JPS62106306A - Multi-wavelength interferometer - Google Patents

Multi-wavelength interferometer

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Publication number
JPS62106306A
JPS62106306A JP24571285A JP24571285A JPS62106306A JP S62106306 A JPS62106306 A JP S62106306A JP 24571285 A JP24571285 A JP 24571285A JP 24571285 A JP24571285 A JP 24571285A JP S62106306 A JPS62106306 A JP S62106306A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mirror
lens
reflected
laser
light
Prior art date
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Pending
Application number
JP24571285A
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Japanese (ja)
Inventor
Yutaka Uesawa
上沢 豊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
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Publication of JPS62106306A publication Critical patent/JPS62106306A/en
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Abstract

PURPOSE:To enhance accuracy in matching in accordance with the requirement of a measuring object and to make it possible to measure both optical systems for visible light and infrared rays, by constituting the power source provided in a Fizeau interferometer of a plurality of light sources containing at least one visible light source and selecting the same using a selection means. CONSTITUTION:A semiconductor laser beam source 30 is provided in addition to a He-Ne laser beam source 1 and infrared rays emitted from the beam source 30 is allowed to be incident on a dichroic mirror 31 to be transmitted therethrough. Red beam emitted from the beam source 1 is allowed to be incident on a pinhole 3 through a condensing lens 2 to be incident on the mirror 31 in the same way while harmful beam is cut and reflected therefrom. Thereafter, two kinds of laser beams mixed by the mirror 31 are sent to a polarizing beam splitter 5 and one of reflected beams is emitted to the outside through a 1/4 wavelength plate 6, a half mirror 7 and a collimator lens 8. The other reflected beam is converted to an interference fringe by a visual field iris 18, a lens 19 and a rotary screen 21 and said interference fringe is again focused into an image on a TV camera 12 by zoom lenses 22, 23 and an image forming lens 24.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は光学部品の測定に用いるフィゾー型干渉計に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a Fizeau interferometer used for measuring optical components.

[従来の技術] 近年、光学部品の検査には干渉計が多く用いられおり、
なかでもフィゾー型の干渉計が主に用いられている。
[Prior art] In recent years, interferometers have been widely used to inspect optical components.
Among these, the Fizeau type interferometer is mainly used.

かかるフィゾー型干渉計の構成については第5図示の構
成を、その−例として示すことができる。
As for the structure of such a Fizeau type interferometer, the structure shown in FIG. 5 can be shown as an example.

そして、同図示のフィゾー型干渉計にあっては、1つの
光源であるHe−Neレーザー1から出射されるレーザ
ー光を、集光レンズ2、ピンホール3、全反射ミラー4
、偏光ビームスルリッター5.174波長板6、ハーフ
ミラ−7およびコリメートレンズ8かも成る内部光学系
を介して、平行光になして被検レンズ9に入射させると
ともにこれの透過光を参照球面lOによって反射される
In the Fizeau interferometer shown in the figure, the laser beam emitted from the He-Ne laser 1, which is one light source, is transmitted through the condensing lens 2, the pinhole 3, and the total reflection mirror 4.
, a polarized beam slitter 5.17 Through an internal optical system comprising a wavelength plate 6, a half mirror 7, and a collimating lens 8, the parallel light is made to enter the test lens 9, and the transmitted light is transmitted by the reference spherical surface lO. reflected.

この反射光を再度、前記ハーフミラ−7を介してアライ
メント光学系と干渉光学系に分けるとともにそれぞれを
切換ミラー11によって選択しつつTVカメラ12によ
り撮像し、TVモニター13により観察する構成から成
る。
This reflected light is again divided into an alignment optical system and an interference optical system via the half mirror 7, and each is selected by a switching mirror 11, imaged by a TV camera 12, and observed by a TV monitor 13.

また、前記アライメント光学系は、ミラー14、スクリ
ーン15、対物レンズ16およびミラー17から成ると
ともに干渉光学系は前記174波長板6、偏光ビームス
プリッタ−5に加えて視野絞り18、レンズ19、モー
ター20にて回転される回転スクリーン21、ズームレ
ンズ22.23から成り、24は結像レンズを示すもの
である。
The alignment optical system includes a mirror 14, a screen 15, an objective lens 16, and a mirror 17, and the interference optical system includes a field stop 18, a lens 19, a motor 20, in addition to the 174 wavelength plate 6 and polarizing beam splitter 5. It consists of a rotating screen 21 which is rotated at a speed of 1, and zoom lenses 22 and 23, and 24 is an imaging lens.

[発明が解決しようとする問題点] 前述してきたような構成から成る従来の干渉計において
は、波長が光源のレーザーにより一定であるため1例え
ば波長の影響を受ける透過波面収差測定の場合に、被検
レンズの使用波長と干渉計の波長が異なることに起因し
て収差が発生し、正確な測定ができない欠点を有するも
のである。
[Problems to be Solved by the Invention] In the conventional interferometer having the configuration described above, since the wavelength is constant due to the laser as the light source, 1. For example, in the case of transmitted wavefront aberration measurement which is affected by the wavelength, This method has the disadvantage that aberrations occur due to the difference between the wavelength used by the lens to be tested and the wavelength of the interferometer, making accurate measurements impossible.

また、非可視光用干渉計では被検レンズの7ライメント
が難しく、測定に時間がかかる等の欠点を有するもので
ある。
In addition, interferometers for non-visible light have drawbacks such as difficulty in measuring seven alignments of a lens to be tested and a long time required for measurement.

そこで本発明は従来のフィゾー型干渉計における前記欠
点に着目してなされたもので、可視用および非可視用光
学系の透過波面収差測定を収差の影響を受けることなく
正確に測定し得るとともに非可視時には可視光を使用し
つつアライメントを行なうことができ、測定の適確かつ
迅速化を計ることのできる干渉計の提供を目的とするも
のである。
Therefore, the present invention was made by focusing on the above-mentioned drawbacks of the conventional Fizeau type interferometer, and it is possible to accurately measure the transmitted wavefront aberration of visible and non-visible optical systems without being affected by aberrations, and to The object of the present invention is to provide an interferometer that can perform alignment while using visible light when it is visible, and can perform measurements accurately and quickly.

c問題点を解決するための手段] 本発明は、フィゾー型干渉計において、少なくとも1つ
の可視光の光源を含む複数の光源と、この複数の光源の
選択手段とを備えて成る。
Means for Solving Problem c] The present invention provides a Fizeau interferometer that includes a plurality of light sources including at least one light source of visible light, and means for selecting the plurality of light sources.

[作  用  ] 本発明は測定目的に適合する光源を複数の光源から選択
しつつ使用することにより測定の適応性と精度の向上を
せしめるとともに可視用、赤外用の両光学系の測定を回
旋ならしめ、赤外測定時には可視光をガイド光をして使
用することによりアライメントを容易とすることができ
る。
[Function] The present invention improves the adaptability and accuracy of measurement by selecting and using a light source that matches the measurement purpose from among a plurality of light sources, and also enables measurement of both visible and infrared optical systems by rotation. Alignment can be facilitated by using visible light as a guide light during infrared measurement.

[実施例] 以下本発明に係る多波長干渉計の実施例を図面とともに
説明する。
[Example] Examples of the multi-wavelength interferometer according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

(第1実施例) 第1図は本発明の第1実施例を示す構成図である。(First example) FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention.

さて、図において、30はHe−Neレーザー1の光源
に加えて配置された他の光源としての半導体レーザーで
、この半導体レーザー30の出射される光束He−Ne
レーザー1の出射光の集光レンズ2、ピンホール3を介
する光束との直交点にはダイクロイックミラー31を配
置することによって、He−Neレーザー1からの出射
光をこのダイクロイックミラー31に入射せしめるとと
もに半導体レーザー30の出射光をこのダイクロイック
ミラー31を介して偏光ビームスプリッタ−5に入射し
得るように構成されている。
In the figure, 30 is a semiconductor laser as another light source arranged in addition to the light source of the He-Ne laser 1, and the light beam He-Ne emitted from this semiconductor laser 30 is
By arranging a dichroic mirror 31 at a point where the emitted light from the laser 1 intersects with the light beam passing through the condensing lens 2 and pinhole 3, the emitted light from the He-Ne laser 1 is made to enter the dichroic mirror 31. The configuration is such that the light emitted from the semiconductor laser 30 can be incident on the polarizing beam splitter 5 via the dichroic mirror 31.

その他の構成については第5図示のフィゾー型干渉計と
同一の構成から成り、同一構成部分については同一番号
を付し、その説明を省略する。
The rest of the structure is the same as that of the Fizeau type interferometer shown in FIG.

以上の構成から成る干渉計において、半導体レーザー3
0から出射された赤外光はダイクロイックミラー31に
入射するとともにこれを透過し、他方、I(e−Meレ
ーザーlがら出射された赤色光は集光レンズ2により、
前記半導体レーザー30の発光点と共やくの位置に配置
されるピンホール3上に集光され、有害光がカットされ
てダイクロイックミラー31に入射し、反射する。しか
して、ダイクロイックミラー31により混合された2種
のレーザー光は偏光ビームスプリッタ−5に入射すると
ともに反射される。その後174波長板6により円偏光
され、ハーフミラ−7により反射されるとともにコリメ
ーターレンズ8によりモ行光となり外部へ出射する。こ
の光束は測定用光学系と被検光学系を通り、反射され、
再び同一光路を戻る。この光束はハーフミラ−7で2分
割され、透過光はミラー14により反射されスクリーン
15上に結像する。その像を対物レンズ16と結像レン
ズ24によって縮小光学系を構成しTVカメラ12上に
再結像する。この際光束はミラー17により反射され、
切換ミラー11は光路外の位置に変位している。この光
束にょリアライメントを行なう。
In the interferometer with the above configuration, the semiconductor laser 3
The infrared light emitted from the I(e-Me laser I) enters the dichroic mirror 31 and passes through it, while the red light emitted from the I(e-Me laser I) is reflected by the condenser lens 2.
The light is focused on a pinhole 3 disposed at the same position as the light emitting point of the semiconductor laser 30, harmful light is cut off, and enters a dichroic mirror 31 where it is reflected. Thus, the two types of laser beams mixed by the dichroic mirror 31 enter the polarizing beam splitter 5 and are reflected. Thereafter, the light is circularly polarized by the 174-wavelength plate 6, reflected by the half mirror 7, and turned into a beam by the collimator lens 8 and output to the outside. This light flux passes through the measurement optical system and the test optical system, is reflected,
Return along the same optical path again. This light beam is split into two by a half mirror 7, and the transmitted light is reflected by a mirror 14 and formed into an image on a screen 15. The image is re-imaged onto the TV camera 12 by forming a reduction optical system using the objective lens 16 and the imaging lens 24. At this time, the light beam is reflected by the mirror 17,
The switching mirror 11 is displaced to a position outside the optical path. Perform realignment of this luminous flux.

他方、ハーフミラ−7で反射された光束は1/4波長板
6により直線偏光になり偏光ビームスプリッタ−5を透
過し、かつ視野絞り18を通りレンズ19により回転ス
クリーン21上にF渉縞として結像される。この像はズ
ームレンズ22゜23と結像レンズ24とによって構成
される変倍光学系によりTVカメラ12上に再結像され
る。
On the other hand, the light beam reflected by the half mirror 7 becomes linearly polarized by the quarter-wave plate 6, passes through the polarizing beam splitter 5, passes through the field stop 18, and is focused by the lens 19 on the rotating screen 21 as F interference fringes. imaged. This image is re-formed onto the TV camera 12 by a variable magnification optical system composed of zoom lenses 22.degree. 23 and an imaging lens 24.

この際切換ミラー11は図示の位置に有り、前記光束を
反射せしめる。
At this time, the switching mirror 11 is located at the position shown and reflects the light beam.

TVカメラ12に結像されたアライメント像と干渉像は
前記の切換ミラー11をそれぞれの位置に変位すること
により切換られる。その像をTVモニター13により観
察する。
The alignment image and interference image formed on the TV camera 12 are switched by moving the switching mirror 11 to the respective positions. The image is observed on the TV monitor 13.

この様な構成から成る干渉計によればダイクロイックミ
ラー31により2つの光を混合するため損失が少なく、
光学部品も可動部を必要としないために精度の管理維持
を簡易ならしめ得る。
According to the interferometer having such a configuration, the dichroic mirror 31 mixes the two lights, so there is little loss.
Since the optical parts do not require any moving parts, the accuracy can be easily managed and maintained.

(第2実施例) 第2図は本発明の第2実施例を示す構成図である。(Second example) FIG. 2 is a block diagram showing a second embodiment of the present invention.

かかる実施例に係る干渉計は、第1実施例の干渉計の構
成におけるダイクロイックミラー31に換えてハーフプ
リズム33を配置することにより構成したもので、他の
構成は第1実施例と全く同一であり同一時番号を付して
、各構成部分9作用説明を省略する。
The interferometer according to this embodiment is constructed by disposing a half prism 33 in place of the dichroic mirror 31 in the interferometer configuration of the first embodiment, and the other configurations are completely the same as the first embodiment. If the same number exists, the explanation of the operation of each component 9 will be omitted.

しかし、て、特にかかる実施例の場合、ダイクロイック
ミラー31を透過することによる非点収差の発生を防止
することができるとともに汎用光学部品による構成を可
能ならしめ得る利点を有する。
However, especially in the case of such an embodiment, it is possible to prevent the occurrence of astigmatism due to transmission through the dichroic mirror 31, and there is an advantage that it can be constructed using general-purpose optical components.

尚、その他の実施例として前記ハーフプリズム33に換
えて、偏光ビームスプリッタ−1無偏光ビームスプリッ
タ−あるいはハーフミラ−を使用する実施例を挙げるこ
とができる。
In addition, as another embodiment, an embodiment may be mentioned in which a polarizing beam splitter 1, a non-polarizing beam splitter, or a half mirror is used instead of the half prism 33.

(第3実施例) 第3図は本発明の第3実施例を示す構成図である。(Third example) FIG. 3 is a block diagram showing a third embodiment of the present invention.

かかる実施例は、第1実施例および第2実施例の構成に
おいて、ダイクロイックミラー31およびハーフプリズ
ム33に換えて、ミラー34を偏位自在に配置すること
により構成したものである。
This embodiment is constructed by disposing a mirror 34 in place of the dichroic mirror 31 and the half prism 33 in the configuration of the first embodiment and the second embodiment.

その他の構成については第1実施例の構成と同一であり
、同一番号を付し、構成および作用説明については省略
する。
The other configurations are the same as those of the first embodiment, are given the same numbers, and descriptions of the configuration and operation will be omitted.

しかして、測定の目的により @e−%@レーザーlと
半導体レーザー30のレーザー光をミラー34によって
切り換えることにより混合せずに実施することが可能で
、収差や損失を無くすことができ光学的精度の向上を計
ることができる。
Therefore, depending on the purpose of measurement, it is possible to perform measurement without mixing by switching the laser beams of the @e-%@laser l and the semiconductor laser 30 using the mirror 34, which eliminates aberrations and losses and improves optical accuracy. It is possible to measure the improvement in

(第4実施例) 第4図は本発明の第4実施例を示す構成図である。(Fourth example) FIG. 4 is a block diagram showing a fourth embodiment of the present invention.

かかる実施例の干渉計は、第2図の構成において、He
−Neレーザー1とは波長の異なるHa−Neレーザー
35を追加して配することにより構成した場合の実施例
を示すものである。
The interferometer of this embodiment has the configuration shown in FIG.
This shows an embodiment in which a Ha--Ne laser 35 having a different wavelength from that of the -Ne laser 1 is additionally arranged.

その他の構成はHe−Heレーザー35に必要な集光レ
ンズ36.ピンポール37およびハーフプリズム38を
追加して配置する以外の構成は第2図示の第2実施例と
同一構成から成り、同一番号を付して構成説明並びに作
用説明を省略する。
The other components are the condenser lens 36 necessary for the He-He laser 35. The configuration other than the additional arrangement of the pin pole 37 and the half prism 38 is the same as that of the second embodiment shown in the second figure, and the same reference numerals are used to omit the explanation of the configuration and operation.

尚構成中、He−Heレーザー35に換えて半導体レー
ザー30と波長の異なる半導体レーザーを用いることに
より構成したり第2実施例の説明にも記載した如くハー
フプリズム33に換えて偏光ビームスプリッタ−1無偏
光ビームスプリッタ−あるいはハーフミラ−を使用する
実施例を挙げ得る。
In the configuration, a semiconductor laser having a wavelength different from that of the semiconductor laser 30 may be used instead of the He-He laser 35, or a polarizing beam splitter 1 may be used instead of the half prism 33 as described in the explanation of the second embodiment. Examples may include using a non-polarizing beam splitter or a half mirror.

また光源としての数における実施例は第1図乃至第4図
示の実施例に限定されず、必要に応じて3つ以上複数個
の光源を用いて構成する実施も勿論回旋である。
Furthermore, the embodiments in terms of the number of light sources are not limited to the embodiments shown in FIGS. 1 to 4, and of course, implementations in which three or more light sources are used as necessary are also possible.

[発明の効果] 以北述べた様に本発明による干渉計は可視用光学系はも
とより、非可視用光学系の透過波面収差測定時の波長に
よる収差の影響を無くし、正確な測定が可能となる。又
、非可視時には可視光を使用し、アライメントを行なう
ことにより測定が迅速に行なえる効果もある。
[Effects of the Invention] As described above, the interferometer according to the present invention eliminates the influence of aberration due to wavelength when measuring transmitted wavefront aberration of not only visible optical systems but also non-visible optical systems, making it possible to perform accurate measurements. Become. Furthermore, by using visible light and performing alignment when it is not visible, measurements can be carried out quickly.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図乃至第4図は本発明の第1実施例乃至第4実施例
を示す構成図、第5図は従来のフィゾー型モ渉計の構成
図を示すものである。 1 、35−−−He−Heレーザー 2.36・・・集光レンズ 3.37・・・ピンホール 5・・・変更ビームスプリッタ− 6・・弓74波長板 7・・・ハーフミラ− 8・・・コリメーターレンズ 9・・・被検レンズ 10・・・参照球面 11・・・切換ミラー 12・・・TVカメラ 13・・・TVモニター 14・・・ミラー 15・・−スクリーン 16・・・対物レンズ 17・・・ミラー 18・・・視野絞り 19・・・レンズ 20・・・モーター 21・・・回転スクリーン 22.23・・・ズームレンズ 24・・・結像レンズ 30・・・半導体レーザー 31・・・グイクロインクミラー 33・・・ハーフプリズム 34・・・ミラー 特許出即人  オリンパス光学工業株式会社第2図 第3図 第4図 第5図 手糸売ネ市正=書(自発) 昭和61年1月28日 1、事件の表示 昭和60年特許願第245712号 2、発明の名称 多   波   長   干   渉   計3、補正
をする者 ・19件との関係 特許出願人 住  所 東京都渋谷区幡ケ谷2丁目43番2号4、代
 理 人 6、補正の対象 7、補正の内容 +、1)  明細書第2頁第3行目に記載する「ビーム
スルリンター」を「ビームスプリッタ−」と補正する。 、2)明細書第4頁第20行目に記載する「光束He−
Ne Jを「光束とHe−NeJと補正する。 (31明IBm’$9頁第10.12.17行[H:記
載スルrHe−NeJを「ガス」と補正する。 (↓ 明細書第10頁第19行目に記載する「1゜35
−・−He−N eレーザー」をr 1−He−N e
レーザー」と補正する。 (5)明細書第12頁第4行目と同頁第5行目の間に[
35・・・ガスレーザー」を挿入する。 ・、印  図面中第1図を別紙の通り補正する。 8、添付書類の目録
1 to 4 are block diagrams showing first to fourth embodiments of the present invention, and FIG. 5 is a block diagram of a conventional Fizeau type movable meter. 1, 35---He-He laser 2.36... Converging lens 3.37... Pinhole 5... Modified beam splitter 6... Bow 74 Wave plate 7... Half mirror 8. ... Collimator lens 9 ... Test lens 10 ... Reference spherical surface 11 ... Switching mirror 12 ... TV camera 13 ... TV monitor 14 ... Mirror 15 ... - Screen 16 ... Objective lens 17...Mirror 18...Field stop 19...Lens 20...Motor 21...Rotating screen 22.23...Zoom lens 24...Imaging lens 30...Semiconductor laser 31... Gwikuro ink mirror 33... Half prism 34... Mirror patent issued by Olympus Optical Industry Co., Ltd. Figure 2 Figure 3 Figure 4 Figure 5 ) January 28, 1985 1. Indication of the case: Patent Application No. 245712 of 1985 2. Name of the invention Multi-wavelength interference Total 3. Person making the amendment/Relationship with 19 cases Patent applicant address Tokyo 2-43-2-4 Hatagaya, Shibuya-ku, Miyako, Agent 6, Subject of amendment 7, Contents of amendment +, 1) ``Beam through linter'' described on page 2, line 3 of the specification is replaced with ``beam splitter.'' -” is corrected. , 2) "Light flux He-" described on page 4, line 20 of the specification
Ne J is corrected as "luminous flux and He-NeJ." “1゜35” written on the 19th line of the page
-・-He-N e laser' r 1-He-N e
"Laser" is corrected. (5) Between the fourth line of page 12 of the specification and the fifth line of the same page [
35...Insert the gas laser.・, mark Figure 1 in the drawing is corrected as shown in the attached sheet. 8. List of attached documents

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)フィゾー型干渉計において、 少なくとも1つの可視光の光源を含む複数 の光源と、この複数の光源の選択手段とを備えて成る多
波長干渉計。
(1) A Fizeau-type interferometer comprising a plurality of light sources including at least one visible light source and a means for selecting the plurality of light sources.
JP24571285A 1985-11-01 1985-11-01 Multi-wavelength interferometer Pending JPS62106306A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24571285A JPS62106306A (en) 1985-11-01 1985-11-01 Multi-wavelength interferometer

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JP (1) JPS62106306A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6081335A (en) * 1997-06-25 2000-06-27 Nec Corporation Phase difference measuring device with visible light source for providing easy alignment of optical axes and method therefor
DE102008033942B3 (en) * 2008-07-18 2010-04-08 Luphos Gmbh Fiber-optic multi-wavelength interferometer (MWLI) for the absolute measurement of distances and topologies of surfaces at a large working distance

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6081335A (en) * 1997-06-25 2000-06-27 Nec Corporation Phase difference measuring device with visible light source for providing easy alignment of optical axes and method therefor
DE102008033942B3 (en) * 2008-07-18 2010-04-08 Luphos Gmbh Fiber-optic multi-wavelength interferometer (MWLI) for the absolute measurement of distances and topologies of surfaces at a large working distance

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