JPS6210116Y2 - - Google Patents

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JPS6210116Y2
JPS6210116Y2 JP7858881U JP7858881U JPS6210116Y2 JP S6210116 Y2 JPS6210116 Y2 JP S6210116Y2 JP 7858881 U JP7858881 U JP 7858881U JP 7858881 U JP7858881 U JP 7858881U JP S6210116 Y2 JPS6210116 Y2 JP S6210116Y2
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JP
Japan
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pattern
metal layer
embossed pattern
base material
forming body
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、少なくともベース素材/ワツクス系
接着剤層/金属層から成る積層体の金属層面側に
エンボスパターンを型付けして成る画像形成体に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an image forming body formed by molding an embossed pattern on the side of the metal layer of a laminate consisting of at least a base material/wax adhesive layer/metal layer.

従来より、少なくともベース素材/ワツクス系
接着剤層/金属層からなる積層体、例えばワツク
スラミネートしたアルミ箔紙のアルミニウム表面
に、必要ならば絵柄を施し、しかる後微細な万線
状凹凸パターン群を種々組み合わせて成るエンボ
スパターンを有するプレス版を押圧して得られる
画像形成体がある。このような画像形成体は、そ
の表面に形成するエンボスパターンを構成するそ
れぞれの万線状凹凸パターン群における万線方向
を種々の方向に振つてあるため、パターン表面で
の反射光の反射方向が様々に変化するので、見る
角度や方向を様々に変化させると、各万線状凹凸
パターン群の濃淡や輝きが動的に変化し(オパー
ル効果という)、極めて華麗な効果をかもしだす
ようになつている。
Conventionally, a pattern is applied if necessary to the aluminum surface of a laminate consisting of at least a base material, a wax-based adhesive layer, and a metal layer, such as aluminum foil paper laminated with wax, and then a group of fine linear uneven patterns are applied. There is an image-forming body obtained by pressing a press plate having an embossed pattern made of various combinations of the above. In such an image-forming body, the line directions of the line-shaped uneven pattern groups constituting the embossed pattern formed on the surface are oriented in various directions, so that the direction of reflection of the reflected light on the pattern surface is different. Since it changes in various ways, when you change the viewing angle and direction in various ways, the shading and brightness of each group of linear uneven patterns changes dynamically (called the opal effect), creating an extremely brilliant effect. There is.

従来、この種の画像形成体は、第1図に示すよ
うなプレス版1を使用して形成していた。このプ
レス版1は、一般的には写真製版工程を経て作ら
れるが、図面からもわかるように、万線状凹凸パ
ターン群3を構成するそれぞれの万線状凹凸部2
のエンボス深度D1はピツチP1の1/2〜1/4であり、
且 つ万線状凹凸部2の肩部4がシヤープなため、積
層体(少なくともベース素材/ワツクス系接着剤
層/金属層からなる)の金属層表面を押し切つて
しまつたり、このような構成のプレス版1を積層
体の金属層面側に押圧して得られるエンボスパタ
ーンに斜めから照射される光線が万線状凹凸部の
肩部でカツトされ、部分的にオパール効果が期待
できないことが多々あつた。
Conventionally, this type of image forming body has been formed using a press plate 1 as shown in FIG. This press plate 1 is generally made through a photolithography process, and as can be seen from the drawing, each line-shaped uneven portion 2 forming the line-shaped uneven pattern group 3 is
The embossing depth D 1 is 1/2 to 1/4 of the pitch P 1 ,
In addition, since the shoulder portions 4 of the line-shaped uneven portions 2 are sharp, the surface of the metal layer of the laminate (consisting of at least a base material/wax adhesive layer/metal layer) may be pushed off, or such a configuration may occur. The light rays that are obliquely irradiated onto the embossed pattern obtained by pressing the press plate 1 against the metal layer side of the laminate are cut off by the shoulders of the linear unevenness, and the opal effect is often not expected in some areas. It was hot.

本考案は以上のような事情に鑑み成されたもの
であり、美麗なオパール効果を呈し、且つその輝
きが連続的に変化し得る画像形成体の提供を目的
とするものである。
The present invention was developed in view of the above circumstances, and aims to provide an image forming body that exhibits a beautiful opal effect and whose brightness can change continuously.

即ち本考案は、少なくともベース素材/ワツク
ス系接着剤層/金属層からなる積層体の金属層両
側に下記特徴を有するエンボスパターンを付与し
てなる画像形成体である。
That is, the present invention is an image forming body formed by providing an embossed pattern having the following characteristics on both sides of the metal layer of a laminate consisting of at least a base material/wax adhesive layer/metal layer.

(a) エンボスパターンは、波形凹凸部を万線状に
配列した万線状波形凹凸パターン群が複数組集
合してなり、且つそれぞれの万線状波形凹凸パ
ターン群における万線方向を種々の方向に変化
させてある。
(a) The emboss pattern is made up of a plurality of linear wave pattern patterns in which wave pattern parts are arranged in parallel lines, and the line direction of each line wave pattern pattern group is set in various directions. It has been changed to

(b) 万線状波形凹凸パターン群の断面形状は略々
正弦波状で、ピツチは0.08〜0.13mmで、ピツチ
幅とエンボス深度の割合が7:1〜10:1であ
る。
(b) The cross-sectional shape of the linear wave pattern group is approximately sinusoidal, the pitch is 0.08 to 0.13 mm, and the ratio of pitch width to embossing depth is 7:1 to 10:1.

以下本考案を図面を参照にして詳細に説明す
る。
The present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第2図は本考案に係る画像形成体5の斜視図で
あり、6,7,8は積層体9を構成するベース素
材、ワツクス系接着剤層、金属層をそれぞれ示し
ている。この積層体9の構成は、これに限定され
るものではなく、必要に応じてベース素材6や金
属層8上に合成樹脂よりなる保護層やアンカーコ
ート層等を設けておいてもよい。
FIG. 2 is a perspective view of the image forming body 5 according to the present invention, and numerals 6, 7, and 8 respectively indicate a base material, a wax adhesive layer, and a metal layer constituting the laminate 9. The structure of the laminate 9 is not limited to this, and a protective layer, an anchor coat layer, etc. made of synthetic resin may be provided on the base material 6 and the metal layer 8 as necessary.

ベース素材6としては、天然繊維紙や合成紙等
の紙やプラスチツク板等が適用できる。
As the base material 6, paper such as natural fiber paper or synthetic paper, plastic board, etc. can be used.

ワツクス系接着剤層7はベース素材6と金属層
8との接着と、以降のプレス加工の際のエンボス
効果を向上させるために設けてあり、具体的には
東洋ペトロライト社製トプコR−674等のワツク
ス系接着剤が適用でき、その塗布量は20〜25g/
m2がエンボス効果及び接着効果の面から好まし
い。
The wax-based adhesive layer 7 is provided in order to improve the adhesion between the base material 6 and the metal layer 8 and the embossing effect during subsequent press processing. Wax-based adhesives such as
m 2 is preferable from the viewpoint of embossing effect and adhesion effect.

また、このワツクス系接着剤層7上に設ける金
属層8は、アルミニウム、銅、亜鉛等の金属より
なり、アルミ箔や銅箔等の金属箔とベース素材6
をワツクス系接着剤で貼り合わせるか、ワツクス
系接着剤層7上にアルミニウムや銅により金属蒸
着をして形成する。
The metal layer 8 provided on the wax adhesive layer 7 is made of metal such as aluminum, copper, or zinc, and is made of metal foil such as aluminum foil or copper foil and the base material 6.
are bonded together using a wax-based adhesive, or formed by metal vapor deposition using aluminum or copper on the wax-based adhesive layer 7.

以上のようにして形成した積層体9の金属層8
上には必要に応じてアンカーコート層や一般的な
印刷方式により絵柄を施した後、金属層8面側に
エンボスパターンを付与する。このエンボスパタ
ーンを形成するには、第3図に示すような断面形
状のプレス版10を使用する。
Metal layer 8 of laminate 9 formed as described above
After an anchor coat layer or a pattern is applied on the top by a general printing method if necessary, an embossed pattern is applied to the metal layer 8 side. To form this embossed pattern, a press plate 10 having a cross-sectional shape as shown in FIG. 3 is used.

このプレス版10にはエンボスパターンが形成
してあるがこのエンボスパターンは万線状波形凹
凸部11が規則的に配列してなる万線状波形凹凸
パターン群12が複数組集合してなり、且つそれ
ぞれの万線状波形凹凸パターン群12の万線方向
を種々の方向に変化させてある。
This press plate 10 has an embossed pattern formed thereon. The line directions of each line-shaped waveform unevenness pattern group 12 are changed in various directions.

このプレス版10は、例えば次のような写真製
版工程を経て得られる。即ち、、プレス基盤上に
感光性樹脂層を設けてからエンボスパターンを像
露光し、プレス基盤上に所望の耐食皮膜を残した
後、エツチングを施して万線状波形凹凸部を形成
する。しかる後、万線状波形凹凸部上に残つてい
る耐食皮膜を剥離し、数回のエツチング処理を行
ない、エンボスパターンにおけるピツチを0.08〜
0.13mm(200〜300線/インチ程度)、ピツチ幅と
エンボス深度の割合が7:1〜10:1になるよう
にする。
This press plate 10 is obtained, for example, through the following photolithography process. That is, after a photosensitive resin layer is provided on a press base, an embossed pattern is imagewise exposed to light to leave a desired corrosion-resistant film on the press base, and then etched to form linear wave-like uneven portions. After that, the corrosion-resistant film remaining on the linear wave-like unevenness is peeled off and etched several times to reduce the pitch of the embossed pattern to 0.08~.
0.13 mm (approximately 200 to 300 lines/inch), and the ratio of pitch width to embossing depth should be 7:1 to 10:1.

第1図に示すプレス版1と比較するとよくわか
るように、このプレス版10の万線状波形凹凸部
11の断面形状は略々正弦波と同じであり、種々
のテスト結果に基づき、ピツチは0.08〜0.13mm
で、ピツチ幅P2とエンボス深度D2の割合が7:
1〜10:1に設定してある。従つて、万線状波形
凹凸部11の凸部13と凹部14及びその近辺は
滑らかな曲線を示すようになり、このような万線
状波形凹凸部11が規則的に配列してなる万線状
波形凹凸パターン群が複数組合わせてあるエンボ
スパターンを有するプレス版10を積層体9の金
属層8両側に押圧して付与されるエンボスパター
ン(第2図参照)は、金属層表面におけるひずみ
を最小にすることができ、且つ斜めから照射され
た光線を万線状波形凹凸部の肩部でカツトするよ
うなことがないため、所期のオパール効果を連続
的に奏することができる。
As can be clearly seen by comparing with the press plate 1 shown in FIG. 0.08~0.13mm
So, the ratio of pitch width P 2 and embossing depth D 2 is 7:
It is set to 1 to 10:1. Therefore, the convex portions 13 and concave portions 14 of the line-shaped wave-like uneven portions 11 and the vicinity thereof show smooth curves, and the line-shaped wave-like uneven portions 11 are regularly arranged. The embossed pattern (see FIG. 2), which is applied by pressing the press plate 10 having an embossed pattern in which a plurality of groups of waveform unevenness patterns are combined, is applied to both sides of the metal layer 8 of the laminate 9, to reduce strain on the surface of the metal layer. In addition, since the light rays irradiated obliquely are not cut off by the shoulders of the linear waveform unevenness, the desired opal effect can be continuously produced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はプレス版の断面構成図、第2図は本考
案の画像形成体の斜視図、第3図は本考案の画像
形成体形成に際して使用されるプレス版の断面構
成図である。 1,10……プレス版、2……万線状凹凸部、
3……万線状凹凸パターン群、5……画像形成
体、9……積層体、11……万線状波形凹凸部、
12……万線状波形凹凸パターン群。
FIG. 1 is a sectional view of the press plate, FIG. 2 is a perspective view of the image forming body of the present invention, and FIG. 3 is a sectional view of the press plate used in forming the image forming body of the present invention. 1, 10...Press plate, 2...Line-shaped uneven portion,
3... Linear uneven pattern group, 5... Image forming body, 9... Laminated body, 11... Linear waveform uneven part,
12...A group of linear wavy uneven patterns.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 少なくともベース素材/ワツクス系接着剤層/
金属層からなる積層体の金属層面側に下記特徴を
有するエンボスパターンを付与してなる画像形成
体。 (a) エンボスパターンは、波形凹凸部を万線状に
配列した万線状波形凹凸パターン群が複数組集
合してなり、且つそれぞれの万線状波形凹凸パ
ターン群における万線方向を種々の方向に変化
させてある。 (b) 万線状波形凹凸パターン群の断面形状は略々
正弦波状で、ピツチは0.08〜0.13mmで、ピツチ
幅とエンボス深度の割合が7:1〜10:1であ
る。
[Scope of claim for utility model registration] At least base material/wax adhesive layer/
An image forming body formed by providing an embossed pattern having the following characteristics on the side of the metal layer of a laminate made of metal layers. (a) The embossed pattern is made up of a plurality of groups of parallel waveform unevenness patterns in which waveform unevenness parts are arranged in parallel lines, and the line direction of each parallel waveform unevenness pattern group is set in various directions. It has been changed to (b) The cross-sectional shape of the linear wave pattern group is approximately sinusoidal, the pitch is 0.08 to 0.13 mm, and the ratio of pitch width to embossing depth is 7:1 to 10:1.
JP7858881U 1981-05-29 1981-05-29 Expired JPS6210116Y2 (en)

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JPS57189839U JPS57189839U (en) 1982-12-02
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Families Citing this family (8)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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