JPS6214053A - Method and apparatus for measuring concentration of gold in gold cyanide plating liquid - Google Patents

Method and apparatus for measuring concentration of gold in gold cyanide plating liquid

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JPS6214053A
JPS6214053A JP15232885A JP15232885A JPS6214053A JP S6214053 A JPS6214053 A JP S6214053A JP 15232885 A JP15232885 A JP 15232885A JP 15232885 A JP15232885 A JP 15232885A JP S6214053 A JPS6214053 A JP S6214053A
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JP
Japan
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titration
gold
plating solution
cyanide
sample
Prior art date
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Pending
Application number
JP15232885A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Jinkichi Miyai
宮井 迅吉
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Denka Co Ltd
DKK Corp
Original Assignee
DKK Corp
Denki Kagaku Kogyo KK
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To enable the implementation of the measurement of univalent gold and/or trivalent gold existing in a gold cyanide plating liquid handily and at a high accuracy, by using the potential difference titration with a silver nitrate solution as titration agent for the measurement of the concentration of gold. CONSTITUTION:A sample liquid introduced from a gold cyanide plating liquid tank 2 through a sampling mechanism 1 is introduced into a pH adjusting mechanism 4 to be adjusted to a fixed capacity and a pump 7 is operated by a signal from a control section 3 to feed a fixed capacity of a buffer liquid from a tank 6 so that the pH of the sample will be controlled to 4-5. The sample liquid filled into the mechanism 4 is injected into a titration cell 9 with the switching of the passage by a signal from a controller 3 and then, a titration pump 15 is signal from a controller 3 and then, a titration pump 15 is operated by a signal from an automatic titration computing section 18 to drop a silver nitrate aqueous solution in a titration tank 14 into the cell 9 thereby performing a potential difference of the sample liquid. At the same time, the computing section 18 automatically cumulates the capacity of the titration agent being dropped. Thus, the titrating reaction is measured as changes in potential with a potential difference titrator 10 thereby enabling the measurement according to the potential difference titration method.

Description

【発明の詳細な説明】 LL1匹札lL1 木発圓はシアン化金メッキ液中の金満度測定法及びその
連続測定装置に関し、更に詳述すれば、シアン化金メッ
キ液中のl1ii及びm価の金111度を価数ごとに分
離し、又は金濃度全体を測定する方法及びその連続測定
装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] LL1NP1L1 Kibatsuen relates to a method for measuring gold saturation in a cyanide gold plating solution and its continuous measuring device. The present invention relates to a method of separating 111 degrees by valence or measuring the entire gold concentration, and a continuous measuring device thereof.

従来の技術及び 明が解°しようとする  −金メツキ
皮膜は接点材料、接続材料として用いられているほか、
i!!i身具などとしても広く利用されていることは周
知である。
Conventional technology and Akira's understanding - Gold plating films are used as contact materials and connection materials, as well as
i! ! It is well known that it is widely used as personal accessories.

この金メツキ皮膜を与える金メッキ液は、通常シアン化
第1金カリウムを金イオン源としているが、このメッキ
液中の1価金(Au(I))は、一般に陽極として不溶
性陽極を使用しているため、金メッキの進行とともに1
1度低下が生じる。また、金メツキ進行過程で1部のA
u(I)が酸化されて3価金(Au  (III))と
なるが、このAu  ([[[)の作用により金メツキ
液中での電流効率が低下するという不都合が生じる。
The gold plating solution that provides this gold plating film usually uses potassium cyanide as the gold ion source, but the monovalent gold (Au(I)) in this plating solution is generally removed by using an insoluble anode as an anode. Therefore, as the gold plating progresses, 1
A decrease of 1 degree occurs. Also, in the process of gold plating, 1 part A
Although u(I) is oxidized to become trivalent gold (Au (III)), the action of this Au ([[[) causes the disadvantage that the current efficiency in the gold plating solution decreases.

従って、適時金メツキ品質の安定性を保つため、Au(
1)の濃度w4整を行ない、KAu  (CN)zを投
入する必要が生じるが、このためにはシアン化メッキ液
中に存在する1価やm価の金濃度を測定しなければなら
ない。
Therefore, in order to maintain the stability of gold plating quality in a timely manner, Au (
It is necessary to perform the concentration w4 adjustment in 1) and introduce KAu (CN)z, but for this purpose it is necessary to measure the concentration of monovalent and mvalent gold present in the cyanide plating solution.

従来、金メツキ液中の金濃度を測定する方法としては、
mFIi分析法、原子吸光分析法、誘導プラズマ発光分
析法などがある。このうち、fflffi分析法は操作
が複雑で時間がかかるという難点があり、他方、原子吸
光分析法、誘導プラズマ発光分析法(ICP)などのい
わゆる物理的測定原理にもとずく測定法は、一般に感度
が高いために希釈操作が必要となり、WA7:を生じ易
い上、装置が高価であるという難点がある。また、上記
いずれの方法を用いても、メッキ作業現場でのメッキ液
浴槽とインラインで自動測定を行なうことは困難であり
、更に、金メツキ液中に存在するAu (I)とAu(
DI>を分別定量測定することは不可能である。
Conventionally, the method of measuring gold concentration in gold plating solution is as follows:
Examples include mFIi analysis, atomic absorption spectrometry, and stimulated plasma emission spectrometry. Of these, the fffffi analysis method has the drawback of being complicated and time-consuming to operate, while measurement methods based on so-called physical measurement principles, such as atomic absorption spectrometry and induced plasma emission spectrometry (ICP), are generally Due to the high sensitivity, a dilution operation is required, which tends to cause WA7:, and the apparatus is expensive. Furthermore, no matter which method is used, it is difficult to perform automatic measurement in-line with the plating solution bath at the plating work site.
It is not possible to make a differential quantitative measurement of DI>.

この場合、Au(I)とAIJ  (III)を分別定
量測定し得る方法としては、特殊な分離カラムを用いた
イオンクロマトグラフィー法が挙げられるが、測定に時
間がかかる、8価である、インライン測定が難しいとい
った欠点があり、従来のいずれの方法も実用的な測定法
とは言えない。
In this case, methods that can separately and quantitatively measure Au(I) and AIJ(III) include ion chromatography using a special separation column; None of the conventional methods can be called a practical measurement method because they have the disadvantage of being difficult to measure.

本発明は上記事情に鑑みなされたものであり、シアン化
金メッキ液中に存在するAu(1)及び/又はAu  
(II)の11度測定をメッキ作業現場においても簡易
に精度良〈実施することが可能で、かつ必要に応じてメ
ッキ浴とインラインで自動分析し得る実用的なシアン化
金メッキ液中の金濃度測定法、及び本発明の方法を用い
てシアン化金メッキ液中の金11度を長期に連続して測
定し得る安価な連続測定装置を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is based on Au(1) and/or Au present in the cyanide gold plating solution.
Practical gold concentration in cyanide gold plating solution that can easily perform 11 degree measurement (II) with high accuracy even at plating work sites, and can be automatically analyzed in-line with the plating bath if necessary. It is an object of the present invention to provide a measuring method and an inexpensive continuous measuring device that can continuously measure gold 11 degrees in a cyanide gold plating solution over a long period of time using the method of the present invention.

リ    するための   び・ 即ち、本発明者は上記測定法及び測定8i置につき鋭意
研究を重ねた結果、(1)シアン化金メッキ液中でAu
  (I)、Au  (III)G;j各1シアン化第
1金イオン((Au  (CN)2)″)シアン化第2
金イオン<(Au  (cN)u)−)の形で存在し、
へ9+イオンと相遇すると各)会合して沈殿を生じ、か
つ((Au  (CN)、)−)と((Au  (CN
 )p)−)の両者を含む溶液をM1イオンを含む1i
rlII!銀水溶液を滴定剤とし、この滴定剤で電位差
滴定すると、Au(I)とA’)  及びAu  (I
II)とA9+の生成物の溶解度積が異なるために上記
の各沈殿反応の当量点が異なること、〈2)特に上記電
位差滴定での各当量点の区別は、測定用シアン化金メッ
キ液としてシアン化金メッキ液を有機酸11!i液でF
)F+4〜5に調整したものを用いた場合顕著となるこ
と、(3)更には電位差滴定用の検知電極として銀イオ
ン選択性ffi極又は11電極を用いた場合、より明瞭
になることを知見した。
As a result of extensive research into the above measurement method and measurement 8i setting, the inventors found that (1) Au in a cyanide gold plating solution.
(I), Au (III)G;j each 1 gold cyanide ion ((Au (CN)2)'') 2 gold cyanide
Gold ions exist in the form <(Au (cN)u)-),
When encountered with 9+ ions, each) associates to form a precipitate, and ((Au (CN), )-) and ((Au (CN)
)p)-) 1i containing M1 ions
rlII! When potentiometric titration is performed using an aqueous silver solution as a titrant, Au(I) and A') and Au(I
II) The equivalence points of each of the above precipitation reactions are different because the solubility products of A9+ and A9+ products are different; Chemical gold plating solution with organic acid 11! F with i liquid
) It was found that this becomes noticeable when using one adjusted to F+4 to 5, and (3) it becomes more obvious when a silver ion selective ffi electrode or 11 electrode is used as the sensing electrode for potentiometric titration. did.

この点につき更に詳述すると、A 7 N O,水溶液
でシアン化第1金カリ水溶液を電位差滴定すると第3図
に示すような滴定曲線が1gられ、またシアン化第2金
カリ水溶液を電位差滴定用ると第4図に示すような滴定
曲線が得られ、従ってA 9 N O。
To explain this point in more detail, when an aqueous potassium cyanide solution is titrated potentiometrically with an aqueous solution of A 7 N O, a titration curve as shown in Figure 3 is obtained. When used, a titration curve as shown in FIG. 4 is obtained, thus A 9 NO.

を滴定剤とすることによりAu  <1)、Au  (
III)の単独定量がそれぞれ可能であるものであるが
、更にシアン化第1金イオンとシアン化第2金イオンと
が共存している場合においては、第5図に示すように明
瞭な2段カーブの滴定曲線が得られる。
By using as a titrant, Au <1), Au (
III) can be quantified individually, but when gold cyanide ions and gold cyanide ions coexist, a clear two-stage quantification is possible as shown in Figure 5. A titration curve of the curve is obtained.

ここで滴定容量AがAU(I)に相当し、Bがト−タル
Au  [Au  (I)+Au  (Ill)]に相
当し、従って通常の金メッキ液においてはAu(I)と
Au  (III)とが共存しているものであるが、こ
のようにAu 〈工)とAu  (Ill)とが共存し
ていても、ALI  (I)、Au  (1)及びトー
タルALI11度をぞれぞれ明瞭に定mすることができ
、A 7 N O,水溶液を滴定剤とした電位差滴定法
がシアン化金メッキ液の金IIr!1の測定に非常に有
効であることを知見したものである。なお、AlN0゜
溶液を滴定剤とした場合、CI−イオン、CN−イオン
などが存在づると同様に難溶性の塩をつくって本滴定を
干渉するが、通常の金メッキ液にはこれらのイオンは含
まれていない。更に、仮に含まれていても、シアン化金
と銀との生成物の溶解度積と、これら難溶性塩の溶解度
積の間には差があるので分別定量しうる。
Here, the titration volume A corresponds to AU(I), and B corresponds to the total Au [Au(I)+Au(Ill)]. Therefore, in a normal gold plating solution, Au(I) and Au(III) However, even if Au (Ill) and Au (Ill) coexist in this way, the ALI (I), Au (1), and total ALI of 11 degrees cannot be clearly defined. The potentiometric titration method using an aqueous solution of A 7 N O as a titrant can be used to measure gold cyanide plating solution gold IIr! It has been found that this method is very effective for measuring 1. Note that when using an AlN0° solution as a titrant, the presence of CI- ions, CN- ions, etc. similarly creates poorly soluble salts and interferes with the titration, but ordinary gold plating solutions do not contain these ions. Not included. Furthermore, even if it is contained, there is a difference between the solubility product of the product of gold cyanide and silver and the solubility product of these sparingly soluble salts, so it can be quantified separately.

更に、本発明の方法を用いた連続測定装置の実用化につ
き検討を行なった結果、シアン化金メッキ液をサンプリ
ングし、これをPJI整した後、電位差滴定を行なう場
合に、反応生成物として沈殿物を生ずるが、電位差測定
に用いる検知電極の感応膜への沈殿生成物の付着を防ぎ
、感応面を活性に維持するために研摩素子で1i11r
!Jすることにより、長期間に亘り正確なシアン化金メ
ッキ液の定量が行なわれ、1ilffの長期安定性が保
証されることを見出し、本発明をなすに至った。
Furthermore, as a result of studying the practical application of a continuous measurement device using the method of the present invention, it was found that when a cyanide gold plating solution is sampled and subjected to PJI adjustment, a precipitate is produced as a reaction product. However, in order to prevent precipitation products from adhering to the sensitive membrane of the sensing electrode used for potential difference measurement and to maintain the sensitive surface active, polishing with a polishing element is performed.
! The present inventors have discovered that the gold cyanide plating solution can be accurately quantified over a long period of time and the long-term stability of 1ilff can be guaranteed by using J method, leading to the present invention.

従って、本発明はシアン化金メッキ液中の1価の金濃度
、■価の金m度又は全台濃度を測定するにあたり、硝酸
銀水溶液を滴定剤として用い、該滴定剤とシアン化金メ
ッキ液との電位差滴定により上記の金濃度を測定するこ
とを特徴とするシアン化金メッキ液中の金濃度測定方法
を提供するものである。また、本発明はシアン化金メッ
キ液をサンプリングするサンプリング機構と、このシア
ン化金メッキ液のサンプルをP+1調整する一1調整機
構と、州調整されたサンプルの電位差滴定を行なう滴定
部とを具備し、前記滴定部には検知電極と共にこの電極
の感応膜を研摩する研摩素子が配設されてなることを特
徴とするシアン化金メッキ液中の金濃度測定装置をも提
供する。
Therefore, the present invention uses a silver nitrate aqueous solution as a titrant to measure monovalent gold concentration, monovalent gold m degree, or total unit concentration in a cyanide gold plating solution, and the titration between the titrant and the cyanide gold plating solution. The present invention provides a method for measuring gold concentration in a cyanide gold plating solution, which is characterized in that the gold concentration is measured by potentiometric titration. In addition, the present invention includes a sampling mechanism for sampling the cyanide gold plating solution, a 11 adjustment mechanism for adjusting the sample of the cyanide gold plating solution by P+1, and a titration unit for performing potentiometric titration of the state-adjusted sample, The present invention also provides an apparatus for measuring gold concentration in a gold cyanide plating solution, characterized in that the titration section is provided with a detection electrode and a polishing element for polishing the sensitive film of the electrode.

本発明ににれば、シアン化金メッキ液中の金濃度の測定
に硝酸銀溶液を滴定剤とする電位差滴定法を用いている
ため、?#雑な操作を必要とせず、かつ短時間で12!
l易にしかも確実にシアン化金メッキ液中の金濃度の測
定を精度良く行なうことができるという効果を発揮する
のみならず、メッキ作業現場においてメッキ浴とのイン
ライン自動測定が可能となり、更に、滴定剤として硝酸
銀水溶液を用いることにより、シアン化金メッキ液中の
11及び3価の金濃度、更に全金濃度が分別定量測定し
得る。また、本発明に係る装置は、検知電極の感応膜を
研摩するようにしたので、長期に亘り安定したシアン化
金メッキ液の分析が行なわれる。
According to the present invention, potentiometric titration using a silver nitrate solution as a titrant is used to measure the gold concentration in a cyanide gold plating solution. # 12 in a short time without any complicated operations!
Not only does it have the effect of easily and reliably measuring the gold concentration in cyanide gold plating solution with high accuracy, but it also enables in-line automatic measurement with the plating bath at the plating work site, and furthermore, titration. By using a silver nitrate aqueous solution as the agent, the 11- and trivalent gold concentrations in the gold cyanide plating solution, as well as the total gold concentration, can be measured separately and quantitatively. Further, since the apparatus according to the present invention polishes the sensitive film of the detection electrode, analysis of the gold cyanide plating solution can be performed stably over a long period of time.

以下、本発明につき更に詳しく説明する。The present invention will be explained in more detail below.

本発明のシアン化金メッキ液中の金m度(Au  (I
)、Au  (Ill)、トータルAU>の測定は、硝
酸銀水溶液を滴定剤とした電位差滴定法により行なわれ
るものであるが、この場合、金メッキ液は酸性タイプ、
中性タイプのいずれでもよく、本発明によればこれらい
ずれのタイプのシアン化金メッキ液に対してもその金1
Iraを正確に分析し得る。なお、電位差滴定装置、用
メータは市販のものが充分使用可能である。滴定は常法
に従って行なわれ、滴定剤である硝酸銀濁度は測定用シ
アン化金メッキ液(サンプル)中の金11度、電位差滴
定装置の感度、精度などにより適宜選択される。なお、
シアン化金メッキ液は原液のまま、或いは適宜倍率に水
で希釈して行なわれる。
Gold m degree (Au (I) in the gold cyanide plating solution of the present invention
), Au (Ill), and total AU> are measured by potentiometric titration using an aqueous silver nitrate solution as a titrant.
Any neutral type may be used, and according to the present invention, the gold 1
Ira can be accurately analyzed. Note that commercially available potentiometric titrators and meters are fully usable. Titration is carried out according to a conventional method, and the titrant, silver nitrate turbidity, is appropriately selected depending on the gold 11 degree in the cyanide gold plating solution (sample) for measurement, the sensitivity and accuracy of the potentiometric titration device, etc. In addition,
The gold cyanide plating solution can be used in its original form or diluted with water to an appropriate ratio.

本発明において、電位差滴定はシアン化金メッキ液(サ
ンプル)を有機111!!1衝液でPF14〜5に調整
した後、行なうことが好ましい。この場合、有機酸Il
li液としては、フタル酸水素カリウム水溶液等のケ1
4〜5のものが好適である。なお、1′)11調整を行
なう場合に上記有機酸の代りに鉱酸を使用すると、シア
ンガスを発生づる危険が生じる。リンプルの一1調整は
上述したようにサンプルの−が4〜5になるように行な
うものであり、例えば0.5Nフタル酸水素カリウム水
溶液を本発明に係る有礪酸緩街液とした場合、サンプル
山に対して10倍容量を添加することが好適である。
In the present invention, potentiometric titration is performed on a cyanide gold plating solution (sample) using an organic 111! ! It is preferable to perform this after adjusting the PF to 14 to 5 with one buffer solution. In this case, organic acid Il
As the li solution, 1, such as potassium hydrogen phthalate aqueous solution, etc.
4 to 5 are preferred. It should be noted that if a mineral acid is used instead of the above-mentioned organic acid when carrying out the 1')11 adjustment, there is a risk that cyan gas will be generated. Rimple adjustment is carried out so that the - of the sample becomes 4 to 5 as described above. For example, when a 0.5N potassium hydrogen phthalate aqueous solution is used as the silinic acid loose solution according to the present invention, It is preferable to add 10 times the volume to the sample pile.

また、この電位差滴定を行なう場合、シアン化金メッキ
液中のm価及びm価の金とAオイオンとにJ、り生じる
沈殿反応の電位差滴定時、当量点での変曲点を得るため
の検知電極としては銀イオン選択性N極あるいは銀棒電
極の使用が好ましく、比較電極には、該′N極の外部溶
出内部液にCI−イオンなどのA7〜オンと難溶性の塩
を生じるアニオンを含まない、例えばK N O,を用
いたダブルジャンクション型の電極を使用することが好
ましい。
In addition, when performing this potentiometric titration, detection is performed to obtain the inflection point at the equivalence point during potentiometric titration of the precipitation reaction that occurs between m-valent and m-valent gold and A-ion in the gold cyanide plating solution. As the electrode, it is preferable to use a silver ion-selective N electrode or a silver rod electrode, and the reference electrode contains an anion that forms a poorly soluble salt with A7~ ions such as CI- ions in the externally eluted internal solution of the N electrode. It is preferable to use a double-junction type electrode that does not contain, for example, KNO.

また、本発明の装置は、シアン化金メッキ液をサンプリ
ングするサンプリング機構、このサンプルを一調整する
一調整機構、−調整されたサンプルの電位差滴定を行な
う滴定部を具備するものである。ここで、サンプリング
機構は、単独の金メツキ液槽の場合はここから金メッキ
液を自動サンプリングし、複数の金メツキ液槽がある場
合には分析すべき金メッキ液を選定し、この金メッキ液
を所定量自動サンプリングするもので、また1(調11
mmは、コ(F) サ> 7” )Lt ニ所定11(
7) @ lit 1!111 WIJ液を自動注入し
てサンプルの州を4〜5に自動調整するものであり、コ
ンピュータを内蔵したv1罪装置を配設し、これによっ
て自動サンプリング、自11JP)l調整をIII 6
1することが好ましい。また、滴定部は、滴定セルと、
この滴定セル内に前記−Ir14整されたサンプルの所
定量を注入する注入機構と、電位差滴定装置とからなる
ものであり、電位差滴定装置は検知電極、比較電極、■
メーターを具備する。この場合、本発明においては、こ
の検知電極にその感応膜を研摩する研摩素子を設けるも
のである。また、前記サンプルの注入、滴定、Fi4r
lJ素子による電極研摩は自助υ1−することが好まし
く、これらの制御は前記制御装置にて行なうことができ
る。更に、シアン価金メッキ液の1価、m価の金濃度、
トータル金濃度を自動的に眸出するための自動滴定濃度
演算機構を設けることが好ましく、この111m機構も
前記制御装置に内蔵させることができる。更に、滴定終
了後、滴定セルからサンプルを排出するための排出機構
を配設する場合、排出機構は広孔径の硬材質スライドバ
ルブを介装するサンプル排出管にて構成し、このスライ
ドバルブのInn動作で滴定セルから滴定終了後のリン
プルを排出することができる。なお、このサンプル排出
、スライドバルブの開閉を自動制御することが好ましい
。以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
The apparatus of the present invention also includes a sampling mechanism for sampling the cyanide gold plating solution, an adjustment mechanism for adjusting the sample, and a titration section for performing potentiometric titration of the adjusted sample. Here, the sampling mechanism automatically samples the gold plating liquid from a single gold plating liquid tank, or selects the gold plating liquid to be analyzed when there are multiple gold plating liquid tanks, and transfers this gold plating liquid to the location. Quantitative automatic sampling, also 1 (key 11)
mm is ko (F) s > 7”) Lt d specified 11 (
7) @lit 1!111 It automatically injects WIJ liquid and automatically adjusts the sample state to 4 to 5. It is equipped with a v1 sin device with a built-in computer, which allows automatic sampling and self-11JP) l Adjustment III 6
1 is preferable. In addition, the titration section includes a titration cell,
It consists of an injection mechanism for injecting a predetermined amount of the -Ir14-prepared sample into this titration cell, and a potentiometric titrator.
Equipped with a meter. In this case, in the present invention, the sensing electrode is provided with a polishing element for polishing the sensitive film. In addition, injection of the sample, titration, Fi4r
Electrode polishing by the lJ element is preferably self-assisted υ1-, and these controls can be performed by the control device. Furthermore, the monovalent and mvalent gold concentrations of the cyanogen gold plating solution,
It is preferable to provide an automatic titration concentration calculation mechanism for automatically calculating the total gold concentration, and this 111m mechanism can also be built into the control device. Furthermore, when disposing a discharge mechanism for discharging the sample from the titration cell after the titration is completed, the discharge mechanism is composed of a sample discharge pipe with a hard material slide valve having a wide hole, and the Inn of this slide valve is The operation allows the rimple after the titration to be discharged from the titration cell. Note that it is preferable to automatically control the sample discharge and the opening and closing of the slide valve. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

〔実施例1〕 第1図及び第2図は本発明装置の一実施例を示すもので
、図中1はサンプリング機構であり、このサンプリング
機構1は定徴ポンプと三方電磁弁とにより構成され、こ
れら定歯ポンプと三方電磁弁は金メッキ液ff12の数
に応じて配設される。ポンプはコンピュータを内蔵する
制御装置3によりオンオフされると共に、υIIII装
置1tF3は分析すべき金メッキ液を収容した金メツキ
液槽2に連結された三方電磁弁を動作させて険路を+、
vIAえ、ポンプの動作により所定の金メッキ液Mj2
内の金メッキ液をサンプリングし、この金メッキ液ザン
、プルをPHW4整機構4に送出する。このS″lW4
整機構4は、一定容量の計量チューブを内蔵する用調整
部5とPH4〜5の有機酸緩衝液が収容された緩衝液タ
ンク6と、この緩衝液タンク6内の!ll液液PH調調
整式入部5導入する!1Ifi液ポンプ7とがらなりサ
ンプリング機構1を通じて導入されたサンプル液をけ(
調mta構4の針山チューブに導入してサンプル液を一
定容量に調整し、更に制御部3からの信号により緩衝液
ポンプ7を作動させて緩衝液タンク6から一定容量の緩
衝液を供給し、サンプルの州を4〜5に調整する。
[Embodiment 1] Figures 1 and 2 show an embodiment of the device of the present invention. In the figure, 1 is a sampling mechanism, and this sampling mechanism 1 is composed of a standard pump and a three-way solenoid valve. , these fixed tooth pumps and three-way solenoid valves are arranged according to the number of gold plating liquids ff12. The pump is turned on and off by the control device 3 that has a built-in computer, and the υIII device 1tF3 operates a three-way solenoid valve connected to the gold plating liquid tank 2 containing the gold plating liquid to be analyzed to overcome the steep road.
vIA, the predetermined gold plating solution Mj2 is pumped by the operation of the pump.
The gold plating solution inside is sampled, and the gold plating solution is sent to the PHW4 adjusting mechanism 4. This S″lW4
The adjustment mechanism 4 includes an adjustment section 5 containing a metering tube of a fixed capacity, a buffer tank 6 containing an organic acid buffer solution with a pH of 4 to 5, and a buffer tank 6 containing an organic acid buffer solution with a pH of 4 to 5. Introducing liquid-liquid PH adjustment type input part 5! 1 If the liquid pump 7 and the sample liquid introduced through the sampling mechanism 1 are drained (
The sample liquid is introduced into the needle tube of the adjustment mta structure 4 to adjust the sample liquid to a constant volume, and further, the buffer pump 7 is operated in response to a signal from the control unit 3 to supply a constant volume of buffer from the buffer tank 6. Adjust sample states to 4-5.

8は滴定部で、滴定セル9と、電位差滴定装置10と、
前記滴定セル9と連結され広孔杼硬材質製スライドバル
ブ11を介装したサンプル排出管12と、この排出サン
プルが貯蔵される排液タンク13と、硝酸銀水溶液が収
容された滴定液タンク14と、このVlii1!銀水溶
液を前記滴定セル9に導入する滴定液ポンプ15と、洗
rp液が収容された洗浄液タンク16と、この洗浄液を
滴定セル9に送る洗浄液ポンプ17と、電位差滴定を制
御し、定B1結果を演算する自動滴定演算部18とから
構成されている。また、前記電位差滴定装置1oは検知
電極と、比較′/11極と、け1メーターを具備してい
るが、この検知N極には、第2図に示したように研摩素
子が配設されている。即ち、第2図中19は支持管、2
0は支持管19に取付けられた検知電極であり、前記支
持管19内にはマグネットスターラー21が配設されて
いると共に、検知電極20の感応膜にはマグネットスタ
ーラー21の作用で研II素子22が接触し、マグネッ
トスターラ−21の作用で研摩素子22が回転し、これ
によって検知型1f120の感応膜が研摩されるように
なっている。なお、23はリード線である。
8 is a titration unit, which includes a titration cell 9, a potentiometric titration device 10,
A sample discharge pipe 12 connected to the titration cell 9 and interposed with a slide valve 11 made of a wide-hole hard material, a drain tank 13 in which the discharged sample is stored, and a titrant tank 14 in which an aqueous silver nitrate solution is stored. , this Vlii1! A titrant pump 15 that introduces the aqueous silver solution into the titration cell 9, a cleaning liquid tank 16 that contains a washing RP solution, a cleaning liquid pump 17 that sends this cleaning liquid to the titration cell 9, and controls the potentiometric titration and calculates the results of the titration B1. and an automatic titration calculation section 18 that calculates. Further, the potentiometric titration apparatus 1o is equipped with a detection electrode, a comparison '/11 pole, and a scale meter, and a polishing element is disposed on the detection N pole as shown in FIG. ing. That is, 19 in FIG. 2 is a support tube;
0 is a detection electrode attached to a support tube 19. A magnetic stirrer 21 is disposed inside the support tube 19, and a polishing II element 22 is attached to the sensitive film of the detection electrode 20 by the action of the magnetic stirrer 21. contact, and the polishing element 22 rotates under the action of the magnetic stirrer 21, thereby polishing the sensitive film of the detection type 1f120. Note that 23 is a lead wire.

前記滴定セル9内には、前記r+1Itl礪構4の計量
チューブに満されたサンプル液が制tlll装置3から
の信号によって流路が切換えられ、緩困液ポンプ7によ
って押し出されることにより注入される。
The sample liquid filled in the measuring tube of the r+1Itl cell 4 is injected into the titration cell 9 by being pushed out by the titration liquid pump 7 after the flow path is switched by a signal from the control device 3. .

そして、このように滴定セル9内にサンプル液が注入さ
れた後、自動滴定演算部18からの信号によって滴定液
ポンプ15が動作し、滴定液タンク14内の硝llI銀
水溶液(滴定剤)が滴定セル9内に滴下され、サンプル
液の電位差滴定が行なわれる。同時に自動滴定演算部1
8が滴下された該滴定剤の容量を自動的に累積計拝する
。上記滴定による滴定反応は、電極20で検知され、?
I!wA20に接続された電位差滴定装置Pf10によ
り電位変化として測定され、電位差滴定法に従った計測
がなされる。滴定反応による当量点は、電位差滴定後[
10から自動滴定WAn部18へ電気信号として入力さ
れた電位変化を自動滴定演算部18で自動的に演算(例
えば公知の終点検出法に従った#FJ)することにより
求められ、該当最点における滴定剤濃度、求める金濃度
ら自動的に演算され、求める測定値が得られる。なお、
図示していないが、自動滴定演算部18は、測定値の自
動印字などの記録のためにプリンターが接続され、結果
がプリンターに印字される。
After the sample liquid is injected into the titration cell 9 in this way, the titrant pump 15 is operated by a signal from the automatic titration calculation unit 18, and the nitrate silver aqueous solution (titrant) in the titrant tank 14 is pumped. The sample liquid is dropped into the titration cell 9, and potentiometric titration of the sample liquid is performed. At the same time, automatic titration calculation section 1
8 automatically accumulates the volume of the titrant added. The titration reaction caused by the above titration is detected by the electrode 20, and the ?
I! The potential change is measured by the potentiometric titrator Pf10 connected to wA20, and measurement is performed according to the potentiometric titration method. The equivalence point due to the titration reaction is determined after potentiometric titration [
10 to the automatic titration WAn section 18 as an electrical signal, the automatic titration calculation section 18 automatically calculates the potential change (for example, #FJ according to the known end point detection method), and The titrant concentration and the desired gold concentration are automatically calculated to obtain the desired measured value. In addition,
Although not shown, a printer is connected to the automatic titration calculation unit 18 for automatic printing of measured values and other recording purposes, and the results are printed on the printer.

この場合、この電位差滴定は/lイオンとシアン化金と
の錯形成反応と考えられ、滴定の進行とともに沈殿を生
じ、このような沈殿生成滴定の連続自vJ装置の場合は
次第に電極20の感応膜が沈殿物で覆われて電位が変動
したり、不安定になるが、上記装置ではff1i橿2o
の感応膜に研Jl素子22を密着させ、感応膜表面を研
摩しながら滴定するので、電位が安定し、電位が変動す
る不都合が避けられて、長期間安定した測定がなされ、
電極電位は6ケ月間の長期運転においても電位の変化が
5mV以内に抑えられる。
In this case, this potentiometric titration is considered to be a complex formation reaction between /l ions and gold cyanide, and as the titration progresses, precipitation occurs, and in the case of a continuous automatic vJ apparatus for such precipitate-forming titration, the sensitivity of the electrode 20 gradually increases. The membrane is covered with precipitates and the potential fluctuates or becomes unstable, but with the above device,
The polished Jl element 22 is brought into close contact with the sensitive membrane, and the titration is carried out while polishing the surface of the sensitive membrane, so the potential is stabilized, the inconvenience of potential fluctuations is avoided, and stable measurements can be made over a long period of time.
Changes in electrode potential can be suppressed to within 5 mV even during long-term operation for 6 months.

上述した電位差滴定後は、滴定液ポンプ15の動作が停
止トし、次いでυll1lPII3からの(F4号によ
って広孔径硬材′IR製スライドバルブ11が開放し、
滴定済のサンプル液がサンプル排出!f12を通って排
液タンク13に排出されると共に洗浄液ポンプ17が動
作し、洗浄液タンク16内の洗浄液が滴定セル9内に導
入され洗浄が行なわれる。この場合、サンプル液を排出
するための弁口として通常のm磁弁などを用いるとサン
プル液中の沈殿物が目詰りするなどの不具合を生じるお
それがあるが、上記vtW1では内径10!IIm以上
の広い孔径を有し、例えばセラミックなどの硬い材質に
より製作されたすり合せのスライドバルブを用いている
ので、このような沈殿物による目詰りを確実に防止し得
る。目詰りを防止するうえでピンチバルブを用いること
も有効である。
After the above-mentioned potentiometric titration, the operation of the titrant pump 15 is stopped, and then the wide-pore hardwood IR slide valve 11 is opened by the (F4) from υll1lPII3.
The titrated sample liquid is discharged as a sample! At the same time, the cleaning liquid pump 17 is operated, and the cleaning liquid in the cleaning liquid tank 16 is introduced into the titration cell 9 for cleaning. In this case, if a normal magnetic valve or the like is used as the valve port for discharging the sample liquid, there is a risk of problems such as clogging due to sediment in the sample liquid, but in the above vtW1, the inner diameter is 10! Since a ground slide valve having a wide hole diameter of IIm or more and made of a hard material such as ceramic is used, clogging due to such deposits can be reliably prevented. Using a pinch valve is also effective in preventing clogging.

以上のように、順次サンプリング、PHy4整、電極研
摩、排液、洗浄が行なわれ、1回の測定が終了するが、
このような測定はIJJ till IAIt 3によ
りυ制御され、連続的に繰返し行なうことにより金メツ
キ液中の金i11度の自動連続分析がなされる。
As mentioned above, sampling, PHy4 adjustment, electrode polishing, drainage, and cleaning are performed in order, and one measurement is completed.
Such measurements are controlled by IJJ till IAIt 3, and by continuously repeating them, automatic continuous analysis of gold i11 degrees in the gold plating solution is performed.

上記金濃度連続測定装置はメッキ槽の数に応じてサンプ
リング機構を増設することによって金メツキラインを完
全にインラインで分析することを可能にし、金メッキ液
の維持管理を容易にする機能を有する。。
The above continuous gold concentration measuring device has the function of making it possible to completely analyze the gold plating line in-line by adding sampling mechanisms according to the number of plating tanks, and facilitating the maintenance and management of the gold plating solution. .

なお、上記装置はあくまで実施例の説明であり、上記1
i置の構成は本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更
して差払えない。
Note that the above device is merely an explanation of an example, and the above
The configuration of the i-position may be modified in various ways without departing from the gist of the present invention.

次に、本発明方法の実施例を示すが、本発明方法は下記
の実施例に限定されるものではない。
Next, examples of the method of the present invention will be shown, but the method of the present invention is not limited to the following examples.

(実施例2) Au(I)のみを105)/J金含有るシアン化金カリ
水溶液2 xiに0.5Nフタル酸水素カリウム水溶液
を201!加え、PF14〜5に調整した。こ度、金<
m価)′s度とも、実際と測定との差及び繰返し間の差
が少なく、メッキ現場での実施に耐えるに充分な値、精
度を満足していることが判る。
(Example 2) Add 0.5N potassium hydrogen phthalate aqueous solution to 201! In addition, the PF was adjusted to 14-5. This time, gold
It can be seen that both the m value and the measured value and the difference between repetitions are small, and the values and accuracy are sufficient to withstand plating work.

(実施例5) m価及びm価とも濃度未知の実使用のシアン化金メッキ
液101!に0.5Nフタル酸水素カリウム水溶液を1
0011加え、pH4〜5に調整した。
(Example 5) Practical gold cyanide plating solution 101 with unknown concentrations for both m value and m value! 0.5N potassium hydrogen phthalate aqueous solution
0011 was added, and the pH was adjusted to 4 to 5.

以下実施例1〜3と同様の方法により電位差滴定を行な
い、第6図及び第2表の結果を得た。
Thereafter, potentiometric titration was carried out in the same manner as in Examples 1 to 3, and the results shown in FIG. 6 and Table 2 were obtained.

実際のメッキ液の場合、最初はすべて1価の金として投
入され、メッキが進行するにつれて次第に3価の金が増
加する。サンプルを1o1!採取ずれば、3価の金が1
11iの金に対して5%Pi!0生じてくるならば分別
滴定が可能であることを示している。このにうに本発明
の測定法は金メツキ液中の1価、3価の分別測定を可能
にするものである。
In the case of an actual plating solution, all monovalent gold is initially introduced, and as plating progresses, trivalent gold gradually increases. 1/1 sample! If the extraction is different, trivalent gold becomes 1
5% Pi for 11i gold! If 0 occurs, it indicates that fractional titration is possible. In this way, the measuring method of the present invention makes it possible to separately measure monovalent and trivalent components in a gold plating solution.

〔実施例6〕 実使用のシアン化金メッキ液4秒(但し、このうちの1
種は濃度PPMオーダーのコバルトを含有し、他の1種
はIi1度%オーダーのニッケルを含有している)51
!に0.5Nフタル酸水素カリウム水溶液を501!加
え、け14〜5に調整した。以下実施例1〜4と同様に
して電位差滴定を行ない、また、比較のために上記4種
のシアン化金メッキ液の重量分析を行ない、第3表の結
果を得た。
[Example 6] Actually used cyanide gold plating solution for 4 seconds (however, one of these
One species contains cobalt with a concentration on the order of PPM, and the other contains nickel with a concentration on the order of 1 degree %)51
! Add 0.5N potassium hydrogen phthalate aqueous solution to 501! In addition, the number was adjusted to 14-5. Thereafter, potentiometric titration was carried out in the same manner as in Examples 1 to 4, and for comparison, the above-mentioned four types of cyanide gold plating solutions were analyzed by weight, and the results shown in Table 3 were obtained.

第3表の結果より、いずれも!¥!m分析との比較で差
が±5%幅に入り、コバルトやニッケルなどの他の共存
物の影響を受けることがない。従って本発明のシアン化
金メッキ液中の金濃度測定法は、極めて実用的に良好な
方法であることが認められた。
From the results in Table 3, both! ¥! Compared to m analysis, the difference is within ±5% and is not affected by other coexisting substances such as cobalt and nickel. Therefore, the method of measuring gold concentration in a cyanide gold plating solution of the present invention was recognized to be an extremely practical method.

l貝」日U[ 本発明に係るシアン化金メッキ液中の金濃度測定法は、
硝酸銀を滴定剤として用いた電位差滴定法であるために
111Iiの金濃度と■価の金濃度とを分別定量するこ
とができる。更に、有am緩衝液でI=tlvI4!!
1mをした場合には、シアンガスを発生することなく、
かつ電位滴定曲線が当山点近傍でよりシt・−ブな変化
を示し、従って測定が安全で^精度に行なえるようにな
り、更に本発明に係る検知電極として、電極研摩のため
に研摩素子を配設した場合には、シアン化金メッキ液中
のシアン化金イオンと滴定剤との沈殿反応を妨害するこ
となく、かつ電位差滴定曲線が当分点近傍でよりシャー
プとなり、従ってメッキ作業現場のメッキ液槽とインラ
インで接続して自動測定を行なうに充分な感度、精度、
簡便性などの特性を有するという効果を確実に発揮する
The gold concentration measurement method in a cyanide gold plating solution according to the present invention is as follows:
Since this is a potentiometric titration method using silver nitrate as a titrant, it is possible to determine the gold concentration of 111Ii and the gold concentration of valence 2 separately. Furthermore, in am buffer I=tlvI4! !
When the distance is 1m, no cyan gas is generated.
In addition, the potentiometric titration curve shows a sharper change near the peak point, so that measurements can be carried out safely and accurately. When a gold cyanide plating solution is installed, the precipitation reaction between the gold cyanide ions and the titrant is not interfered with, and the potentiometric titration curve becomes sharper near the current point. Sufficient sensitivity, accuracy, and
It definitely exhibits the effect of having characteristics such as simplicity.

また、本発明に係る連続測定装置は、上記の方法を応用
したものであり、従って上記方法が有する効果が発揮さ
れるのは勿論のこと、更に電極研摩を行なうようにした
ので、電極表面の沈殿生成物による汚架の何者、蓄積が
防止され、従って繰返し、連続測定に対し長1月安定な
測定が保障され、より簡便な自動測定が可能になるなど
の効果を有する。
In addition, the continuous measurement device according to the present invention is an application of the above method, and therefore not only can the effects of the above method be exhibited, but also the electrode surface is polished. This method has the following effects: it prevents the accumulation of fouling of the rack due to precipitated products, ensures stable measurement over a long period of time for repeated and continuous measurements, and enables simpler automatic measurement.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係る金澗度測定装向を表わす系統図、
第2図は同装置に用いる?I極部の断面図、第3〜6図
はそれぞれ本発明方法の*施例により得られる電位差滴
定曲線の一例を示す。 1・・・サンプリング機構、2・・・金メツキ液槽、3
・・・制tlIl装置、4・・・田調整機構、5・・・
州調整部、6・・・am液タンク、7・・・all液ポ
ンプ、8・・・滴定部、9・・・滴定セル、 10・・・電位差滴定装置、 11・・・広孔径硬材flI製スライドバルブ、12・
・・サンプル排出管、13・・・排液タンク、14・・
・滴定液タンク、15・・・滴定液ポンプ、16・・・
洗浄液タンク、17・・・洗浄液ポンプ、18・・・自
動滴定演算部、19・・・支持管、20・・・検知ff
i極、21・・・マグネットスターラー、22・・・r
i4a!I素子、23・・・リード線出願人 rR器化
学計器株式会社 代理人 弁理士 小 島 隆 司 第1図 第2図 第3図 検知電極の電位 100         500mV 第4図 検知電極の電位 200         500mV 検知電極の電位 100         500mV 第6図 検知電極の電位
FIG. 1 is a system diagram showing a metallurgical degree measuring device according to the present invention;
Is Figure 2 used for the same device? The cross-sectional view of the I-pole portion and FIGS. 3 to 6 each show an example of a potentiometric titration curve obtained by *Embodiment of the method of the present invention. 1... Sampling mechanism, 2... Gold plating liquid tank, 3
... control tlIl device, 4... field adjustment mechanism, 5...
state adjustment department, 6...am liquid tank, 7...all liquid pump, 8...titration unit, 9...titration cell, 10...potentiometric titration device, 11...wide pore hardwood FlI slide valve, 12.
...Sample discharge pipe, 13...Drainage tank, 14...
・Titrant tank, 15...Titrant pump, 16...
Cleaning liquid tank, 17... Cleaning liquid pump, 18... Automatic titration calculation section, 19... Support tube, 20... Detection ff
i pole, 21...magnetic stirrer, 22...r
i4a! I element, 23...Lead wire Applicant: rR Kikai Kagaku Keiki Co., Ltd. Agent, Patent Attorney Takashi Kojima Figure 1 Figure 2 Figure 3 Potential of sensing electrode 100 500 mV Figure 4 Potential of sensing electrode 200 500 mV Detection Electrode potential 100 500mV Figure 6 Detection electrode potential

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、シアン化金メッキ液中の I 価の金濃度、III価の金
濃度又は全金濃度を測定するにあたり、硝酸銀水溶液を
滴定剤として用い、該滴定剤とシアン化金メッキ液との
電位差滴定により上記の金濃度を測定することを特徴と
するシアン化金メッキ液中の金濃度測定方法。 2、シアン化金メッキ液を有機酸緩衝液でpH4〜5に
調整したものを電位差滴定するようにした特許請求の範
囲第1項記載の方法。 3、電位差滴定のための検知電極として銀イオン選択性
電極又は銀電極を用いた特許請求の範囲第1項又は第2
項記載の方法。 4、シアン化金メッキ液をサンプリングするサンプリン
グ機構と、このシアン化金メッキ液のサンプルをpH調
整するpH調整機構と、pH調整されたサンプルの電位
差滴定を行なう滴定部とを具備し、前記滴定部には検知
電極と共にこの電極の感応膜を研摩する研摩素子が配設
されてなることを特徴とするシアン化金メッキ液中の金
濃度測定装置。 5、滴定部に広孔径硬材質製スライドバルブを介装する
サンプル排出管が配設され、このバルブの開放動作で滴
定されたサンプルが排出されるようにした特許請求の範
囲第4項記載の装置。 6、滴定部に配設された滴定セルにpH調整されたサン
プル液の注入が完了したことを検知した後滴定剤の滴定
を始動させ、滴定中の滴定剤消費容量を累積計算し、か
つ滴定部からの電位変化を信号として入力して滴定反応
の当量点、及び該当量点でのサンプル濃度を演算する自
動滴定濃度演算機構が配設された特許請求の範囲第4項
又は第5項に記載の装置。
[Claims] 1. When measuring the I-valent gold concentration, III-valent gold concentration, or total gold concentration in a cyanide gold plating solution, an aqueous silver nitrate solution is used as a titrant, and the titrant and the cyanide gold plating solution are mixed together. A method for measuring the gold concentration in a cyanide gold plating solution, comprising measuring the gold concentration as described above by potentiometric titration with a cyanide gold plating solution. 2. The method according to claim 1, wherein a gold cyanide plating solution adjusted to pH 4 to 5 with an organic acid buffer is subjected to potentiometric titration. 3. Claim 1 or 2 using a silver ion selective electrode or a silver electrode as a sensing electrode for potentiometric titration
The method described in section. 4. A sampling mechanism for sampling a gold cyanide plating solution, a pH adjustment mechanism for adjusting the pH of a sample of the gold cyanide plating solution, and a titration section for performing potentiometric titration of the pH-adjusted sample, An apparatus for measuring gold concentration in a cyanide gold plating solution, characterized in that a detection electrode and a polishing element for polishing a sensitive film of the electrode are provided. 5. The titration unit is provided with a sample discharge pipe having a wide-pore slide valve made of hard material, and the titrated sample is discharged by opening the valve. Device. 6. After detecting the completion of injection of the pH-adjusted sample liquid into the titration cell installed in the titration unit, start titration of the titrant, cumulatively calculate the volume of titrant consumed during titration, and perform titration. Claims 4 or 5 include an automatic titration concentration calculation mechanism that inputs the potential change from the part as a signal and calculates the equivalence point of the titration reaction and the sample concentration at the corresponding amount point. The device described.
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JP2017040630A (en) * 2015-08-21 2017-02-23 Jx金属株式会社 Method for analyzing gold in solution

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017040630A (en) * 2015-08-21 2017-02-23 Jx金属株式会社 Method for analyzing gold in solution

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