ
る面取りを、縦断面を見た場合端部が或る曲率の
円孤で構成されている形状としたので、吸込ポー
ト51a,51bおよび吐出ポート52とベーン
室との間の流体の流入出が滑らかになり、流れの
剥離や縮流が緩和され、体積効率を向上すること
ができ、またキヤビテーシヨン防止の効果も奏
し、ポンプ効率を向上することができる。
Further, since the chamfering at the side end corners 54 of the rotor outer circumferential surface 53 is shaped so that the end is constituted by an arc of a certain curvature when viewed in a longitudinal section, the suction ports 51a, 51b and the discharge port 52 The inflow and outflow of fluid between the vane chamber and the vane chamber becomes smooth, flow separation and contraction are alleviated, and volumetric efficiency can be improved.It also has the effect of preventing cavitation, and improves pump efficiency. can.

以下、本考案の第2の態様に属する第6実施例
のベーン式回転流体機械を第16図ないし第18
図を用いて説明する。
Hereinafter, the vane type rotary fluid machine of the sixth embodiment belonging to the second aspect of the present invention will be explained as shown in FIGS. 16 to 18.
This will be explained using figures.

本第6実施例のベーン式回転流体機械は、本考
案を定容量形のベーンポンプに適用し、吸込ポー
トはベーン室のロータ側の一方に連通する形状
で、ロータは、ベーンにより区画される2つのベ
ーン室を構成するロータ外周面の側端角部の吸込
ポートの配設されている側にベーン溝から適宜の
間隔を置いて円周方向上で面取り量が一様である
様にかつ縦断面を見た場合端面が「或る曲率の円
孤−直線−或る曲率の円孤」をなめらかに接続し
た形状に面取りを施したことを特徴とするもので
ある。
The vane type rotary fluid machine of the sixth embodiment applies the present invention to a constant displacement vane pump, the suction port is shaped to communicate with one side of the rotor side of the vane chamber, and the rotor is divided into two parts partitioned by vanes. The chamfer is placed at an appropriate distance from the vane groove on the side where the suction port is located at the side end corner of the rotor outer circumferential surface constituting the two vane chambers, so that the amount of chamfering is uniform in the circumferential direction and in the longitudinal direction. When viewed from the surface, the end face is chamfered in a shape that smoothly connects ``a circular arc of a certain curvature, a straight line, and a circular arc of a certain curvature.''

以下に、本第6実施例のベーン式回転流体機械
の構成と作用効果について詳述する。
Below, the configuration and effects of the vane type rotary fluid machine of the sixth embodiment will be explained in detail.

第6実施例のベーン式回転流体機械は、第5実
施例に於ける定容量形のベーンポンプと同様の構
成を持つので、同一の構成を持つ部分については
説明を省き、異なる部分について詳述することと
する。
The vane type rotary fluid machine of the sixth embodiment has the same configuration as the fixed displacement vane pump of the fifth embodiment, so the explanation of the parts having the same configuration will be omitted, and the different parts will be described in detail. That's it.

第6実施例のベーン式回転流体機械は、第16
図に示する如く、膨張行程の途中のベーン室と連
通する対称な位置に空孔部87を設け、吸込ポー
ト61を有するサイドプレートSP1側とサイド
プレートSP2側とにかかる圧力に差が生じない
様に構成した。
The vane type rotary fluid machine of the sixth embodiment is the 16th embodiment.
As shown in the figure, the air holes 87 are provided at symmetrical positions that communicate with the vane chamber in the middle of the expansion stroke, so that there is no difference in the pressure applied to the side plate SP1 side and the side plate SP2 side that have the suction port 61. It was configured like this.

ハウジングHAには、吸込口(図示せず)と吐
出口FOとがあり、それぞれ吸込ポート61と吐
出ポート(図示せず)に連通される。
The housing HA has a suction port (not shown) and a discharge port FO, which communicate with the suction port 61 and the discharge port (not shown), respectively.

ロータRTには、ベーンVAにより区画される2
つのベーン室を構成するロータ外周面63の側端
角部の吸込ポート61の配設されている側に、第
18図に示する如く、ベーン溝66から適宜の間
隔を置いて円周方向上で面取り量が一様である様
にかつ縦断面を見た場合端面が「或る曲率の円孤
−直線−或る曲率の円孤」をなめらかに接続した
形状に面取りを行うように予めプログラムした
NC制御フライス盤のエンドミル工具を信号に基
づき動作させて上記の如き形状に面取りを形成し
た。
The rotor RT has two
As shown in FIG. 18, on the side where the suction ports 61 are arranged at the side end corners of the rotor outer circumferential surface 63 constituting the two vane chambers, Program in advance so that the amount of chamfering is uniform and the end face is chamfered in a shape that smoothly connects "arc of a certain curvature - straight line - arc of a certain curvature" when looking at the longitudinal section. did
The end mill tool of the NC-controlled milling machine was operated based on signals to form a chamfer in the shape shown above.

以上の様にして、本第6実施例のベーン式回転
流体機械は、上述した第2の態様の作用効果を奏
する他に、以下の如き作用効果をも有する。
As described above, the vane type rotary fluid machine of the sixth embodiment has the following effects in addition to the effects of the second aspect described above.

本第6実施例のベーン式回転流体機械は、ロー
タ外周面63の側端角部に円周方向上で面取り量
が一様である様に面取りを施したので、ロータ
RTが回転しても吸込ポート61とベーン室との
間における流体の流入面積が変化せず、流入量が
一定となりポンプ効率を向上することができる。
In the vane type rotary fluid machine of the sixth embodiment, the side end corners of the rotor outer peripheral surface 63 are chamfered so that the amount of chamfering is uniform in the circumferential direction.
Even if the RT rotates, the inflow area of the fluid between the suction port 61 and the vane chamber does not change, and the inflow amount remains constant, thereby improving pump efficiency.

また、本第6実施例は、ロータ外周面63の側
端角部における面取りを、縦断面を見た場合端面
が円孤−直線−円孤を接続した形状にしたので、
吸込ポート61および吐出ポートとベーン室との
間の流体の流出入が一層滑らかで容易となり、流
れの剥離および縮流を緩和し、体積効率を向上す
ることができ、またキヤビテーシヨン防止の効果
も奏し、ポンプ効率を向上することができる。
Furthermore, in the sixth embodiment, the chamfering at the side end corners of the rotor outer circumferential surface 63 is made so that the end face has a shape that connects a circular arc, a straight line, and a circular arc when viewed in a longitudinal section.
Fluid flows in and out between the suction port 61 and the discharge port and the vane chamber more smoothly and easily, which alleviates flow separation and contraction, improves volumetric efficiency, and also prevents cavitation. , pump efficiency can be improved.

以下、本考案の第2の態様に属する第7実施例
のベーン式回転流体機械を第19図および第20
図を用いて説明する。
Hereinafter, a vane type rotary fluid machine according to a seventh embodiment of the second aspect of the present invention will be shown in FIGS. 19 and 20.
This will be explained using figures.

第7実施例のベーン式回転流体機械は、本考案
を定容量形のベーンポンプに適用し、ベーンによ
り区画される2つのベーン室を構成するロータ外
周面の側端角部にベーン溝から適宜の間隔を置い
て円周方向上で面取り量が一様である様に面取り
を形成し、そして適宜の間隔を置いたところから
ベーン溝までは徐々に面取り量を減少させ、ベー
ン溝に至るまでにロータ外周に接する様に面取り
を施したことを特徴とするものである。
The vane-type rotary fluid machine of the seventh embodiment applies the present invention to a constant displacement vane pump, and the vane groove is installed at the side end corner of the outer peripheral surface of the rotor, which constitutes two vane chambers partitioned by the vanes. Chamfers are formed at intervals so that the amount of chamfering is uniform in the circumferential direction, and the amount of chamfering is gradually decreased from the point where the appropriate interval is placed until reaching the vane groove. It is characterized by being chamfered so as to be in contact with the outer circumference of the rotor.

以下に、本第7実施例のベーン式回転流体機械
の構成と作用効果について、前述した第5実施例
との相違点を中心に詳述する。
Below, the configuration and effects of the vane type rotary fluid machine of the seventh embodiment will be explained in detail, focusing on the differences from the fifth embodiment described above.

第7実施例のベーン式回転流体機械は、ロータ
RTは、第19図および第20図に示する如く、
ロータRTの面取りがロータ外周面73の側端角
部にベーン溝76から適宜の間隔を置いたところ
までは円周方向上で面取り量が一様である様に面
取りを形成し、そしてそこからベーン溝76に至
るまでは徐々に面取り量を減少させて、ベーン溝
に至るまでにロータ外周に接する様に面取りを形
成する。またロータの縦断面を見た場合面取りの
端面が或る曲率で構成されるS字または逆S字の
形状に形成する。本実施例では、面取りが上述の
ごとく複雑な形状のため、これに対応する焼結型
を予め作成し、それに原料粉末を入れ焼結する方
法によつてロータとともに面取りを一体に形成し
た。
The vane type rotary fluid machine of the seventh embodiment has a rotor
As shown in FIGS. 19 and 20, RT is
The chamfer of the rotor RT is formed so that the amount of chamfering is uniform in the circumferential direction up to a point at an appropriate distance from the vane groove 76 at the side end corner of the rotor outer peripheral surface 73, and from there. The amount of chamfering is gradually reduced until reaching the vane groove 76, and the chamfering is formed so as to be in contact with the outer circumference of the rotor until reaching the vane groove. Further, when looking at the longitudinal section of the rotor, the chamfered end face is formed into an S-shape or an inverted S-shape with a certain curvature. In this example, since the chamfer has a complex shape as described above, a sintering mold corresponding to the chamfer was created in advance, raw material powder was poured into it, and the chamfer was sintered to form the chamfer integrally with the rotor.

以上の様にして、本第7実施例のベーン式回転
流体機械は、前述した第2の態様の作用効果を奏
する他に、以下の如き作用効果をも有する。
As described above, the vane type rotary fluid machine of the seventh embodiment has the following effects in addition to the effects of the second aspect described above.

本第7実施例のベーン式回転流体機械は、ロー
タ外周面73の側端角部に円周方向上で面取り量
が一様である様に面取りを施したので、ロータ
RTが回転しても吸込ポート(図示せず)とベー
ン室との間における流体の流入面積が変化せず、
流入量が一定となりポンプ効率を向上することが
できる。
In the vane type rotary fluid machine of the seventh embodiment, the side end corners of the rotor outer peripheral surface 73 are chamfered so that the amount of chamfering is uniform in the circumferential direction.
Even when RT rotates, the fluid inflow area between the suction port (not shown) and the vane chamber does not change.
The inflow amount becomes constant and pump efficiency can be improved.

また、ロータ外周面73の側端角部における面
取りを、ベーン溝76から適宜の間隔を置いたと
ころまで、第19図に示する如く徐々にロータ半
径方向上の面取り幅を徐々に減少させたので、ロ
ータの回転移動に応じた連通面積が急激に変化す
ることがないので、流入量変動がより一層減少
し、ポンプ効率を向上させることができる。
Furthermore, the chamfering width at the side end corners of the rotor outer peripheral surface 73 is gradually reduced in the radial direction of the rotor until an appropriate distance is left from the vane groove 76, as shown in FIG. Therefore, the communication area does not change suddenly in accordance with the rotational movement of the rotor, so fluctuations in the inflow amount are further reduced, and pump efficiency can be improved.

更に、ロータ外周面73の側端角部における面
取りを、縦断面を見た場合端部が或る曲率で形成
されるS字状の形状に面取りを施したので、吸込
ポートおよび吐出ポートとベーン室との間に於け
る流体の流れをより一層なめらかにして、流れの
剥離や縮流をより一層緩和し、体積効率を向上す
ることができ、またキヤビテーシヨンの防止効果
も奏し、ポンプ効率を向上させることができる。
Furthermore, the chamfering at the side end corners of the rotor outer circumferential surface 73 is chamfered into an S-shape whose end has a certain curvature when viewed in longitudinal section, so that the suction port, discharge port, and vane The fluid flow between the pump and the chamber is made smoother, further reducing flow separation and contraction, improving volumetric efficiency, and also prevents cavitation, improving pump efficiency. can be done.

尚、本考案を第1の態様においてベーンにより
区画される2つのベーン室の低圧側のベーン室を
構成するロータ側壁端部に適宜の間隔を置いた場
合の面取りについて説明したが、同様に高圧側に
適宜の間隔を置いた場合にもベーン側壁における
ベーンの高圧側から低圧側への流体の漏れ量を低
減できる等の作用効果を奏する。
In addition, in the first aspect of the present invention, explanation has been given of chamfering when an appropriate interval is placed at the end of the rotor side wall constituting the vane chamber on the low pressure side of the two vane chambers partitioned by the vanes. Even when an appropriate interval is provided on the side, it is possible to reduce the amount of fluid leaking from the high-pressure side of the vane to the low-pressure side of the vane side wall.

また、ベーンモータにおいて、高圧側のベーン
室を構成するロータ外周面の側端角部に適宜の間
隔を置いて面取りを施すことにより、膨張行程お
よび圧縮行程におけるベーン先端とカムリング内
周面との間に作用する摩擦力を受けるベーンのロ
ータ最外周支持幅を増加させ、ロータ支持幅の線
圧を減少させモータ効率を向上させることができ
る。
In addition, in vane motors, by chamfering the side end corners of the rotor outer circumferential surface that constitutes the high-pressure side vane chamber at appropriate intervals, the gap between the vane tip and the cam ring inner circumferential surface during the expansion stroke and compression stroke is improved. It is possible to increase the support width of the rotor outermost periphery of the vane that receives the frictional force acting on the rotor, reduce the linear pressure of the rotor support width, and improve motor efficiency.

また、可変容量形ベーンポンプにおいて、偏心
量が小さい場合、ベーンが吐出領域から吸込領域
に移行する過程でロータからの突き出し量が多く
なり、その過程においてはベーンの背面に流体の
圧力がベーンにかかるので、高圧側のベーン室を
構成するロータ外周面の側端角部に適宜の間隔を
置いて面取りを施すことによりこの圧力を受ける
ベーンの面積を減少でき、それだけベーンに作用
する流体の圧力による作用力が減少し、ポンプ効
率を向上させることができる。
In addition, in a variable displacement vane pump, if the amount of eccentricity is small, the amount of protrusion from the rotor increases in the process of the vane transitioning from the discharge area to the suction area, and in that process, fluid pressure is applied to the back of the vane. Therefore, by chamfering the side edges of the outer peripheral surface of the rotor that constitute the vane chamber on the high-pressure side at appropriate intervals, the area of the vanes that receive this pressure can be reduced, and the area affected by the fluid pressure acting on the vanes can be reduced accordingly. Acting force can be reduced and pump efficiency can be improved.

以上の様に、高圧側のベーン室を構成するロー
タ外周面の側端角部にベーン溝の高圧側から適宜
の間隔を置いた場合にも上述の様な作用効果を奏
するので、本考案に適用できる。
As described above, the above-mentioned effects can be achieved even when an appropriate distance is provided from the high-pressure side of the vane groove to the side end corner of the outer peripheral surface of the rotor that constitutes the vane chamber on the high-pressure side. Applicable.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、従来のベーン式回転流体機械のロー
タおよびカムリングの側面図、第2図ないし第4
図は本考案の第1実施例機械を示す図で、第2図
はその縦断面図、第3図はロータの側面図、第4
図はロータの第3図中−線に沿う縦断面図、
第5図ないし第7図は本考案の第2実施例機械を
示す図で、第5図はその横断面図、第6図はロー
タの側面図、第7図はロータの第6図中−線
に沿う縦断面図、第8図および第9図は本考案の
第3実施例機械を示す図で、第8図はそのロータ
の斜視図、第9図はロータの縦端面図、第10図
ないし第12図は本考案の第4実施例機械を示す
図で、第10図はその縦断面図および油圧回路
図、第11図はロータの側面図、第12図はロー
タの第11図中XII−XII線に沿う縦断面図、第13
図ないし第15図は本考案の第5実施例機械を示
す図で、第13図はその縦断面図、第14図はロ
ータおよびカムリングの側面図、第15図はロー
タの縦端面図、第16図ないし第18図は本考案
の第6実施例機械を示す図で、第16図はその部
分縦断面図、第17図はロータの側面図、第18
図はロータの部分縦断面図、第19図および第2
0図は本考案の第7実施例機械を示す図で、第1
9図はロータの側面図、第20図はロータの部分
縦断面図である。 図中、HAはハウジング、DSは駆動軸、RTは
ロータ、VAはベーン、CRはカムリング、SPは
サイドプレート、CPはカバプレート、SRはスプ
リング、PPは平行ピン、OCは外蓋、3,13,
23,33,43,53,63,73はロータ外
周面、4,14,24,34,44,54,はロ
ータ外周面の側端角部、5,25,55はベーン
室、16,26,36,46,56,66,76
はベーン溝、17,27,47,57はベーン底
部、18,28,48,58はベーン先端、2
9,59は油溜溝、20,30,50,60はカ
ムリング内周面をそれぞれ示す。
Figure 1 is a side view of the rotor and cam ring of a conventional vane-type rotary fluid machine, and Figures 2 to 4 are
The figures show a machine according to the first embodiment of the present invention, in which Fig. 2 is a vertical sectional view, Fig. 3 is a side view of the rotor, and Fig. 4 is a side view of the rotor.
The figure is a longitudinal cross-sectional view of the rotor taken along line - in Figure 3;
5 to 7 are views showing a second embodiment of the machine of the present invention, in which FIG. 5 is a cross-sectional view thereof, FIG. 6 is a side view of the rotor, and FIG. 7 is a view of the rotor in FIG. 6. 8 and 9 are views showing a third embodiment of the machine of the present invention, FIG. 8 is a perspective view of the rotor, FIG. 9 is a longitudinal end view of the rotor, and FIG. 12 to 12 show a machine according to a fourth embodiment of the present invention, FIG. 10 is a vertical sectional view and a hydraulic circuit diagram thereof, FIG. 11 is a side view of the rotor, and FIG. 12 is a diagram of the rotor. Longitudinal cross-sectional view along line XII-XII, No. 13
15 to 15 show a machine according to a fifth embodiment of the present invention, in which FIG. 13 is a longitudinal sectional view thereof, FIG. 14 is a side view of the rotor and cam ring, and FIG. 15 is a longitudinal end view of the rotor. 16 to 18 are views showing a machine according to a sixth embodiment of the present invention, in which FIG. 16 is a partial vertical sectional view, FIG. 17 is a side view of the rotor, and FIG. 18 is a side view of the rotor.
The figures are partial vertical sectional views of the rotor, Figures 19 and 2.
Figure 0 shows the seventh embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a side view of the rotor, and FIG. 20 is a partial vertical sectional view of the rotor. In the figure, HA is the housing, DS is the drive shaft, RT is the rotor, VA is the vane, CR is the cam ring, SP is the side plate, CP is the cover plate, SR is the spring, PP is the parallel pin, OC is the outer cover, 3, 13,
23, 33, 43, 53, 63, 73 are the outer peripheral surface of the rotor, 4, 14, 24, 34, 44, 54 are the side end corners of the outer peripheral surface of the rotor, 5, 25, 55 are the vane chambers, 16, 26 , 36, 46, 56, 66, 76
is the vane groove, 17, 27, 47, 57 is the vane bottom, 18, 28, 48, 58 is the vane tip, 2
Reference numerals 9 and 59 indicate oil reservoir grooves, and 20, 30, 50, and 60 indicate inner circumferential surfaces of the cam rings, respectively.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 (1) ハウジングと、該ハウジング内に挿置され位
置調整自在に固定されたカムリングと、前記ハ
ウジングに回転可能に軸支された駆動軸と、該
駆動軸に駆動されるべく連結されかつ該駆動軸
と同軸に配したロータと、ロータ外周壁に放射
状に設けたベーン溝内に摺動可能に挿置された
複数個のベーンと、ロータとベーンとカムリン
グとの間に形成されるベーン室と、前記ハウジ
ング内ロータ側に配設したベーン室に連通する
流入ポート及び流出ポートとを有するベーン式
回転流体機械において、ロータ外周面の側端角
部にベーン溝から適宜の間隔を置いてかつロー
タ外周面の幅方向の側端部にいくに従つて深く
なる面取りを形成したことを特徴とするベーン
式回転流体機械。 (2) ベーンにより区画される2つのベーン室の低
圧側のベーン室を構成するロータ外周面の側端
角部にベーン溝から適宜の間隔を置いて面取り
を形成したことを特徴とする実用新案登録請求
の範囲第(1)項記載のベーン式回転流体機械。 (3) ベーンにより区画される2つのベーン室を構
成するロータ外周面の側端角部にベーン溝から
適宜の間隔を置いてそれぞれ面取りを形成した
ことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第(1)
項記載のベーン式回転流体機械。
[Claims for Utility Model Registration] (1) A housing, a cam ring inserted into the housing and fixed in a position-adjustable manner, a drive shaft rotatably supported by the housing, and a drive shaft driven by the drive shaft. A rotor that is connected to the drive shaft and arranged coaxially with the drive shaft, a plurality of vanes that are slidably inserted into vane grooves provided radially on the outer peripheral wall of the rotor, and a rotor, vanes, and cam ring. In a vane-type rotary fluid machine having a vane chamber formed between the housing and an inflow port and an outflow port communicating with the vane chamber arranged on the rotor side in the housing, a vane groove is formed at a side end corner of the rotor outer circumferential surface. A vane-type rotary fluid machine, characterized in that chamfers are formed at appropriate intervals and become deeper toward the side edges in the width direction of the outer circumferential surface of the rotor. (2) A utility model characterized in that a chamfer is formed at an appropriate distance from the vane groove at the side end corner of the outer peripheral surface of the rotor that constitutes the vane chamber on the low-pressure side of the two vane chambers divided by the vanes. A vane-type rotary fluid machine according to registered claim (1). (3) Utility model registration claim No. 1, characterized in that chamfers are formed at appropriate intervals from the vane grooves at the side end corners of the outer peripheral surface of the rotor constituting the two vane chambers partitioned by the vanes. (1)
The vane type rotary fluid machine described in .
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