JPS62100701A - Production of plastic optical parts having antireflection film - Google Patents

Production of plastic optical parts having antireflection film

Info

Publication number
JPS62100701A
JPS62100701A JP60240600A JP24060085A JPS62100701A JP S62100701 A JPS62100701 A JP S62100701A JP 60240600 A JP60240600 A JP 60240600A JP 24060085 A JP24060085 A JP 24060085A JP S62100701 A JPS62100701 A JP S62100701A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
ion beam
antireflection
plastic optical
irradiated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60240600A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Jinichi Ninagawa
蜷川 甚一
Yoshikazu Endo
遠藤 美和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Priority to JP60240600A priority Critical patent/JPS62100701A/en
Publication of JPS62100701A publication Critical patent/JPS62100701A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve the resistance to scuffing by irradiating an ion beam in the stage of forming at least either of a surface hardened layer and antireflection by vacuum deposition. CONSTITUTION:The ion beam is irradiated in the state of forming at least either of the surface hardened layer and antireflection layer by vacuum deposition in the stage of forming the antireflection layer consisting of the surface hardened layer 2 and the antireflection layer 3 by a vacuum deposition method on the plastic optical parts 1. The ion beam is irradiated only in the vapor deposition stage of the surface hardened layer, only in the vapor deposition stage of the antireflection layer and the vapor deposition stage of both the surface hardened layer and the antireflection layer. The ion beam may be irradiated in the vapor deposition stage of the respective layers or the vapor deposition stage of an optional layer if the surface hardened layer and antireflection layer consist respectively of the multiple layers. The perspiration resistance, resistance to scuffing and weatherability is thereby improved.

Description

【発明の詳細な説明】 −の禾1!ilv 本発明は、プラスチック製光学部品上に、富着性、耐汗
性、#擦傷性および耐候性にすぐれ、かつ耐久性のある
反射防止被膜を有するプラスチ。
[Detailed Description of the Invention] - No. 1! ilv The present invention is a plastic that has an antireflection coating on a plastic optical component that has excellent adhesion, sweat resistance, scratch resistance, weather resistance, and is durable.

り製光学部品の製造方法に関する。The present invention relates to a method for manufacturing optical components manufactured by

ええ立並l 従来、カメラレンズ、眼鏡レンズ、ディスプレー等の光
学部品は、ガラスを素材とするものが多かったが、プラ
スチンク材料が軽い、衝撃に強い、加工性が良好である
といった長所を有することから、ガラスに代って使用さ
れるようになってきた。特に最近、軽さ、安全性、ファ
ツション性の点からプラスチック製眼鏡レンズの市場で
の伸びが著しい。
In the past, optical parts such as camera lenses, eyeglass lenses, and displays were often made of glass, but plastic materials have the advantages of being lightweight, impact resistant, and easy to process. For this reason, it has come to be used in place of glass. Particularly recently, the market for plastic eyeglass lenses has been growing rapidly due to their lightness, safety, and fashionability.

しかしながら、プラスチック製眼鏡レンズは、ガラス製
眼鏡レンズに比較して耐擦傷性に劣るという問題があっ
た。
However, plastic spectacle lenses have a problem in that they are inferior in scratch resistance compared to glass spectacle lenses.

このプラスチック製眼鏡レンズの耐擦傷性を改良する方
法として、プラスチ・ツク製眼鏡レンズの表面を改質す
る種々な方法が提案されている。例えば、第1図に示す
ように、プラスチック製眼鏡レンズ基体1に真空蒸着法
により、二酸化硅素等の表面硬化層2を被覆した後、該
表面硬化層上に同じく真空蒸着法により、表面の反射を
低減する二酸化硅素や二酸化ジルコン等の反射防上層3
を被覆する方法が知られている。表面硬化層2は、二酸
化硅素を主成分とする物質で、光学的膜厚l〜10入 
 (入。:可視光域の設計波長、以下同じ)程度の層で
ある。反射防止膜3は、第2図に示すように中屈折率層
3−1、高屈折率層3−2、低屈折率層3−3の順に光
学的膜厚入。/4−人 /2−1入。/4の3層構成の
ものが広く用いられている。3−1の中屈折率層には、
酸化硅素、酸化アルミニウム等が、3−2の高屈折率層
には、酸化ジルコン、酸化チタン等が、3−3の低屈折
率層には、二酸化硅素等がそれぞれ用いられている。ま
た、最近は、中屈折率層に用いられる醇化硅素や酸化ア
ルミニウムが蒸着しにくいことから、第3図に示すよう
に、中屈折率層3−1を酸化ジルコン層(高屈折率層)
3−1−1と二酸化硅素層(低屈折率層)3−1−2の
2層で構成し、中屈折率層3−1と等価な屈折率を得る
4層構成の反射防止層を設ける方法が提案されている。
In order to improve the scratch resistance of plastic eyeglass lenses, various methods have been proposed for modifying the surface of plastic eyeglass lenses. For example, as shown in FIG. 1, a plastic eyeglass lens base 1 is coated with a surface hardening layer 2 made of silicon dioxide or the like by vacuum evaporation, and then a surface reflection layer 2 is coated on the surface hardening layer 2 by vacuum evaporation. Anti-reflective layer 3 made of silicon dioxide, zircon dioxide, etc. that reduces
A method of coating is known. The surface hardening layer 2 is made of a substance containing silicon dioxide as a main component, and has an optical thickness of 1 to 10%.
(In.: design wavelength in the visible light range, the same applies hereafter). As shown in FIG. 2, the antireflection film 3 has an optical thickness in the order of medium refractive index layer 3-1, high refractive index layer 3-2, and low refractive index layer 3-3. /4-person /2-1 entry. /4 three-layer structure is widely used. In the medium refractive index layer of 3-1,
Silicon oxide, aluminum oxide, etc. are used for the high refractive index layer 3-2, zirconium oxide, titanium oxide, etc. are used for the low refractive index layer 3-3, and silicon dioxide, etc. are used for the low refractive index layer 3-3. In addition, recently, silicon oxide and aluminum oxide used for the medium refractive index layer are difficult to evaporate, so as shown in FIG.
A four-layer antireflection layer is provided, which is composed of two layers: 3-1-1 and a silicon dioxide layer (low refractive index layer) 3-1-2, and has a refractive index equivalent to that of the medium refractive index layer 3-1. A method is proposed.

さらに、第4図に示すように上記表面硬化層2を施す前
にプラスチック製眼鏡レンズ基体1に予めディッピング
法、スピナー法等により、シリコーン樹脂等のごとき有
機物系のハードコート層4を塗布し、耐擦傷性をより向
上させる方法もよく行われている。
Furthermore, as shown in FIG. 4, before applying the surface hardening layer 2, an organic hard coat layer 4 such as a silicone resin is coated on the plastic eyeglass lens base 1 by a dipping method, a spinner method, etc. Methods for further improving scratch resistance are also commonly used.

しかしながら、これらの方法で得られる表面硬化層およ
び反射防止層とから構成された反射防止被膜を有するプ
ラスチック製眼鏡レンズは、ある程度の耐擦傷性の向上
がはかれるが、従来の反射防止被膜を有するガラス製眼
鏡レンズの耐擦傷性に比較して劣るという欠点を有する
However, although plastic eyeglass lenses having an antireflection coating composed of a surface hardening layer and an antireflection layer obtained by these methods can improve scratch resistance to a certain extent, they are not as good as conventional glasses with an antireflection coating. It has the disadvantage of being inferior in scratch resistance compared to spectacle lenses.

が λ しようと る1 へ 本発明は、前記従来技術の欠点を解決し、プラスチック
製光学部品上に、耐擦傷性にすぐれ、かつ耐久性の良好
な表面硬化層および反射防止層とから構成された反射防
止被膜を有するプラスチック製光学部品の製造方法を提
供することを目的とする。
The present invention solves the drawbacks of the prior art and includes a plastic optical component that is composed of a hardened surface layer and an antireflection layer that have excellent scratch resistance and durability. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a plastic optical component having an antireflection coating.

17j′  ウ  ・  るため   ゝよひその本発
明に従えば、上記目的を充足する反射防止被膜を有する
プラスチック製光学部品の製造方法が提供される。
According to the present invention, there is provided a method for manufacturing a plastic optical component having an antireflection coating that satisfies the above objects.

即ち、本発明はプラスチック製光学部品上に、真空蒸着
法によって表面硬化層と反射防止層とから構成された反
射防止被膜を形成させるに際し、表面硬化層および反射
防止層のうちの少なくとも一方の層の真空蒸着時にイオ
ンビームを照射することを特徴とする反射防止被膜を有
するプラスチック製光学部品の製造方法に関する。
That is, when forming an antireflection coating composed of a surface hardening layer and an antireflection layer on a plastic optical component by a vacuum evaporation method, the present invention provides that at least one layer of the surface hardening layer and the antireflection layer is formed on a plastic optical component by a vacuum evaporation method. The present invention relates to a method for manufacturing a plastic optical component having an antireflection coating, which is characterized by irradiating with an ion beam during vacuum deposition.

また、本発明は、プラスチック製光学部品上に、真空蒸
着法によって表面硬化層と反射防止層とから構成された
反射防止被膜を形成させるに際し、該光学部品上に予め
イオンビームを照射し、次いで表面硬化層および反射防
止層のうちの少なくとも一方の層の真空蒸着時にイオン
ビームを照射することを特徴とする反射防止被膜を有す
るプラスチック製光学部品の製造方法に関する。
Furthermore, in forming an antireflection coating composed of a surface hardening layer and an antireflection layer on a plastic optical component by a vacuum evaporation method, the present invention irradiates the optical component with an ion beam in advance, and then The present invention relates to a method for manufacturing a plastic optical component having an antireflection coating, which comprises irradiating with an ion beam during vacuum deposition of at least one of a surface hardening layer and an antireflection layer.

本発明において用いられるプラスチック製光学部品の材
料としては、例えばポリメチルメタクリレート、ポリス
チレン、ポリカーボネート、ジエチレングリコールビス
アリルカーボネート樹n旨(C:R−39) 、  1
分子当り少なくとも2個の不飽和シクロアセタール基を
有する化合物と1分子当り少なくとも2個メルカプト基
を有する化合物との二成分を少なくとも必須成分として
含む組成物、1分子当り少なくとも2個の不飽和シクロ
アセタール基を有する化合物と1分子中に水酸基および
アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する不飽和
アルコールとの反応生成物等があげられる。
Materials for the plastic optical parts used in the present invention include, for example, polymethyl methacrylate, polystyrene, polycarbonate, diethylene glycol bisallyl carbonate (C:R-39), 1
A composition comprising as at least two essential components a compound having at least two unsaturated cycloacetal groups per molecule and a compound having at least two mercapto groups per molecule, at least two unsaturated cycloacetals per molecule. Examples include reaction products of a compound having a group and an unsaturated alcohol having a hydroxyl group and an acryloyl group or a methacryloyl group in one molecule.

プラスチック製光学部品を製造するには、例えばキャス
ティング法、モールディング法(インジェクション法)
またはプレス成形法等が用いられ、これらの方法によっ
て任意の形状に成形される。
To manufacture plastic optical parts, for example, casting method, molding method (injection method)
Alternatively, a press molding method or the like is used, and the material is molded into an arbitrary shape by these methods.

このようなプラスチック製光学部品上には、ディンピン
グ法やスプレー法等によりシリコーン樹脂等のごとき有
機物質のハードコート層を設は耐擦傷性を向上させるの
が一般的であるが、さらに、」1記ハードコート層の上
に真空蒸着法により、単層または多層の表面硬化層を設
けより#擦傷性を向上させることもできる。表面硬化層
は、二酸化硅素の単層膜が広く用いられている。
On such plastic optical components, it is common to provide a hard coat layer of organic material such as silicone resin by dipping or spraying to improve scratch resistance. The scratch resistance can also be improved by providing a single-layer or multi-layer surface hardening layer on the hard coat layer 1 by vacuum evaporation. As the surface hardening layer, a single layer film of silicon dioxide is widely used.

本発明においては、バートコ−1・層を有しないプラス
チック製光学部品およびハードコート層を有するプラス
チック製光学部品の両者を含めてプラスチック製光学部
品という。
In the present invention, the term plastic optical components includes both plastic optical components without a Bartco-1 layer and plastic optical components with a hard coat layer.

表面硬化層の膜厚は、1〜10λ。(0,5〜5ルm)
程度である。
The thickness of the surface hardening layer is 1 to 10λ. (0.5~5 lm)
That's about it.

本発明においては、プラスチック製光学部品上に、真空
蒸着法によって直接表面硬化層を形成させても本発明の
効果が十分に発揮されるが、プラスチック製光学部品上
に表面硬化層を真空蒸着法により設けるに際して、プラ
スチック製光学部品表面を予めイオンビームで処理して
おくと、プラスチック製光学部品の表面がスパッターさ
れて表面がクリーニングされ、プラスチック製光学部品
と表面硬化層との密着性がさらに向上する。
In the present invention, the effect of the present invention can be fully exhibited even if the surface hardened layer is directly formed on the plastic optical component by vacuum evaporation method. If the surface of the plastic optical component is treated with an ion beam beforehand, the surface of the plastic optical component will be sputtered and cleaned, further improving the adhesion between the plastic optical component and the hardened surface layer. do.

プラスチック製光学部品の表面をイオンビームで処理す
る条件は、用いるイオンビームの加速電圧や加速電流等
によって異なるので一概には決められないが、一般には
加速電圧が200〜500v、加速電流が20〜50m
A、照射時間が1〜5分の範囲内であることが好ましい
。例えば、イオンビームの加速電圧が300V、加速電
流が30mAの場合は、照射時間は約1分間で十分であ
る。
The conditions for treating the surface of a plastic optical component with an ion beam cannot be determined unconditionally as they vary depending on the acceleration voltage and acceleration current of the ion beam used, but generally the acceleration voltage is 200 to 500V and the acceleration current is 20 to 20V. 50m
A. It is preferable that the irradiation time is within the range of 1 to 5 minutes. For example, when the accelerating voltage of the ion beam is 300 V and the accelerating current is 30 mA, approximately 1 minute of irradiation time is sufficient.

このようにして得られた表面硬化層を有するプラスチッ
ク製光学部品に、さらに真空層着法によって単層または
多層の反射防止層を設ける。これによって、大気との界
面の反射を防+hすることができる。蒸着用材料として
は、酸化硅素、二酸化硅素、二酸化アルミニウム、二酸
化ジルコニウム、二酸化チタン、酸化イツトリウム、酸
化タンタル、酸化ハフニウム、酸化イッテリビュウム、
醇化セリウム、フッ化マグネシウム等があげられる。
The plastic optical component having the surface-hardened layer thus obtained is further provided with a single-layer or multi-layer antireflection layer by a vacuum layer deposition method. This can prevent reflections at the interface with the atmosphere. Materials for vapor deposition include silicon oxide, silicon dioxide, aluminum dioxide, zirconium dioxide, titanium dioxide, yttrium oxide, tantalum oxide, hafnium oxide, ytterbium oxide,
Examples include cerium liquefaction and magnesium fluoride.

プラスチック製光学部品−ヒに、真空蒸着法により、表
面硬化層と反射防止層とから構成された反射防止被膜を
形成させるに際しては、表面硬化層および反射防止層の
うちの少なくとも一方の層の真空蒸着時にイオンビーム
を照射する。蒸着時にイオンビームを照射すると、蒸着
粒子とイオンビームが庫然一体となってプラスチック製
光学部品表面に到達し、表面が加熱されると共に蒸着粒
子にエネルギーを与え、プラスチック製光学部品表面で
のマイグレーション効果を高め、本発明の効果が発現す
るものと考えられる。
When forming an antireflection coating composed of a surface hardening layer and an antireflection layer on a plastic optical component by vacuum evaporation, it is necessary to apply a vacuum to at least one of the surface hardening layer and the antireflection layer. Ion beam is irradiated during vapor deposition. When an ion beam is irradiated during vapor deposition, the vapor deposited particles and the ion beam become one and reach the surface of the plastic optical component, heating the surface and giving energy to the vapor deposition particles, causing migration on the surface of the plastic optical component. It is considered that the effects of the present invention are enhanced and the effects of the present invention are realized.

イオンビームは、表面硬化層の蒸着時のみ、反射防止層
の蒸着時のみ、表面硬化層と反射防止層の両層の蒸着時
に照射される。表面硬化層および反射防止層がそれぞれ
多層からなる場合は、各層の蒸着時にイオンビームを照
射してもよく、または任意の層の層着時にイオンビーム
を照射してもよい。また、イオンビームは、へ着用材料
が一つ層を形成するまで照射してもよいし、または一定
の光学膜厚になるまで照射し、その後イオンビームを照
射しないで蒸着させて一つの層を形成させてもよい。本
発明の効果を最大限に発現させるためには、少なくとも
反射防止膜の最上層を形成させる場合にイオンビームを
照射することが好ましい。
The ion beam is irradiated only when depositing the surface hardening layer, only when depositing the antireflection layer, or when depositing both the surface hardening layer and the antireflection layer. When the surface hardening layer and the antireflection layer each consist of multiple layers, the ion beam may be irradiated during the deposition of each layer, or the ion beam may be irradiated during the deposition of any layer. In addition, the ion beam may be irradiated until the deposition material forms one layer, or it may be irradiated until a certain optical film thickness is reached, and then evaporated without ion beam irradiation to form one layer. It may be formed. In order to maximize the effects of the present invention, it is preferable to irradiate with an ion beam at least when forming the uppermost layer of the antireflection film.

イオンビームの照射条件は、用いるイオンビームの加速
電圧や加速電流によって異なるので一概には決められな
いが、通常は加速電圧が500〜800 V、加速電流
が50〜80trrAで目的とする膜厚になるまで照射
される。
Ion beam irradiation conditions vary depending on the accelerating voltage and accelerating current of the ion beam used, so they cannot be determined unconditionally, but usually the accelerating voltage is 500 to 800 V and the accelerating current is 50 to 80 trrA to achieve the desired film thickness. It is irradiated until

イオン銃の基本原理は、イオン化物質(例えば、Ar、
02、N2ガスなど)をイオン生成室に導入し、イオン
化し、イオンのみをビーム状にイオンビームとして引さ
出すものであり、イオン化の生成方法により各種イオン
銃が作られる。本発明においては、イオン銃の種類を特
に限定するものではない。
The basic principle of the ion gun is that ionized substances (e.g. Ar,
02, N2 gas, etc.) is introduced into an ion generation chamber, ionized, and only the ions are extracted as an ion beam. Various ion guns are manufactured depending on the ionization generation method. In the present invention, the type of ion gun is not particularly limited.

第5図に示すように、イオン銃(10)は真空基若チャ
ンバー5内にブラスチンク製光学部品6を配置したドー
ム7(眼鏡レンズの場合は、レンズドーム)に向は設置
される。イオン銃10の操作は、チャンバ−5外部から
自由にコントロールでき、任意の時間、任意の出力でイ
オンビームを照射できる。ドーム7は、回転し、イオン
ビームはプラスチック製光学部品6に均一に照射される
As shown in FIG. 5, the ion gun (10) is installed facing a dome 7 (a lens dome in the case of eyeglass lenses) in which a brass optical component 6 is arranged in a vacuum base chamber 5. The operation of the ion gun 10 can be freely controlled from outside the chamber 5, and the ion beam can be irradiated at any time and with any output. The dome 7 rotates and the ion beam uniformly irradiates the plastic optical component 6.

イオンビームは、イオン化しパワーを保持したAr、0
2、N2、等の粒子線と考えることができ、プラスチッ
ク表面に照射すると、前記のごとくプラスチック表面が
スパッターされ表面クリーニングが可能である。また、
蒸着中にイオンビームを同時に照射すると、蒸着粒子と
イオンビームが渾然−・体となって表面に到達し、表面
が加熱されるとともに蒸着粒子にエネルギーを与え、表
面でのマイグレーション効果を高める。
The ion beam is Ar,0 which is ionized and maintains its power.
2, N2, etc., and when irradiated onto a plastic surface, the plastic surface is spattered as described above, making it possible to clean the surface. Also,
When ion beams are irradiated simultaneously during vapor deposition, the vapor deposited particles and the ion beam reach the surface as a harmonious body, which heats the surface and gives energy to the vapor deposited particles, increasing the migration effect on the surface.

その結果、形成される反射防止被膜は、緻密で硬いもの
となり、耐擦傷性が向上する。光学的には、単なる真空
蒸着により生成した反射防止被膜より、屈折率が高くな
る。
As a result, the antireflection coating formed becomes dense and hard, and has improved scratch resistance. Optically, it has a higher refractive index than an antireflection coating produced by simple vacuum deposition.

従来、同様の目的でプラズマ雰囲気を利用したプラズマ
表面クリーニング活性化蒸着法、イオンブレーティング
法が広〈実施されているが、イオンビーム照射の方が以
下の点ですぐれている。
Conventionally, plasma surface cleaning activated vapor deposition methods and ion blating methods using a plasma atmosphere have been widely practiced for similar purposes, but ion beam irradiation is superior in the following points.

■プラズマ雰囲気にするためには、L O−4Torr
以−ヒのガス圧が必要であるが、イオンビームは、10
 ’Torr以下の高真空で使用でき被膜内へのガス分
子の巻き込みが少ない。
■To create a plasma atmosphere, use L O-4 Torr.
The ion beam requires a gas pressure of 10
It can be used in high vacuums below Torr, and there is little entrainment of gas molecules into the coating.

■プラズマ雰囲気は、チャンバー全体に広がるため壁等
からスパッターされた不純物を被膜内に取り込みやすい
が、イオンビームは指向性があり、目的物のみに照射で
きるのでその恐れがない。
■Since the plasma atmosphere spreads throughout the chamber, it is easy for impurities sputtered from the walls to be incorporated into the film, but since the ion beam is directional and can only irradiate the target object, there is no risk of this happening.

■イオンビームは、プラズマに比較し、パワー(エネル
ギー)が大きく、かつ可変で安定した操作が容易にでき
る。
■Ion beams have greater power (energy) than plasma, and can be easily controlled in a variable and stable manner.

■上記3点からイオンビーム照射による被膜の性能は、
プラズマ雰囲気の方法にくらべ再現性が良い。
■From the above three points, the performance of the coating by ion beam irradiation is
The reproducibility is better than the plasma atmosphere method.

本発明は、真空蒸着装置に上述のすぐれた機能を持つイ
オン銃を設置し、プラスチック製光学部品の表面硬化層
、反射防止層作成時に適用した。
In the present invention, an ion gun having the above-mentioned excellent functions was installed in a vacuum evaporation apparatus, and was applied to the production of surface hardening layers and antireflection layers of plastic optical components.

その結果、非常に耐擦傷性の良い、N4著な耐久性を持
つ表面硬化層、反射防止層から構成された反射防止被膜
の作成が可能となった。
As a result, it has become possible to create an antireflection coating composed of a surface hardening layer and an antireflection layer that has excellent scratch resistance and N4 outstanding durability.

支庭遣 以下、実施例および比較例をあげて本発明をさらに詳細
に説明する。
Below, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.

なお、各個において得られた眼鏡レンズの特性は、下記
の方法に準じて測定した。その結果を第1表に示した。
In addition, the characteristics of the eyeglass lenses obtained in each piece were measured according to the following method. The results are shown in Table 1.

1)密着性 クロスハツチテスト 2)#汗性 水1u中にNa1l  lOg、 NH4Cl34 g
、Na2)IPO4@12820 2.5 gをそれぞ
れ混入した水溶液に、25℃、24時間浸漬してテスト
した。
1) Adhesion crosshatch test 2) #Na1l lOg, NH4Cl34g in 1u of sweat water
, Na2) IPO4 @ 12820 (2.5 g) were mixed in an aqueous solution for 24 hours at 25° C. for testing.

3)#擦傷性 スチールウール(掟000)で200gの荷重をかけ、
50往復表面を彦擦し、傷のついた程度を肉眼で観察し
た。
3) Apply a load of 200g with #abrasion-resistant steel wool (Ryo 000),
The surface was rubbed 50 times and the degree of scratches was observed with the naked eye.

4)耐候性 ウエザオメーターに240時間暴露した後の表面状態を
調べた。
4) The surface condition was examined after being exposed to a weather-resistant weatherometer for 240 hours.

実施例1 第5図に示した真空蒸着チャンバー5内のドーム7に、
ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂製眼
鏡レンズを配置し、このレンズ表面に表面硬化層を基着
する前に加速電圧300 V、加速電流30IIIAで
1分間、Arイオンビームを照射し、表面クリーニング
を行なった。使用したイオン銃は、熱電子衝撃型のもの
を使用した。次に一旦イオンビーム照射を止め、表面硬
化層の二酸化硅素(S102)を蒸着開始と同時に、加
速電圧500V、加速電流50mAで、Arイオンビー
ムを照射し、光学膜厚が入。/2になるまで照射した。
Example 1 In the dome 7 in the vacuum deposition chamber 5 shown in FIG.
A spectacle lens made of diethylene glycol bisallyl carbonate resin was placed, and before a surface hardening layer was attached to the surface of the lens, an Ar ion beam was irradiated with an acceleration voltage of 300 V and an acceleration current of 30 III A for 1 minute to perform surface cleaning. The ion gun used was of the thermionic impact type. Next, the ion beam irradiation was temporarily stopped, and at the same time as the deposition of silicon dioxide (S102) for the surface hardening layer was started, an Ar ion beam was irradiated at an accelerating voltage of 500 V and an accelerating current of 50 mA to obtain the optical film thickness. Irradiation was continued until the temperature reached /2.

その後。after that.

Arイオンビームの照射を止め、蒸着はそのまま合計光
学膜厚が2人。になるまで継続した。第6図に示すよう
に表面硬化層Aは、初めのArイオンビームを照射した
入0/2の層11とArイオンビームを照射しない3人
。/2の層12とで構成される。
The Ar ion beam irradiation was stopped, and the total optical film thickness was 2 people. It continued until. As shown in FIG. 6, the surface hardened layer A consists of a 0/2 layer 11 that was irradiated with the first Ar ion beam and three layers that were not irradiated with the Ar ion beam. /2 layers 12.

次いで、表面硬化層から大気に向う順に、二酸化ジル−
17(ZrO)層13.二酸化硅素(S+02)層14
をイオンビーム照射なしで蒸着した。二酸化ジルコン層
13と二酸化硅素層14の光学膜厚の合計がλ。/4に
なるように形成させた。続いて、その上に高屈折率層で
ある二酸化ジルコン層15をイオンビーム照射なしで光
学膜厚が入。/2になるまで法肩した。最後に低屈折率
層である二酸化硅素層16を加速電圧500V、加速電
流50mAで、Arイオンビームを照射しながら、光学
膜厚が入。/4になるまで照射して反射防止層を形成さ
せた。
Next, in order from the surface hardening layer toward the atmosphere, zil dioxide
17 (ZrO) layer 13. Silicon dioxide (S+02) layer 14
was deposited without ion beam irradiation. The total optical thickness of the zircon dioxide layer 13 and the silicon dioxide layer 14 is λ. /4. Subsequently, a zirconium dioxide layer 15, which is a high refractive index layer, is formed to have an optical thickness on top of the zirconium dioxide layer 15 without ion beam irradiation. I held court until I reached 2. Finally, while irradiating the silicon dioxide layer 16, which is a low refractive index layer, with an Ar ion beam at an accelerating voltage of 500 V and an accelerating current of 50 mA, the optical film thickness is increased. An antireflection layer was formed by irradiating the film to a temperature of /4.

実施例2 実施例1において、高屈折率層である二酸化ジルコン層
15を蒸着させるに際して、加速電圧500v、加速電
流50mAで、Arイオンビームを照射した以外は、実
施例1と同様な方法で反射防止被膜を有するジエチレン
グリコールビスアリルカー  ・ボネート樹脂製眼鏡レ
ンズを作製した。
Example 2 Reflection was carried out in the same manner as in Example 1, except that when depositing the zirconium dioxide layer 15, which is a high refractive index layer, Ar ion beam was irradiated with an accelerating voltage of 500 V and an accelerating current of 50 mA. A diethylene glycol bisallyl carbonate resin eyeglass lens with a protective coating was produced.

実施例3 実施例1において、最上層の低屈折率層である二酸化硅
素層16をArイオンビーム照射なしで蒸着させた以外
は、実施例1と同様な方法で反射防止被膜を有するジエ
チレングリコールビスアリルカーボネート樹脂製レンズ
を作製した。
Example 3 Diethylene glycol bisallyl having an antireflection coating was prepared in the same manner as in Example 1, except that the silicon dioxide layer 16, which is the uppermost low refractive index layer, was deposited without Ar ion beam irradiation. A carbonate resin lens was manufactured.

実施例4 ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂製眼
鏡レンズ表面に、実施例工と同様な方法で、Arイオン
ビームを照射し、表面クリーニングを行った。次いで、
表面硬化層の二酸化硅素を蒸着開始と同時に、加速電圧
500V、加速電流5001Aでt−Arイオンビーム
を照射し、光学膜厚が2人。
Example 4 The surface of a diethylene glycol bisallyl carbonate resin eyeglass lens was irradiated with an Ar ion beam to perform surface cleaning in the same manner as in the example. Then,
Simultaneously with the start of vapor deposition of silicon dioxide for the surface hardening layer, a t-Ar ion beam was irradiated with an accelerating voltage of 500 V and an accelerating current of 5001 A, resulting in an optical film thickness of 2 mm.

になるまでArイオンビームを照射した。次いで、表面
硬化層から大気に向って、二酸化ジルコン層、二酸化硅
素層を順次Arイオンビームを照射しないで蒸着させた
。二酸化ジルコン層と二酸化硅素層の合計光学膜厚が入
。/4になるように形成させた。続いて、その上に高屈
折率層である二酸化ジルコン層を加速電圧500V、加
速電流50mAでA「イオンビーム照射しながら蒸着さ
せ、光学膜厚が入。/2になるまで照射した。最上層に
低屈折率層である二酸化硅素層を加速電圧500V、加
速電流50mAでArイオンビーム照射しながら、光学
11り厚が入。/4になるまで照射して反射防止層を形
成させた。
The Ar ion beam was irradiated until . Next, a zircon dioxide layer and a silicon dioxide layer were sequentially deposited from the hardened surface layer toward the atmosphere without irradiating with an Ar ion beam. Enter the total optical thickness of the zircon dioxide layer and silicon dioxide layer. /4. Subsequently, a zirconium dioxide layer, which is a high refractive index layer, was deposited on top of the zirconium dioxide layer at an accelerating voltage of 500 V and an accelerating current of 50 mA while irradiating the ion beam until the optical film thickness became 0./2. While irradiating the silicon dioxide layer, which is a low refractive index layer, with an Ar ion beam at an accelerating voltage of 500 V and an accelerating current of 50 mA, the antireflection layer was formed by irradiating the silicon dioxide layer until the optical thickness became 11/4.

実施例5 実施例4において、高屈折率層である二酸化ジルコン層
をArイオンビーム照射なしで形成させた以外は、実施
例4と同様な方法で反射防止被膜を有するジエチレング
リコールビスアリルカーボネート樹脂製眼鏡レンズを作
製した。
Example 5 Eyeglasses made of diethylene glycol bisallyl carbonate resin having an antireflection coating were produced in the same manner as in Example 4, except that the zircon dioxide layer, which is a high refractive index layer, was formed without Ar ion beam irradiation. A lens was created.

実施例6 実施例4において、高屈折率層である二酸化ジルコン層
と低屈折率層(最上層)である二酸化硅素層をArイオ
ンビーム照射なしで形成させた以外は、実施例4と同様
な方法で反射防止被膜を有するジエチレングリコールビ
スアリルカーボネート樹脂製眼鏡レンズを作製した。
Example 6 The same procedure as in Example 4 was carried out, except that the zircon dioxide layer, which is a high refractive index layer, and the silicon dioxide layer, which is a low refractive index layer (top layer), were formed without Ar ion beam irradiation. A diethylene glycol bisallyl carbonate resin eyeglass lens having an antireflection coating was prepared by this method.

比較例1 ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂製眼
鏡レンズ表面をArイオンビーム処理(加速電圧300
■、加速電流30mA、1分)した後、これにイオンビ
ーム照射なしで実施例1と同様の膜構成の反射防止被膜
を施した。
Comparative Example 1 Ar ion beam treatment (acceleration voltage 300
(2) Accelerating current: 30 mA, 1 minute) After that, an antireflection coating having the same film structure as in Example 1 was applied to this without ion beam irradiation.

比較例2 ジエチレングリコールビスアリルカーポネート樹脂製眼
鏡レンズ表面をRFプラズマ処理(500W、4分)し
た後、これにArイオンビーム照射なしで実施例1と同
様の膜構成の反射防止被膜を施した。
Comparative Example 2 After the surface of a diethylene glycol bisallyl carbonate resin eyeglass lens was subjected to RF plasma treatment (500 W, 4 minutes), an antireflection coating having the same film structure as in Example 1 was applied thereto without Ar ion beam irradiation.

実施例7 実施例1において、ジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネート樹脂製眼鏡レンズの代りに。
Example 7 In Example 1, instead of the diethylene glycol bisallyl carbonate resin eyeglass lens.

ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂製眼
鏡レンズの表面に、シリコーン樹脂のハードコート層を
 5gm設けたものを使用した以外は、実施例1と同様
な方法で、しかも実施例1と同様の膜構成の反射防止被
膜を施した。得られたレンズの膜構成を第7図に示した
Antireflection was made in the same manner as in Example 1, except that a 5 gm silicone resin hard coat layer was used on the surface of a diethylene glycol bisallyl carbonate resin eyeglass lens, and with the same film structure as in Example 1. A coating was applied. The film structure of the obtained lens is shown in FIG.

比較例3 シリコーン樹脂のハードコート層を表面に有するジエチ
レングリコールビスアリルカーボネート樹脂製眼鏡レン
ズ表面をArイオンビーム処理(加速電圧300v、加
速電流30mA、1分)した後、これにイオンビームを
照射しないで実施例1と同様の膜構成の反射防止被膜を
施した。
Comparative Example 3 After the surface of a diethylene glycol bisallyl carbonate resin eyeglass lens having a silicone resin hard coat layer on its surface was subjected to Ar ion beam treatment (acceleration voltage 300 V, acceleration current 30 mA, 1 minute), the surface was not irradiated with an ion beam. An antireflection coating having the same coating structure as in Example 1 was applied.

実施例8 実施例1において、ジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネート樹脂製眼鏡レンズ表面を予めArイオンビー
ム処理しなかった以外は、実施例1と同様の方法で、し
かも実施例1と同様の膜構成の反射防止被膜を施した。
Example 8 Antireflection was performed in the same manner as in Example 1, except that the surface of the diethylene glycol bisallyl carbonate resin eyeglass lens was not previously treated with an Ar ion beam, and with the same film structure as in Example 1. A coating was applied.

比較例4 実施例1において、ジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネート樹脂製眼鏡レンズ表面を予めArイオンビー
ム処理せず、しかも^rイオンビーム照射なしで実施例
1と同様の膜構成の反射防止被膜を施した。
Comparative Example 4 In Example 1, the surface of a spectacle lens made of diethylene glycol bisallyl carbonate resin was not subjected to Ar ion beam treatment in advance, and an antireflection coating having the same film structure as in Example 1 was applied without irradiation with an ion beam.

第1表 0υ ■・・・・・・極めて優秀 O・・・・・・優秀 Δ・・・・・・良好 ×・・・・・・不良 次に、実施例1で得られた眼鏡レンズをすでに市販され
ている反射防止膜付プラスチック眼鏡レンズと比較する
と第2表のごとくである。
Table 1 0υ ■...Excellent O...ExcellentΔ...Good×...Poor Next, the eyeglass lenses obtained in Example 1 were Table 2 shows a comparison with plastic eyeglass lenses with anti-reflection coatings already on the market.

第2表 本発明実施例品は、耐汗性、耐擦傷性、耐候性ともに全
く異常がなく、反射防止被膜を施したプラスチック製眼
鏡レンズとして非常にすぐれていることがわかる。
Table 2 It can be seen that the products of the examples of the present invention have no abnormalities in sweat resistance, scratch resistance, and weather resistance, and are excellent as plastic eyeglass lenses coated with an antireflection coating.

泣に也2 以上、詳述した通り、表面硬化層および反射防止層のう
ちの少なくとも一方の層の真空蒸着時にイオンビームを
照射して得られる反射防止被膜を有するプラスチック製
光学部品は、ガラス並の耐久性を有し、反射防止被膜と
プラスチック製光学部品との密着性が良好であり、耐汗
性、耐擦傷性および耐候性にすぐれ、さらに反射防止被
膜は緻密で硬度が高い。従って、本発明の方法は、プラ
スチック製眼鏡レンズのみならず、反射防止被膜を必要
とするプラスチック製光学部品すべてに適用することが
できる。
2 As detailed above, a plastic optical component having an anti-reflection coating obtained by irradiating an ion beam during vacuum deposition of at least one of the hardened surface layer and the anti-reflection layer is comparable to glass. It has excellent adhesion between the antireflection coating and plastic optical components, and has excellent sweat resistance, scratch resistance, and weather resistance, and the antireflection coating is dense and hard. Therefore, the method of the present invention can be applied not only to plastic eyeglass lenses but also to all plastic optical parts that require an antireflection coating.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、従来の反射防止被膜を有するプラスチック製
眼鏡レンズの膜構成を示す図である。 1・・・・・・プラスチック製眼鏡レンズ基体2・・・
・・・表面硬化層 3・・・・・・反射防止層 第2図は、従来の反射防止被膜を有するプラスチック製
眼鏡レンズの膜構成を示す図である。 ■・・・・・・プラスチック製眼鏡レンズ基体2・・・
・・・表面硬化層 3・・・・・・反射防止層 3−1・・・・・・中屈折率層 3−2・・・・・・高屈折率層 3−3・・・・・・低屈折率層 第3図は、従来の反射防止被膜を有するプラスチック製
眼鏡レンズの膜構成を示す図である。 I・・・・・・プラスチック製眼鏡レンズ基体?・・・
・・・表面硬化層 3−1・・・・・・中屈折率層 3−1−1・・・・・・高屈折率層 3−1−2・・・・・・低屈折率層 3−2・・・・・・高屈折率層 3−3・・・・・・低屈折率層 第4図には、従来のハードコート層と反射防止被膜を有
するプラスチック製眼鏡レンズの膜構成を示す図である
。 1・・・・・・プラスチック製眼鏡レンズ基体2・・・
・・・表面硬化層 3・・・・・・反射防止層 4・・・・・・ハードコート層 第5図は、本発明による蒸着方法を行うための装置の概
略図である。 5・・・・・・チャンバー 6・・・・・・プラスチック製光学部品7・・・・・・
ドーム 8・・・・・・蒸着剤 9・・・・・・電子銃 10・・・・・・イオン銃 第6図は、実施例1におけるジエチレングリコールビス
アリルカーボネート樹脂製眼鏡レンズのvia成を示す
図である。 l・・・・・・眼鏡レンズ基体 A・・・・・・表面硬化層 11・・・・・・イオンビームを照射しながら二酸化硅
素を蒸着させた層 12・・・・・・イオンビームを照射しないで二酸化硅
素を蒸゛着させた層 B・・・・・・反射防止層 13・・・・・・イオンビームを照射しないで二酸化ジ
ルコンを蒸着させた層 14・・・・・・イオンビームを照射しないで二酸化硅
素を蒸着させた層 15・・・・・・イオンビームを照射しないで二酸化ジ
ルコンを蒸着させた層 16・・・・・・イオンビームを照射しながら二酸化硅
素を蒸着させた層 第7図は、実施例7におけるジエチレングリコールビス
アリルカーボネート樹脂製眼鏡レンズの膜構成を示す図
である。 1・・・・・・眼鏡レンズ基体 4・・・・・・シリコーン樹脂からなるハードコート層 A゛・・・・・・表面硬化層 17・・・・・・イオンビームを照射しながら二酸化硅
素を蒸着した層 18・・・・・・イオンビームを照射しないで二酸化硅
素を蒸着した層 B゛・・・・・・反射防止層 19・・・・・・イオンビームを照射しないで二酸化ジ
ルコンを蒸着させた層 20・・・・・・イオンビームを照射しないで二酸化硅
素を蒸着させた層 21・・・・・・イオンビームを照射しないで二酸化ジ
ルコンを蒸着させた層 22・・・・・・イオンビームを照射しながら二酸化硅
素を蒸着させた層
FIG. 1 is a diagram showing the film structure of a plastic eyeglass lens having a conventional antireflection coating. 1...Plastic eyeglass lens base 2...
. . . Surface hardening layer 3 . . . Antireflection layer FIG. 2 is a diagram showing the film structure of a plastic eyeglass lens having a conventional antireflection coating. ■・・・Plastic eyeglass lens base 2...
... Surface hardening layer 3 ... Antireflection layer 3-1 ... Medium refractive index layer 3-2 ... High refractive index layer 3-3 ... -Low refractive index layer FIG. 3 is a diagram showing the film structure of a plastic eyeglass lens having a conventional antireflection coating. I...Plastic eyeglass lens base? ...
...Surface hardened layer 3-1...Medium refractive index layer 3-1-1...High refractive index layer 3-1-2...Low refractive index layer 3 -2...High refractive index layer 3-3...Low refractive index layer Figure 4 shows the film structure of a conventional plastic eyeglass lens having a hard coat layer and an antireflection coating. FIG. 1...Plastic eyeglass lens base 2...
. . . Surface hardening layer 3 . . . Antireflection layer 4 . . . Hard coat layer FIG. 5 is a schematic diagram of an apparatus for carrying out the vapor deposition method according to the present invention. 5...Chamber 6...Plastic optical component 7...
Dome 8... Vapor deposition agent 9... Electron gun 10... Ion gun Figure 6 shows the via configuration of the diethylene glycol bisallyl carbonate resin eyeglass lens in Example 1. It is a diagram. L... Spectacle lens base A... Surface hardened layer 11... Layer 12 on which silicon dioxide is deposited while irradiating with an ion beam... Layer B on which silicon dioxide was deposited without irradiation...Antireflection layer 13...Layer 14 on which zircon dioxide was deposited without ion beam irradiation...Ion Layer 15 on which silicon dioxide was deposited without irradiating the beam...Layer 16 on which zircon dioxide was deposited without irradiating the ion beam...Silicon dioxide was deposited while irradiating the ion beam FIG. 7 is a diagram showing the film structure of a diethylene glycol bisallyl carbonate resin eyeglass lens in Example 7. 1... Spectacle lens base 4... Hard coat layer A made of silicone resin... Surface hardening layer 17... Silicon dioxide while irradiating with an ion beam Layer 18 on which silicon dioxide was vapor-deposited... Layer B on which silicon dioxide was vapor-deposited without ion beam irradiation... Anti-reflection layer 19... Zircon dioxide was vapor-deposited without ion beam irradiation. Vapor deposited layer 20... Layer 21 where silicon dioxide was vapor deposited without ion beam irradiation... Layer 22 where zircon dioxide was vapor deposited without ion beam irradiation...・A layer in which silicon dioxide is deposited while being irradiated with an ion beam.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)プラスチック製光学部品上に、真空蒸着法によっ
て表面硬化層と反射防止層とから構成された反射防止被
膜を形成させるに際し、表面硬化層および反射防止層の
うちの少なくとも一方の層の真空蒸着時にイオンビーム
を照射することを特徴とする反射防止被膜を有するプラ
スチック製光学部品の製造方法。
(1) When forming an antireflection coating composed of a surface hardening layer and an antireflection layer on a plastic optical component by a vacuum evaporation method, vacuum is applied to at least one of the surface hardening layer and the antireflection layer. A method for manufacturing a plastic optical component having an antireflection coating, which comprises irradiating an ion beam during vapor deposition.
(2)プラスチック製光学部品上に、真空蒸着法によっ
て表面硬化層と反射防止層とから構成された反射防止被
膜を形成させるに際し、該光学部品上に予めイオンビー
ムを照射し、次いで表面硬化層および反射防止層のうち
の少なくとも一方の層の真空蒸着時にイオンビームを照
射することを特徴とする反射防止被膜を有するプラスチ
ック製光学部品の製造方 法。
(2) When forming an antireflection coating composed of a surface hardening layer and an antireflection layer on a plastic optical component by vacuum evaporation, the optical component is irradiated with an ion beam in advance, and then the surface hardening layer is formed. and a method for manufacturing a plastic optical component having an antireflection coating, which comprises irradiating with an ion beam during vacuum deposition of at least one of the antireflection layers.
JP60240600A 1985-10-29 1985-10-29 Production of plastic optical parts having antireflection film Pending JPS62100701A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60240600A JPS62100701A (en) 1985-10-29 1985-10-29 Production of plastic optical parts having antireflection film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60240600A JPS62100701A (en) 1985-10-29 1985-10-29 Production of plastic optical parts having antireflection film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62100701A true JPS62100701A (en) 1987-05-11

Family

ID=17061901

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60240600A Pending JPS62100701A (en) 1985-10-29 1985-10-29 Production of plastic optical parts having antireflection film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62100701A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02291501A (en) * 1989-04-28 1990-12-03 Hoya Corp Antireflection film
JPH0350501A (en) * 1989-07-19 1991-03-05 Hitachi Ltd Hard coating film for plastic member and vacuum deposition device thereof
JPH05281401A (en) * 1992-04-02 1993-10-29 Fuji Photo Optical Co Ltd Production of antireflection film
JP2008044357A (en) * 2006-07-18 2008-02-28 Showa Denko Kk Transparent antireflection plate
JP2010529510A (en) * 2007-06-13 2010-08-26 エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック Optical article coated with an antireflective coating comprising an underlayer partially formed under ion assist and method for producing the same

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5565239A (en) * 1978-11-10 1980-05-16 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Method of forming film of titanium oxide on plastic base plate

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5565239A (en) * 1978-11-10 1980-05-16 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Method of forming film of titanium oxide on plastic base plate

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02291501A (en) * 1989-04-28 1990-12-03 Hoya Corp Antireflection film
JPH0350501A (en) * 1989-07-19 1991-03-05 Hitachi Ltd Hard coating film for plastic member and vacuum deposition device thereof
JPH05281401A (en) * 1992-04-02 1993-10-29 Fuji Photo Optical Co Ltd Production of antireflection film
JP2008044357A (en) * 2006-07-18 2008-02-28 Showa Denko Kk Transparent antireflection plate
JP2010529510A (en) * 2007-06-13 2010-08-26 エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック Optical article coated with an antireflective coating comprising an underlayer partially formed under ion assist and method for producing the same
US10962687B2 (en) 2007-06-13 2021-03-30 Essilor International Optical article coated with an antireflection coating comprising a sub-layer partially formed under ion assistance and its manufacturing process

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Samson Ophthalmic lens coatings
US3984581A (en) Method for the production of anti-reflection coatings on optical elements made of transparent organic polymers
US20050233083A1 (en) Method for reducing boundary surface reflection of plastic substrates and substrate modified in such a manner and use thereof
US8159748B2 (en) Optical article and manufacturing method thereof
KR100845244B1 (en) Method For Cold Process Deposition Of An Antiglare Layer
JP4434949B2 (en) Methods for obtaining thin, stable, fluorine-doped silica layers, the resulting thin layers, and their application in ophthalmic optics
JPS62100701A (en) Production of plastic optical parts having antireflection film
CN105866976A (en) Ultraviolet-proof lens structure and preparation method thereof
JPH01197701A (en) Plastic optical member and production thereof
JPS63111167A (en) Production of plastic article coated with inorganic thin film
JPS61250601A (en) Optical material having antireflection property and its production
SU922091A1 (en) Method for strengthening optical components
JPH03255401A (en) Formation of mgf2 film on plastic substrate
JPH0990102A (en) Optical product with coating film and its production
JPH06102401A (en) Formation of antireflection film
JPH08136703A (en) Film formation of antireflection film
JPS63170243A (en) Formation of antireflection film
JPH09113702A (en) Optical product and its production
JPH0651103A (en) Antireflection synthetic-resin optical parts and its production
JPS63170244A (en) Formation of antireflection film
JPH095502A (en) Formation of anti-reflection film
JPH0961603A (en) Formation of antireflection film
JPH0968601A (en) Optical product having coating film and its production
SU915055A1 (en) Method of producing diffraction gratings
JPH08333672A (en) Production of optical parts