JPS6213600A - 電気メツキ液濃縮回収方法およびその装置 - Google Patents
電気メツキ液濃縮回収方法およびその装置Info
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- JPS6213600A JPS6213600A JP15187685A JP15187685A JPS6213600A JP S6213600 A JPS6213600 A JP S6213600A JP 15187685 A JP15187685 A JP 15187685A JP 15187685 A JP15187685 A JP 15187685A JP S6213600 A JPS6213600 A JP S6213600A
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- plating solution
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、電気メッキラインにおける電気メッキ液の濃
縮回収方法およびその装置に関する。
縮回収方法およびその装置に関する。
（従来の技術）
電気メッキライン、たとえば鋼板等に電気メッキラ施す
竪型電気メッキラインにおいては、特に最終メッキセル
出側において、板幅方向での乾き速度の差によってメッ
キ液（ｐＨ１，２〜１．３程度）による酸侵食、酸腐食
の度合が変わり、メッキ鋼板表面に焼むらが発生し、品
質上問題となる。そこで、第３図に示すように、メッキ
セル１出側直上で、メッキ液の乾かない間に、洗滌スプ
レーノズル２から水を噴射して水洗を行ない、乾きの均
一性およびメッキ液の洗滌を図っている。ところが、メ
ッキセル直上で水洗スプレーをしているため洗滌水の回
収は困難であシ、洗滌水はメッキセル１内に混入するこ
ととなる。この洗滌水混入量は、鋼板Ｓによる持出し液
量（ドラッグアウト量）を上まわシ、メッキセル液面の
均一コントロール及び、メッキ液濃度コントロールが出
来なくなる。このため、従来は、メッキ液循環タンク３
から余剰メッキ液をダンプアウトして廃棄していたＯ第
３図において、４はコンダクタロール、５はジンクロー
ルである０ なお、メッキ槽から汲み出さするメッキ液を濃度管理し
てメッキ槽に回収する方法としては、たとえば、特公昭
５７−２７９５９号に開示さｎるものがある。この方法
は、メッキ液を大気濃縮し、この濃縮液に随伴さルる不
純金属塩を大気酸化によシ水酸化物として除去するとと
もに、余剰メッキ金属塩を高速電解で金属として回収し
、メッキ液濃度やｐＨを適正にコントロールしようとす
るものである。
竪型電気メッキラインにおいては、特に最終メッキセル
出側において、板幅方向での乾き速度の差によってメッ
キ液（ｐＨ１，２〜１．３程度）による酸侵食、酸腐食
の度合が変わり、メッキ鋼板表面に焼むらが発生し、品
質上問題となる。そこで、第３図に示すように、メッキ
セル１出側直上で、メッキ液の乾かない間に、洗滌スプ
レーノズル２から水を噴射して水洗を行ない、乾きの均
一性およびメッキ液の洗滌を図っている。ところが、メ
ッキセル直上で水洗スプレーをしているため洗滌水の回
収は困難であシ、洗滌水はメッキセル１内に混入するこ
ととなる。この洗滌水混入量は、鋼板Ｓによる持出し液
量（ドラッグアウト量）を上まわシ、メッキセル液面の
均一コントロール及び、メッキ液濃度コントロールが出
来なくなる。このため、従来は、メッキ液循環タンク３
から余剰メッキ液をダンプアウトして廃棄していたＯ第
３図において、４はコンダクタロール、５はジンクロー
ルである０ なお、メッキ槽から汲み出さするメッキ液を濃度管理し
てメッキ槽に回収する方法としては、たとえば、特公昭
５７−２７９５９号に開示さｎるものがある。この方法
は、メッキ液を大気濃縮し、この濃縮液に随伴さルる不
純金属塩を大気酸化によシ水酸化物として除去するとと
もに、余剰メッキ金属塩を高速電解で金属として回収し
、メッキ液濃度やｐＨを適正にコントロールしようとす
るものである。
（発明が解決しようとする問題点）
上記し友ような、メッキ液をダンプアウトすル方法では
、ダンプアウトによるメッキ液の損失はいうまでもなく
、ダンプアウトさｎたメッキ液な中和処理するための設
備６（第３図）および中和処理に多大の費用を要する問
題がある０１ｆｔ、メッキ液を大気との熱交換で蒸発濃
縮する方法では、Ｆ ｅ ＳＯ４等はメッキ液濃縮操作
温度（８７，７℃）で簡単に空気酸化さｎ％ Ｆｅ３＋
が生成さｎ％Ｆｅ系メッキにおいてメッキ性能上問題と
なる。
、ダンプアウトによるメッキ液の損失はいうまでもなく
、ダンプアウトさｎたメッキ液な中和処理するための設
備６（第３図）および中和処理に多大の費用を要する問
題がある０１ｆｔ、メッキ液を大気との熱交換で蒸発濃
縮する方法では、Ｆ ｅ ＳＯ４等はメッキ液濃縮操作
温度（８７，７℃）で簡単に空気酸化さｎ％ Ｆｅ３＋
が生成さｎ％Ｆｅ系メッキにおいてメッキ性能上問題と
なる。
そこで、本発明の目的は、メッキ液のダンプアウトによ
る損失等を回避することができ、Ｆｅ３＋を生じること
なくメッキ液を濃縮回収することのできる方法および装
置を提供することにある０（問題点を解決するための手
段） 上記問題点を解決するために、本第１の発明は、電気メ
ッキラインから抜き出されたメッキ液をメッキ液循環夕
／りを介して再循環させる電気メッキ液循環系において
、メッキ液循環タンクから定常的に一定量のメッキ液を
抜き出し、これを大気と接触させない状態で蒸発濃縮処
理して一定水分量を蒸発させた後、メッキ液循環タンク
を介してメッキラインに返送することな特徴とするもの
である。
る損失等を回避することができ、Ｆｅ３＋を生じること
なくメッキ液を濃縮回収することのできる方法および装
置を提供することにある０（問題点を解決するための手
段） 上記問題点を解決するために、本第１の発明は、電気メ
ッキラインから抜き出されたメッキ液をメッキ液循環夕
／りを介して再循環させる電気メッキ液循環系において
、メッキ液循環タンクから定常的に一定量のメッキ液を
抜き出し、これを大気と接触させない状態で蒸発濃縮処
理して一定水分量を蒸発させた後、メッキ液循環タンク
を介してメッキラインに返送することな特徴とするもの
である。
また、本第２の発明は、電気メッキラインから抜き出さ
れたメッキ液をメッキ液循環タンクを介して再循環させ
る電気メッキ液循環系において、メッキ液循環タンクか
ら一定量のメッキ液を定常的に抜き出す手段と、抜き出
さｎｆｃメッキ液を大気と接触させることなく蒸発濃縮
させる手段と、濃縮メッキ液をメッキ液循環タンクを介
して電気メッキラインに返送する手段とを備えたことを
特徴とするものである０（作用） 本発明によ几ば、メッキ液循礫タンクかラ一定量のメッ
キ液を定常的に抜き出し、これを大気と接触させないで
蒸発濃縮して余剰水を除去し、メッキ液循環タンクを介
してメッキラインへ返送するので、ダンプアウトによる
メッキ液ロスの回避および中和処理費の軽減を達成する
ことができる。また、大気と接触しない状態で蒸発濃縮
処理が行なわｎるので、Ｆｅ３＋。発生を防ぐことがで
き、メッキ性状の悪化を防止することかできる０ （発明の具体例） つぎに、本発明の具体例を図面に基いて説明する０第１
図は、本発明のメッキ液濃縮回収装置の一例を示す概念
図であるＯ たとえば鋼板等の竪型電気メッキラインにおいて、複数
のメッキセル１から抜き出されたメ、キ液は、配管１ａ
を介してメッキ液循環タンク３に貯留さｎる。この際、
図示の例では、最終メッキセル１出側直上には、最終メ
ッキセル通過後のメッキ鋼板の幅方向乾き速度を一定に
するとともにメッキ液を洗滌する目的で洗滌水スプレー
が行なわｎておシ、最終メッキセル１からは洗滌水の混
入し几メッキ液がメッキ液循環タンク３に導入さｎるこ
ととなシ、メッキ液循環タンク中のメッキ液は希釈及増
量さｎるＯメッキ液循環タンク３からは、ポンプ１１１
流量制御装置１２を介して、一定量のメッキ液が定常的
に抜き出さｎ、濃縮設備１０に供給さｎる〇 濃縮設備１０は、第１図に概念的に示すように、メッキ
液循環タンクから供給さｎたメッキ液を、密閉容器内で
、大気を遮断した状態で蒸発濃縮する濃縮装置１３と、
濃縮装置の熱源としてのスチームを温度制御装置１４を
介して濃縮装置１３に供給するスチームライン１５と、
濃縮装置１３で発生したミストを排気する排気ライン１
６と、ミストから気水分離を行なう気水分離器１７とを
備えて構成さｎる〇 濃縮装置１３に供給さｎたメッキ液は、スチームによシ
加熱さｎて余剰水分が蒸発さｎ、濃縮液となって濃縮装
置下部に貯留さｎ１ポンプ１８および流量制御装置１９
を介してメッキ液循環タンク３に返送さｎる。
れたメッキ液をメッキ液循環タンクを介して再循環させ
る電気メッキ液循環系において、メッキ液循環タンクか
ら一定量のメッキ液を定常的に抜き出す手段と、抜き出
さｎｆｃメッキ液を大気と接触させることなく蒸発濃縮
させる手段と、濃縮メッキ液をメッキ液循環タンクを介
して電気メッキラインに返送する手段とを備えたことを
特徴とするものである０（作用） 本発明によ几ば、メッキ液循礫タンクかラ一定量のメッ
キ液を定常的に抜き出し、これを大気と接触させないで
蒸発濃縮して余剰水を除去し、メッキ液循環タンクを介
してメッキラインへ返送するので、ダンプアウトによる
メッキ液ロスの回避および中和処理費の軽減を達成する
ことができる。また、大気と接触しない状態で蒸発濃縮
処理が行なわｎるので、Ｆｅ３＋。発生を防ぐことがで
き、メッキ性状の悪化を防止することかできる０ （発明の具体例） つぎに、本発明の具体例を図面に基いて説明する０第１
図は、本発明のメッキ液濃縮回収装置の一例を示す概念
図であるＯ たとえば鋼板等の竪型電気メッキラインにおいて、複数
のメッキセル１から抜き出されたメ、キ液は、配管１ａ
を介してメッキ液循環タンク３に貯留さｎる。この際、
図示の例では、最終メッキセル１出側直上には、最終メ
ッキセル通過後のメッキ鋼板の幅方向乾き速度を一定に
するとともにメッキ液を洗滌する目的で洗滌水スプレー
が行なわｎておシ、最終メッキセル１からは洗滌水の混
入し几メッキ液がメッキ液循環タンク３に導入さｎるこ
ととなシ、メッキ液循環タンク中のメッキ液は希釈及増
量さｎるＯメッキ液循環タンク３からは、ポンプ１１１
流量制御装置１２を介して、一定量のメッキ液が定常的
に抜き出さｎ、濃縮設備１０に供給さｎる〇 濃縮設備１０は、第１図に概念的に示すように、メッキ
液循環タンクから供給さｎたメッキ液を、密閉容器内で
、大気を遮断した状態で蒸発濃縮する濃縮装置１３と、
濃縮装置の熱源としてのスチームを温度制御装置１４を
介して濃縮装置１３に供給するスチームライン１５と、
濃縮装置１３で発生したミストを排気する排気ライン１
６と、ミストから気水分離を行なう気水分離器１７とを
備えて構成さｎる〇 濃縮装置１３に供給さｎたメッキ液は、スチームによシ
加熱さｎて余剰水分が蒸発さｎ、濃縮液となって濃縮装
置下部に貯留さｎ１ポンプ１８および流量制御装置１９
を介してメッキ液循環タンク３に返送さｎる。
一方、濃縮装置１３内で発生したミストは排気ライン１
６を通って気水分離器１７に導かｎ１ペーパーとドレン
に分離さｎ１ペ一パー分は大気放出さｎる。気水分離器
で分離さｎたドレンは、メッキ液の加熱に供さル冷却さ
ｎてドレンとなったスチームとともに系外に排出さｎる
〇又は、純水回収さｎる。
６を通って気水分離器１７に導かｎ１ペーパーとドレン
に分離さｎ１ペ一パー分は大気放出さｎる。気水分離器
で分離さｎたドレンは、メッキ液の加熱に供さル冷却さ
ｎてドレンとなったスチームとともに系外に排出さｎる
〇又は、純水回収さｎる。
このメッキ液濃縮回収系の運転の一例を示すと、ｐＨ１
，２〜１．３．５Ｏ４−約２０％、温度６０℃±５℃の
メッキ液を１ａｍ／Ｈで抜き出し、１４９℃、５．０
ｋｇ／ｃｉ！のスチームにより減圧密閉式の濃縮装置１
３内で濃縮処理すると、２ ｉ／ａの水分蒸発が達成さ
；ｎ−％ｐＨ１，１〜１．２．５Ｏｆｆ−約２５チ、温
度約７０℃の濃縮メッキ液が８ｍ／Ｈでメッキ液循環タ
ンク３に回収さｎる。この場合、メッキラインのメッキ
液ホールド量約２５０ｍが大きいためｓ８ｍ／Ｈ程度の
濃縮メッキ液が混入しても、全体として薄めら１１ メ
ッキ性状に影響を与えることはない。また、メッキ液濃
度自動調節装置が設けらｎている場合には、この装置に
より液濃度が自動的に調整さｎるので問題はない。
，２〜１．３．５Ｏ４−約２０％、温度６０℃±５℃の
メッキ液を１ａｍ／Ｈで抜き出し、１４９℃、５．０
ｋｇ／ｃｉ！のスチームにより減圧密閉式の濃縮装置１
３内で濃縮処理すると、２ ｉ／ａの水分蒸発が達成さ
；ｎ−％ｐＨ１，１〜１．２．５Ｏｆｆ−約２５チ、温
度約７０℃の濃縮メッキ液が８ｍ／Ｈでメッキ液循環タ
ンク３に回収さｎる。この場合、メッキラインのメッキ
液ホールド量約２５０ｍが大きいためｓ８ｍ／Ｈ程度の
濃縮メッキ液が混入しても、全体として薄めら１１ メ
ッキ性状に影響を与えることはない。また、メッキ液濃
度自動調節装置が設けらｎている場合には、この装置に
より液濃度が自動的に調整さｎるので問題はない。
メッキ液中の水分蒸発量は熱源のスチームの増量で調節
することができる。濃縮液の製造に供さｒｔ、ａスチー
ムは、１４９℃から約９０℃に冷却さｎ１凝縮ドレンと
なって排出さｎる０また、濃縮装置１３内で発生するミ
ストの上昇スピードはＱ、 ５ｍ／Ｓｅｃ以下にコント
ロールさｎる０ミスト上昇スピードをＱ、 ５７１１
／ｓｅｅ以下に抑えることにより、ＨｇＳＯ４のミスト
同伴を避けることができる。
することができる。濃縮液の製造に供さｒｔ、ａスチー
ムは、１４９℃から約９０℃に冷却さｎ１凝縮ドレンと
なって排出さｎる０また、濃縮装置１３内で発生するミ
ストの上昇スピードはＱ、 ５ｍ／Ｓｅｃ以下にコント
ロールさｎる０ミスト上昇スピードをＱ、 ５７１１
／ｓｅｅ以下に抑えることにより、ＨｇＳＯ４のミスト
同伴を避けることができる。
本発明に使用さｎる濃縮装置としては、大気と接触する
ことなくメッキ液を蒸発濃縮できるものであｎば何ｎで
ありてもよく、たとえば、単効用蒸発缶、多動用蒸発缶
、真空蒸発缶等が好適である。なお、メッキ液を高温で
濃縮処理する濃縮装置では１．耐酸性について十分な配
慮を払うことが望ましく、濃縮装置はたとえばジルコニ
ウムチタンまたはチタン−ステンレスツクラッド材で構
成さｎる。
ことなくメッキ液を蒸発濃縮できるものであｎば何ｎで
ありてもよく、たとえば、単効用蒸発缶、多動用蒸発缶
、真空蒸発缶等が好適である。なお、メッキ液を高温で
濃縮処理する濃縮装置では１．耐酸性について十分な配
慮を払うことが望ましく、濃縮装置はたとえばジルコニ
ウムチタンまたはチタン−ステンレスツクラッド材で構
成さｎる。
第２図に、本発明のメッキ液濃縮回収系に使用さｎる装
置の具体例を示す〇 第２図に示す装置において、濃縮装置１３はメッキ液を
通すためのパイプ１３ａと、管板１３ｂ、１３ｂにより
仕切らｆ′Ｌ′！ｃスチーム路１３ｃとから構成さｎる
０濃縮装置１３に導かｎたメ、キ液はパイプ１３ａを介
してスチームにより間接加熱さｎ、余剰水分が蒸発さｎ
て濃縮さｎるとともに、ペーパーが発生する。この時蒸
発界面でＨ２Ｓ Ｏ４ミスト同拌がある。
置の具体例を示す〇 第２図に示す装置において、濃縮装置１３はメッキ液を
通すためのパイプ１３ａと、管板１３ｂ、１３ｂにより
仕切らｆ′Ｌ′！ｃスチーム路１３ｃとから構成さｎる
０濃縮装置１３に導かｎたメ、キ液はパイプ１３ａを介
してスチームにより間接加熱さｎ、余剰水分が蒸発さｎ
て濃縮さｎるとともに、ペーパーが発生する。この時蒸
発界面でＨ２Ｓ Ｏ４ミスト同拌がある。
濃縮装置１３の頂部は配管を介して復水コンデンサ１７
Ａと連通しており、濃縮装置１３で発生したペーパーは
配管を通って復水コンデンサ１７Ａで凝縮さｎる。凝縮
液は廃液として封水装置２０に導か１１中和処理が施さ
ｎた後廃棄さｎる。また復水コンデンサ１７Ａ中のペー
パー中の不活性ガス（ｃｏ２．Ｎ２等）は真空ポンプ２
１によシミストセパレータ１７Ｂに導かｎ１気体分は大
気に放出さｎるとともに、液分は系外に排出さｎる０こ
の操作により、復水コンデンサ中への、不活性ガスの蓄
積を防止し、熱交換効率の低下を防止する。
Ａと連通しており、濃縮装置１３で発生したペーパーは
配管を通って復水コンデンサ１７Ａで凝縮さｎる。凝縮
液は廃液として封水装置２０に導か１１中和処理が施さ
ｎた後廃棄さｎる。また復水コンデンサ１７Ａ中のペー
パー中の不活性ガス（ｃｏ２．Ｎ２等）は真空ポンプ２
１によシミストセパレータ１７Ｂに導かｎ１気体分は大
気に放出さｎるとともに、液分は系外に排出さｎる０こ
の操作により、復水コンデンサ中への、不活性ガスの蓄
積を防止し、熱交換効率の低下を防止する。
本装置においては、濃縮装置におけるペーパー及びミス
トの槽内上昇スピードは％ ０．６ ｍ／Ｓｅｃ以下に
々る様設計さｎており、ミスト中のＨ２Ｓ ０４随伴を
防ぐことができる。また、ミスト中にＨ２ＳＯ４が含ま
ｎていたとしても、復水コンデンサ１７Ａにより凝縮さ
ｎ１廃液として中和処理に付さｎるので問題はない。さ
らに、濃縮装置１３中で発生するＮ２ 、０２− ＣＯ
２等のガスも真空ポンプ２１で排出さｎるので、復水コ
ンデンサー中へのガス蓄積による熱交換効率の低下を防
止することができる。
トの槽内上昇スピードは％ ０．６ ｍ／Ｓｅｃ以下に
々る様設計さｎており、ミスト中のＨ２Ｓ ０４随伴を
防ぐことができる。また、ミスト中にＨ２ＳＯ４が含ま
ｎていたとしても、復水コンデンサ１７Ａにより凝縮さ
ｎ１廃液として中和処理に付さｎるので問題はない。さ
らに、濃縮装置１３中で発生するＮ２ 、０２− ＣＯ
２等のガスも真空ポンプ２１で排出さｎるので、復水コ
ンデンサー中へのガス蓄積による熱交換効率の低下を防
止することができる。
なお、第２図において、２２は復水コンデンサの冷却水
用冷却塔である。
用冷却塔である。
（実施例）
第１図に示す装置を使用して、第１表に示す組成のメッ
キ液を１０ｍ”／Ｈで抜き出し、加熱側温度９０℃、メ
ッキ液側温度８７℃、濃縮槽内の圧力０．５気圧、水蒸
発量２ 、ｌ／Ｈの操業条件で濃縮処理を施したところ
、第２表に示す液組成の濃縮メッキ液を得ることができ
た。
キ液を１０ｍ”／Ｈで抜き出し、加熱側温度９０℃、メ
ッキ液側温度８７℃、濃縮槽内の圧力０．５気圧、水蒸
発量２ 、ｌ／Ｈの操業条件で濃縮処理を施したところ
、第２表に示す液組成の濃縮メッキ液を得ることができ
た。
第 １ 表 （濃縮前）
ＺｎＳＯ４・７Ｈ２０４８０ＩＫ９／ｍ”Ｎａ２Ｓ Ｏ
４９０ｋｇ／ｍ” Ｈ２ＳＯ４１４０に９／ゴ 純水 ９７０に９／ｄ Ｔ−Ｆｅ ５００ｐｐｍ以下ｐＨ１，２液
温 ６０’Ｃ 第 ２ 表 （濃縮後） ＺｎＳＯ４・７Ｈ２０５０８ｋｌ？／ｍ”Ｎａ２８０４
１２２ｋｇ／Ｉｒｌ’他成分分析省略 （発明の効果） 上記したように、本発明によれば、メッキライン中のメ
ッキ液に洗滌水等が混入して希釈される場合であっても
、メッキ液を濃縮回収することができるので、ダンプア
ウトを行なう必要がなく、ダンプアウトによるメッキ液
の損失を回避し、中和処理費の軽減を達成することがで
きる０ま友、大気と接触することなく蒸発濃縮処理さｎ
るので、Ｆｅ３＋の発生によるメッキ性状の劣化を防ぐ
ことができる。
４９０ｋｇ／ｍ” Ｈ２ＳＯ４１４０に９／ゴ 純水 ９７０に９／ｄ Ｔ−Ｆｅ ５００ｐｐｍ以下ｐＨ１，２液
温 ６０’Ｃ 第 ２ 表 （濃縮後） ＺｎＳＯ４・７Ｈ２０５０８ｋｌ？／ｍ”Ｎａ２８０４
１２２ｋｇ／Ｉｒｌ’他成分分析省略 （発明の効果） 上記したように、本発明によれば、メッキライン中のメ
ッキ液に洗滌水等が混入して希釈される場合であっても
、メッキ液を濃縮回収することができるので、ダンプア
ウトを行なう必要がなく、ダンプアウトによるメッキ液
の損失を回避し、中和処理費の軽減を達成することがで
きる０ま友、大気と接触することなく蒸発濃縮処理さｎ
るので、Ｆｅ３＋の発生によるメッキ性状の劣化を防ぐ
ことができる。
第１図は本発明によるメッキ液濃縮回収装置の概念図、
第２図はメッキ液濃縮回収系の具体例を示す概要図、第
３図は従来のメッキラインにおける抜出しメッキ液の処
理方法を示す概要図である。 １・・最終メッキセル ２・・洗滌スプレーノズル
３・・メッキ液循環タンク １０・・濃縮装置
１７・・気水分離器 １３−１１縮装置
第２図はメッキ液濃縮回収系の具体例を示す概要図、第
３図は従来のメッキラインにおける抜出しメッキ液の処
理方法を示す概要図である。 １・・最終メッキセル ２・・洗滌スプレーノズル
３・・メッキ液循環タンク １０・・濃縮装置
１７・・気水分離器 １３−１１縮装置
Claims (2)
- （１）電気メッキラインから抜き出したメッキ液をメッ
キ液循環タンクを介して再循環させる電気メッキ液循環
系において、メッキ液循環タンクから定常的に一定量の
メッキ液を抜き出し、これを大気と接触させない状態で
蒸発濃縮処理して一定水分量を蒸発させた後、メッキ液
循環タンクを介してメッキラインに返送することを特徴
とする電気メッキ液濃縮回収方法。 - （２）電気メッキラインから抜き出したメッキ液をメッ
キ液循環タンクを介して再循環させる電気メッキ液循環
系において、メッキ液循環タンクから一定量のメッキ液
を定常的に抜き出す手段と、抜き出されたメッキ液を大
気と接触させることなく蒸発濃縮させる手段と、濃縮メ
ッキ液をメッキ液循環タンクを介して電気メッキライン
に返送する手段とを備えたことを特徴とする電気メッキ
液濃縮回収装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15187685A JPS6213600A (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 電気メツキ液濃縮回収方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15187685A JPS6213600A (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 電気メツキ液濃縮回収方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6213600A true JPS6213600A (ja) | 1987-01-22 |
| JPH0351800B2 JPH0351800B2 (ja) | 1991-08-07 |
Family
ID=15528136
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15187685A Granted JPS6213600A (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 電気メツキ液濃縮回収方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6213600A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114836814A (zh) * | 2022-05-23 | 2022-08-02 | 智程半导体设备科技(昆山)有限公司 | 一种电镀药液循环系统 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5646913A (en) * | 1979-09-25 | 1981-04-28 | Toshiba Electric Appliance Co Ltd | Burner |
-
1985
- 1985-07-10 JP JP15187685A patent/JPS6213600A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5646913A (en) * | 1979-09-25 | 1981-04-28 | Toshiba Electric Appliance Co Ltd | Burner |
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|---|---|---|---|---|
| CN114836814A (zh) * | 2022-05-23 | 2022-08-02 | 智程半导体设备科技(昆山)有限公司 | 一种电镀药液循环系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0351800B2 (ja) | 1991-08-07 |
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