JPS6211771A - Production of highly crystalline brominated anthanthrone pigment for photosensitive substance - Google Patents
Production of highly crystalline brominated anthanthrone pigment for photosensitive substanceInfo
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- JPS6211771A JPS6211771A JP15188285A JP15188285A JPS6211771A JP S6211771 A JPS6211771 A JP S6211771A JP 15188285 A JP15188285 A JP 15188285A JP 15188285 A JP15188285 A JP 15188285A JP S6211771 A JPS6211771 A JP S6211771A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明は感光体、特に電子写真感光体用高結晶性臭素化
アンスアンスロン顔料の製造方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION A. Field of Industrial Application The present invention relates to a method for producing a highly crystalline brominated anth-anthrone pigment for use in photoreceptors, particularly electrophotographic photoreceptors.
口、従来技術
一般に、可視光を吸収してキャリアを発生する物質は、
無定形セレン等のごく一部のものを除いては、それ自体
でフィルムを形成せしめることが困難であり、しかもそ
の表面に与えられた電荷に対する保持力に乏しい欠点を
有している。これとは逆に、フィルム形成能に優れ、か
つ10μm程度の厚さで500v以上の電荷を長時間に
亘って保持し得る物質は、概して可視光の吸収による十
分な光導電性を有しない欠点を有している。Conventional technology Generally, substances that absorb visible light and generate carriers are
It is difficult to form a film by itself with the exception of a very small number of materials such as amorphous selenium, and the problem is that they have a poor ability to retain electric charges applied to their surfaces. On the contrary, materials that have excellent film-forming ability and can retain a charge of 500 V or more for a long time with a thickness of about 10 μm generally have the disadvantage of not having sufficient photoconductivity due to absorption of visible light. have.
このような理由から、第5A図に示す如<A1等の導電
性基体l上に、可視光を吸収して荷電キャリアを発生す
る物質を含むキャリア発生N2を下びき層5を介して設
け、更にキャリア発生層で発生した荷電キャリアの正負
いずれか一方または両方の輸送を行なうキャリア輸送層
3を設けて積層体4となし、この積層槽により感光層を
構成せしめることが提案された。このように、荷電キャ
リアの発生と輸送とを別個の物質に分担させることによ
って、材料の選択範囲が広くなり、電子写真プロセスに
おいて要求される緒特性、例えば電荷保持力、表面強度
、可視光に対する感度及び反復使用時における安定性等
を向上又は改−排せしめることができるようになった。For this reason, as shown in FIG. 5A, a carrier generating layer N2 containing a substance that absorbs visible light and generates charge carriers is provided on a conductive substrate l such as A1 via an underlayer 5. Furthermore, it has been proposed to provide a carrier transport layer 3 for transporting one or both of the positive and negative charge carriers generated in the carrier generation layer to form a laminate 4, and to construct a photosensitive layer using this laminate tank. In this way, by assigning charge carrier generation and transport to separate materials, a wide range of materials can be selected and the material properties required in the electrophotographic process, such as charge retention, surface strength, and resistance to visible light, can be improved. It has become possible to improve or improve sensitivity, stability during repeated use, etc.
なお、第5B図のように、キャリア発生層2をキャリア
輸送層3上に設けた構成としてもよい。Note that the carrier generation layer 2 may be provided on the carrier transport layer 3 as shown in FIG. 5B.
こうした感光体において、感光層、特にキャリア発生層
に高級有機顔料としての臭素化アンスアンスロン顔料を
使用することが知られている。この顔料は、従来の無機
系粒子やペリレジ系顔料の場合に比べて高感度となり、
均一でスクラ・7チ性の良い感光層を得ることができる
。In such photoreceptors, it is known to use a brominated anthanthrone pigment as a high-grade organic pigment in the photosensitive layer, particularly in the carrier generation layer. This pigment has higher sensitivity compared to conventional inorganic particles or periresi pigments,
A photosensitive layer that is uniform and has good scratch and scratch properties can be obtained.
しかしながら、この顔料を電子写真感光体として使用す
るためには、その結晶性及び純度の双方を高める必要が
あるが、これを実現する上で昇華精製法が有効である。However, in order to use this pigment as an electrophotographic photoreceptor, it is necessary to improve both its crystallinity and purity, and the sublimation purification method is effective in achieving this.
但し、本発明者が検討を加えたところ、従来法による場
合、得られた顔料を粉砕、分散して感光層用の塗料とす
る際、顔料に加えられるシェア・ストレス(shαre
5tress)が大きいと(基板温度が高く、顔料粒
子が大で高結晶のとき)結晶格子が歪んだり、分散容器
から不純物が混入したりし易い。このため、帯電能や感
度が低下し、繰返し電位低下量が増す傾向がある。However, upon investigation by the present inventor, it has been found that in the case of conventional methods, the shear stress (shαre) applied to the pigment is
5tress) is large (when the substrate temperature is high and the pigment particles are large and highly crystalline), the crystal lattice is likely to be distorted or impurities may easily enter from the dispersion container. For this reason, charging ability and sensitivity tend to decrease, and the amount of repeated potential decrease tends to increase.
逆に、顔料に加えるシェア・ストレスが小さい場合(こ
の場合は、基板温度が低く、顔料粒子が小で低結晶)、
電子写真゛特性が劣化し、不適当である。Conversely, if the shear stress applied to the pigment is small (in this case, the substrate temperature is low and the pigment particles are small and have low crystallinity),
The electrophotographic characteristics deteriorate and are unsuitable.
ハ0発明の目的
本発明の目的は、高い帯電電位と感度を示し、繰返し安
定性の良好な感光体を得るのに好適な高結晶性臭素化ア
ンスアンスロン顔料の製造方法を提供することにある。OBJECT OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for producing a highly crystalline brominated anth-anthrone pigment suitable for obtaining a photoreceptor that exhibits high charging potential and sensitivity and has good cyclic stability. .
二8発明の構成及びその作用効果
即ち、本発明は下記構造式:
で表わされる臭素化アンスアンスロンを主成分とする原
料を非イオン性溶剤(特に芳香族有機溶剤)で処理して
結晶化せしめ、この結晶を洗浄、濾別分離する工程を経
て、X線回折スペクトルの2θ=18.46及び26.
7°における回折強度の半値幅をそれぞれΔθ(18,
4°)及びΔθ(26,7°)としたときに(Δθ(1
8,4°)≦0.8°)及び/又は(Δθ(26,7°
)≦1’)である前記臭素化アンスアンスロンを得る感
光体用高結晶性臭素化アンスアンスロン顔料の製造方法
に係るものである。28 Structure of the invention and its effects, that is, the present invention is a method for crystallizing a raw material containing brominated anthurone represented by the following structural formula as a main component by treating it with a nonionic solvent (particularly an aromatic organic solvent). After washing and filtering the crystals, the X-ray diffraction spectrum shows 2θ=18.46 and 26.
The half width of the diffraction intensity at 7° is expressed as Δθ(18,
4°) and Δθ(26,7°), then (Δθ(1
8,4°)≦0.8°) and/or (Δθ(26,7°
)≦1′) The present invention relates to a method for producing a highly crystalline brominated anthanthrone pigment for photoreceptors, which obtains the brominated anthanthrone pigment satisfying the following conditions: )≦1′).
本発明者は、本発明に到達する過程で、記述した如き顔
料の粉砕はその結晶欠陥密度を大きくして特性を劣化せ
しめ、この結晶欠陥密度は上記臭素化アンスアンスロン
顔料の固有のX線回折スペクトルの回折角2θ=18.
4°及び26.7°での回折強度の半値幅(即ち、回折
強度スペクトルのビークの1/2の強度でのスペクトル
幅)Δθと密に関連があることを見出した。従来の昇華
精製法で得られた臭素化アンスアンスロン顔料のスペク
トルを第6図に示すが、これをボールミルで粉砕すると
第7図のように2θ=18.4°でのピークがなまった
り、Δθ(1B、4 ’ )及びΔθ(26,7” )
が大きくなる。これらのΔθは、後述するように粉砕時
間に応じて更に大きくなる。In the process of arriving at the present invention, the present inventor discovered that pulverization of the pigment as described increases its crystal defect density and deteriorates its properties, and that this crystal defect density Diffraction angle 2θ of spectrum = 18.
It has been found that the half width of the diffraction intensity at 4° and 26.7° (that is, the spectral width at half the intensity of the peak of the diffraction intensity spectrum) is closely related to Δθ. Figure 6 shows the spectrum of the brominated anthurone pigment obtained by the conventional sublimation purification method, but when it is ground in a ball mill, the peak at 2θ = 18.4° is blunted and Δθ is reduced as shown in Figure 7. (1B,4′) and Δθ(26,7”)
becomes larger. These Δθ become larger depending on the grinding time as described later.
他方、次の如き方法で臭素化アンスアンスロン顔料を製
造することを試みた。On the other hand, an attempt was made to produce a brominated anthanthrone pigment by the following method.
即ち、下記構造式で示されるアンスアンスロンを硫酸中
で臭素化したあと水あけし、濾別分離して本発明で製造
するものと同一構造式の臭素化アンスアンスロンを得、
これを洗浄、乾燥した。That is, anthanthrone shown by the following structural formula is brominated in sulfuric acid, drained, and separated by filtration to obtain brominated anthanthrone having the same structural formula as that produced in the present invention.
This was washed and dried.
ところがこの場合、第8図に示すようにΔθが太き(な
りすぎ、無定形の非結晶質の粒子しか得られない。また
、臭素化の度合を増すと、第9図のように2θ−18,
4°でのピークが消失し、かつΔθ (26,7°)が
大きくなってしまう。However, in this case, as shown in Figure 8, Δθ becomes too thick (too much) and only amorphous, non-crystalline particles are obtained.Also, when the degree of bromination is increased, the 2θ- 18,
The peak at 4° disappears and Δθ (26,7°) becomes large.
ところが、上記の方法で臭素化した試料、即ち上記した
臭素化アンスアンスロンを濾別分離し、これを主成分と
して含有する粗製原料を、モノクロルベンゼン、ニトロ
ベンゼン、β−ナフトール、1−クロロナフタレン等よ
り選択される非イオン性有機溶剤で処理して結晶熟成後
洗浄し、濾別分離すると、高結晶性の臭素化アンスアン
スロン顔料が得られることが判明した。この顔料は高結
晶性で高純度に得られ、高い帯電電位と感度、良好な繰
返し安定性を示す感光体用として非常に好適なものであ
ることが分った。However, the sample brominated by the above method, that is, the above-mentioned brominated anthurone, is separated by filtration, and the crude raw material containing this as a main component is mixed with monochlorobenzene, nitrobenzene, β-naphthol, 1-chloronaphthalene, etc. It has been found that a highly crystalline brominated anthanthrone pigment can be obtained by treatment with a selected nonionic organic solvent, crystallization, washing, and separation by filtration. This pigment was found to be highly crystalline and highly pure, exhibiting high charging potential, high sensitivity, and good repeat stability, making it very suitable for use in photoreceptors.
第1図は上記非イオン性有機溶剤を用いた場合の各スペ
クトルを示すが、半値幅Δθが小さくてピークも大きい
こと、即ち結晶性及び純度が良好であることが分る。FIG. 1 shows spectra obtained when the above nonionic organic solvent was used, and it can be seen that the half width Δθ is small and the peak is large, that is, the crystallinity and purity are good.
また、こうしたいわば化学精製法によって、第2図に示
すアモルファス状の原料から第3図に示す結晶性のきれ
いな精製品が得られることが分った。また、この化学精
製法によるときは、顔料が分解することがなく、脱Br
による腐食もなく、収率良く目的物が得られる。即ち、
上記に説明した本発明の製造方法によれば、次の利点が
ある。Furthermore, it has been found that by such a so-called chemical refining method, a purified product with clean crystallinity shown in FIG. 3 can be obtained from the amorphous raw material shown in FIG. 2. In addition, when this chemical refining method is used, the pigment does not decompose and the Br is removed.
The target product can be obtained in good yield without corrosion. That is,
According to the manufacturing method of the present invention explained above, there are the following advantages.
(1)、化学精製法であるから、熱分解し易い原料であ
っても操作条件の管理が容易である。(1) Since it is a chemical refining method, it is easy to manage operating conditions even if the raw material is easily thermally decomposed.
(2)、収量及び収率が高い。(2) High yield and yield.
(3)、脱臭素反応で酸が発生して装置を腐食すること
がない。(3) No acid is generated during the debromination reaction and corrodes the equipment.
(4)、精製コストが安い。(4) Refining cost is low.
(5)、結晶性及び純度を大幅に高め、有機半導体用原
料として充分使用可能な顔料が得られる。(5) A pigment with significantly improved crystallinity and purity that can be fully used as a raw material for organic semiconductors can be obtained.
(6)、製造コストが安く、高い感度と繰返し安定性を
有する電子写真感光体を実現できる。(6) It is possible to realize an electrophotographic photoreceptor with low manufacturing cost, high sensitivity, and repeat stability.
本発明の方法において、使用する非イオン性溶剤(特に
芳香族系有機溶剤)の双極子モーメントが1.0〜5.
0(デバイ単位)であるのが望ましい。In the method of the present invention, the dipole moment of the nonionic solvent (especially aromatic organic solvent) used is 1.0 to 5.
It is desirable that it be 0 (in Debye units).
このように極性のある(即ち、OH,、C1,No。Thus polar (i.e. OH,, C1, No.
等の極性のある置換基を有する)ことに加えて高沸点を
有する芳香族系溶剤がよい。It is preferable to use an aromatic solvent which has a high boiling point in addition to having a polar substituent such as
つまり、こうした溶剤は高温処理に耐える上に、アンス
アンスロンと親和してその結晶格子を緩める作用がある
。In other words, these solvents not only withstand high-temperature treatment, but also have an affinity for anthinthrone and have the effect of loosening its crystal lattice.
本発明に用いられる非イオン性溶剤としては、例えば酸
素原子、窒素原子、ハロゲン原子等を有するポーラ−な
溶剤が好ましいが、例えば塩素、臭素、ヨウ素、フッ素
などのハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシ基、フェノ
キシ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、エステル基、
アミド基、ニトリル基、ホルミル基、アミノ基、メルカ
プト基、スルホ基、スルホンアミド基などの置換基の付
いた芳香族炭化水素および複素環化合物が挙げられる。The nonionic solvent used in the present invention is preferably a polar solvent containing an oxygen atom, a nitrogen atom, a halogen atom, etc.; , phenoxy group, carboxyl group, hydroxy group, ester group,
Examples include aromatic hydrocarbons and heterocyclic compounds with substituents such as an amide group, a nitrile group, a formyl group, an amino group, a mercapto group, a sulfo group, and a sulfonamide group.
双極子モーメント1.0〜5.0(デバイ単位)の有機
溶剤は、例えばテクニク・オブ・オーガニック・ケミ7
!、 l−IJ (TECHNIQUE OF O[
1GANICCHEMISTRY)vol■、 195
5年版インターサイエンス・バブリソシャー社、ニュー
ヨークに記載されている。Organic solvents with a dipole moment of 1.0 to 5.0 (Debye units) are used, for example, in Techniques of Organic Chemistry 7.
! , l-IJ (TECHNIQUE OF O[
1GANICCHEMISTRY) vol■, 195
Published in the 5th edition of Interscience Publications, New York.
本発明に有効な溶剤の具体例としては、例えば次のもの
が挙げられる。フェネトール、アニソール、0−クレゾ
ール、m−)ルイジン、フルオロベンゼン、m−ジクロ
ロベンゼン、アニリン、p−1−ルイジン、m−クレゾ
ール、p−クレゾール、モノクロルベンゼン、1−クロ
ロナフタレン、β−ナフトール、0−)ルイジン、ベン
ジルアルコール、フェノール、ブロムベンゼン、ベンジ
ルアセテート、0−クロロアニリン、m−フルオロトル
エン、メチルベンゾエート、ベンジルベンゾエート、エ
チルベンゾエート、p−フルオロトルエン、ピリジン、
0−ジクロルベンゼン、ジブチルフタレート、メチルサ
リチレート、ベンズアルデヒド、フェニルアセトニトリ
ル、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、O−ニトロアニ
ソール。Specific examples of solvents that are effective in the present invention include the following. Phenethol, anisole, 0-cresol, m-)luidine, fluorobenzene, m-dichlorobenzene, aniline, p-1-luidine, m-cresol, p-cresol, monochlorobenzene, 1-chloronaphthalene, β-naphthol, 0 -) luidine, benzyl alcohol, phenol, bromobenzene, benzyl acetate, 0-chloroaniline, m-fluorotoluene, methyl benzoate, benzyl benzoate, ethyl benzoate, p-fluorotoluene, pyridine,
O-dichlorobenzene, dibutyl phthalate, methyl salicylate, benzaldehyde, phenylacetonitrile, nitrobenzene, benzonitrile, O-nitroanisole.
以上に述べた化学精製法による臭素化アンスアンスロン
顔料は、実際には粉砕、分散せしめて所望の粒径となさ
れる。この際、第4図のように(但し、ニトロベンゼン
により化学精製した試料のデータ)粉砕時間(40回転
/分のボールミルを使用)に応じてΔθが変化し、特に
粉砕時間の選択によって、(Δθ(18,4°)≦0.
8°)及び/又は(Δθ(26,7°)≦1°)にでき
ることが分った。こうした半値幅範囲によって、後述の
データから明らかなように、顔料粒子の結晶欠陥密度が
低下し、電子写真特性が大きく向上するのである。The brominated anthanthrone pigment obtained by the chemical purification method described above is actually pulverized and dispersed to obtain a desired particle size. At this time, as shown in Figure 4 (data for samples chemically purified with nitrobenzene), Δθ changes depending on the grinding time (using a ball mill of 40 revolutions/minute), and in particular, depending on the selection of the grinding time, (Δθ (18,4°)≦0.
8°) and/or (Δθ(26,7°)≦1°). As is clear from the data described below, this half-width range reduces the crystal defect density of the pigment particles and greatly improves the electrophotographic properties.
また、臭素化アンスアンスロン顔料の粒子形状について
、その短軸長さをa、その長軸長さをbとすれば、b
/ a≧1.1とするのが望ましい。即ち、この比によ
って優れた特性が得られることが分った。但し、微粒化
に伴って、Δθが増加する他に強度(絶対値)も低下す
るので、Δθ≦1”を満たしていても充分な結晶性をも
たないことも生じ得る。換言すれば、Δθ≦1’であっ
ても、b/a<1.1では粒子の結晶性が低下し易くな
るので、b / a≧1.1、更には1.1 ≦b /
a≦20とするのが効果的である。ここで長軸長さb
とは、電子顕微鏡写真において任意に選ばれた結晶にお
いて、最も長い距離をもつ軸(長軸)の長さを示す。ま
た短軸長さaとは、前記長軸の2等分点を通り、かつ最
も短い距離をもつ軸(短軸)の長さを示す。Regarding the particle shape of the brominated anth-anthrone pigment, if its short axis length is a and its long axis length is b, then b
It is desirable that /a≧1.1. That is, it was found that excellent characteristics could be obtained with this ratio. However, as the particles become finer, not only Δθ increases, but also the strength (absolute value) decreases, so even if Δθ≦1” is satisfied, sufficient crystallinity may not be obtained. In other words, Even if Δθ≦1′, the crystallinity of particles tends to decrease when b/a<1.1, so b/a≧1.1, and even 1.1≦b/
It is effective to set a≦20. Here, the major axis length b
indicates the length of the axis with the longest distance (major axis) in an arbitrarily selected crystal in an electron micrograph. Further, the short axis length a indicates the length of the axis (short axis) that passes through the bisecting point of the long axis and has the shortest distance.
電子顕微鏡写真において任意に結晶を選択する方法とし
て、例えば本発明では、1cm間隔で縦、横それぞれ5
本づつ写真上に線を引き、その交点にある結晶を選択し
た。これらの結晶の長軸長さb、短軸長さaを測定し、
それぞれの結晶のb / aを算出した。本発明でいう
b / aとは、前記それぞれの結晶のb / aの平
均値を示す。As a method for arbitrarily selecting crystals in an electron micrograph, for example, in the present invention, 5 crystals are selected vertically and horizontally at 1 cm intervals.
For each book, I drew a line on the photo and selected the crystal at the intersection. Measure the long axis length b and short axis length a of these crystals,
The b/a of each crystal was calculated. In the present invention, b/a refers to the average value of b/a of each of the crystals.
そして、臭素化アンスアンスロン顔料粒子の平均粒径(
ここでは、上記長軸長すの平均値を意味する。)は2μ
m以下とするのが望ましい。即ち、2μm以下と微細化
することによって、感光体表面に対するその粒径の影響
を防止でき、感光体表面を平滑にできると共に、顔料分
散液を安定化できる。平均粒径が2μmを越えると、凸
部が表面に生じ易いが、2μm以下ではそうした凸部を
実質的になくし平坦な表面を実現できる上に、分散液中
の粒子の沈降を少なくして液の安定化を図れる。この結
果、放電破壊やトナーフィルミングの生じない感光体を
得ることが可能になる。顔料の平均粒径は2μm以下と
するのがよいが、1μm以下とするのがより望ましく、
0.5μm以下が更に望ましい。但、平均粒径があまり
に小さいと、却って結晶欠陥が増えて感度及び繰返し特
性が低下し、また微細化する上で限界があるので、平均
粒径の下限を0.01μmとするのが望ましい。And the average particle size of the brominated anth-anthrone pigment particles (
Here, it means the average value of the long axis length. ) is 2μ
It is desirable that it be less than m. That is, by making the particles finer to 2 μm or less, the influence of the particle size on the surface of the photoreceptor can be prevented, the surface of the photoreceptor can be made smooth, and the pigment dispersion can be stabilized. When the average particle size exceeds 2 μm, convex portions are likely to form on the surface, but when the average particle size is 2 μm or less, such convex portions can be virtually eliminated and a flat surface can be achieved, and the sedimentation of particles in the dispersion can be reduced, making it easier to form liquids. can be stabilized. As a result, it is possible to obtain a photoreceptor that does not suffer from discharge breakdown or toner filming. The average particle size of the pigment is preferably 2 μm or less, more preferably 1 μm or less,
More preferably, the thickness is 0.5 μm or less. However, if the average grain size is too small, crystal defects will increase and sensitivity and repeatability will deteriorate, and there will be a limit to miniaturization, so it is desirable to set the lower limit of the average grain size to 0.01 μm.
なお、本発明の感光体に使用可能なバインダー樹脂とし
ては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂
、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹
脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂並びにこれらの樹脂の
繰返し単位のうちの2つ以上を含む共重合体樹脂、例え
ば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−
酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂等を挙げるこ
とができる。しかし、バインダー樹脂はこれらに限定さ
れるものではなく、斯かる用途に一般に用いられるすべ
ての樹脂を使用することができる。Examples of binder resins that can be used in the photoreceptor of the present invention include polyethylene, polypropylene, acrylic resin, methacrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, epoxy resin, polyurethane resin, phenol resin, polyester resin, alkyd resin, Addition polymer resins, polyaddition resins, polycondensation resins such as polycarbonate resins, silicone resins, melamine resins, and copolymer resins containing two or more repeating units of these resins, such as vinyl chloride-vinyl acetate. Copolymer resin, vinyl chloride
Examples include vinyl acetate-maleic anhydride copolymer resin. However, the binder resin is not limited to these, and all resins commonly used for such purposes can be used.
本発明においてキャリア輸送層に使用されるキャリア輸
送物質としてはオキサゾール誘導体、オキサジアゾール
誘4体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、ト
リアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダシロン
誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘
導体、ピラゾリン誘導体、オキサシロン誘導体、ベンゾ
チアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾ
リン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、
フェナジン誘m体、アミノスチルベンSA 28体、ヒ
ドラゾン誘導体、ビフェニルアミン誘導体、トリフェニ
ルアミン誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ
−1−ビニルピレン、ポリ−9−ビニルアントラセン、
2.4.7− Nリニトロフルオレノン、2.4.5.
7−テトラニトロフルオレノン、2.7−シニトロフル
オレノン等が挙げられる。Carrier transport substances used in the carrier transport layer in the present invention include oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, thiazole derivatives, thiadiazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, imidasilone derivatives, imidazolidine derivatives, bisimidazolidine derivatives, and pyrazoline. derivatives, oxacilone derivatives, benzothiazole derivatives, benzimidazole derivatives, quinazoline derivatives, benzofuran derivatives, acridine derivatives,
Phenazine derivative, aminostilbene SA 28, hydrazone derivative, biphenylamine derivative, triphenylamine derivative, poly-N-vinylcarbazole, poly-1-vinylpyrene, poly-9-vinylanthracene,
2.4.7- N-linitrofluorenone, 2.4.5.
Examples include 7-tetranitrofluorenone and 2,7-sinitrofluorenone.
また、本発明の感光層の形成に使用する有機溶媒として
は、例えばメチレンクロライド、メチレンブロマイド、
■、2−ジクロルエタン、sym−テトラクロロエタン
、cis−1,2−ジクロルエチレン、1,1.2−ト
リクロルエタン、クロロホルム、ブロモホルム、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ピリジン等の単独溶媒ある
いはこれらを主成分として含有する各種混合溶媒が挙げ
られる。Further, examples of organic solvents used for forming the photosensitive layer of the present invention include methylene chloride, methylene bromide,
■, 2-dichloroethane, sym-tetrachloroethane, cis-1,2-dichloroethylene, 1,1.2-trichloroethane, chloroform, bromoform, dioxane, tetrahydrofuran, pyridine, etc. alone or containing these as main components Examples include various mixed solvents.
ボ、実施例 以下、本発明の実施例を図面参照下に詳細に説明する。Example Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
去施±1
アンスアンスロンを硫酸中で臭素化したのち、水あけし
て得られた臭素化アンスアンスロン微粉末50gをニト
ロベンゼン100m1に加え、150℃で8時間ゆっく
り攪拌したのち放冷した。次1.)で濾過、洗浄して高
結晶性臭素化アンスアンスロン顔料49.0gを得た。After bromination of anthanthrone in sulfuric acid, 50 g of brominated anthurone fine powder obtained by draining the mixture was added to 100 ml of nitrobenzene, slowly stirred at 150° C. for 8 hours, and then allowed to cool. Next 1. ) and washing to obtain 49.0 g of highly crystalline brominated anth-anthrone pigment.
精製顔料のX線回折スペクトル(日本電子製JDXIO
RA CuKcrl、541人)を第1図に示す。X-ray diffraction spectrum of purified pigment (JDXIO manufactured by JEOL)
RA CuKcrl, 541 individuals) are shown in FIG.
得られた精製顔料40gを磁製ボールミルに充填し、毎
分40回転(最大粉砕エネルギーを与える臨界回転数は
70回転)で1時間粉砕した。40 g of the obtained purified pigment was filled into a porcelain ball mill and pulverized for 1 hour at 40 revolutions per minute (the critical number of revolutions giving maximum pulverization energy was 70 revolutions).
次にポリカーボネート樹脂「パンライトL−1250J
(奇人化成社製)20gを1.2−ジクロルエタン13
00m Itに溶解した溶液を加え、24時間分散処理
してキャリア発生層形成用塗布液を得た。Next, polycarbonate resin “Panlite L-1250J”
(manufactured by Kijin Kasei Co., Ltd.) 20g 1,2-dichloroethane 13
A solution dissolved in 00m It was added and subjected to dispersion treatment for 24 hours to obtain a coating solution for forming a carrier generation layer.
得られた傅布液の一部を用いて顔料を濾別分離し、X線
回折スペクトルの半値幅を測定した結果を表−1に示す
。The pigment was separated by filtration using a part of the obtained Fufu liquid, and the half width of the X-ray diffraction spectrum was measured. The results are shown in Table 1.
また電子顕微鏡にて観察した結果、
b / a =2.4 、b =0.6 /Jの針状結
晶であることを確認した。Furthermore, as a result of observation using an electron microscope, it was confirmed that the crystals were needle-shaped crystals with b/a = 2.4 and b = 0.6/J.
止較五土
実施例1に使用した結晶化処理を施さない原料のX線回
折スペクトルを第8図に示した。その実施例1において
、ボールミル粉砕時間を10時間とした他は実施例1と
同様にして、キャリア発生層形成用塗布液を作成した。The X-ray diffraction spectrum of the raw material used in Example 1 without crystallization is shown in FIG. In Example 1, a coating liquid for forming a carrier generation layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the ball mill grinding time was changed to 10 hours.
X線回折スペクトルの半値幅測定値を表−1に示す。Table 1 shows the measured half width of the X-ray diffraction spectrum.
また電子顕微鏡観察の結果、 b / a =2.0 、b =0.4μであった。Furthermore, as a result of electron microscopy observation, b/a=2.0, b=0.4μ.
去施五主
実施例1において、ボールミル粉砕時間を20時間とし
た。X線回折スペクトルの半値幅測定値を表−1に示す
。In Example 1, the ball mill grinding time was 20 hours. Table 1 shows the measured half width of the X-ray diffraction spectrum.
b / a =1.5 、b =0.4 μであった。b/a = 1.5, b = 0.4 μ.
大施■互
実施例1において、ボールミル粉砕時間を2時間とした
。半値幅を表−1に示した。In Example 1, the ball mill grinding time was set to 2 hours. The half width is shown in Table 1.
実施例1において、ボールミル粉砕時間を48時間とし
た。半値幅を表−1に示した。In Example 1, the ball mill grinding time was 48 hours. The half width is shown in Table 1.
「7丁=1.3 、丁=0.3μであった。``7 guns = 1.3, 7 guns = 0.3μ.
大施桝l
実施例1において、ボールミル回転数を55rpm、粉
砕時間を10時間とした。半値幅を表−1に示した。In Example 1, the ball mill rotation speed was 55 rpm, and the grinding time was 10 hours. The half width is shown in Table 1.
ス粛U津j
実施例1において、ボールミル回転数を7Orpm、粉
砕時間を5時間とした。半値幅を表−1に示した。In Example 1, the ball mill rotation speed was 7 Orpm and the grinding time was 5 hours. The half width is shown in Table 1.
「7τ=1.05、b=0.2μであった。“7τ=1.05, b=0.2μ.
此Jfd江1
実施例1において、ボールミル回転数を70rpn+、
粉砕時間を10時間とした。半値幅を表−1に示した。In Example 1, the ball mill rotation speed was 70 rpm+,
The grinding time was 10 hours. The half width is shown in Table 1.
b / a =1.03、b=0.2.uであった。b/a=1.03, b=0.2. It was u.
以上に得られた試料及び比較試料のパラメータ値をまと
めて表−1に示す。The parameter values of the samples obtained above and the comparative samples are summarized in Table 1.
表中、「実」は実施例を、「比」は比較例を示す。In the table, "actual" indicates an example, and "ratio" indicates a comparative example.
(以下余白、次頁につづく)
表−1
以上の実施例、比較例で得たキャリア発生層形成用塗布
液を用いて以下の方法で電子写真感光体ドラムを作成し
た。(The following is a blank space, continued on the next page) Table 1 An electrophotographic photoreceptor drum was prepared by the following method using the coating liquid for forming a carrier generation layer obtained in the above Examples and Comparative Examples.
100 φのアルミドラム上に、乾燥重量が0.1g/
rrfの塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重
合体樹脂[エスレックMF−10J(積木化学工業社製
)より成る中間層をディップ塗布法によって設けたのち
、前記キャリア発生層形成用塗布液を同じくディップ塗
布法によって前記中間層上に塗布して、乾燥重量が2.
1g/mのキャリア発生層を得た。On a 100φ aluminum drum, the dry weight is 0.1g/
After forming an intermediate layer consisting of rrf vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer resin [S-LEC MF-10J (manufactured by Tsukiki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) by a dip coating method, the above-mentioned carrier generation layer forming coating solution was applied in the same manner. It is coated on the intermediate layer by a dip coating method, and the dry weight is 2.
A carrier generation layer of 1 g/m was obtained.
一方、次の構造式で表わされるキャリア輸送物2.4.
6− トリニトロ−1−クロルベンゼン0.225 g
。On the other hand, carrier transport substance 2.4. expressed by the following structural formula.
6-trinitro-1-chlorobenzene 0.225 g
.
ポリカーボネート樹脂300 gを1.2−ジクロルエ
タン2000m lに溶解して得られたキャリア輸送層
形成用塗布液をディップ塗布法により前記キャリア発生
層上に塗布して、乾燥重量が19g/mのキャリア輸送
層を形成し、以って本発明及び比較の電子写真感光体(
第5A図)を作成した。A carrier transport layer forming coating solution obtained by dissolving 300 g of polycarbonate resin in 2000 ml of 1,2-dichloroethane was applied onto the carrier generation layer by dip coating to form a carrier transport layer with a dry weight of 19 g/m. The electrophotographic photoreceptor of the present invention and the comparative electrophotographic photoreceptor (
Figure 5A) was created.
なお、上記に代えて、キャリア輸送層をまず形成し、こ
の上にキャリア発生層を形成してもよい。Note that instead of the above, a carrier transport layer may be formed first, and a carrier generation layer may be formed thereon.
(第5B図)
以上の実施例及び比較例で得られた試料及び比較試料を
感光体試験機(小西六写真工業製)に装着し、表面電位
計「エレクトロスタチックボルトメータ144D−ID
型」 (モンローエレクトロニクスインコーボレーテッ
ド製)を用いて、帯電電位Vo(V)、表面電位を一6
00■から一100■に減するのに必要な露光量Er:
:(lux s 5eC)及び表面電位を一600■と
し5秒後の電位保持率DD(%)を調べた。(Figure 5B) The samples and comparative samples obtained in the above examples and comparative examples were mounted on a photoreceptor tester (manufactured by Konishi Roku Photo Industries), and a surface electrometer "electrostatic voltmeter 144D-ID" was used.
Using a mold (manufactured by Monroe Electronics Inc.), the charging potential Vo (V) and the surface potential were set to -6.
Exposure amount Er required to reduce from 00■ to 1100■:
: (lux s 5eC) and the surface potential was set to -600 ■, and the potential retention rate DD (%) after 5 seconds was investigated.
また、5000回の繰返し試験を行ない、帯電電位の安
定性を調べた。Further, the stability of the charging potential was investigated by conducting a repeated test 5000 times.
なお、帯電電位が600 Vに充だない試料については
、帯電電流値を標準値より増加させてE ?’::及び
DDを測定した。For samples whose charging potential does not reach 600 V, the charging current value is increased from the standard value to E? ':: and DD were measured.
結果を表−2に示す(表−2中の試料隘は表−1の実施
例阻及び比較例磁に対応)。The results are shown in Table 2 (the sample numbers in Table 2 correspond to the examples and comparative examples in Table 1).
(以下余白、次頁につづく)
表−2
表−1,2から、本発明による試料では感度及び電位保
持性能が良好となることが分る。(The following is a blank space, continued on the next page) Table 2 From Tables 1 and 2, it can be seen that the samples according to the present invention have good sensitivity and potential holding performance.
図面は本発明を説明するためのものであって、第1図、
第6図、第7図、第8図、第9図はキャリア発生物質の
各X線回折スペクトル図、第2図はキャリア発生物質の
原料の粒子構造を示す顕微鏡写真、
第3図はキャリア発生物質の粒子構造を示す顕微鏡写真
、
第4図は粉砕時間による半値幅の変化を示すグラフ、
第5A図及び第5B図は電子写真感光体の各断面図
である。
なお、図面に示す符号において、
■・・・・導電性基体
2・・・・キャリア発生層
3・・・・キャリア輸送層
である。
代理人 弁理士 逢 坂 宏
第1図
第2図
′ゝ”(xlopOO)
第3図
第5A図 第58図
第4図
#静時間(hr)
第6図
第7図
第8図
第9図The drawings are for explaining the present invention, and include FIG.
Figures 6, 7, 8, and 9 are X-ray diffraction spectra of the carrier-generating substance, Figure 2 is a micrograph showing the particle structure of the raw material for the carrier-generating substance, and Figure 3 is the carrier-generating substance. FIG. 4 is a graph showing changes in half-width depending on grinding time; FIGS. 5A and 5B are cross-sectional views of the electrophotographic photoreceptor. In addition, in the reference numerals shown in the drawings, (1)... Conductive substrate 2... Carrier generation layer 3... Carrier transport layer. Agent Patent Attorney Hiroshi Aisaka Figure 1 Figure 2 'ゝ'' (xlopOO) Figure 3 Figure 5A Figure 58 Figure 4 #Still time (hr) Figure 6 Figure 7 Figure 8 Figure 9
Claims (1)
料を非イオン性溶剤で処理して結晶化せしめ、この結晶
を洗浄、濾別分離する工程を経て、X線回折スペクトル
の2θ=18.4°及び26.7°における回折強度の
半値幅をそれぞれΔθ(18.4°)及びΔθ(26.
7°)としたときに{Δθ(18.4°)≦0.8°}
及び/又は{Δθ(26.7°)≦1°}である前記臭
素化アンスアンスロンを得る感光体用高結晶性臭素化ア
ンスアンスロン顔料の製造方法。[Claims] 1. The following structural formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ A raw material containing brominated anthurone as a main component is treated with a nonionic solvent to crystallize it. After the process of washing, filtering and separating the
7°), {Δθ(18.4°)≦0.8°}
and/or a method for producing a highly crystalline brominated anthanthrone pigment for a photoreceptor, which obtains the brominated anthurone that satisfies {Δθ(26.7°)≦1°}.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15188285A JPH0784567B2 (en) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | Method for producing highly crystalline brominated anthanthrone pigment for photoconductor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15188285A JPH0784567B2 (en) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | Method for producing highly crystalline brominated anthanthrone pigment for photoconductor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6211771A true JPS6211771A (en) | 1987-01-20 |
JPH0784567B2 JPH0784567B2 (en) | 1995-09-13 |
Family
ID=15528264
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15188285A Expired - Lifetime JPH0784567B2 (en) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | Method for producing highly crystalline brominated anthanthrone pigment for photoconductor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0784567B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007276835A (en) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Risu Pack Co Ltd | Container for packaging sealed with pressure-sensitive adhesive tape |
-
1985
- 1985-07-10 JP JP15188285A patent/JPH0784567B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007276835A (en) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Risu Pack Co Ltd | Container for packaging sealed with pressure-sensitive adhesive tape |
Also Published As
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JPH0784567B2 (en) | 1995-09-13 |
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