JPS62151736U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS62151736U JPS62151736U JP1987025490U JP2549087U JPS62151736U JP S62151736 U JPS62151736 U JP S62151736U JP 1987025490 U JP1987025490 U JP 1987025490U JP 2549087 U JP2549087 U JP 2549087U JP S62151736 U JPS62151736 U JP S62151736U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- ray
- film
- transfer mask
- ray absorption
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
Description
第1図は、本考案に係るX線転写用マスクの概
略断面図であり、第2図は、PPQ膜およびPM
MAパターン膜上にAuを蒸着した状態を説明す
るX線転写用マスクの部分拡大断面図であり、第
3図はX線転写用マスクの部分断面図である。 1……マスク基板(PPQ膜)、2,3……金
属リング、6……PMMAパターン膜、7……A
u層(X線吸収体パターン)。
略断面図であり、第2図は、PPQ膜およびPM
MAパターン膜上にAuを蒸着した状態を説明す
るX線転写用マスクの部分拡大断面図であり、第
3図はX線転写用マスクの部分断面図である。 1……マスク基板(PPQ膜)、2,3……金
属リング、6……PMMAパターン膜、7……A
u層(X線吸収体パターン)。
Claims (1)
- X線吸収の少ないマスク基板とX線吸収の大き
いマスクパターンとからなるX線転写用マスクに
おいて、前記マスク基板がポリキノキサリン膜で
作られ、該膜が金属ホルダーで保持されているこ
とを特徴とするX線転写用マスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1987025490U JPS62151736U (ja) | 1987-02-25 | 1987-02-25 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1987025490U JPS62151736U (ja) | 1987-02-25 | 1987-02-25 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62151736U true JPS62151736U (ja) | 1987-09-26 |
Family
ID=30825694
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1987025490U Pending JPS62151736U (ja) | 1987-02-25 | 1987-02-25 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62151736U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0252416A (ja) * | 1988-08-16 | 1990-02-22 | Agency Of Ind Science & Technol | 平行x線用露光マスク |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5312274A (en) * | 1976-07-21 | 1978-02-03 | Oki Electric Ind Co Ltd | Production of mask for x-ray exposure |
-
1987
- 1987-02-25 JP JP1987025490U patent/JPS62151736U/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5312274A (en) * | 1976-07-21 | 1978-02-03 | Oki Electric Ind Co Ltd | Production of mask for x-ray exposure |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0252416A (ja) * | 1988-08-16 | 1990-02-22 | Agency Of Ind Science & Technol | 平行x線用露光マスク |