JPH08298078A - Color picture tube - Google Patents

Color picture tube

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JPH08298078A
JPH08298078A JP10530195A JP10530195A JPH08298078A JP H08298078 A JPH08298078 A JP H08298078A JP 10530195 A JP10530195 A JP 10530195A JP 10530195 A JP10530195 A JP 10530195A JP H08298078 A JPH08298078 A JP H08298078A
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JP
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Patent type
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mask body
portion
mask
electron beam
formed
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Pending
Application number
JP10530195A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobuhiko Akou
Takashi Murai
Shinichiro Nakagawa
Shinji Ohama
Norio Shimizu
慎一郎 中川
真二 大濱
敬 村井
紀雄 清水
信彦 阿光
Original Assignee
Toshiba Corp
株式会社東芝
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Publication date

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    • HELECTRICITY
    • H01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2229/00Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
    • H01J2229/07Shadow masks
    • H01J2229/0727Aperture plate
    • H01J2229/0766Details of skirt or border
    • H01J2229/0772Apertures, cut-outs, depressions, or the like

Abstract

PURPOSE: To provide a color picture tube which hardly causes deterioration in color purity by suppressing landing displacement caused by doming of a mas main body.
CONSTITUTION: A color picture tube has a shadow mask comprising a practically square mask main body 3 in which a skirt part 39 is formed around a main face part 37 facing a fluorescent material screen through a no-hole part 38 and a practically square mask frame fixed to the skirt part 39. Slit-like through holes 43 which are long in the tube axis direction are formed in the skirt part 39 of the mask main body 30.
COPYRIGHT: (C)1996,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】この発明は、カラー受像管に係り、特にシャドウマスクの熱膨張による蛍光体層に対する電子ビームのランディングずれを抑制したカラー受像管に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION This invention relates to a color picture tube, a color picture tube as specifically inhibited landing shift of the electron beam with respect to the phosphor layer due to thermal expansion of the shadow mask.

【0002】 [0002]

【従来の技術】一般にカラー受像管は、図11に示すように、有効部1が曲面からなる実質的に矩形状のパネル2とこのパネル2に接合された漏斗状のファンネル3とからなる外囲器を有する。 BACKGROUND OF THE INVENTION Generally a color picture tube, as shown in FIG. 11, the outer consisting essentially rectangular panel 2 and joined to the panel 2 a funnel-shaped funnel 3 which effective portion 1 is formed of a curved surface with the envelope. そのパネル2の有効部1の内面に、青、緑、赤に発光する3色蛍光体層からなる蛍光体スクリーン4が形成されている。 The inner surface of the effective portion 1 of the panel 2, blue, green, phosphor screen 4 having three color phosphor layers for emitting red is formed. さらにこの蛍光体スクリーン4と所定間隔離れて、その内側に実質的に矩形状のマスク本体5とこのマスク本体5の周辺部に取付けられたマスクフレーム6とからなる実質的に矩形状のシャドウマスク7が配置されている。 Further the phosphor screen 4 and the predetermined distance, substantially rectangular shadow mask comprising a substantially rectangular mask body 5 and the mask frame 6 which attached to the peripheral portion of the mask body 5 on its inner side 7 is disposed. そのマスク本体5 The mask body 5
は、図12に示すように、多数の電子ビーム通過孔8が所定の配列で形成され、上記蛍光体スクリーンと対向する曲面からなる主面部9と、この主面部9を取巻く無孔部10と、この無孔部10を介して主面部9のまわりに設けられたスカート部11とからなる。 As shown in FIG. 12, a number of electron beam apertures 8 are formed in a predetermined arrangement, the main surface portion 9 composed of the phosphor screen facing the curved surface, the imperforate portion 10 surrounding the main surface portion 9 consists skirt 11 for provided around the main surface portion 9 via the imperforate portion 10. またマスクフレーム6は、断面L字形に形成され、上記スカート部11 The mask frame 6 is formed in a L-shaped cross section, the skirt portion 11
に溶接により取付けられている。 It is attached by welding. 一方、ファンネル3のネック13内に3電子ビーム14を放出する電子銃15 On the other hand, an electron gun 15 for emitting three electron beams 14 in the neck 13 of the funnel 3
が配設されている。 There has been arranged. そして、この電子銃15から放出される3電子ビーム14をファンネル3の外側に装着された偏向装置16の発生する磁界により偏向し、上記マスク本体5の電子ビーム通過孔8を介して蛍光体スクリーン4を水平、垂直走査することにより、カラー画像を表示する構造に形成されている。 Then, the three electron beams 14 emitted from the electron gun 15 is deflected by a magnetic field generated by a deflection device 16 mounted on the outside of the funnel 3, the phosphor screen through the electron beam passage apertures 8 of the mask body 5 4 horizontally, by a vertical scanning is formed in a structure for displaying a color image.

【0003】このようなカラー受像管のうち、特に同一水平面上を通る一列配置の3電子ビーム14を放出するインライン形カラー受像管においては、蛍光体スクリーン4の3色蛍光体層は、管軸(Z軸)と直交する垂直方向(短軸方向)に細長いストライプ状に形成され、これに対応して、マスク本体5は、垂直方向に長い複数の電子ビーム通過孔8が垂直方向に延びる電子ビーム通過孔列を構成し、この電子ビーム通過孔列が水平方向(長軸方向、X軸方向)に複数列並列配置されたものとなっている。 Among such color cathode ray tube, particularly in the in-line type color picture tube which emits the three electron beams 14 arranged in a line passing on the same horizontal plane, three-color phosphor layers of the phosphor screen 4, the tube axis (Z-axis) and an elongated stripe shape in the vertical direction (short axis direction) perpendicular and, correspondingly, the mask body 5, electrons plurality of electron beam apertures 8 long vertically extending vertically configure the beam passage hole arrays, it has become that the electron beam passage hole arrays are arranged a plurality of rows parallel to the horizontal direction (long axis direction, X-axis direction).

【0004】ところで、上記シャドウマスク7は、各電子ビーム通過孔8を異なる角度で通過する3電子ビーム14がそれぞれ所定の蛍光体層をランディングするように選別するためのものであり、電子ビーム14の走査によって蛍光体スクリーン4上に描かれる画像の色純度を良好にするためには、上記各電子ビーム通過孔8を異なる角度で通過する3電子ビーム14がそれぞれ所定の蛍光体層に正しくランディングするようにすることが必要である。 Meanwhile, the shadow mask 7 is for the three electron beams 14 passing through each electron beam passage hole 8 at different angles to select to landing the predetermined phosphor layers, respectively, the electron beam 14 for the scan to improve the color purity of an image to be drawn on the phosphor screen 4, the three electron beams 14 correctly land on the respective predetermined phosphor layer passes through the respective electron beam passage apertures 8 at different angles it is necessary to be. そのためには、蛍光体スクリーン4に対してマスク本体5が所定の整合関係に正しく配置され、かつカラー受像管の動作中、その整合関係が保持されることが必要である。 To this end, the mask body 5 with respect to the phosphor screen 4 is properly positioned in a predetermined alignment relationship, and during operation of the color picture tube, it is necessary that the matching relation is maintained. とりわけ、パネル2の有効部1内面とマスク本体5の主面部9との間隔(q値)が所定の許容範囲に保たれることが必要である。 Especially, the distance between the main surface 9 of the effective portion 1 inner surface and the mask body 5 of the panel 2 (q value) is required to be maintained at a predetermined permissible range.

【0005】しかしながら上記カラー受像管は、動作原理上、マスク本体5の各電子ビーム通過孔8を通って蛍光体スクリーン4に達する電子ビームは、電子銃15から放出される全電子ビーム量の1/3以下であり、他の電子ビームは、そのほとんどがマスク本体5に衝突して熱エネルギに変換され、マスク本体5を80℃程度に加熱する。 However the color picture tube, the operation principle, the electron beam reaching the phosphor screen 4 through each electron beam passage apertures 8 of the mask body 5, 1 total amount of the electron beams emitted from the electron gun 15 / 3 or less, the other electron beam, most of which is converted into heat energy by colliding with the mask body 5, to heat the mask body 5 to about 80 ° C.. その結果、特にマスク本体5が熱膨張係数の大きい(1.2×10 -5 /℃)板厚0.1〜0.3mmの冷間圧延鋼板からなり、マスクフレーム6がそれよりも機械的強度の大きい板厚1mm程度の冷間圧延鋼板からなるシャドウマスク7では、熱膨張によりマスク本体5の主面部9が蛍光体スクリーン4に膨出するいわゆるドーミングをおこす。 As a result, in particular the mask body 5 of the thermal expansion coefficient greater (1.2 × 10 -5 / ℃) consists of cold-rolled steel sheet having a thickness of 0.1 to 0.3 mm, the mechanical mask frame 6 than in the shadow mask 7 made of cold-rolled steel plate of larger order thickness 1mm strength, causing so-called doming main surface 9 of the mask body 5 swells the phosphor screen 4 by thermal expansion. その結果、パネル2の有効部1内面とマスク本体5の主面部9との間隔が許容値を越えると、マスク本体5の電子ビーム通過孔8の位置変化により、3 As a result, the distance between the main surface 9 of the effective portion 1 inner surface and the mask body 5 of the panel 2 exceeds the allowable value, the change in position of the electron beam apertures 8 of the mask body 5, 3
色蛍光体層に対する電子ビーム14のランディングがずれ、色純度の劣化がおこる。 Deviation landing of the electron beam 14 with respect to the color phosphor layers, deterioration of color purity occurs.

【0006】上記3色蛍光体層に対する3電子ビームのランディングずれは、カラー受像管の動作開始初期、マスク本体5全体が熱膨張するために生ずるランディングずれと、局部的に高輝度画像を表示した場合に生ずる局部的なドーミングにより生ずるランディングずれとがある。 [0006] landing deviation of the three electron beams for the three color phosphor layers, and displays the operation start initial color picture tube, and a landing deviation occurs for the whole mask body 5 is thermally expanded, the locally high-luminance image If there is a landing deviation caused by local doming occurring. そのランディングずれの大きさは、画面上に描かれる画像パターンの輝度、その継続時間などによって異なる。 The size of the landing shift, different brightness of the image pattern to be drawn on the screen, such as by its duration. たとえば画面全体に長時間高輝度画像を表示した場合には、画面全域の比較的広い範囲で色純度の劣化がおこる。 For example in the case of displaying a high luminance image long in the entire screen, the deterioration of color purity occurs in a relatively wide range of the entire screen. また局部的に高輝度の画像を表示した場合には、 Also in case of displaying an image of locally high luminance,
図13に破線18で示したように、局部的なドーミングがおこり、短時間にランディングがずれ、かつそのランディングずれが大きく、局部的な色純度の劣化がおこる。 As shown by the broken line 18 in FIG. 13, it occurs local doming, short time shift the landing, and large its landing deviation, localized color purity degradation occurs.

【0007】上記局部的なドーミングによるランディングずれについては、図14に示すように、蛍光体スクリーン4上に大電流ビームにより垂直方向を長径とする矩形状の高輝度パターン20を描き、その形状、位置を変えてランディングのずれ量を測定した結果、高輝度パターン20を画面中心から水平方向に画面水平方向径(長径)Wの1/3程度離れた位置に描いた場合に最も大きくなり、図15に示すように、水平方向中間部の楕円領域21で最も大きくなるという結果が得られている。 [0007] The landing displacement by the local doming, as shown in FIG. 14, draw a rectangular high-brightness pattern 20 to the vertical and major axis by the large-current beam on the phosphor screen 4, the shape, position by changing the measurement results of the amount of deviation of landing, greatest when the high luminance pattern 20 drawn to 1/3 degree away horizontal direction of the screen size (major axis) W horizontally from the center, FIG. as shown in 15, the result that most larger elliptical region 21 of the horizontal intermediate portion is obtained.

【0008】このように水平方向中間部でランディングずれが大きくなる理由は、つぎのように説明することができる。 [0008] reason for landing deviation thus horizontally middle portion is increased, can be described as follows. すなわち、図14に示した高輝度パターン20 That is, the high luminance pattern shown in FIG. 14 20
を画面中央部に描いた場合は、この高輝度パターン20 If it is drawn in the center of the screen portion, the high brightness pattern 20
に対応してマスク本体の主面部の中央部が加熱され、熱膨張するが、主面部の中央部の電子ビーム通過孔を通過する電子ビームは、偏向角が小さいため、ランディングずれは小さい。 Central portion of the main surface of the mask body in correspondence is heated to, but thermal expansion, electron beams passing through the electron beam passing holes of the central portion of the main surface portion, since the deflection angle is small, the landing deviation is small. しかし画面中央部から水平方向に動かすにつれて偏向角が大きくなり、マスク本体の熱膨張によるランディングずれが画面上に現れる度合いが大きくなる。 However deflection angle increases as you move in the horizontal direction from the center of the screen, the degree to which the landing displacement due to thermal expansion of the mask body appears on the screen increases. しかし画面水平方向両端部に対応するマスク本体の主面部の水平方向両端部は、機械的強度の大きいマスクフレームに取付けられているため、マスク本体の熱膨張が抑制され、画面水平方向両端部でのランディングずれは小さくなる。 But both horizontal ends of the main surface of the mask body that corresponds to the screen horizontal direction both end portions, because it is attached to a large mask frame of mechanical strength, thermal expansion of the mask body is suppressed, the screen in the horizontal direction both end portions landing deviation of the smaller. その結果、マスク本体の熱膨張によるランディングずれは、画面中央部から水平方向に画面水平方向径Wの1/3程度離れた中間部に高輝度パターン2 As a result, the landing displacement due to thermal expansion of the mask body, the intermediate portion high intensity pattern 2 away degree 1/3 of the screen horizontal dimension W in the horizontal direction from the center of the screen
0を描いた場合、つまり、図15に示した水平方向中間部の楕円領域21で最も大きくなる。 When depicting 0, that is, most larger elliptical region 21 of the horizontal middle section shown in FIG. 15. この楕円領域21 The oval areas 21
は、マスク本体の主面部の中央部から水平方向に、その主面部の水平方向径の約1/3離れた位置P1 を中心とし、その水平方向径の約1/4を幅とする領域に対応する。 It is horizontally from the central portion of the main surface of the mask body, centered on the position P1 about 1/3 away in the horizontal dimension of the main surface, in an area of ​​about 1/4 of the horizontal dimension to the width corresponding.

【0009】従来より、上記マスク本体のドーミングによるランディングずれを抑制するいくつかの手段が開発されている。 [0009] Conventionally, the landing displacement due to doming of the mask body has some means of suppressing have been developed. 特に動作開始初期のランディングずれを抑制するものとして、下記(イ)および(ロ)の手段がある。 Particularly as to inhibit the operation start initial landing deviation, there are the following means (a) and (b). (イ) 米国特許第2,826,538号明細書に記されている手段で、マスク本体の熱放射を促進すべく、マスク本体の主面部の表面に黒鉛を主成分とする黒鉛層を設け、この黒鉛層を放熱器としてマスク本体の温度を低下させるようにしたもの◎ (ロ) 特願昭58−148843号明細書に記されている手段で、マスク本体の主面部の電子銃側の面に、鉛ホウ酸塩ガラスなどのガラス層を設けたもの。 (B) by a means that is described in U.S. Pat. No. 2,826,538, in order to promote heat radiation of the mask body is provided with a graphite layer mainly composed of graphite on the surface of the main surface of the mask body , by a means that is described in this graphite layer what was to lower the temperature of the mask body as a radiator ◎ (b) Japanese Patent Application Sho 58-148843 Pat, the electron gun side of the main surface of the mask body the surface, those having a glass layer, such as lead borate glass. ◎ このように鉛ホウ酸塩ガラス層を設けると、その熱伝導率がマスク本体のそれよりも小さいため、マスク本体に伝達される熱量が少なくなり、マスク本体の温度上昇を抑制することができる。 ◎ Thus providing the lead borate glass layer, since its thermal conductivity is smaller than that of the mask body, the less amount of heat transferred to the mask body, it is possible to suppress the temperature rise of the mask body . また鉛ホウ酸塩ガラス層を設けることにより、マスク本体の機械的強度が向上する。 In addition, by providing the lead borate glass layer, to improve the mechanical strength of the mask body. さらにマスク本体に鉛ホウ酸塩ガラスが溶着し結晶化すると、ガラス層に圧縮応力、マスク本体に引張応力が作用し、マスク本体の張り強度が向上する。 Furthermore the lead borate glass to the mask body crystallizes welded, compressive stress in the glass layer, tensile stress acts on the mask body to improve tension strength of the mask body.

【0010】なお、これらの手段により、マスク本体の局部的なドーミングを抑制するようにすることも可能である。 [0010] By these means, it is also possible to suppress the local doming of the mask body.

【0011】さらにマスク本体の局部的なドーミングを抑制する手段として、 (ハ) マスク本体の主面部の曲率を大きくする方法がある。 [0011] As a further means for suppressing local doming of the mask body, there is a method of increasing the curvature of the main surface portion of (c) the mask body. この方法については、特に短軸方向の曲率を大きくすることが有効であることが知られている。 This method is known to be effective to especially increase the curvature of the short axis.

【0012】 [0012]

【発明が解決しようとする課題】上記のようにカラー受像管のシャドウマスクは、電子銃から放出される電子ビームの衝突によりマスク本体が加熱、熱膨張して、主面部が蛍光体スクリーン方向に膨出するドーミングをおこし、3色蛍光体層に対する電子ビームのランディングがずれ、色純度の劣化がおこるという問題がある。 [0007] The shadow mask of the color picture tube as described above, the mask body heated by the collision of the electron beams emitted from the electron gun, and thermal expansion, the main surface portion on the phosphor screen direction cause bulging to doming, deviation landing of the electron beam with respect to the three-color phosphor layers, there is a problem of deterioration of color purity occurs.

【0013】従来より、このマスク本体のドーミングによるランディングずれを抑制するいくつかの手段が開発されている。 [0013] Conventionally, the landing displacement due to doming of the mask body has some means of suppressing have been developed.

【0014】その一つとして(イ)に示したように、マスク本体の主面部の表面に黒鉛層を設ける方法がある。 [0014] As shown in (a) as one, there is a method of providing a graphite layer on the surface of the main surface of the mask body.
しかしこの方法は、カラー受像管の製造工程で繰返される熱処理により黒鉛層の密着が劣化し、カラー受像管に加わる振動により剥離しやすく、その剥離した微小片がマスク本体に付着して電子ビーム通過孔を詰まらせ、蛍光体スクリーン上に表示される画像の品位を低下させる。 This method, however, the adhesion of the graphite layer is deteriorated by the heat treatment to be repeated in the manufacturing process of the color picture tube, easily peeled off by vibration applied to the color picture tube, the electron beam passage thereof peeled small pieces attached to the mask body clog the pores, reducing the quality of the image displayed on the phosphor screen. また電子銃あるいはその付近に付着してスパーク放電を誘発させ、耐電圧特性を低下させるなどの問題が生じやすい。 Also attached to the electron gun or near to induce spark discharge, problems are likely to occur such as lowering the withstand voltage characteristics.

【0015】また(ロ)に示したように、マスク本体の主面部の電子銃側の面に、鉛ホウ酸塩ガラスなどのガラス層を設ける方法がある。 [0015] As shown in (b), the surface of the electron gun side of the main surface of the mask body, there is a method of providing a glass layer, such as lead borate glass. しかしこの方法は、鉛ホウ酸塩ガラス中に含まれる酸化鉛(PbO)の量が70〜8 This method, however, the amount of lead oxide (PbO) contained in the lead-borate glass 70-8
5%と多いため、シャドウマスクにより遮蔽される電子ビームの管内での乱反射が増し、通常白浮きといわれるコントラストの低下が生ずる。 For 5% and often, increased diffuse reflection in the tube of the electron beam is shielded by the shadow mask, a reduction in contrast which is commonly referred to as whitening occurs. また板厚が0.1〜0. The plate thickness is 0.1 to 0.
3mmの冷間圧延鋼板からなるマスク本体に鉛ホウ酸塩ガラスの層を設けると、その溶着、結晶化により、ガラス層に圧縮応力、マスク本体に引張応力が作用するため、 When a layer of lead borate glass to the mask body made of cold-rolled steel sheet 3 mm, the welding, by crystallization, since the compressive stress in the glass layer, the tensile stress in the mask body acts,
これら応力のバランスが崩れた場合にマスク本体を変形させやすい。 Easy to deform the mask body when the balance of these stresses is destroyed. すなわち、通常ガラス層の厚さは、10〜 That is, the thickness of the ordinary glass layer 10
20μm が好ましいとされているが、たとえば板厚0. Although 20μm is preferred, for example, thickness 0.
2mm以下の冷間圧延鋼板からなるマスク本体に、製造上のばらつきにより20μm を越える厚さのガラス層が形成されると、マスク本体が変形するという問題がある。 The mask body consisting of cold rolled steel sheet 2 mm, the glass layer having a thickness in excess of 20μm by variations in manufacturing can be formed, there is a problem that the mask body is deformed.

【0016】また(ハ)に示したように、マスク本体の主面部の曲率を大きくする方法がある。 [0016] As shown in (c), a method of increasing the curvature of the main surface of the mask body. 特にこの方法では、短軸方向の曲率を大きくすることが有効であることが知られている。 Especially in this way, by increasing the curvature of the short axis direction is known to be effective. しかしこの方法については、最近のパネルの有効部の曲率が小さい平坦化したカラー受像管では、その有効部内面の曲率も小さく、それに対応してマスク本体の主面部の曲率も、マスク本体の中心から周辺に至るまで小さくなる。 However, for this method, in a color picture tube the effective portion curvature Recent panel is small flattened curvature of the effective inner surface is small, also the curvature of the main surface of the mask body and correspondingly, the center of the mask body It decreases from to the periphery. そのため、平坦化したカラー受像管では、図15に示した楕円領域21の垂直方向の端部P2 が長辺側周辺まで広がる傾向がある。 Therefore, in a color picture tube was flattened, there is a tendency that the vertical end P2 of the elliptical region 21 shown in FIG. 15 spreads to the long side peripheral. また平坦化したカラー受像管において、マスク本体の主面部の曲率を大きくするためには、パネルの有効部内面の曲率も大きくする必要がある。 In addition the color picture tube with flattened, in order to increase the curvature of the main surface portion of the mask body, the curvature of the effective inner surface of the panel must also be increased. そのため、特に画面のアスペクト比が4:3の横長のカラー受像管では、パネルの中央部と周辺部との肉厚の差がいちじるしく大きくなり、特性上好ましくなくなる。 Therefore, in particular the aspect ratio of the screen is 4: in landscape color picture tube of the three, the difference in thickness between the central portion and the peripheral portion of the panel significantly increases, properties on become unfavorable. さらに従来の通常のカラー受像管でも、マスク本体の電子ビーム通過孔の形成されている主面部と電子ビーム通過孔の形成されていない無孔部とでは、熱容量が異なるため、主面部と無孔部との境界部で熱伝導差が生ずる。 Further in the conventional ordinary color picture tube, and a nonporous portion not formed with the major surface portion and the electron beam passing holes formed in the electron beam apertures of the mask body, the heat capacity is different, the main surface portion and the imperforate heat conduction difference is generated at the boundary between the parts. そのため、マスク本体の温度分布は、図7に曲線23で示したように、無孔部の温度に対して主面部の温度が極端に高くなり、主面部のドーミングが大きくなりやすいなどの問題がある。 Therefore, the temperature distribution of the mask body, as shown by curve 23 in FIG. 7, the temperature of the main surface portion with respect to the temperature of the non-perforated portion becomes extremely high, problems such as doming of the main surface portion tends to increase is there.

【0017】この発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、第1の目的は、マスク本体の主面部に黒鉛層やガラス層を設けることなく、マスク本体のドーミングによる蛍光体層に対する電子ビームのランディングずれを抑制して、色純度の劣化をおこしにくいカラー受像管を構成することにある。 [0017] The present invention has been made in view of the above problems, a first object, without providing the graphite layer and the glass layer on the main surface of the mask body, with respect to the phosphor layer by doming of the mask body by suppressing the landing deviation of the electron beam is to configure the hard color picture tube cause the color purity deterioration. 第2の目的は、マスク本体の主面部の曲率を大きくすることなく、マスク本体のドーミングによる蛍光体層に対する電子ビームのランディングずれを抑制して、色純度の劣化をおこしにくいカラー受像管を構成することにある。 Second object without increasing the curvature of the main surface of the mask body, by suppressing the landing deviation of the electron beam with respect to the phosphor layer by doming of the mask body, constituting the hard color picture tube cause the color purity deterioration It is to.

【0018】 [0018]

【課題を解決するための手段】蛍光体スクリーンと対向する主面部に多数の電子ビーム通過孔が形成され、この主面部のまわりに無孔部を介してスカート部が形成された実質的に矩形状のマスク本体と、そのスカート部に取付けられた実質的に矩形状のマスクフレームとからなるシャドウマスクを有するカラー受像管において、マスク本体のスカート部に管軸方向に長いスリット状貫通孔を形成した。 Large number of electron beam apertures in the phosphor screen facing the main surface portion Means for Solving the Problems] is formed, substantially rectangular skirt portion is formed through the imperforate portion around the main surface portion forming a mask body shape, in a color picture tube having a shadow mask made of a substantially rectangular mask frame attached to the skirt portion, a long slit-shaped through-hole in the axial direction of the tube to the skirt portion of the mask body did.

【0019】また、蛍光体スクリーンと対向する主面部に多数の電子ビーム通過孔が形成され、この主面部のまわりに無孔部を介してスカート部が形成された実質的に矩形状のマスク本体と、そのスカート部に取付けられた実質的に矩形状のマスクフレームとからなるシャドウマスクを有し、電子ビーム通過孔がマスク本体の短軸方向に列状に延びる電子ビーム通過孔列を構成し、この電子ビーム通過孔列がマスク本体の長軸方向に複数列配列されてなるカラー受像管において、マスク本体の短軸からこのマスク本体の長径の約1/3の位置を中心としてその長径の約1/4の幅の範囲に位置する長辺側の無孔部に短軸方向に長い貫通孔または底部板厚がマスク本体の板厚よりも薄い凹孔を形成した。 Further, a number of electron beam passing holes are formed on the main surface of the phosphor screen and the counter, a substantially rectangular mask body which skirt portion is formed through the imperforate portion around the main surface portion If its has a substantially shadow mask comprising a rectangular mask frame attached to the skirt portion, the electron beam passing holes constitute an electron beam passage hole arrays extending in rows along the minor axis of the mask body in a color picture tube comprising a plurality of rows arranged in the axial direction of the electron beam passage hole arrays is the mask body, the major axis centered about a third of the positions of the major axis of the mask body from the short axis of the mask body about the long through-hole or the bottom plate thickness in the minor axis direction to form a thin concave hole than the thickness of the mask body imperforate portion of the long side located in the range of 1/4 of the width.

【0020】さらにそのマスク本体の短軸からこのマスク本体の長径の約1/3の位置を中心としてその長径の約1/4の幅の範囲に位置する長辺側の無孔部に短軸方向に長い貫通孔または底部板厚がマスク本体の板厚よりも薄い凹孔を形成し、かつマスク本体の長径の約1/3 Furthermore the minor axis to the imperforate portion of the long side located in the range of about 1/4 of the width of the long diameter from the short axis of the mask body about the approximately 1/3 of the position of the major axis of the mask body long holes or bottom thickness in the direction to form a thin concave hole than the thickness of the mask body, and approximately 1/3 of the diameter of the mask body
の位置を中心としてその長径の約1/4の幅の範囲に位置する長辺側のスカート部に管軸方向に長い貫通孔を形成した。 Position thereof to form a long through hole in the axial direction of the tube to the skirt portion of the long side located in the range of about 1/4 of the width of the major axis as the center of.

【0021】 [0021]

【作用】上記のように、マスク本体のスカート部に管軸方向に長いスリット状貫通孔を形成すると、スカート部の剛性を低くすることができる。 [Action] As described above, to form a long slit-shaped through hole in the skirt portion of the mask body in the tube axis direction, it is possible to reduce the rigidity of the skirt. したがってそれにより、電子ビームの衝突によりマスク本体が加熱され熱膨張しても、その熱膨張をスカート部の変形により吸収して、主面部が蛍光体スクリーン方向に膨出するマスク本体のドーミングを低減することができる。 Thereby Therefore, even if the mask body is heated by the collision of the electron beam thermal expansion, the thermal expansion is absorbed by deformation of the skirt portion, reducing the doming of the mask body that major surface bulges the phosphor screen direction can do. その結果、蛍光体層に対する電子ビームのランディングずれによる色純度の劣化を防止することができる。 As a result, it is possible to prevent deterioration of color purity due to the landing shift of the electron beam with respect to the phosphor layer.

【0022】また、マスク本体の短軸からこのマスク本体の長径の約1/3の位置を中心としてその長径の約1 Further, about 1 of the major axis from the short axis of the mask body about the approximately 1/3 of the position of the major axis of the mask body
/4の幅の範囲に位置する長辺側の無孔部に短軸方向に長い貫通孔または底部板厚がマスク本体の板厚よりも薄い凹孔を形成し、より好ましくは、マスク本体の短軸からこのマスク本体の長径の約1/3の位置を中心としてその長径の約1/4の幅の範囲に位置する長辺側の無孔部に短軸方向に長い貫通孔または底部板厚がマスク本体の板厚よりも薄い凹孔を形成し、かつマスク本体の長径の約1/3の位置を中心としてその長径の約1/4の幅の範囲に位置する長辺側のスカート部に管軸方向に長い貫通孔を形成すると、従来電子ビーム通過孔の形成されている主面部と電子ビーム通過孔の形成されていない無孔部とで熱容量が異なるために生じた主面部と無孔部との境界部での温度差を低減し、主面部の温度上昇を抑えることができ、主 / Long holes or bottom thickness in the minor axis direction imperforate portion of the long side located within the range of the width of 4 to form a thin concave hole than the thickness of the mask body, more preferably, the mask body about 1/3 position long through-hole or the bottom plate in the short axis direction imperforate portion of the long side located in the range of about 1/4 of the width of the major axis as the center of the major axis of the mask body from the minor axis thickness to form a thin concave hole than the thickness of the mask body and the long side of the skirt located in the range of about 1/4 of the width of the major axis centered about a third position of the major axis of the mask body When forming the long holes in the tube axis direction in section, the conventional electron beam passing the main surface portion formed of hole and electron beam is not formed in the hole imperforate portion and the main surface portion of heat capacity caused by the difference in reducing the temperature difference at the boundary portion between the non-perforated portion, it is possible to suppress the temperature rise of the main surface portion, the main 部のドーミングを低減することができる。 Doming parts can be reduced. さらに電子ビーム通過孔列の配列間隔、主面部の曲率を適正化することにより、従来局部的なドーミングが大きく現れた楕円領域(図16参照)のドーミングを抑制することができる。 Further sequence interval between the electron beam passage hole arrays, by optimizing the curvature of the main surface portion, it is possible to suppress the doming of the conventional local doming appears larger elliptical region (see FIG. 16). その結果、蛍光体層に対する電子ビームのランディングずれによる色純度の劣化を防止することができる。 As a result, it is possible to prevent deterioration of color purity due to the landing shift of the electron beam with respect to the phosphor layer.

【0023】 [0023]

【実施例】以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説明する。 EXAMPLES Hereinafter, with reference to the drawings on the basis of the present invention in the Examples.

【0024】実施例1. [0024] Example 1. 図1に実施例1のカラー受像管を示す。 Figure 1 shows a color picture tube of Embodiment 1. このカラー受像管は、有効部1が曲面からなる実質的に矩形状のパネル2とこのパネル2に接合された漏斗状のファンネル3とからなる外囲器を有する。 This color picture tube has an envelope of the useful portion 1 consists essentially rectangular panel 2 and joined to the panel 2 a funnel-shaped funnel 3 which consists of a curved surface. そのパネル2の有効部1の内面に、青、緑、赤に発光する3 The inner surface of the effective portion 1 of the panel 2, 3 which emits blue, green, red
色蛍光体層からなる蛍光体スクリーン4が形成されている。 A phosphor screen 4 made of a color phosphor layer is formed. さらにこの蛍光体スクリーン4と所定間隔離れて、 Further the phosphor screen 4 and the predetermined distance,
その内側に後述するマスク本体30とこのマスク本体3 The mask body 30 and the mask body 3 to be described later on the inside
0の周辺部に取付けられたマスクフレーム31とからなる実質的に矩形状のシャドウマスク32が配置され、パネル2に設けられた複数個のスタツドピン33とマスクフレーム31に取付けられてその各スタツドピン33に係止する複数個の弾性支持体34とによりパネル2の内側に支持されている。 0 of substantially rectangular shadow mask 32 consisting of attached mask frame 31. the periphery are arranged a plurality of Sutatsudopin provided in panel 2 33 and its respective Sutatsudopin 33 attached to the mask frame 31 It is supported inside the panel 2 by a plurality of resilient support 34 which engages in. 一方、ファンネル3のネック13 On the other hand, of the funnel 3 neck 13
内に3電子ビーム14を放出する電子銃15が配設されている。 Three electron guns 15 for emitting an electron beam 14 is disposed within. そして、この電子銃15から放出される3電子ビーム14をファンネル3の外側に装着された偏向装置16の発生する磁界により偏向し、上記マスク本体5の電子ビーム通過孔8を介して蛍光体スクリーン4を水平、垂直走査することにより、カラー画像を表示する構造に形成されている。 Then, the three electron beams 14 emitted from the electron gun 15 is deflected by a magnetic field generated by a deflection device 16 mounted on the outside of the funnel 3, the phosphor screen through the electron beam passage apertures 8 of the mask body 5 4 horizontally, by a vertical scanning is formed in a structure for displaying a color image.

【0025】上記シャドウマスク32のマスク本体30 [0025] The mask body 30 of the shadow mask 32
は、板厚0.1〜0.3mmの冷間圧延鋼板からなる実質的に矩形状に形成され、図2(a)に示すように、上記蛍光体スクリーンと対向する曲面に、マスク本体30の短軸方向(Y軸方向)に長い複数個のスリット状電子ビーム通過孔36がその短軸方向に列状に延びる電子ビーム通過孔列を構成し、この電子ビーム通過孔列がマスク本体30の長軸方向(X軸方向)に複数列形成された主面部37と、この主面部37を取巻く無孔部38と、この無孔部38を介して主面部37のまわりに設けられたスカート部39とからなる。 It is formed in a substantially rectangular shape made of cold-rolled steel sheet having a thickness of 0.1 to 0.3 mm, as shown in FIG. 2 (a), the phosphor screen facing the curved surface, the mask body 30 electron beam passage hole arrays constitute, the electron beam passage hole arrays is the mask body 30 short axis direction (Y axis direction) long plurality to the slit-shaped electron beam apertures 36 extend in rows in its minor axis direction of the the main surface portion 37 a plurality of rows formed in the longitudinal direction (X axis direction) of the imperforate portion 38 surrounding the main surface portion 37, a skirt provided around the main surface portion 37 via the imperforate portion 38 consisting of part 39.. その長辺側および短辺側スカート部39の中央部およびコーナー部スカート部39 Central and corner skirt 39 of the long side and short side side skirt portion 39
の解放端縁部には、それぞれ複数個の切欠き40が設けられている。 Of the open end edges, each plurality of notches 40 are provided. 一方、マスクフレーム31は、板厚1mm程度の冷間圧延鋼板からなる断面L字形の実質的に矩形状に形成されている。 On the other hand, the mask frame 31 is substantially formed in a rectangular cross section L-shaped comprising a cold rolled steel sheet of about a thickness 1 mm. そしてこれらマスク本体30とマスクフレーム31とは、マスク本体30のスカート部39 And these mask body 30 and the mask frame 31, the skirt portion 39 of the mask body 30
をマスクフレーム31の内側にし、上記切欠き40により囲まれた舌片部41で溶接されている。 Was on the inside of the mask frame 31 is welded at the tongue portion 41 which is surrounded by the notches 40.

【0026】さらにこの実施例1のマスク本体30には、長辺側および短辺側スカート部39の中央部とコーナー部との中間部に、それぞれスカート部39の幅方向(管軸方向と一致)に長い図2(b)に示す複数個のスリット状開孔43が並列形成されている。 Furthermore the mask body 30 of the first embodiment, the intermediate portion between the central portion and the corner portion of the long side and short side side skirt portion 39, respectively coincides with the width direction (tube axis direction of the skirt portion 39 ) a plurality of slit-like openings 43 shown in long Figure 2 (b) to have in parallel form. これら開孔4 These apertures 4
3のうち、特に長辺側の開孔43については、好ましくは、マスク本体30の短軸からマスク本体30の長径w Of the three, especially the opening 43 on the long side is preferably longer diameter w of the mask body 30 from the short axis of the mask body 30
の約1/3の位置を中心として、その長径wの約1/4 About the position of about one-third of the, about a quarter of its major axis w
の幅の範囲に設けられる。 It is provided in the range of the width of the.

【0027】このようなマスク本体30は、従来のマスク本体と同様に、フォトエッチング法により平板状のフラットマスクを形成したのち、このフラットマスクをプレス成形することにより製造されるが、そのフラットマスクを形成するとき、両面からエッチングして、図3に示すように、蛍光体スクリーンと対向する主面部となる部分37a に電子ビーム通過孔36を所定の配列で形成すると同時に、スカート部となる部分39a に切欠き4 [0027] Such mask body 30, as in the conventional mask body, after forming a flat flat mask by photo-etching method, is manufactured by press-molding the flat mask, the flat mask when forming, by etching from both sides, as shown in FIG. 3, at the same time to form the electron beam passage hole 36 in a predetermined arrangement in the portion 37a serving as a phosphor screen facing the main surface portion, the skirt portion notch to 39a 4
0および開孔43を形成することにより得られる。 Obtained by forming a 0 and aperture 43.

【0028】ところで、上記のように、マスク本体30 [0028] By the way, as described above, the mask body 30
のスカート部39にスリット状開孔43を設けると、従来のスカート部にスリット状開孔を設けないマスク本体にくらべてスカート部39の剛性を低くすることができる。 When the skirt portion 39 provided with a slit-shaped aperture 43, it is possible to lower the rigidity of the skirt portion 39 than the slit-shaped opening in the mask body is not provided in the conventional skirt. その結果、図4(a)に示すように、電子ビームの衝突によりマスク本体30が加熱されて熱膨張するとき、その熱膨張を破線で示したスカート部39の変形により吸収し、主面部37が蛍光体スクリーン方向に膨出するドーミングを低減することがでる。 As a result, as shown in FIG. 4 (a), is heated mask body 30 by the collision of the electron beam when the thermal expansion is absorbed by the deformation of the skirt portion 39 showing the thermal expansion by the broken line, the main surface portion 37 There out is possible to reduce the doming bulging phosphor screen direction.

【0029】すなわち、従来のシャドウマスクについては、図4(b)に示したように、マスク本体5の周辺部が比較的剛性の高いスカート部11を介してマスクフレーム6に取付けられているために、電子ビームの衝突によりマスク本体5が加熱されると、熱膨張により、主面部9が破線で示したように蛍光体スクリーン方向に大きく膨出するドーミングがおこり、蛍光体層に対する電子ビームのランデイングがずれ、色純度の劣化が生じたが、この例のマスク本体30のようにスカート部39にスリット状開孔43を設けると、その剛性の低下により、図4(a)に示したようにスカート部39が変形し、主面部37が蛍光体スクリーン4方向に膨出するドーミングを低減することができる。 [0029] That is, for the conventional shadow mask, as shown in FIG. 4 (b), because it is attached to the mask frame 6 via the skirt portion 11 higher peripheral portion of relatively rigid mask body 5 , when the mask body 5 by the collision of the electron beam is heated by the thermal expansion, the main surface portion 9 occurs doming to increase bulges phosphor screen direction as indicated by the broken line, the electron beam with respect to the phosphor layer Randeingu deviation, but deterioration of color purity occurs, providing a slit-shaped aperture 43 in the skirt portion 39 as the mask body 30 in this example, by reduction of its rigidity, as shown in FIG. 4 (a) the skirt portion 39 is deformed, it is possible to major surface 37 to reduce the doming bulging phosphor screen 4 direction. したがって蛍光体層に対する電子ビームのランデイングずれが小さくなり、 Therefore Randeingu shift of the electron beam with respect to the phosphor layer is reduced,
色純度の劣化を防止することができる。 It is possible to prevent the color purity deterioration. しかも上記のようにマスク本体30のスカート部39にスリット状開孔43を設けても、スカート部39の解放端縁は、従来のマスク本体のスカート部と同様につながっており、マスクフレームの内側へのスカート部の挿入を困難にすることがなく、従来のシャドウマスクの組立てと同様に組立てることができる。 Moreover even if a slit-shaped aperture 43 in the skirt portion 39 of the mask body 30 as described above, the open end edge of the skirt portion 39 is connected similarly to the skirt portion of the conventional mask body, the inside of the mask frame without making it difficult to insert the skirt portions into, it can be assembled as with the assembly of the conventional shadow mask.

【0030】なお、上記実施例では、マスク本体のスカート部のスリット状開孔を、フラットマスクを形成するとき、フォトエッチング法により主面部の電子ビーム通過孔と同時に形成したが、図5(a)に示すように、フォトエッチング法によりフラットマスクを形成するとき、主面部の電子ビーム通過孔36と同時にスカート部のスリット状開孔を形成せず、フラットマスク形成後、 [0030] In the above embodiment, the slit-shaped openings of the skirt portion of the mask body, when forming a flat mask has been formed simultaneously with the electron beam apertures of the main surface portion by photoetching method, FIG. 5 (a as shown in), when forming a flat mask by photo-etching method, without forming a slit-shaped aperture of the electron beam apertures 36 simultaneously with the skirt portion of the main surface portion, after the flat mask formed,
打抜き加工により、同(b)に示すように、上記フラットマスクのスカート部となる部分にスリット状開孔43 By stamping, as shown in (b), a slit-shaped opening 43 in the portion serving as the skirt portion of the flat mask
を形成してもよい。 It may be formed.

【0031】実施例2. [0031] Example 2. カラー受像管の全体の構成は、 The entire structure of the color picture tube,
実施例1のカラー受像管とほぼ同じであるので、その説明を省略し、その要部構成であるマスク本体について説明する。 Is almost the same as the color picture tube of Embodiment 1, the description is omitted, will be described mask body which is a main structure.

【0032】この実施例2のマスク本体は、板厚0.1 The mask body of the second embodiment, the plate thickness 0.1
〜0.3mmの冷間圧延鋼板からなる実質的に矩形状に形成され、図6(a)に示すように、蛍光体スクリーンと対向する曲面に複数個のスリット状電子ビーム通過孔3 Is formed in a substantially rectangular shape made of cold-rolled steel sheet ~0.3Mm, 6 (a), a phosphor screen and a plurality of slit-shaped electron beam on opposing curved passage holes 3
6がマスク本体30の短軸方向に列状に延びる電子ビーム通過孔列を構成し、この電子ビーム通過孔列がマスク本体30の長軸方向に複数列形成された主面部37と、 6 constitute an electron beam passage hole arrays extending in rows along the minor axis of the mask body 30, the electron beam passage hole arrays is a principal part 37 a plurality of rows formed in the longitudinal direction of the mask body 30,
この主面部37を取巻く無孔部38と、この無孔部38 The imperforate portion 38 surrounding the main surface portion 37, the imperforate portion 38
を介して主面部37のまわりに設けられたスカート部3 Skirt 3 provided around the main surface portion 37 via the
9とからなる。 Consisting of 9.

【0033】さらにこの実施例2のマスク本体には、マスク本体の短軸からマスク本体の長径wの約1/3の位置を中心として、その長径wの約1/4の幅の範囲に位置する長辺側の無孔部38に、マスク本体の短軸方向に長く、かつ図6(b)に示すように、板厚が無孔部38 [0033] More mask body of Example 2, centered about a third position of the major axis w of the mask body from the short axis of the mask body, located in the range of about 1/4 of the width of the major axis w the imperforate portion 38 of the long side to long in the minor axis direction of the mask body, and as shown in FIG. 6 (b), the plate thickness is imperforate section 38
の他の部分の板厚、すなわちマスク本体30の板厚よりも薄いスリット状の凹孔45が形成されている。 Thickness of the other portions, i.e. slit-shaped concavities 45 thinner than the thickness of the mask body 30 is formed. さらにマスク本体の長径wの約1/3の位置を中心として、その長径wの約1/4の幅の範囲に位置する長辺側のスカート部39に、同(c)に示したように、管軸方向に長いスリット状の開孔43が形成されている。 Further centered about a third position of the major axis w of the mask body, the long side of the skirt portion 39 located in the range of about 1/4 of the width of the major axis w, as shown in the (c) , slit-like opening 43 elongated in the tube axis direction is formed. なお、40 In addition, 40
は、長辺側および短辺側のスカート部39、およびコーナー部のスカート部39の解放端縁部に形成された切欠きである。 Is a notch formed in the open end edge of the skirt portion 39 of the skirt portion 39, and the corner portion of the long side and short side side.

【0034】このようなマスク本体は、フォトエッチング法により平板状のフラットマスクを形成したのち、このフラットマスクをプレス成形することにより製造されるが、そのフラットマスクを形成するとき、両面からエッチングして、蛍光体スクリーンと対向する主面部となる部分に電子ビーム通過孔を形成するとともに、スカート部39に開孔43を形成し、同時に無孔部38を一方の面からエッチングして凹孔45を形成することにより得られる。 [0034] Such mask body, after forming a flat flat mask by photo-etching method, is manufactured by press-molding the flat mask, when forming the flat mask is etched from both sides Te, concave hole 45 to form the electron beam apertures in the portion to be a phosphor screen facing the main surface portion, an opening 43 is formed in the skirt portion 39, by etching the imperforate portion 38 from the one surface simultaneously obtained by forming.

【0035】上記のようにマスク本体の長辺側の無孔部38にマスク本体の短軸方向に長い凹孔45を形成すると、電子ビームの衝突によりマスク本体が加熱されても、図7にマスク本体の短軸を横軸、温度を縦軸として曲線47で示したように、マスク本体全体の温度分布を均一化することができる。 [0035] By forming a long concave hole 45 in the minor axis direction of the mask body imperforate portion 38 of the long side of the mask body as described above, even if the mask body is heated by the collision of the electron beam, in FIG. 7 the minor axis of the mask body horizontal axis, as indicated by a curve 47 the temperature on the vertical axis, it is possible to uniform the temperature distribution of the whole mask body. すなわち、前述したように無孔部に凹孔を形成しない従来のマスク本体では、電子ビーム通過孔の形成されている主面部と無孔部とで、熱容量が異なるため、その境界部で熱伝導差が生じ、曲線2 That is, in the conventional mask body that does not form the concave hole on the imperforate portion as described above, with the main surface portion and the imperforate portion formed of electron beam passing holes, the heat capacity is different, the thermal conductivity in the boundary portion the difference occurs, curve 2
3で示したように無孔部の温度に対して主面部の温度が極端に高くなり、主面部のドーミングを大きくする原因となったが、上記のように無孔部に凹孔を形成すると、 Temperature of the main surface portion with respect to the temperature of the non-perforated portion as indicated at 3 is extremely high, but caused it to increase the doming of the main surface portion, forming a concave hole into imperforate portions as described above ,
主面部と無孔部との境界部で熱伝導差が減少し、従来のマスク本体にくらべて、主面部の温度が下がり、無孔部の温度が高くなり、マスク本体全体の温度分布を均一化する。 Reduced heat conduction difference at the boundary between the main surface portion and the imperforate portion, compared to conventional mask body, lowered temperature of the main surface portion, the temperature of the non-perforated portion is increased, the temperature distribution of the whole mask body uniform the reduction. このマスク本体全体の温度分布の均一化は、上記のようにスカート部に管軸と同方向に長いスリット状の開孔を形成することにより、さらに助長される。 The mask uniform temperature distribution throughout the body, by forming a slit-shaped opening elongated in the tube axis the same direction as the skirt portion, as described above, is further promoted. しかもこのスカート部の開孔は、実施例1のマスク本体と同様にスカート部の剛性を低くし、それによりマスク本体の熱膨張を吸収して、主面部が蛍光体スクリーン方向に膨出するドーミングを低減する。 Moreover apertures of the skirt, to lower the rigidity of the mask body like the skirt portion of Example 1, thereby to absorb the thermal expansion of the mask body, the main surface portion is bulged the phosphor screen direction doming to reduce. その結果、上記温度分布を均一化およびスカート部の剛性低下により、従来マスク本体のドーミングのために生じた色純度の劣化をなくすことができる。 As a result, the decrease in rigidity of the uniform and skirt the temperature distribution, it is possible to eliminate the deterioration of the color purity caused for doming conventional mask body.

【0036】また無孔部38の凹孔45およびスカート部39の開孔43をマスク本体の短軸からマスク本体の長径wの約1/3の位置を中心としてその長径wの約1 Further approximately 1 of the major axis w of opening 43 of the concave hole 45 and the skirt portion 39 of the non-perforated portion 38 centered about a third position of the major axis w of the mask body from the short axis of the mask body
/4の幅の範囲に、管軸方向に長いスリット状の開孔4 / 4 in the range of width, a long slit-shaped aperture 4 in the axial direction of the tube
3を形成したことにより、従来局部的に高輝度画像を表示した場合、最も発生しやすかった部分の局部的なドーミングを低減でき、図15に示した楕円領域21における蛍光体層に対する電子ビームのランディングずれを効果的に低減することができる。 By 3 was formed, when displaying a conventional locally high-luminance image, can be reduced local doming of the most occurring easy was part of the electron beam with respect to the phosphor layer in the elliptical region 21 shown in FIG. 15 it is possible to effectively reduce the landing deviation. このような効果は、最近のカラー受像管のようにパネルの有効部の曲率が小さい平坦化したカラー受像管の場合、マスク本体の曲率を大きくすることが困難なため、特に有効である。 Such an effect, for modern color picture tube effective portion curvature of the panel as a color picture tube has a small flattened, because it is difficult to increase the curvature of the mask body is particularly effective.

【0037】さらにこの実施例2のマスク本体は、図6 Furthermore the mask body in the second embodiment, FIG. 6
に示したように、電子ビーム通過孔列の間隔を適正化することにより、ランディングエラーなしに主面部の曲率を適当に変えられる。 As shown in, by optimizing the interval between the electron beam passage hole arrays is suitably changed curvature of the main surface portion without the landing error. そのため、長軸上での曲率を大きくでき、マスク本体全体のドーミングを抑制できる。 Therefore, possible to increase the curvature on the long axis, it can be suppressed doming of the whole mask body. すなわち、図8に示すように、マスク本体30の長軸方向周辺部における曲線48で示す短軸方向の曲率を曲線4 That is, as shown in FIG. 8, curve 4 the curvature in the minor axis direction shown by the curve 48 in the major axis direction peripheral portion of the mask body 30
9で示すように小さく、曲率半径Ry を大きくすることができ、その短軸方向の曲率を小さくした分、点50を通る紙面に垂直な長軸上の曲率を大きくでき、マスク本体30全体のドーミングを抑制できる。 Small as indicated by 9, it is possible to increase the radius of curvature Ry, the amount corresponding to the small curvature in the short axis direction can be increased curvature on the vertical long axis to the plane passing through the point 50, the mask body 30 of the total doming can be suppressed. しかしこの場合、図9(b)および(c)に蛍光体スクリーンのストライプ状の3色蛍光体層B,G,Rの配列ピッチをPH However, in this case, and FIG. 9 (b) and (c) a phosphor screen striped three-color phosphor layers of the B, G, the pitch of the R PH
P、その3色蛍光体層B,G,Rの間隔をdとして示したように、 d<(2/3)PHP または d>(2/3)PHP となり、蛍光体スクリーン品位の劣化につながる。 P, the three-color phosphor layers B, as indicated G, the distance R as d, leading to d <(2/3) PHP or d> (2/3) PHP, and the phosphor screen quality deterioration . したがって上記マスク本体の曲率の変更に対しては、電子ビーム通過孔列の間隔を適切に調整して適正化する必要があり、その適正化によって、図9(a)に示すように、 d=(2/3)PHP と、蛍光体スクリーン品位の劣化のないカラー受像管を構成することができる。 Thus for the change in the curvature of the mask body, it is necessary to optimize appropriately adjust the interval between the electron beam passage hole arrays, by the optimization, as shown in FIG. 9 (a), d = (2/3) and PHP, can be configured without a color picture tube degradation of the phosphor screen quality. なお、上記実施例では、マスク本体の長辺側の無孔部のみに凹孔を形成したが、この凹孔を長辺側の無孔部のほかに、短辺側の無孔部およびスカート部にも形成すると、マスク本体のドーミングについては、上記実施例の場合と大差ないが、長時間、高輝度画像を継続して表示した場合、開孔の形成によってマスク本体の熱容量が小さくなった分、マスク本体のドーミンが大きくなり、好ましくない。 In the above embodiment has formed the concave hole only the imperforate portion of the long side of the mask body, the concave hole in addition to the imperforate portion of the long side, imperforate portion of the short side and skirt when also formed in part, for the doming of the mask body, but not much different in the case of the embodiment, a long time, when the displayed continuously high luminance image, the heat capacity of the mask body is reduced by the formation of apertures minute, Domin of the mask body is increased, which is not preferable.

【0038】実施例3. [0038] Example 3. カラー受像管の全体の構成は、 The entire structure of the color picture tube,
実施例1のカラー受像管とほぼ同じであるので、その説明を省略し、その要部構成であるシャドウマスクのマスク本体について説明する。 Is almost the same as the color picture tube of Embodiment 1, the description is omitted, will be described mask body of the shadow mask which is a main structure.

【0039】この実施例3のマスク本体は、実施例2のマスク本体の無孔部の凹孔のかわりに、マスク本体の短軸方向に長いスリット状の開孔を形成したものであり、 The mask body of the third embodiment, in place of the concave hole of the imperforate portion of the mask body of Example 2, which has a slit-shaped opening elongated in the short axis direction of the mask body,
マスク本体の短軸からマスク本体の長径の約1/3の位置を中心としてマスク本体の長径の約1/4の幅の範囲に位置する長辺側の無孔部およびスカート部に、それぞれスリット状の開孔が形成されている。 The imperforate portion of the long side located in the range of about 1/4 of the width and the skirt portion of the major axis of the mask body about a position of about 1/3 of the diameter of the mask body from the short axis of the mask body, respectively the slits Jo aperture is formed.

【0040】このようなマスク本体は、フォトエッチング法により平板状のフラットマスクを形成するとき、両面からエッチングして、蛍光体スクリーンと対向する主面部となる部分に電子ビーム通過孔を形成すると同時に、無孔部およびスカート部にも開孔53を形成し、その後、プレス成形することにより得られる。 [0040] Such mask body, when forming a flat flat mask by photo-etching, and etching from both sides, to form an electron beam aperture in the portion to be a phosphor screen facing the main surface portion simultaneously , also forms an opening 53 in the imperforate portion and the skirt portion, then, is obtained by press-molding.

【0041】このようにマスク本体を構成すると、実施例2のマスク本体の無孔部の凹孔のかわりに開孔が形成されている分だけ、主面部と無孔部との熱容量差が小さくなり、実施例2よりも大きな効果が得られる。 [0041] By configuring in this way the mask body, by an amount apertures instead of the concave hole of the imperforate portion of the mask body of Example 2 is formed, small heat capacity difference between the main surface portion and the imperforate portion It becomes large effect can be obtained than in example 2.

【0042】実際にこのマスク本体が組込まれたカラー受像管について、局部的なドーミングによる3色蛍光体層に対する電子ビームのランディングずれを測定した結果、図15に示した蛍光体スクリーンの長軸上の点P1 [0042] In fact the color picture tube this mask body is incorporated, local results of measuring the landing shift of the electron beam with respect to three color phosphor layers due to doming, the long axis of the phosphor screen shown in FIG. 15 point of P1
でのランディングずれの改善は、約3%であったが、楕円領域の点P1 を通る短軸方向の周辺の点P2 でのランディングずれを約10%の改善することができた。 Improvement of landing deviation of, although there was about 3%, it was possible to improve the landing deviation of about 10% in the direction of the minor axis of the point around P2 passing through the point P1 of the elliptical region. またこのマスク本体でも、実施例2のマスク本体と同様に、 Also in this mask body, like the mask body in Example 2,
図8に示した短軸方向の曲率半径Ry を修正し、かつ図9に示したように、蛍光体スクリーンのストライプ状の3色蛍光体層の配列ピッチPHPを適正化することにより、マスク本体の長軸上のドーミングをさらに抑制することができる。 Correct curvature radius Ry along the short axis shown in FIG. 8, and as shown in FIG. 9, by optimizing the arrangement pitch PHP striped three-color phosphor layers of the phosphor screen, the mask body it is possible to further suppress the doming of the long axis of the.

【0043】なお、この実施例3のマスク本体は、無孔部に開孔が形成されているため、写真印刷法によりパネルの内面に蛍光体スクリーンを形成するとき、その無孔部38の開孔パターンも焼付けられるため、パネルの有効部内面に3色蛍光体層を形成する前に蛍光体スクリーン形成領域の外周部に光吸収層を形成しておくことが必要である。 [0043] The mask body of the third embodiment, since it is open pores formed in the imperforate portion, when forming the phosphor screen on the inner surface of the panel by a printing method, opening of the imperforate portion 38 because the hole pattern may be printed, it is necessary to be formed a light absorbing layer on the outer peripheral portion of the phosphor screen forming region before forming the three-color phosphor layers to enable the inner surface of the panel.

【0044】実施例4. [0044] Example 4. カラー受像管の全体の構成は、 The entire structure of the color picture tube,
実施例1のカラー受像管とほぼ同じであるので、その説明を省略し、その要部構成であるシャドウマスクのマスク本体について説明する。 Is almost the same as the color picture tube of Embodiment 1, the description is omitted, will be described mask body of the shadow mask which is a main structure.

【0045】この実施例4のマスク本体は、図10に示すように、マスク本体の短軸からマスク本体の長径wの約1/3の位置を中心としてマスク本体の長径wの約1 The mask body of the fourth embodiment, as shown in FIG. 10, about 1 longest diameter w of the mask body about a position of about 1/3 of the diameter w of the mask body from the short axis of the mask body
/4の幅の範囲に位置する長辺側の無孔部38に、マスク本体の短軸と同方向に長くスリット状の開孔52が形成されているが、長辺側のスカート部39には、開孔は形成されてない。 / 4 to the imperforate portion 38 on the long side which is located within the range of width, but a slit-shaped aperture 52 long in the minor axis in the same direction of the mask body is formed, the skirt portion 39 of the long side is not apertures are formed.

【0046】このようなマスク本体も、フォトエッチング法により平板状のフラットマスクを形成するとき、両面からエッチングして、蛍光体スクリーンと対向する主面部となる部分に電子ビーム通過孔を形成すると同時に、無孔部38に開孔53を形成し、その後、プレス成形することにより得られる。 [0046] Also such a mask body, when forming a flat flat mask by photo-etching, and etching from both sides, and at the same time to form the electron beam apertures in the portion to be a phosphor screen facing the main surface portion , an opening 53 is formed in the imperforate portion 38, then, it is obtained by press-molding.

【0047】このようにマスク本体を構成しても、前記実施例3のマスク本体とほぼ同様の効果が得られる。 [0047] be constituted in this way the mask body, substantially the same effects as those of the mask body of the third embodiment can be obtained.

【0048】 [0048]

【発明の効果】蛍光体スクリーンと対向する主面部に多数の電子ビーム通過孔が形成され、この主面部のまわりに無孔部を介してスカート部が形成された実質的に矩形状のマスク本体と、そのスカート部に取付けられた実質的に矩形状のマスクフレームとからなるシャドウマスクを有するカラー受像管において、マスク本体のスカート部に管軸方向に長いスリット状貫通孔を形成すると、スカート部の剛性を低くすることができる。 [Effect of the Invention A number of electron beam apertures in the main surface portion of the phosphor screen and the counter is formed, substantially rectangular mask body which skirt portion via the nonporous portion is formed around the main surface portion When, in a color picture tube having a shadow mask made of a substantially rectangular mask frame attached to the skirt portion, to form a long slit-shaped through-hole in the axial direction of the tube to the skirt portion of the mask body, the skirt portion it is possible to lower the rigidity. したがってそれにより、電子ビームの衝突によりマスク本体が加熱され熱膨張しても、その熱膨張をスカート部の変形により吸収して、主面部が蛍光体スクリーン方向に膨出するマスク本体のドーミングを低減することができる。 Thereby Therefore, even if the mask body is heated by the collision of the electron beam thermal expansion, the thermal expansion is absorbed by deformation of the skirt portion, reducing the doming of the mask body that major surface bulges the phosphor screen direction can do. その結果、蛍光体層に対する電子ビームのランディングずれによる色純度の劣化を防止することができる。 As a result, it is possible to prevent deterioration of color purity due to the landing shift of the electron beam with respect to the phosphor layer.

【0049】また、マスク本体の短軸からこのマスク本体の長径の約1/3の位置を中心としてその長径の約1 [0049] In addition, about 1 of the major axis from the short axis of the mask body about the approximately 1/3 of the position of the major axis of the mask body
/4の幅の範囲に位置する長辺側の無孔部に短軸方向に長い貫通孔または底部板厚がマスク本体の板厚よりも薄い凹孔を形成し、より好ましくは、マスク本体の短軸からこのマスク本体の長径の約1/3の位置を中心としてその長径の約1/4の幅の範囲に位置する長辺側の無孔部に短軸方向に長い貫通孔または底部板厚がマスク本体の板厚よりも薄い凹孔を形成し、かつマスク本体の長径の約1/3の位置を中心としてその長径の約1/4の幅の範囲に位置する長辺側のスカート部に管軸方向に長い貫通孔を形成すると、従来電子ビーム通過孔の形成されている主面部と電子ビーム通過孔の形成されていない無孔部とで熱容量が異なるために生じた主面部と無孔部との境界部での温度差を低減し、主面部の温度上昇を抑えることができ、主 / Long holes or bottom thickness in the minor axis direction imperforate portion of the long side located within the range of the width of 4 to form a thin concave hole than the thickness of the mask body, more preferably, the mask body about 1/3 position long through-hole or the bottom plate in the short axis direction imperforate portion of the long side located in the range of about 1/4 of the width of the major axis as the center of the major axis of the mask body from the minor axis thickness to form a thin concave hole than the thickness of the mask body and the long side of the skirt located in the range of about 1/4 of the width of the major axis centered about a third position of the major axis of the mask body When forming the long holes in the tube axis direction in section, the conventional electron beam passing the main surface portion formed of hole and electron beam is not formed in the hole imperforate portion and the main surface portion of heat capacity caused by the difference in reducing the temperature difference at the boundary portion between the non-perforated portion, it is possible to suppress the temperature rise of the main surface portion, the main 部のドーミングを低減することができる。 Doming parts can be reduced. さらに電子ビーム通過孔列の配列間隔、主面部の曲率を適正化することにより、従来局部的なドーミングが大きく現れた楕円領域(図16参照)のドーミングを抑制することができる。 Further sequence interval between the electron beam passage hole arrays, by optimizing the curvature of the main surface portion, it is possible to suppress the doming of the conventional local doming appears larger elliptical region (see FIG. 16). その結果、蛍光体層に対する電子ビームのランディングずれによる色純度の劣化を防止することができる。 As a result, it is possible to prevent deterioration of color purity due to the landing shift of the electron beam with respect to the phosphor layer.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】この発明の実施例1のカラー受像管の構成を示す図である。 1 is a diagram showing the configuration of a color picture tube of Embodiment 1 of the present invention.

【図2】図2(a)はそのシャドウマスクのマスク本体の構成を示す図、図2(b)はそのマスク本体のスカート部の開孔を示す図である。 Figure 2 Figure 2 (a) illustrates a configuration of a mask body of the shadow mask, FIG. 2 (b) is a diagram showing an opening of the skirt portion of the mask body.

【図3】上記マスク本体の製造方法を説明するために示した平板状のフラットマスクの図である。 3 is a diagram of a flat-flat mask shown for explaining the method of producing the mask body.

【図4】図4(a)は上記マスク本体の熱膨張に対する作用を説明するための図、図4(b)は比較のために示した従来のマスク本体の熱膨張に対する作用を説明するための図である。 [FIG. 4 (a) diagram for explaining the effect on the thermal expansion of the mask body, FIG. 4 (b) for explaining the effect on the thermal expansion of the conventional mask body shown for comparison it is a diagram of.

【図5】図5(a)および(b)はそれぞれ上記マスク本体の他の製造方法を説明するために示したフラットマスクの図である。 [5] FIG. 5 (a) and (b) are diagrams of a flat mask shown for each explaining another manufacturing method of the mask body.

【図6】図6(a)はこの発明の実施例2のカラー受像管のマスク本体の構成を示す図、図6(b)はその無孔部の凹孔を示す図、図6(c)はスカート部の開孔を示す図である。 [6] FIG. 6 (a) illustrates a configuration of a mask body of the color picture tube of Embodiment 2 of the present invention, FIG. 6 (b) shows the concave hole of the imperforate portion, FIG. 6 (c ) is a diagram showing the opening of the skirt portion.

【図7】上記実施例2のマスク本体の温度分布を従来のマスク本体の温度分布と比較して示す図である。 7 is a diagram showing a comparison of the temperature distribution of the mask body of Example 2 with the temperature distribution of the conventional mask body.

【図8】上記実施例2のマスク本体の主面部の曲面形状を説明するための図である。 8 is a diagram for explaining a curved shape of the main surface of the mask body of Example 2.

【図9】図9(a)ないし(c)はそれぞれ上記マスク本体の主面部の曲面形状と蛍光体スクリーンのストライプ状3色蛍光体層の配列状態を説明するための図である。 [9] to 9 (a) without (c) are diagrams for respectively explaining an arrangement state of the stripe-shaped three-color phosphor layers of the curved surface and the phosphor screen of the main surface portion of the mask body.

【図10】図10(a)はこの発明の実施例4のカラー受像管のマスク本体の構成を示す図、図10(b)はその無孔部の開孔を示す図である。 [10] FIG. 10 (a) illustrates a configuration of a mask body of the color picture tube of Embodiment 4 of the present invention, FIG. 10 (b) is a diagram showing the opening of the non-perforated portion.

【図11】従来のカラー受像管の構成を示す図である。 11 is a diagram showing a configuration of a conventional color picture tube.

【図12】上記従来のカラー受像管のマスク本体の構成を示す図である。 12 is a diagram showing a configuration of a mask body of the conventional color picture tube.

【図13】上記従来のカラー受像管のマスク本体の局部的なドーミングによる蛍光体層に対する電子ビームのランディングずれを説明するための図である。 13 is a diagram for explaining the landing shift of the electron beam with respect to the phosphor layer due to local doming of the mask body of the conventional color picture tube.

【図14】上記マスク本体の局部的なドーミングの発生状況を説明するための図である。 14 is a diagram for explaining the occurrence of local doming of the mask body.

【図15】上記マスク本体の局部的なドーミングによるランディングずれの発生領域を示す図である。 15 is a diagram showing a generation region of the landing shift due to local doming of the mask body.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

4…蛍光体スクリーン 30…マスク本体 31…マスクフレーム 36…電子ビーム通過孔 37…主面部 38…無孔部 39…スカート部 43…開孔 45…凹孔 52…開孔 4 ... phosphor screen 30 ... mask body 31 ... mask frame 36 ... electron beam passing holes 37 ... principal surface 38 ... imperforate portion 39 ... skirt section 43 ... opening 45 ... recessed holes 52 ... opening

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清水 紀雄 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番2号 株式 会社東芝深谷電子工場内 (72)発明者 中川 慎一郎 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番2号 株式 会社東芝深谷電子工場内 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) invention's shares company Toshiba Fukaya in an electronic factory chome No. 9 No. 2 Shimizu, Norio, Saitama Prefecture, Fukaya Hatara-cho (72) inventor Nakagawa, Shinichiro Saitama Prefecture Fukaya Hatara-cho, chome No. 9 No. 2 stock company Toshiba Fukaya in an electronic factory

Claims (3)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 蛍光体スクリーンと対向する主面部に多数の電子ビーム通過孔が形成され、この主面部のまわりに無孔部を介してスカート部が形成された実質的に矩形状のマスク本体と、上記スカート部に取付けられた実質的に矩形状のマスクフレームとからなるシャドウマスクを有するカラー受像管において、 上記マスク本体は上記スカート部に管軸方向に長いスリット状貫通孔が形成されていることを特徴とするカラー受像管。 1. A large number of electron beam apertures in the main surface portion of the phosphor screen and the counter is formed, substantially rectangular mask body which skirt portion is formed through the imperforate portion around the main surface portion When, in a color picture tube having a shadow mask made of a substantially rectangular mask frame attached to the skirt portion, the mask body is long slit-shaped through-hole in the tube axis direction to the skirt portion is formed color picture tube, characterized in that there.
  2. 【請求項2】 蛍光体スクリーンと対向する主面部に多数の電子ビーム通過孔が形成され、この主面部のまわりに無孔部を介してスカート部が形成された実質的に矩形状のマスク本体と、上記スカート部に取付けられた実質的に矩形状のマスクフレームとからなるシャドウマスクを有し、上記電子ビーム通過孔が上記マスク本体の短軸方向に列状に延びる電子ビーム通過孔列を構成し、この電子ビーム通過孔列が上記マスク本体の長軸方向に複数列配列されてなるカラー受像管において、 上記マスク本体はこのマスク本体の短軸からこのマスク本体の長径の約1/3の位置を中心として上記長径の約1/4の幅の範囲に位置する長辺側の無孔部に上記短軸方向に長い貫通孔または底部板厚がマスク本体の板厚よりも薄い凹孔が形成されている 2. A large number of electron beam apertures in the main surface portion of the phosphor screen and the counter is formed, substantially rectangular mask body which skirt portion via the nonporous portion is formed around the main surface portion When, having a shadow mask made of a substantially rectangular mask frame attached to the skirt portion, the electron beam passage hole arrays which the electron beam passage apertures extending in rows in the direction of the short axis of the mask body configured, the electron beam passage hole arrays is a color picture tube comprising a plurality of rows arranged in the longitudinal direction of the mask body, the mask body about the major axis of the mask body from the short axis of the mask body 1/3 concave hole long holes or bottom thickness in the minor axis direction imperforate portion of the long side is thinner than the thickness of the mask body about a position located in the range of about 1/4 of the width of the major axis and There is formed とを特徴とするカラー受像管。 Color picture tube, wherein the door.
  3. 【請求項3】 蛍光体スクリーンと対向する主面部に多数の電子ビーム通過孔が形成され、この主面部のまわりに無孔部を介してスカート部が形成された実質的に矩形状のマスク本体と、上記スカート部に取付けられた実質的に矩形状のマスクフレームとからなるシャドウマスクを有し、上記電子ビーム通過孔が上記マスク本体の短軸方向に列状に延びる電子ビーム通過孔列を構成し、この電子ビーム通過孔列が上記マスク本体の長軸方向に複数列配列されてなるカラー受像管において、 上記マスク本体はこのマスク本体の短軸からこのマスク本体の長径の約1/3の位置を中心として上記長径の約1/4の幅の範囲に位置する長辺側の無孔部に上記短軸方向に長い貫通孔または底部板厚がマスク本体の板厚よりも薄い凹孔が形成され、かつ 3. A large number of electron beam apertures in the main surface portion of the phosphor screen and the counter is formed, substantially rectangular mask body which skirt portion is formed through the imperforate portion around the main surface portion When, having a shadow mask made of a substantially rectangular mask frame attached to the skirt portion, the electron beam passage hole arrays which the electron beam passage apertures extending in rows in the direction of the short axis of the mask body configured, the electron beam passage hole arrays is a color picture tube comprising a plurality of rows arranged in the longitudinal direction of the mask body, the mask body about the major axis of the mask body from the short axis of the mask body 1/3 concave hole long holes or bottom thickness in the minor axis direction imperforate portion of the long side is thinner than the thickness of the mask body about a position located in the range of about 1/4 of the width of the major axis There is formed, and 記マスク本体の長径の約1/3の位置を中心として上記長径の約1/4の幅の範囲に位置する長辺側のスカート部に管軸方向に長い貫通孔が形成されていることを特徴とするカラー受像管。 That serial mask body of diameter of about 1/3 long through hole located in the skirt portion of the long side located in the range of about 1/4 of the width of the major axis as the center to tube axis direction is formed the color picture tube according to features.
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