JPS6212148A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPS6212148A
JPS6212148A JP60150095A JP15009585A JPS6212148A JP S6212148 A JPS6212148 A JP S6212148A JP 60150095 A JP60150095 A JP 60150095A JP 15009585 A JP15009585 A JP 15009585A JP S6212148 A JPS6212148 A JP S6212148A
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charge pump
oscillator
chip
circuit
voltage
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JP60150095A
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Japanese (ja)
Inventor
Keizo Aoyama
青山 慶三
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Abstract

PURPOSE:To enable standby currents to be reduced by changing over the charging-pump capacity of a charging-pump circuit as required. CONSTITUTION:The charging-pump capacity of a charging-pump circuit on the oscillator 1 side is increased because the oscillation frequency f1 of an oscillator 1 is set at a high value, and the charging-pump capacity of a charging- pump circuit on the oscillator 2 side is reduced because the oscillation frequency f2 of an oscillator 2 is set at a low value. Accordingly, the charging-pump circuit containing the oscillator 1 is operated when a chip is selected in a semiconductor device such as a semiconductor memory storage, and the charging-pump circuit including the oscillator 2 may be operated when the chip is not selected.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は、内蔵するチャージ・ポンプ回路に依り基板バ
イアス電圧■。を供給する形式の半導体集積回路装置に
於いて、基板バイアス電圧を発生させる為のチャージ・
ポンプ能力が、半導体チップに組み込まれた回路の動作
状態、例えば半導体記憶装置に於いてはメモリが選択さ
れたか否かに対応して切り換えられるチャージ・ポンプ
回路を備えることに依り、前記半導体チップに組み込ま
れた回路の多くが動作状態である場合には大きなチャー
ジ・ポンプ能力を発生させ且つ該半導体チップに組み込
まれた回路が殆ど動作しないような状態である場合には
チャージ・ポンプ能力を低減或いはチャージ・ポンプ動
作を停止し、通常時の動作には何等支障がないように、
しかも、スタンバイ時の消費電力は節減できるようにし
たものである。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] The present invention uses a built-in charge pump circuit to reduce the substrate bias voltage. In semiconductor integrated circuit devices that supply
By providing a charge pump circuit whose pumping capacity is switched depending on the operating state of a circuit built into the semiconductor chip, for example, whether or not a memory is selected in a semiconductor memory device, the semiconductor chip can be When most of the circuits incorporated in the semiconductor chip are in operation, a large charge pump capacity is generated, and when the circuits incorporated in the semiconductor chip are hardly in operation, the charge pump capacity is reduced or Stop the charge pump operation so that normal operation will not be affected in any way.
Furthermore, power consumption during standby can be reduced.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は、基板バイアス電圧v0を発生させるチャージ
・ポンプ回路を有する半導体集積回路装置の改良に関す
る。
The present invention relates to an improvement in a semiconductor integrated circuit device having a charge pump circuit that generates a substrate bias voltage v0.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、発振器の出力パルスでチャージ・ポンプ回路を駆
動tて基板バイアス電圧V18を発生させることは、例
えば米国特許第3.794,862号明細書に見られる
ように公知である。
It is conventionally known to drive a charge pump circuit with an oscillator output pulse to generate a substrate bias voltage V18, as can be seen, for example, in US Pat. No. 3,794,862.

一般に、基板バイアス電圧V■が印加されている集積回
路装置に於いては、そのチップ上の回路の多くが動作状
態になった場合、例えば半導体記憶装置に於いてチップ
が選択された場合には大きな基板バイアス電流IBMを
必要とするが、チップが非選択である場合、即ち定゛常
状態にある場合には基板バイアス電流1118として接
合リーク電流等を補償する程度しか必要としない。
In general, in an integrated circuit device to which a substrate bias voltage V■ is applied, when many of the circuits on the chip become operational, for example, when a chip is selected in a semiconductor memory device, A large substrate bias current IBM is required, but when the chip is not selected, that is, in a steady state, the substrate bias current 1118 is only required to compensate for junction leakage current, etc.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

前記のようにチャージ・ポンプ回路を備えて基板バイア
ス電圧VllBを得ている集積回路装置に於いても、例
えばチップが選択されているか否かに依って基板バイア
ス電流rai+の流れる量が大きく相違する点では同様
であり、従って、大きな基板バイアス電流11111を
必要とする際には前記チャージ・ポンプ回路の能力は大
きいものでなければならず、また、定常状態に於いて接
合リーク電流等を補償する程度の基板バイアス電流II
IIIシか必要としない場合ではチャージ・ポンプ回路
の能力は然程大きいものでなくても基板バイアス電圧V
BBを所定の値に維持することが可能であり、更にまた
、■。−〇でも所望の定常状態を維持できる範囲にFE
Tの閾値電圧VLhを選定しておけば、例えばチップの
非選択時にはチャージ・ポンプ回路を全く動作させる必
要がない。
Even in an integrated circuit device that is equipped with a charge pump circuit to obtain the substrate bias voltage VllB as described above, the amount of substrate bias current rai+ flowing varies greatly depending on, for example, whether a chip is selected or not. Therefore, when a large substrate bias current 11111 is required, the capacity of the charge pump circuit must be large, and it also compensates for junction leakage current etc. in a steady state. Substrate bias current of about II
If the charge pump circuit is not required, the ability of the charge pump circuit may not be very large, but the substrate bias voltage V
It is possible to maintain BB at a predetermined value, and also ■. − Even with 〇, FE is within the range where the desired steady state can be maintained.
If the threshold voltage VLh of T is selected, there is no need to operate the charge pump circuit at all when a chip is not selected, for example.

通常、大きなチャージ・ポンプ能力を有するチャージ・
ポンプ回路に於いては、大きな電力が消費される。従っ
て、例えばチップが選択された際に必要とされる基板バ
イアス電流raaを供給できるようなチャージ・ポンプ
回路を常に動作状態にしておくことは、かなりの電力が
無駄に消費されていることになる。
Usually a charge pump with large charge pump capacity.
A large amount of power is consumed in the pump circuit. Therefore, for example, if a charge pump circuit that is capable of supplying the substrate bias current raa required when a chip is selected is kept in operation at all times, a considerable amount of power is wasted. .

本発明では、例えば、チップ選択時、即ち、チップ内に
於ける大部分の回路が動作−するような場合には、チャ
ージ・ポンプ回路を充分に動作させるように、また、チ
ップ非選択時に於いてはチャージ・ポンプ回路のチャー
ジ・ポンプ能力を低下させるか、或いは、チャージ・ポ
ンプ動作を停止させ、スタンバイ電流の低減を可能とす
る。
In the present invention, for example, when a chip is selected, that is, when most of the circuits in the chip are in operation, the charge pump circuit is made to operate sufficiently, and when the chip is not selected, the charge pump circuit is made to operate sufficiently. In this case, the charge pump capability of the charge pump circuit is reduced or the charge pump operation is stopped, thereby making it possible to reduce the standby current.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明の半導体集積回路装置では、基板バイアス電圧■
。を供給する為のチャージ・ポンプ回路を複数系統設け
たり、或いは、単一のチャージ・ポンプ回路であっても
必要に応じてチャージ・ポンプ動作を停止することがで
きるように・して、チャージ・ポンプ回路のチャージ・
ポンプ能力を必要に応じて切り換えることができるよう
にしたものである。
In the semiconductor integrated circuit device of the present invention, the substrate bias voltage
. By providing multiple systems of charge pump circuits to supply the charge pump, or by making it possible to stop the charge pump operation as necessary even if there is a single charge pump circuit, the charge pump operation can be stopped as necessary. Pump circuit charge
The pump capacity can be changed as needed.

〔作用〕[Effect]

前記手段に依れば、集積回路装置内の大部分の回路が動
作状態になった場合、例えば半導体記憶装置のメモリが
選択されたような場合にはチャージ・ポンプ回路のチャ
ージ・ポンプ能力が最大になるように、また、反対に、
例えばメモリが非選択であるような場合にはチャージ・
ポンプ能力を最小成いは零にすることが可能であるから
、チャージ・ポンプを必要とする動作時には能力的に全
く支障がないようにし、しかも、スタンバイ状態に於け
る消費電力を著しく低減することができるものである。
According to the above means, when most of the circuits in the integrated circuit device are in an operating state, for example when a memory of a semiconductor storage device is selected, the charge pumping capacity of the charge pump circuit is maximized. so that, and vice versa,
For example, if the memory is not selected, the charge
Since it is possible to reduce the pump capacity to a minimum or zero, there is no problem in performance during operations that require a charge pump, and moreover, power consumption in standby mode can be significantly reduced. It is something that can be done.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明一実施例の要部回路説明図を表している
FIG. 1 shows an explanatory diagram of a main part circuit of an embodiment of the present invention.

図に於いて、1は発振器、2はインバータよりなるバッ
ファ回路、3はチャージ・ポンプ用キャパシタ、4はク
ランプ用トランジスタ、5はチャージ・ポンプ用トラン
ジスタ、6はインバータ、7は発振器、8はインバータ
よりなるバッファ回路、9はチャージ・ポンプ用キャパ
シタ、10はクランプ用トランジスタ、11はチャージ
・ポンプ用トランジスタ、12及び13はNORゲート
、N1乃至N4は主要なノード、■はメモリをアクティ
ブにするかスタンバイにするかを選択する所謂チップ・
セレクト信号、Vllllは基板バイアス電圧、181
1はノードN4から基板へ流れる基板バイアス電流をそ
れぞれ示している。
In the figure, 1 is an oscillator, 2 is a buffer circuit consisting of an inverter, 3 is a charge pump capacitor, 4 is a clamp transistor, 5 is a charge pump transistor, 6 is an inverter, 7 is an oscillator, and 8 is an inverter. 9 is a charge pump capacitor, 10 is a clamp transistor, 11 is a charge pump transistor, 12 and 13 are NOR gates, N1 to N4 are main nodes, and ■ indicates whether the memory is activated. A so-called chip that selects whether to go on standby
Select signal, Vllll is substrate bias voltage, 181
1 indicates a substrate bias current flowing from node N4 to the substrate.

第2図は第1図に見られる本発明一実施例の動作を説明
する為の主要ノードN1乃至N4に於ける電圧波形を表
すタイミング・チャートであり、第1図に於いて用いた
記号と同記号は同部分を表すか或いは同じ意味を持つも
のとする。
FIG. 2 is a timing chart showing voltage waveforms at main nodes N1 to N4 to explain the operation of the embodiment of the present invention shown in FIG. 1, and the symbols used in FIG. The same symbols represent the same part or have the same meaning.

図に於いて、VCCは正側電源レベル、O8は発振開始
時点(電源投入時点) 、Vth (4)はクランプ用
トランジスタ4の闇値電圧、Vth(5)はチャージ・
ポンプ用トランジスタ5の闇値電圧をそれぞれ示してい
る。尚、ノードN4の欄に破線で表した波形は、対比を
容易にする為、ノードN3に於ける電圧波形を写したも
のである。
In the figure, VCC is the positive power supply level, O8 is the point at which oscillation starts (when the power is turned on), Vth (4) is the dark voltage of clamping transistor 4, and Vth (5) is the charge level.
The dark voltage of the pump transistor 5 is shown. Note that the waveform indicated by a broken line in the column for node N4 is a copy of the voltage waveform at node N3 for ease of comparison.

第2図を参照しつつ第1図に見られる実施例の動作を解
説するが、第1図に於ける発振器lを持つ側のチャージ
・ポンプ回路の動作と発振器7を持つ側のチャージ・ポ
ンプ回路の動作とは同じであるから、発振器lを持つ側
のみに関して説明する。
The operation of the embodiment shown in FIG. 1 will be explained with reference to FIG. 2. Since the operation of the circuit is the same, only the side having the oscillator l will be explained.

さて、発振器lが発振するとノードN1には第2図に於
けるNlに見られるようなパルスの電圧波形が現れる。
Now, when the oscillator l oscillates, a pulse voltage waveform as seen at Nl in FIG. 2 appears at the node N1.

次に、ノードN2には、ノードN1に於ける電圧波形が
バッファ回路2に依って反転された電圧波形が現れる。
Next, a voltage waveform obtained by inverting the voltage waveform at the node N1 by the buffer circuit 2 appears at the node N2.

次に、ノードN3には、ノードN2に於ける電圧波形が
、チャージ・ポンプ用キャパシタ3を介することに依り
、交番パルスの電圧波形となって現れる。即ち、ノード
N3に於ける電圧はノードN2に於ける電圧が上昇する
と共に上昇しようとするが、接地レベルからクランプ用
トランジスタ4の闇値電圧■い分取上に上昇しようとす
ると、クランプ用トランジスタ4が導通してクランプさ
れてしまい、また、接地レベル以下となる状態ではクラ
ンプ用トランジスタ4はカット・オフであるから成る程
度まで低下する。
Next, the voltage waveform at the node N2 appears as an alternating pulse voltage waveform at the node N3 via the charge pump capacitor 3. That is, the voltage at the node N3 tends to rise as the voltage at the node N2 rises, but when the voltage at the clamping transistor 4 tries to rise from the ground level to the dark value voltage of the clamping transistor 4, the voltage at the clamping transistor 4 increases. 4 becomes conductive and is clamped, and in a state where the voltage is below the ground level, the clamping transistor 4 is reduced to the extent that it is cut off.

ここで、ノードN3に於いて電圧が立ち下がる場合につ
いて更に詳細に説明する。
Here, the case where the voltage falls at node N3 will be explained in more detail.

発振の初期に於いてノードN3の電圧が立ち下がってノ
ードN4に於ける電圧よりも低くなるとチャージ・ポン
プ用トランジスタ5がオンとなり、ノードN4からノー
ドN3に向かって電荷が流入する為、ノードN3に於け
る電圧の振幅、即ち、立ち下がり量は小さいが、発振が
充分に繰り返されるとノードN4に於ける電荷が放出さ
れて平衡状態に達するので、ノードN3に於ける電圧の
振幅は次第 に大きくなり、 Δ■、二ノードN3に於ける電圧振幅 Δv、:ノードN2に於ける電圧振幅 Cc :ノードN3に於ける寄生容量 なる式で決まる振幅に向かって飽和する。
At the beginning of oscillation, when the voltage at node N3 falls and becomes lower than the voltage at node N4, charge pump transistor 5 turns on, and charge flows from node N4 toward node N3. The amplitude of the voltage at node N3, that is, the amount of fall, is small, but if the oscillation is repeated enough, the charge at node N4 is released and an equilibrium state is reached, so the amplitude of the voltage at node N3 gradually increases. It saturates toward the amplitude determined by the following formula: Δ■, voltage amplitude Δv at node N3: voltage amplitude Cc at node N2: parasitic capacitance at node N3.

このような状態に於いては、前記したように、ノードN
4では電荷が充分に放出されて平衡状態になっているか
ら、第2図に於けるN4に「無限回数発振を繰り返した
後」と表示しである部分の実線に見られるように一定の
電圧が現れるので、これを基板バイアス電圧VllIl
として用いるものである。
In such a state, as mentioned above, node N
4, the charge has been sufficiently discharged and an equilibrium state has been reached, so the constant voltage is applied to N4 in Figure 2, as shown by the solid line in the part marked with "after repeating oscillation an infinite number of times". appears, and this can be expressed as the substrate bias voltage VllIl
It is used as a.

ところで、前記実施例に於いては、発振器1の発振周波
数f1と発振器7の発振周波数f2との間には、 f、>f2 (実際にはf、>>f、で良い)なる関係
を設定してあり、そして、発振器1はチップ・セレクト
信号σ茗がロー・レベルの時に発振し、発振器7はチッ
プ・セレクト信号C8がハイ・レベルの時に発振する。
By the way, in the above embodiment, the following relationship is set between the oscillation frequency f1 of the oscillator 1 and the oscillation frequency f2 of the oscillator 7: f,>f2 (actually, f, >>f is fine). The oscillator 1 oscillates when the chip select signal C8 is at a low level, and the oscillator 7 oscillates when the chip select signal C8 is at a high level.

さて、発振器1の発振周波数f1は高くしであるので発
振器1側のチャージ・ポンプ回路のチャージ・ポンプ能
力は大であり、また、発振器2の発振周波数f2は低い
ので発振器2側のチャージ・ポンプ回路のチャージ・ポ
ンプ能力は小さくなっている。従って、例えば半導体記
憶装置に於いて、チップが選択された場合には発振器1
を含むチャージ・ポンプ回路を動作させ、また、チップ
が非選択の場合には発振器2を含むチャージ・ポンプ回
路を動作させれば良い。
Now, since the oscillation frequency f1 of the oscillator 1 is high, the charge pump circuit on the oscillator 1 side has a large charge pumping ability, and since the oscillation frequency f2 of the oscillator 2 is low, the charge pump circuit on the oscillator 2 side has a high charge pump capacity. The charge pumping capability of the circuit is reduced. Therefore, for example, in a semiconductor memory device, when a chip is selected, the oscillator 1
If the chip is not selected, the charge pump circuit including the oscillator 2 may be operated.

第3図は前記説明したようにチップ・セレクト信号σ3
でチャージ・ポンプの能力を切り換えた場合の基板バイ
アス電流fallと基板バイアス電圧Vlll+との関
係を表すタイミング・チャートである。
FIG. 3 shows the chip select signal σ3 as explained above.
3 is a timing chart showing the relationship between substrate bias current fall and substrate bias voltage Vllll+ when the capacity of the charge pump is switched in FIG.

尚、第3図では、発振器7の発振が既に安定しているも
のとする。
In FIG. 3, it is assumed that the oscillation of the oscillator 7 has already stabilized.

第3図から明らかなように、本実施例では、チップ・セ
レクト信号σ汚がハイ・レベルでチップ非セレクト、ロ
ー・レベルでチップ・セレクトとする。チップ・セレク
ト信号C茗がハイ・レベルの時には、NORゲート12
の出力はロー・レベルに固定される。よって、発振器1
の帰還ループは切断されて発振しない。
As is clear from FIG. 3, in this embodiment, when the chip select signal σ is high level, the chip is not selected, and when it is low level, the chip is selected. When the chip select signal C is at high level, the NOR gate 12
The output of is fixed at low level. Therefore, oscillator 1
The feedback loop is cut and no oscillation occurs.

然しなから、この時、インバータ6の出力はロー・レベ
ルであるから、NORゲート1°3を介して発振器7の
帰還ループが形成され、発振器7は発振し、この時の基
板バイアス電流の値は1111+1となる。
However, at this time, the output of the inverter 6 is at a low level, so a feedback loop of the oscillator 7 is formed via the NOR gate 1°3, the oscillator 7 oscillates, and the value of the substrate bias current at this time is becomes 1111+1.

反対に、チップ・セレクト信号nがロー・レベルになる
と、NORゲート13の一方の入力がハイ・レベルに固
定され、NORゲート12の一方の入力はロー・レベル
に固定される。従って、発振器Iでは帰還ループが形成
され、発振器7では帰還ループが切断され、その結果、
発振器1が発振する。前記した通り、f、>f2である
から、チップ・セレクト信号■=ロー・レベルのときに
はIIIIIIより大きい基板バイアス電流111N1
!が流れる。
Conversely, when the chip select signal n goes low, one input of the NOR gate 13 is fixed at a high level, and one input of the NOR gate 12 is fixed at a low level. Therefore, a feedback loop is formed in oscillator I, and the feedback loop is broken in oscillator 7, so that
Oscillator 1 oscillates. As mentioned above, since f>f2, when the chip select signal ■=low level, the substrate bias current 111N1 is larger than III
! flows.

このようにチップ・セレクト時にはl1ll12が、ま
た、チップ非セレクト時にはl1l11がそれぞれ流れ
るが、チップ非セレクト時には小さな基板バイアス電流
値でも所望の基板バイアス電圧V□が得られるから、チ
ップのセレクト、非セレクトに拘わらず、基板バイアス
電圧Vl11は一定になる。
In this way, l1ll12 flows when the chip is selected, and l1l11 flows when the chip is not selected, but when the chip is not selected, the desired substrate bias voltage V□ can be obtained even with a small substrate bias current value. Regardless, the substrate bias voltage Vl11 remains constant.

第1図について説明した実施例に於いては、チャージ・
ポンプ能力が大であるチャージ・ポンプ回路及びチャー
ジ・ポンプ能力が小であるチャージ・ポンプ回路の二つ
を用いたが、例えばチャージ・ポンプ能力が大であるチ
ャージ・ポンプ回路、即ち、発振器lを含む側のチャー
ジ・ポンプ回路のみを用い、定常状態に於いては、その
チャージ・ポンプ回路を不作動にするようにしても良い
In the embodiment described with reference to FIG.
We used two charge pump circuits, one with a large pumping capacity and one with a small charge pumping capacity.For example, we used a charge pump circuit with a large charge pumping capacity, that is, an oscillator l. It is also possible to use only the charge pump circuit on the containing side, and to disable that charge pump circuit in a steady state.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明に依る半導体集積回路装置に於いては、基板バイ
アス電圧を発生させる為のポンプ能力が半導体チップに
組み込まれた回路の動作状態に対応して切り換えられる
ポンプ回路を備えた構成になっている。
The semiconductor integrated circuit device according to the present invention is configured to include a pump circuit whose pumping capacity for generating a substrate bias voltage can be switched in accordance with the operating state of a circuit incorporated in a semiconductor chip. .

この構成に依ると、半導体チップに組み込まれた回路の
動作状態、例えば半導体記憶装置であれば、メモリが選
択されたか否かに対応して基板バイアス電圧を発生させ
る為のポンプ回路のポンプ能力を切り換えることができ
るから、前記半導体チップに於ける回路が大きな基板バ
イアス電流を必要とする場合には大きなポンプ能力を発
生させ、また、回路が動作しない定常状態の場合には例
えば接合リーク電流などを補償する程度のポンプ能力を
発生させるか、或いは、ポンプ作用を停止してポンプ回
路の消費電力を節減することが可能である。
According to this configuration, the pumping ability of the pump circuit for generating a substrate bias voltage can be adjusted depending on the operating state of a circuit built into a semiconductor chip, for example, in the case of a semiconductor memory device, whether a memory is selected or not. Since it can be switched, it can generate a large pumping capacity when the circuit in the semiconductor chip requires a large substrate bias current, and it can also reduce, for example, junction leakage current when the circuit is in a steady state where it does not operate. It is possible to generate a compensating amount of pumping capacity or to stop the pumping action to save power consumption of the pumping circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明一実施例の要部回路説明図、第2図は第
1図に見られる実施例の動作を説明する為の主要ノード
に於ける電圧波形のタイミング・チャート、第3図はチ
ップ・セレクト時及びチップ非セレクト時に於ける11
11+とV811との関係を示すタイミング・チャート
をそれぞれ表している。 図に於いて、1は発振器、2はバッファ回路、3はチャ
ージ・ポンプ用キャパシタ、4はクランプ用トランジス
タ、5はチャージ・ポンプ用トランジスタ、6はインバ
ータ、7は発振器、8はバッファ回路、9はチャージ・
ポンプ用キャパシタ、lOはクランプ用トランジスタ、
11はチャージ・ポンプ用トランジスタ、N1乃至N4
はノード、σ3はチップ・セレクト信号、Vlll+は
基板バイアス電圧、tasは基板バイアス電流をそれぞ
れ示している。
Fig. 1 is an explanatory diagram of the main circuit of an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a timing chart of voltage waveforms at main nodes to explain the operation of the embodiment shown in Fig. 1, and Fig. 3 is 11 when the chip is selected and when the chip is not selected.
11+ and V811 are shown respectively. In the figure, 1 is an oscillator, 2 is a buffer circuit, 3 is a charge pump capacitor, 4 is a clamp transistor, 5 is a charge pump transistor, 6 is an inverter, 7 is an oscillator, 8 is a buffer circuit, 9 is charge/
Pump capacitor, lO is clamp transistor,
11 are charge pump transistors, N1 to N4
is a node, σ3 is a chip select signal, Vllll+ is a substrate bias voltage, and tas is a substrate bias current.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板バイアス電圧を発生させる為のチャージ・ポ
ンプ能力が半導体チップに組み込まれた回路の動作状態
に対応して切り換えられるチャージ・ポンプ回路を備え
てなることを特徴とする半導体集積回路装置。
(1) A semiconductor integrated circuit device comprising a charge pump circuit whose charge pump capability for generating a substrate bias voltage can be switched in accordance with the operating state of a circuit incorporated in a semiconductor chip.
(2)前記チャージ・ポンプ回路のチャージ・ポンプ能
力が半導体集積回路チップ選択時に非選択時よりも大と
なるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の半導体集積回路装置。
(2) The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the charge pumping capacity of the charge pump circuit is made larger when a semiconductor integrated circuit chip is selected than when it is not selected.
JP60150095A 1985-07-10 1985-07-10 Semiconductor integrated circuit device Pending JPS6212148A (en)

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JP60150095A JPS6212148A (en) 1985-07-10 1985-07-10 Semiconductor integrated circuit device

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JP60150095A JPS6212148A (en) 1985-07-10 1985-07-10 Semiconductor integrated circuit device

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