JPS62150599A - Memory circuit - Google Patents

Memory circuit

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JPS62150599A
JPS62150599A JP60295101A JP29510185A JPS62150599A JP S62150599 A JPS62150599 A JP S62150599A JP 60295101 A JP60295101 A JP 60295101A JP 29510185 A JP29510185 A JP 29510185A JP S62150599 A JPS62150599 A JP S62150599A
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JP
Japan
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terminal
enh
defective
address
programming
Prior art date
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JP60295101A
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Japanese (ja)
Inventor
Takayuki Watanabe
敬行 渡辺
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

PURPOSE:To attain programming even after the assembling as a product by providing a control function required for programming only to one or plural terminals. CONSTITUTION:In applying a high voltage to a terminal DIN so as to turn on an ENH MOS transistors (IR) Q4, when an address signal A' is at a 'LOW' level, an ENH MOS TR Q5 is turned off, the level of a node N3 goes to a 'High' level and an ENH MOS TR Q6 is turned on. On the other hand, when the address signal A'i goes to a high level, the ENH MOS TR Q5 is turned on, the level of the node N3 goes to a 'LOW' level and the ENH MOS TR Q6 is turned off. When no programming is required, a voltage not turning on the ENH MOS TR Q4 has only to be given to the DIN terminal. That is, the DIN terminal has a control function required for programming. Thus, the programming is attained even after the memory circuit is assembled as a product.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は製造中に発生する欠陥全救済することが可能な
メモリ回路に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a memory circuit in which all defects occurring during manufacturing can be repaired.

〔発明の技術的背景〕[Technical background of the invention]

半導体メモリは近年ますます大容量化の傾向にあるがチ
ップ内に収容さ扛る素子数やチップ面積の増大に伴い、
欠陥のない良品を得ることはますます困難になってきて
いる。そこで予めチップ内に正規のメモリセルの他に予
備のメモリセル全役けておき、欠陥をもつ正規のメモリ
セル(以下不良メモリセルと称する)が存在した場合そ
の不良メモリセル金子備のメモリセルに置換して、該不
良メモリセルを含むチップ全救済するという冗長構成を
有した半導体メモリが必要となってきた。
Semiconductor memories have been increasing in capacity in recent years, but as the number of elements housed within a chip and the chip area have increased,
It is becoming increasingly difficult to obtain good products without defects. Therefore, all spare memory cells in addition to regular memory cells are used in advance in the chip, and if there is a defective regular memory cell (hereinafter referred to as a defective memory cell), the memory cell of the defective memory cell There is now a need for a semiconductor memory having a redundant configuration in which all chips including the defective memory cell can be repaired by replacing the defective memory cell.

まず冗長構成金有した半導体メモリにおける不良メモリ
セルの救済方法について第1図を参照して説明する。第
1図において冗長構成を有する半導体メモリは正規のメ
モリセル群1.予備のメモリセル群2.不良メモリセル
のアドレスが電気的にプログラムさnる不良アドレス登
録回路3.及び外部入力アドレスと不良メモリセルのア
ドレスを比較する比較回路4を有する。最初に正規のメ
モリセル群1の機能試験を行い、その中にある不良メモ
リセルのアドレスを識別する。そして不良メモリセルの
アドレスは、同一チップ内にあるプログラム可能な抵抗
素子例えば溶断可能な多結晶シリコンで出来た抵抗素子
(以下ポリシリヒユーズと称する)を有する不良アドレ
ス登録回路にプログラムされる。つまυポリシリヒユー
ズが溶断さ几ているか否かでその不良メモリセルのアド
レスがプログラムされる。
First, a method for repairing a defective memory cell in a semiconductor memory having a redundant structure will be explained with reference to FIG. In FIG. 1, a semiconductor memory having a redundant configuration is a normal memory cell group 1. Spare memory cell group 2. 3. A defective address registration circuit in which the address of a defective memory cell is electrically programmed. and a comparison circuit 4 for comparing an external input address and the address of a defective memory cell. First, a functional test is performed on the normal memory cell group 1, and the address of a defective memory cell therein is identified. The address of the defective memory cell is then programmed into a defective address registration circuit having a programmable resistance element, such as a resistance element made of fusible polycrystalline silicon (hereinafter referred to as polysilicon), located within the same chip. The address of the defective memory cell is programmed depending on whether the polysilicon fuse is blown or not.

この様に救済処tLa−施された半導体メモリの動作は
次の様になる。すなわち外部入力アドレスと不良アドレ
ス登録回路にプロプラムされているアドレスが比較回路
に入力され、これらが互いに一致しない場合に外部入力
アドレスに対応する正規のメモリセルが選択さn、また
一致した場合は正規のメモリセル群内にある不良メモリ
セルは選択されずそのアドレスに対応した予備のメモリ
セルが選択さ扛る。
The operation of the semiconductor memory subjected to the relief treatment tLa- in this manner is as follows. In other words, the external input address and the address programmed in the defective address registration circuit are input to the comparison circuit, and if they do not match, the normal memory cell corresponding to the external input address is selected, and if they match, the normal memory cell is selected. A defective memory cell in the memory cell group is not selected, and a spare memory cell corresponding to the address is selected.

[従来技術] 以上が冗長構成を有する半導体メモリにおける不良メモ
リセルの救済方法及びその動作であるが、ここで本発明
が関係する不良アドレス登録回路の従来例について、第
2図を用いて説明する。第2図においてQlはドレイン
をプログラムする時にのみ必要な端子VI)I)、ゲー
トとソース金節点N0とするディグレッション型MOS
トランジスタ(以下DEP型MOSトランズスタと称す
る)であシ、Q2はドレインを節点N1.ソースを接地
電位の電源GNDとし、ゲートハ外部入力アドレスに対
応して発生される信号A/i  (以下アドレス信号と
称する)が入力さnるエンハンスメント型MO8)ラン
ジスタ(以下ENH型MO8)ランジスタト称する)で
あシh Qaはドレインを節点N2.ゲートを節点N1
.ソースを電源GNDとするENH型MO8)ランジス
タであ#)、Plは電源Vccと節点N2との間に接続
されるポリシリヒユーズであり、R1はプログラム完了
後端子VpI)が未使用になったとき節点N1がフロー
ティングになるのを防止するための高抵抗でありh R
2はポリシリヒユーズが溶断されたとき節点N2がフロ
ーティングになるのを防止するための高抵抗である。
[Prior Art] The above is a method for repairing a defective memory cell in a semiconductor memory having a redundant configuration and its operation. Here, a conventional example of a defective address registration circuit to which the present invention relates will be explained using FIG. . In Figure 2, Ql is a terminal VI) I) which is necessary only when programming the drain, and a degradation type MOS with the gate and source as the gold node N0.
Q2 is a transistor (hereinafter referred to as a DEP type MOS transistor) with its drain connected to node N1. Enhancement type MO8 transistor (hereinafter referred to as ENH type MO8 transistor) whose source is the ground potential power supply GND, and the gate is input with a signal A/i (hereinafter referred to as address signal) generated in response to an external input address. Ashih Qa connects the drain to node N2. Connect the gate to node N1
.. It is an ENH type MO8) transistor whose source is the power supply GND, Pl is a polysilicon fuse connected between the power supply Vcc and node N2, and R1 is a terminal VpI) which becomes unused after programming is completed. It is a high resistance to prevent node N1 from floating when h R
2 is a high resistance for preventing the node N2 from becoming floating when the polysilicon fuse is blown.

不良アドレス登録回路へ電気的にプログラムする方法を
説明する。まずプログラムする時にのみ必要な端子vp
pに電圧を印加すると、アドレス信号A / iが′″
LOW”の時ENH型MO8)ランジスタ(hHオフL
、節点NIU−High ” 7!: ft ’) E
 N H型MO8)ランジスタQxldオンし、電源V
 c cl)−ら電流が流れポリシリヒユーズレ工が溶
断さnる。
A method of electrically programming the defective address registration circuit will be explained. First, the terminal vp is required only when programming.
When a voltage is applied to p, the address signal A/i becomes '''
LOW” when ENH type MO8) transistor (hH off L
, node NIU-High "7!: ft') E
N H type MO8) transistor Qxld is turned on and the power supply V
A current flows through the polysilicon fuse and melts it.

−万アドレス信号A〆iが″High’の時ENH型M
O8トランジスタQ2はオンし、節点N1は@LOW”
となり、ENH型MO8)ランジスタQa flオフす
る。ポリシリヒユーズPI vcB高抵抗R2できまる
微少電流しか流れないためポリシリヒユーズP1 は溶
断されない。
-When address signal A〆i is ``High'' ENH type M
O8 transistor Q2 is turned on and node N1 is @LOW”
Therefore, the ENH type MO8) transistor Qa fl is turned off. The polysilicon fuse P1 is not blown out because only a small current flows due to the high resistance R2 of the polysilicon fuse PI vcB.

この様にポリシリヒユーズPlnアドレス信号A’ i
 iE ’ L OW ’(D 時溶断すf”L、” 
Hi gh ”  )FIiptrl溶断されないので
不良メモリセルに対応したアドレスがプログラムされる
In this way, the policy uses Pln address signal A' i
iE 'LOW' (Fuses when D"L,"
Since FIiptrl is not blown out, the address corresponding to the defective memory cell is programmed.

端子vppは不良メモリセルのアドレスラミ気的にプロ
グラムする時にのみ使用する端子であシ、その後のウェ
ハー試験時もしくは組立後の製品試験では使用されない
。したがって不良チップ全救済するのに製品として組立
てられた後に電気的にプログラムすることは不可能であ
り、ウェハー試験時に不良メモリセルのアドレスをプロ
グラムするのが一般的である。
The terminal vpp is a terminal used only when programming the address of a defective memory cell mechanically, and is not used during subsequent wafer testing or post-assembly product testing. Therefore, in order to repair all defective chips, it is impossible to electrically program the defective memory cells after they are assembled as a product, and it is common to program the addresses of defective memory cells during wafer testing.

しかしウェハー試験時にプログラムして不良チップを救
済しても組立て後に不良メモリセルが増加する場合が多
く、この様な製品はもはや救済不可能である。
However, even if defective chips are repaired by programming during wafer testing, the number of defective memory cells often increases after assembly, and it is no longer possible to repair such products.

またチップ上にプログラム専用の端子VT)pのパッド
を増設する必要があり、チップ面積の増大を招く。
Furthermore, it is necessary to add a pad for the program-dedicated terminal VT)p on the chip, leading to an increase in the chip area.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、かかる従来の欠点を改良し、不良メモ
リセルのアドレスを電気的にプログラムするのにプログ
ラム専用の端子全増設することなく、製品として組立て
られた後でもプログラム可能なメモリ回路を提供するこ
とにある。
An object of the present invention is to improve such conventional drawbacks and to provide a memory circuit that can be programmed even after being assembled as a product without adding all terminals dedicated to programming in order to electrically program the address of a defective memory cell. It is about providing.

〔発明の特徴〕[Features of the invention]

本発明によるメモリ回路はアドレス端子及びデータ入力
端子及びチップ選択端子及び書込み制御端子金有し、か
つ欠陥メモリセルのアドレスが電気的にプログラムされ
る不良アドレス登録回路を備え、前記1個または複数の
端子がプログラム時にのみ必要な制御機能を兼備するこ
とを特徴としている。
The memory circuit according to the present invention has an address terminal, a data input terminal, a chip selection terminal, and a write control terminal, and includes a defective address registration circuit in which the address of a defective memory cell is electrically programmed, It is characterized in that the terminal has control functions required only during programming.

あるいは本発明によるメモリ回路は前記端子と第1のス
レッシ1−ルド電圧をもつ@1のENH型MO8)ラン
ジスタ群から構成さnる不良アドレス登録回路が前記第
1のスレツシ冒−ルド電圧しシ高い第2のスレッショー
ルド電圧をもち、かつゲートとドレインが共通な第2の
ENH型MO8トランジスタを介して接続されることを
特徴としている。
Alternatively, in the memory circuit according to the present invention, a defective address registration circuit consisting of the terminal and a group of ENH-type MO8 transistors having a first threshold voltage, It is characterized in that it has a high second threshold voltage and is connected via a second ENH type MO8 transistor whose gate and drain are common.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

次に本発明の実施例について第3図を用いて詳細に説明
する。
Next, an embodiment of the present invention will be described in detail using FIG. 3.

$3図においてDINはデータ入力端子でありかつプロ
グラム時にのみ必要な制御機能をも有する端子であり、
5は端子DINに接続さnるデータ入力バッファであり
、6は不良アドレス登録回路である。不良アドレス登録
回路6はドレインを節点NSo アドレス信号A’ii
ゲート入力とし、ソースをIII源GNDとする第1の
スレッショール)”を圧VTtt−4つENH型MO8
)ランジス’ Qs。
In the $3 figure, DIN is a data input terminal and also has a control function necessary only during programming.
5 is a data input buffer connected to the terminal DIN, and 6 is a defective address registration circuit. The defective address registration circuit 6 connects the drain to the node NSo and the address signal A'ii.
The first threshold (1st threshold) with the gate input and the source as the III source GND is the voltage VTtt-4 ENH type MO8
) Ranjith' Qs.

ドレインを節点N4.ゲートを節点N3.ソースを電源
GNDとするスレッショールド電圧vTt?もつENH
型MO8)ランジスタQ a +電源Vccと節点N4
の間に接続されるポリシリヒエーズPz、節点N3 と
電源GNDの間に接続さnる高抵抗R3゜節点N4と電
源GNDの間に接続される高抵抗R4から構成される。
Connect the drain to node N4. Connect the gate to node N3. Threshold voltage vTt when the source is the power supply GND? Motsu ENH
Type MO8) transistor Q a + power supply Vcc and node N4
A high resistance R3 is connected between the node N3 and the power supply GND, and a high resistance R4 is connected between the node N4 and the power supply GND.

またQ4は第1のスレッショールド電圧vTlニジ十分
高い第2のスレッショールド電圧’に4っENH型MO
Sトランジスタでゲート及びドレインが端子DINに接
続され、ソースは節点N3に接続さnる。
In addition, Q4 is set to a second threshold voltage ' which is sufficiently high compared to the first threshold voltage vTl.
The gate and drain of the S transistor are connected to the terminal DIN, and the source is connected to the node N3.

第3図の動作を説明する。まず不良メモリセルのアドレ
スをプログラムする場合について述べる。
The operation shown in FIG. 3 will be explained. First, the case of programming the address of a defective memory cell will be described.

端子DINにENH型MO8)ランズスタQ4がオンす
る様に高電圧を印加する。その時アドレス信号A’ i
 カ@LOW ’ テl)f’LばENHWMO8)ラ
ンジスタQI!はオフし5節点N3は′″High’と
なりENH型MO8)ランジスタQ6はオンする。
A high voltage is applied to the terminal DIN so that the ENH type MO8) run star Q4 is turned on. At that time, address signal A' i
Ka@LOW' TEL) f'LBAENHWMO8) Langister QI! is turned off, the fifth node N3 becomes ``High'', and the ENH type MO8) transistor Q6 is turned on.

したがって電源Vccからポリシリヒユーズを溶断する
のに可能な電流が流れ、ポリシリヒユーズが溶断さfる
。−万アドレス信号A′iが“High ”であn(l
−I′ENH型MOSトランジスタQsはオンし、節点
N3は”LOW’となりENH型MO8)ランジスタQ
sHオフする。したがってポリシリヒユーズには高抵抗
Ra k通して流nる微少電流しか流nないのでポリシ
リヒユーズは溶断しない。
Therefore, a current sufficient to blow out the polysilicon fuse flows from the power supply Vcc, and the polysilicon fuse is blown out. - 10,000 address signal A'i is “High” and n(l
-I'ENH type MOS transistor Qs is turned on, node N3 becomes "LOW", and ENH type MO8) transistor Q
sH off. Therefore, since only a small current flows through the polysilicon fuse through the high resistance Rak, the polysilicon fuse does not melt.

またプログラムする必要がない時1DIN端子にENH
型MOSトランジスタQ4がオンしない電圧を印加して
おけばよい。つまりDIN端子はプログラムに必要な制
御機能をも有することになる。−万、通常のメモリ動作
をする場合端子DINにはメモリ動作許容範囲内の電圧
が印加さnるから、十分高いスレッショールド電圧7丁
2をもつENH型MO8)ランジスタQ4G”Cオンせ
ず、節点N3は−LOW″のままである。したがって通
常のメモリ動作中プログラム情報が破壊さnることはな
い。
Also, when there is no need to program, connect ENH to the 1DIN terminal.
It is sufficient to apply a voltage that does not turn on the type MOS transistor Q4. In other words, the DIN terminal also has a control function necessary for the program. -For normal memory operation, a voltage within the allowable memory operation range is applied to the terminal DIN, so the ENH type MO8) transistor Q4G"C with a sufficiently high threshold voltage will not turn on. , the node N3 remains at -LOW''. Therefore, program information is not destroyed during normal memory operation.

つまり端子DINはプログラム時においてプログラムに
必要な高電圧を供給する機能をもち、通常のメモ+76
作においては本来のメモリの1端子としての機能をもつ
ことになる。
In other words, the terminal DIN has the function of supplying the high voltage necessary for programming during programming.
In production, it functions as one terminal of the original memory.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上本発明のメモリ回路を説明するのにデータ入力端子
を例にとって説明してきたが本発明のメモリ回路はメモ
リ回路内にある他の端子に対しても適用できることは言
うまでもない。
Although the memory circuit of the present invention has been described above by taking the data input terminal as an example, it goes without saying that the memory circuit of the present invention can also be applied to other terminals within the memory circuit.

本発明を用いれば電気的にプログラムするのに専用のプ
ログラム制御端子もしくは電源端子を増設する必要がな
いためチップ面積増大を招くことにない。さらに興品と
して組立てら几た後でもプログラム可能なのでウェーハ
試験時にプログラムした場合よりも高い歩留が得らn非
常に有効である。
If the present invention is used, there is no need to add a dedicated program control terminal or power supply terminal for electrical programming, so the chip area does not increase. Furthermore, since it can be programmed even after it has been assembled as a commercial product, a higher yield can be obtained than when programming is done during wafer testing, which is very effective.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は欠陥メモリセルの救済可能なメモリ回路の部分
回路図。 1・・・・・・正規のメモリセル群、2・・・・・・予
備のメモリセル群、3・・・・・・不良アドレス登録回
路、4・・・・・・比較回路 第2因は従来の不良アドレス登録回路を示す図。 第3図は本発明のメモリ回路の部分回路1である。 5・・・・・・DIN人カバカバッファ・・・・・・不
良アドレス登録回路s Qt・・・・・・ディプレッシ
ョン型MOSトランジスタ、Q2. Qa、 Q4. 
Qs、 Qs・・・・・・エンハンスメント型MO8)
ランジスタh ”Is P2・・・・・・ポリシリヒユ
ーズ、 R11,R2,R3,R14・・・・・・抵抗
、vpp・・・・・・プログラム電源端子h Vccr
−G−ND・・・・・・電の、N1.N2.N3+ N
4・・・・・・節点。 不  2 圓 $ 5 口
FIG. 1 is a partial circuit diagram of a memory circuit in which a defective memory cell can be repaired. 1... Regular memory cell group, 2... Spare memory cell group, 3... Defective address registration circuit, 4... Comparison circuit second factor. 1 is a diagram showing a conventional defective address registration circuit. FIG. 3 shows a partial circuit 1 of the memory circuit of the present invention. 5...DIN buffer buffer...Failure address registration circuit s Qt...Depression type MOS transistor, Q2. Qa, Q4.
Qs, Qs...Enhancement type MO8)
Ransistor h "Is P2... Polysilicon fuse, R11, R2, R3, R14... Resistor, vpp... Program power supply terminal h Vccr
-G-ND...Electric, N1. N2. N3+N
4...Node. Not 2 yen 5 mouths

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)アドレス端子及びデータ入力端子及びチップ選択
端子及び書込み制御端子を有し、かつ欠陥メモリセルの
アドレスが電気的にプログラムされる不良アドレス登録
回路を備えたメモリ回路において、前記1個または複数
の端子がプログラム時にのみ必要な制御機能を兼備する
ことを特徴とするメモリ回路。
(1) In a memory circuit having an address terminal, a data input terminal, a chip selection terminal, a write control terminal, and a defective address registration circuit in which the address of a defective memory cell is electrically programmed, the one or more A memory circuit characterized in that its terminals have a control function necessary only during programming.
(2)前記端子と第1のスレッショールド電圧をもつ第
1のエンハンスメント型MOSトランジスタ群から構成
される不良アドレス登録回路が前記第1のスレッショー
ルド電圧より高い第2のスレッショールド電圧をもちか
つゲートとドレインが共通な第2のエンハンスメント型
MOSトランジスタを介して接続されることを特徴とす
る特許請求の範囲第(1)項に記載のメモリ回路。
(2) A defective address registration circuit composed of the terminal and a first enhancement type MOS transistor group having a first threshold voltage has a second threshold voltage higher than the first threshold voltage. 2. The memory circuit according to claim 1, wherein the memory circuit is connected via a second enhancement type MOS transistor having a common gate and drain.
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