JPS62133645A - Shadow mask structure - Google Patents

Shadow mask structure

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JPS62133645A
JPS62133645A JP27157685A JP27157685A JPS62133645A JP S62133645 A JPS62133645 A JP S62133645A JP 27157685 A JP27157685 A JP 27157685A JP 27157685 A JP27157685 A JP 27157685A JP S62133645 A JPS62133645 A JP S62133645A
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JP
Japan
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shadow mask
mask
tension
frame
thermal expansion
Prior art date
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Application number
JP27157685A
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Japanese (ja)
Inventor
Fusao Kawano
川野 房男
Kazutoshi Kobayashi
小林 一甫
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

PURPOSE:To reduce the beam landing error resulting from a thermal expansion of the shadow mask, by composing a shadow mask applied with a tension and a mask frame to hold the shadow mask by combining low thermal expansion materials. CONSTITUTION:A tension imposed to a shadow mask 22, a mask frame 23, an extension 24, and frame supporters 25 are composed by combining low thermal expansion materials respectively. Metallic materials for the shadow mask 22 and for the mask frame 23 are both a metal having a winding point of the thermal expansion curve below 500 deg.C, and a material of a lower temperature winding point is used for the shadow mask 22 while that of a higher temperature winding point for the mask frame 23. Since the mask frame 23 keeps its balance in the condition bending inward as shown in the broken line 23', the tension of the shadow mask 22 is relaxed by moving in the direction of the arrow 29 when the shadow mask 22 is expanded by heating.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はシャドウマスク構体に係り、特にカラー受像管
に組み込み使用した時、色純度再生特性を良好にするこ
とが可能なシャドウマスク構体に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a shadow mask structure, and particularly to a shadow mask structure that can improve color purity reproduction characteristics when incorporated into a color picture tube and used. be.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

一般にシャドウマスク方式のカラー受像管においては、
電子銃から射出された電子ビームがシャドウマスクの1
個のアパーチャを通過後、このシャドウマスクに対向配
設されたパネル内面に形成された赤、緑および青の3色
に発光する蛍光体層に射突し、これら各蛍光体層を発光
させるようになっている。
Generally, in a color picture tube using a shadow mask method,
The electron beam emitted from the electron gun forms part of the shadow mask.
After passing through the apertures, the light hits the phosphor layers that emit light in three colors, red, green, and blue, formed on the inner surface of the panel facing the shadow mask, causing each of the phosphor layers to emit light. It has become.

従って良好な色再現を行うためにはシャドウマスクの多
数のアパーチャと、これらアパーチャそれぞれJこ対応
する3色の蛍光体層との相対位置関係が所定の整合関係
にあり、アパーチャを通過した電子ビームが所定の蛍光
体層に正確にランディングする必要がある。
Therefore, in order to achieve good color reproduction, the relative positional relationship between the many apertures of the shadow mask and the three color phosphor layers corresponding to each of these apertures must be in a predetermined matching relationship, and the electron beam passing through the apertures must be aligned. must land accurately on a predetermined phosphor layer.

しかし、通常、電子ビームのシャドウマスク透過率は1
5%〜20%であり、他の大部分の電子ビームはシャド
ウマスクに射突し、シャドウマスクを加熱膨張させるこ
とになる。この加熱膨張は、特に明るい画面を得るため
カラー受像管の陽極電圧やビーム電流を増加させた時に
著しく大きくなり、その結果、電子ビームの蛍光体層へ
のランディング位置が大きく変動して色純度の劣化を起
すことになる。
However, the shadow mask transmittance of the electron beam is usually 1
5% to 20%, and most of the other electron beams impinge on the shadow mask, causing the shadow mask to heat and expand. This heating expansion becomes particularly large when the anode voltage and beam current of the color picture tube are increased to obtain a bright screen, and as a result, the landing position of the electron beam on the phosphor layer fluctuates greatly, resulting in a decrease in color purity. This will cause deterioration.

次に通常のシャドウマスク方式のカラー受像管の一例を
第4図及び第5図により説明する。
Next, an example of a normal shadow mask type color picture tube will be explained with reference to FIGS. 4 and 5.

即ち、内面に赤、緑および青の3色に発光する帯状また
はドツト状の蛍光体層からなる蛍光面(2)が被着形成
されてなるパネル(1)と、この蛍光面(2)に所定間
隔をおいて配設されたシャドウマスク(3)と、このシ
ャドウマスク(3)が固定されたマスクフレーム(4)
とからなるシャドウマスク構体(5)と、このマスクフ
レーム(4)をパネルピンに支持するフレーム支持体(
6)およびネック(8)内に設けられた電子銃(9)と
から構成されている。
That is, a panel (1) has a phosphor screen (2) formed on its inner surface made of a band-shaped or dot-shaped phosphor layer that emits light in three colors of red, green, and blue, and this phosphor screen (2). Shadow masks (3) arranged at predetermined intervals and a mask frame (4) to which the shadow masks (3) are fixed.
a shadow mask structure (5) consisting of a frame support (5) that supports this mask frame (4) on panel pins;
6) and an electron gun (9) provided within the neck (8).

このようなカラー受像管において、電子ビーム(11)
の大部分の射突によってシャドウマスク(3)が加熱さ
れると、このシャドウマスク(3)は温度が上昇して膨
張し、更に、この熱がマスクフレーム(4)、フレーム
支持体(6)からパネル(1)へと伝わっていくため、
各部分で温度差が生じて部品が変形し、電子ビーム(1
1)がアパーチャを介して蛍光面(2)上にランディン
グする位置が所定の位置から変移する、所謂ランディン
グ誤差が生じる。
In such a color picture tube, the electron beam (11)
When the shadow mask (3) is heated by the impact of a large portion of Since it is transmitted from to panel (1),
Temperature differences occur in each part, causing the parts to deform, and the electron beam (1
A so-called landing error occurs in which the position where the light emitting device 1) lands on the phosphor screen (2) through the aperture deviates from a predetermined position.

このランディング誤差は時間的に変化し、動作直後や画
面に局部的に明るい部分が生じた場合などでは、シャド
ウマスク(3)は急激に熱膨張する。
This landing error changes over time, and the shadow mask (3) undergoes rapid thermal expansion immediately after operation or when a locally bright portion occurs on the screen.

しかし、比較的熱容量の大きなマスクフレーム(4)は
、すぐには温度上昇しないので、シャドウマスク(3)
は(3′)の位置、即ち、蛍光面(2)に向って膨出す
る。その結果、同一アパーチャを通過する電子ビーム(
11)は(11’)に変移し、ランディング位置も(1
2)から(12’)に変移してランディング誤差を生じ
る。更に、カラー受像管を動作させ続けると、充分長い
時間経過後にはマスクフレーム(4)も熱膨張するので
、ランディング位置は、上述の動作直後とは逆の変移を
するようになる。
However, the temperature of the mask frame (4), which has a relatively large heat capacity, does not rise quickly, so the shadow mask (3)
bulges out toward the position (3'), that is, toward the phosphor screen (2). As a result, the electron beam passing through the same aperture (
11) transitions to (11'), and the landing position also changes to (1
2) to (12'), resulting in a landing error. Furthermore, if the color picture tube continues to be operated, the mask frame (4) will also thermally expand after a sufficiently long period of time has elapsed, so that the landing position will change in the opposite direction to that immediately after the above-mentioned operation.

このランディング位置の変動量は数10μm〜100μ
m程度であり、色純度の劣化をひき起す。また、明るい
画面を得ようとして、カラー受像管の陽極電圧の高圧化
やビーム電流を増加させる程、シャドウマスク(3)に
衝突するエネルギーも増加するのでランディング誤差も
大きくなり、色純度の劣化も著しくなる。
The amount of variation in this landing position is several tens of micrometers to 100 micrometers.
m, causing deterioration of color purity. In addition, as the anode voltage of the color picture tube increases and the beam current increases in an attempt to obtain a bright screen, the energy that collides with the shadow mask (3) also increases, increasing the landing error and deteriorating color purity. It becomes noticeable.

一方、高精細な画像を実現させるためには、シャドウマ
スク(3)のアパーチャの相互間隔を小さくして絵素数
を増加させる必要がある。このことは蛍光面(2)に被
着形成されている3色の蛍光体層の間隔や各蛍光体層の
ランディング裕度を小さくする。従って高精細なカラー
受像管はど、より正確なビームランディングを必要とす
ることになる。
On the other hand, in order to realize a high-definition image, it is necessary to reduce the distance between the apertures of the shadow mask (3) and increase the number of picture elements. This reduces the spacing between the three color phosphor layers deposited on the phosphor screen (2) and the landing tolerance of each phosphor layer. Therefore, high-definition color picture tubes require more accurate beam landing.

上述したビームランディング誤差を減少させるために従
来から種々の提案がなされている。例えばシャドウマス
クを黒化させたり、黒色コートして放熱を良くし、シャ
ドウマスクの温度上昇を低減させる構造やシャドウマス
ク側壁部の板厚、長さの調整あるいは孔、切り欠き等を
設けることによって熱容量を小さくして均熱化を計った
構造や低熱膨張率材を使用する構造などがある。しかし
、航空機や車載なと、明るい外光下で使用し、高輝度を
必要とする用途には、これらの対策では不十分であった
Various proposals have been made to reduce the above-mentioned beam landing error. For example, by blackening the shadow mask or coating it with black to improve heat dissipation and reduce the temperature rise of the shadow mask, by adjusting the thickness and length of the side wall of the shadow mask, or by providing holes, notches, etc. There are structures that reduce heat capacity to achieve uniform heat, and structures that use materials with a low coefficient of thermal expansion. However, these measures have not been sufficient for applications that require high brightness and are used under bright external light, such as in aircraft or vehicles.

この問題点を解決する構造として、アール、シー、ロビ
ンダーによる“アバイブライトネスシャドウマスクカラ
ーC,R,Tフオアコックピットディスプレイダイジェ
ストオブペーパーオブ1983、シンポジウムオブソサ
イティ フォアインフォメーションディスプレイ9.5
において改良されたシャドウマスク構体を装着したカラ
ー受像管が発表されている。
As a structure to solve this problem, "Avi Brightness Shadow Mask Color C, R, T Color Cockpit Display Digest of Papers of 1983, Symposium of Society For Information Display 9.5" by R. C. and Robinder.
A color picture tube equipped with an improved shadow mask structure was announced.

このカラー受像管は第3図に示すように張力をかけてマ
スクフレーム(14)に固着された平坦なシャドウマス
ク(13)を備えており、このシャドウマスク(13)
の熱膨張を張力緩和によって吸収し、高輝度でも変形の
ないシャドウマスク構体(15)を実現している。この
カラー受像管は従来のドーム状に成形したシャドウマス
クを備えたカラー受像管と比較して著しくランディング
誤差が改善されたと報告されている。
As shown in FIG. 3, this color picture tube is equipped with a flat shadow mask (13) fixed to a mask frame (14) under tension.
Thermal expansion of the shadow mask structure (15) is absorbed by tension relaxation, thereby realizing a shadow mask structure (15) that does not deform even under high brightness. It is reported that this color picture tube has significantly improved landing error compared to a conventional color picture tube equipped with a dome-shaped shadow mask.

この種のシャドウマスク構体(15)では、カラー受像
管の製造工程で400℃〜500℃に加熱される工程が
あり、この加熱により、シャドウマスクの張力が大巾に
低下することがある。
This type of shadow mask structure (15) includes a step in which it is heated to 400° C. to 500° C. in the manufacturing process of the color picture tube, and this heating may significantly reduce the tension of the shadow mask.

この加熱による張力低下の要因は金属の高温時における
耐力が室温の耐力に対して低下していることによるもの
と考えられる。即ちシャドウマスク(13)の材料とし
て適している金属材料のアンバー(36%NiFe合金
)の温度による耐力の変化は、室温で18.7kg/m
m2のものが400℃で14.4kg/mm”、500
℃で13.0kg/mm”となっている。即ち、耐力の
低下は室温時に対して、500℃では約70%になって
いる。この張力低下はシャドウマスクの張力を測定する
ことにより求められるが、シャドウマスク及びマスクフ
レームをアンバー材で試作したシャドウマスク構体をカ
ラー受像管と同様の500℃で加熱した結果、加熱前後
のシャドウマスクの張力は半減していた。
The reason for this decrease in tension due to heating is thought to be that the yield strength of the metal at high temperatures is lower than the yield strength at room temperature. In other words, the change in yield strength due to temperature of Amber (36% NiFe alloy), a metal material suitable as a material for the shadow mask (13), is 18.7 kg/m at room temperature.
m2 is 14.4kg/mm” at 400℃, 500
℃ is 13.0 kg/mm''.In other words, the decrease in yield strength is approximately 70% at 500℃ compared to at room temperature.This decrease in tension is determined by measuring the tension of the shadow mask. However, as a result of heating a shadow mask structure in which the shadow mask and mask frame were prototyped from amber material at 500°C, the same temperature as a color picture tube, the tension in the shadow mask before and after heating was halved.

このようなシャドウマスクに張力を与えた方式のカラー
受像管はシャドウマスクへの入力増加に対してシャドウ
マスクの熱膨張による張力緩和とマスクフレームの応力
とのバランスで成り立っている。そのため、シャドウマ
スクの熱膨張が大きくなり、ゆるみを生じたときはビー
ムランディングが大巾にずれることになる。
Such a color picture tube in which tension is applied to the shadow mask is made up of a balance between tension relaxation due to thermal expansion of the shadow mask and stress in the mask frame in response to an increase in input to the shadow mask. Therefore, the thermal expansion of the shadow mask becomes large, and when the shadow mask becomes loose, the beam landing will shift by a large amount.

シャドウマスク方式のカラー受像管としてのビームラン
ディングの許容誤差は設計時に決まっており、この範囲
内で、且つシャドウマスクに張力がかかっている条件が
必要となる。
The beam landing tolerance for a shadow mask type color picture tube is determined at the time of design, and it is necessary that the shadow mask be within this range and that tension be applied to the shadow mask.

しかし、熱処理による張力低下を見込んで最初にシャド
ウマスクの張力を上げてマスクフレームに溶接したとこ
ろ、シャドウマスクの破断不良が発生して歩留を低下す
る問題が生じた。そして、このシャドウマスクの破断は
マスクフレームに対する溶接工程だけではなく、溶接後
の熱処理工程においても発生する。このようにシャドウ
マスクの張力を上げることには問題があるが、張力を上
げない場合には高輝度画像を得るための入力増加は従来
のシャドウマスクの時の数倍にしかならない。
However, when welding the shadow mask to the mask frame by first increasing the tension of the shadow mask in anticipation of a decrease in tension due to heat treatment, a problem occurred in which the shadow mask broke and the yield decreased. This fracture of the shadow mask occurs not only during the process of welding the mask frame, but also during the heat treatment process after welding. Although there is a problem with increasing the tension of the shadow mask in this way, if the tension is not increased, the input increase to obtain a high-brightness image is only several times that of a conventional shadow mask.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は上述した諸問題点に鑑みてなされたものであり
、張力が印加されたシャドウマスクと、これを支持する
マスクフレームとを低熱膨張材料の組合せによって構成
することにより、シャドウマスクの熱膨張に起因するビ
ームランディング誤差を低減したシャドウマスク構体を
提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and by configuring a shadow mask to which tension is applied and a mask frame that supports it from a combination of low thermal expansion materials, the thermal expansion of the shadow mask is reduced. The object of the present invention is to provide a shadow mask structure that reduces beam landing errors caused by.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は張力が印加されたシャドウマスク及びこのシャ
ドウマスクを支持するマスクフレームとを主構成とする
シャドウマスク構体において、シャドウマスクとマスク
フレームに使用する金属材料が、それぞれ500℃まで
の熱膨脹曲線に屈曲点を有するものであり、シャドウマ
スクには屈曲点の温度の低い材料を使用し、マスクフレ
ームには屈曲点の温度の高い材料を使用したもので高輝
度条件にてビームランディング誤差の少ない良好なカラ
ー受像管を得るようにした。
The present invention provides a shadow mask structure mainly composed of a shadow mask to which tension is applied and a mask frame that supports this shadow mask, in which the metal materials used for the shadow mask and the mask frame each have a thermal expansion curve of up to 500°C. The shadow mask uses a material with a low temperature at the bending point, and the mask frame uses a material with a high temperature at the bending point, resulting in good performance with little beam landing error under high brightness conditions. A color picture tube was obtained.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

次に、第1図により本発明のシャドウマスク構体の一実
施例を説明する。
Next, an embodiment of the shadow mask structure of the present invention will be described with reference to FIG.

即ち、マスクフレーム(23)の一方の側にはシャドウ
マスク(22)が張力を印加した状態で溶接されてシャ
ドウマスク構体を構成し、マスクフレーム(23)の他
方の側には、その4辺の中央に延伸部(24)が設けら
れている。フレーム支持体(25)ハ、この延伸部(2
4)にそれぞれ一端部が固定され、他端部近傍に設けら
れたピン孔(26)によってカラー受像管のパネルピン
に固定されるようになっている。
That is, the shadow mask (22) is welded under tension to one side of the mask frame (23) to form a shadow mask structure, and the four sides of the mask frame (23) are welded to the other side of the mask frame (23). An extending portion (24) is provided at the center of the. Frame support (25) C, this extension part (2
4), and is fixed to a panel pin of a color picture tube through a pin hole (26) provided near the other end.

そして、シャドウマスク(22)にかかる張力とマスク
フレーム(23)、延伸部(24)、フレーム支持体(
25)がそれぞれ低熱膨張材料の組み合わせにより構成
されていることを特徴としている。
The tension applied to the shadow mask (22), the mask frame (23), the extension part (24), and the frame support (
25) are characterized in that they are each constructed from a combination of low thermal expansion materials.

更に詳細に説明すると、シャドウマスク(22)には、
板厚50μmのアンバーを使用し、マスクフレーム(2
3)には板厚1゜2mrnのコバールを使用してシャド
ウマスク構体を組立てた。このようなシャドウマスク構
体を500℃で加熱してシャドウマスクの張力を温室し
たところ、熱処理の前後での張力の低下量は10%であ
った。これはマスクフレーム(23)の材料をアンバー
とした場合には約50%であったのと比較して、シャド
ウマスク(22)に残存する張力が大巾に高いことが判
った。そしてこのシャドウマスク構体を組み込んだカラ
ー受像管は従来のドーム状に成形したシャドウマスクを
具えたカラー受像管と比較して高輝度とするための蛍光
面電力入力を10倍増加した場合も同程度のランディン
グ誤差であることがわかった。
To explain in more detail, the shadow mask (22) includes:
A mask frame (2
For 3), a shadow mask structure was assembled using Kovar with a plate thickness of 1°2 mrn. When such a shadow mask structure was heated at 500° C. to reduce the tension of the shadow mask in a greenhouse, the amount of decrease in tension before and after the heat treatment was 10%. This was about 50% when the material of the mask frame (23) was amber, but it was found that the tension remaining in the shadow mask (22) was significantly higher. Furthermore, a color picture tube incorporating this shadow mask structure can achieve the same level of brightness even when the power input to the phosphor screen is increased by 10 times compared to a color picture tube equipped with a conventional dome-shaped shadow mask. It was found that the landing error was

この熱処理前後における張力の低下量が10%であった
ことについては、コバールとアンバーとの熱膨張特性の
差による張力緩和が起り、シャドウマスク(22)の張
力の低下が10%になったものと考えられる。
The reason why the tension decreased by 10% before and after this heat treatment is that tension relaxation occurred due to the difference in thermal expansion properties between Kovar and Amber, and the tension in the shadow mask (22) decreased by 10%. it is conceivable that.

この熱膨張特性は第2図に示すように横軸に温度、縦軸
に室温からの各温度における伸び(ΔQ/Q)を取ると
Feが(31)に示すように直線であるのに対し、Fe
−Ni合金であるアンバー、42アロイ、 Fe−Ni
 −Co合金であるコバールについてはそれぞれ(32
) (33) (34)に示すように屈曲点があり、こ
の屈曲点より低温側が低い膨張係数を示し、高温側が高
い膨張係数となっている。
As shown in Figure 2, this thermal expansion characteristic is a straight line as shown in (31) when the horizontal axis is the temperature and the vertical axis is the elongation (ΔQ/Q) at each temperature from room temperature. , Fe
-Ni alloy Amber, 42 alloy, Fe-Ni
-Co alloy Kovar (32
) (33) As shown in (34), there is an inflection point, and the lower temperature side of this inflection point shows a lower expansion coefficient, and the higher temperature side has a higher expansion coefficient.

次に、カラー受像管の動作時における作用について述べ
る。
Next, the operation of the color picture tube will be described.

即ち、第3図において、シャドウマスク(22)はマス
クフレーム(23)が破線(23’)で示すように内側
に湾曲した状態でつり合いがとれている。このため、シ
ャドウマスク(22)が熱膨張すると、図中矢印(29
)で示すように移動し、シャドウマスク(22)の張力
が緩和する。この熱変形は温度上昇による変化であり、
温度上昇時間で考えるとき、シャドウマスク(22)及
びマスクフレーム(23)の熱容量に比例して起る。即
ち、シャドウマスク(22)の熱容量は小さく、矢印(
29)の変化は短時間で起る。
That is, in FIG. 3, the shadow mask (22) is balanced with the mask frame (23) curved inward as shown by the dashed line (23'). Therefore, when the shadow mask (22) thermally expands, the arrow (29) in the figure
), and the tension on the shadow mask (22) is relaxed. This thermal deformation is a change due to temperature increase,
When considering the temperature rise time, it occurs in proportion to the heat capacity of the shadow mask (22) and mask frame (23). That is, the heat capacity of the shadow mask (22) is small, and the arrow (
29) changes occur in a short period of time.

一方、マスクフレーム(23)は熱容量が大きいので温
度上昇はシャドウマスク(22)に比べて長時間がかり
数10倍以上の時間となる。従って高暉度入力が短時間
に起る場合はシャドウマスク(22)の張力が緩和する
現象となり、比較的低輝度入力が長時間印加されるとき
はマスクフレーム(23)の熱膨張が起る。この場合、
シャドウマスク(22)の張力とつり合っていた応力関
係でマスクフレーム(23)の応力が増すことによりシ
ャドウマスク(22)の張力が熱膨張により、ゆるみを
生じる入力限界が増加する作用を生じることになる。即
ち、実施例の場合、コバールからなるマスクフレーム(
23)の熱膨張によりアンバーからなるシャドウマスク
(22)に張力を与えるように作用する。これは両者の
熱膨脹曲線が低温側でアンバーよりコバールの方が熱膨
張が大きいことによる。
On the other hand, since the mask frame (23) has a large heat capacity, the temperature rise takes a longer time than that of the shadow mask (22), several tens of times longer. Therefore, when a high intensity input occurs for a short time, the tension of the shadow mask (22) is relaxed, and when a relatively low intensity input is applied for a long time, thermal expansion of the mask frame (23) occurs. . in this case,
As the stress in the mask frame (23) increases in a stress relationship that was balanced with the tension in the shadow mask (22), the tension in the shadow mask (22) increases due to thermal expansion, which increases the input limit that causes loosening. become. That is, in the case of the example, a mask frame made of Kovar (
Thermal expansion of 23) acts to give tension to the shadow mask (22) made of amber. This is because the thermal expansion curves of both are on the low temperature side, and Kovar has a larger thermal expansion than Amber.

上述した実施例ではシャドウマスクにアンバー。In the embodiment described above, the shadow mask is amber.

マスクフレーム(23)にコバールを使用したが、これ
に限定されるものではなく、SOO℃までの熱膨脹曲線
が屈曲点を示すものであってシャドウマスクには屈曲点
温度の低いもの、マスクフレームには屈曲線温度の高い
材料を使用すれば同様な効果が得られる。
Kovar is used for the mask frame (23), but it is not limited to this.The thermal expansion curve up to SOO℃ shows the bending point, and the shadow mask has a low bending point temperature, and the mask frame A similar effect can be obtained by using a material with a high bending line temperature.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

上述のように本発明によれば航空機の車載などの明るい
外光下で極めて高輝度条件にてビームランディング誤差
が少く、色純度の良好なカラー受像管を実現し得るシャ
ドウマスク構体を提供することができる。
As described above, it is an object of the present invention to provide a shadow mask structure capable of realizing a color picture tube with small beam landing errors and good color purity under extremely high brightness conditions under bright external light such as when mounted on an aircraft vehicle. I can do it.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明のシャドウマスク構体の一実施例を示す
斜視図、第2図はFa、アンバー、コバール、42アロ
イの熱膨脹曲線図、第3図は第1図のシャドウマスク構
体の加熱時の変形を示す説明図、第4図は従来のシャド
ウマスク構体を装着したカラー受像管を示す断面図、第
5図はビームランディング状態を示す説明図、第6図は
従来の他のシャドウマスク構体を装着したカラー受像管
の要部断面図である。 3.22・・・シャドウマスク  4,23・・・マス
クフレーム6.25・・・フレーム支持体
Fig. 1 is a perspective view showing an embodiment of the shadow mask structure of the present invention, Fig. 2 is a thermal expansion curve diagram of Fa, amber, Kovar, and 42 alloy, and Fig. 3 is a diagram of the shadow mask structure of Fig. 1 when heated. 4 is a sectional view showing a color picture tube equipped with a conventional shadow mask structure, FIG. 5 is an explanatory view showing a beam landing state, and FIG. 6 is another conventional shadow mask structure. FIG. 2 is a sectional view of a main part of a color picture tube equipped with a color picture tube. 3.22...Shadow mask 4,23...Mask frame 6.25...Frame support

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 張力が印加されたシャドウマスク及びこのシャドウマス
クを支持するマスクフレームとを主構成とするシャドウ
マスク構体において、前記シャドウマスクと前記マスク
フレームに使用する金属材料が、それぞれ500℃まで
の熱膨脹曲線に屈曲線を有するものであり、前記シャド
ウマスクには前記屈曲点の温度の低い材料を使用し、前
記マスクフレームには前記屈曲点の温度の高い材料を使
用してなることを特徴とするシャドウマスク構体。
In a shadow mask structure mainly composed of a shadow mask to which tension is applied and a mask frame that supports this shadow mask, the metal materials used for the shadow mask and the mask frame each have a thermal expansion curve of up to 500°C. A shadow mask structure having a line, the shadow mask using a material having a low temperature at the bending point, and the mask frame using a material having a high temperature at the bending point. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS49115473A (en) * 1973-03-05 1974-11-05

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