JPS6196595A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPS6196595A
JPS6196595A JP59217806A JP21780684A JPS6196595A JP S6196595 A JPS6196595 A JP S6196595A JP 59217806 A JP59217806 A JP 59217806A JP 21780684 A JP21780684 A JP 21780684A JP S6196595 A JPS6196595 A JP S6196595A
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JP
Japan
Prior art keywords
line
read
transistor
bit line
refreshing
Prior art date
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Pending
Application number
JP59217806A
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Japanese (ja)
Inventor
Tetsuya Iizuka
飯塚 哲哉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Publication of JPS6196595A publication Critical patent/JPS6196595A/en
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Abstract

PURPOSE:To execute the reading action and the refreshing action independently by installing respective word line/bit line for read only/for refreshing only/for write only to a memory cell. CONSTITUTION:A word line WLa corresponding to a refreshing address in accordance with a counter value of the address counter in a control circuit 4 is set to 'H' at the time of refreshing a memory cell 16, a line is selected, a transistor Q1 is connected and a charge of a memory node N is read to a bit line BLb. A change of the electric potential of the line BLb is sent through a sense amplifier of a read/write circuit 15 to the line BLb, and the electric potential of the node N is refreshed. The writing is executed in the same manner. On the other hand, at the time of reading, a line WLa is set to 'H' by the output of a decoder 12, and an electric current of a linear pass of Q3 and Q2 is read by the shape of a signal of a line BLa. As this result, except when a line WLb is 'H' and the charge of the line BLb flows into a node N, the reading can be optionally executed even during the refreshing action.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、ダイナミック型の半導体記憶装置に関する
もので、特にそのリフレッシュ動作に係わるものである
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a dynamic semiconductor memory device, and particularly to its refresh operation.

〔発明の技術的背景〕[Technical background of the invention]

従来、容量素子に電荷を蓄積して情報全記憶するダイナ
ミック製の半導体記憶装置(ダイナミックRAM )は
、例えば第5図に示すように構成されている。図におい
て、WLはワード線、BLはビット線で、これらワード
線WLとビット線BLとの交差位置にはメモリセル11
が配設される。上記メモリセル11は、一端が上記ビッ
ト線BLに接続され、e−)が上記ワード線WLに接続
されて導通制御されるデータ転送層トランジスタQ1 
と、このトランジスタQlの他端と基準電源vRとの間
に接続される記憶用のキヤ・ぐシタC! とから構成さ
れている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a dynamic semiconductor memory device (dynamic RAM), which stores all information by accumulating charge in a capacitive element, is configured as shown in FIG. 5, for example. In the figure, WL is a word line, BL is a bit line, and memory cells 11 are located at the intersections of these word lines WL and bit lines BL.
will be placed. The memory cell 11 has one end connected to the bit line BL, and a data transfer layer transistor Q1 connected to the word line WL at one end (e-) and controlled to be conductive.
and a storage capacitor C! connected between the other end of this transistor Ql and the reference power supply vR! It is composed of.

上記のような構成において、書き込み動作は   。In the above configuration, the write operation is as follows.

次のようにして行なわれる。まず、ワード線WLを選択
された行のみ高レベル(@H”レベル)に設定すること
により、トランジスタQ1を導通させる。′01の書き
込みの場合は、ビット線BLを接地電位v5gに設定す
ることによシメモリセk 117) /−ドNをv88
電位にし、記憶用キャノ4シタC1に′″0′b 書き込む場合は、ビット線BLを1H”レベルに設定し
て記憶ノードNをvIK電位にし、“1″情報を書き込
む。
It is done as follows. First, the transistor Q1 is made conductive by setting the word line WL to a high level (@H" level) only in the selected row. For writing '01, set the bit line BL to the ground potential v5g. Yoshi memory memory k 117) /-do N v88
When writing ``0''b to the storage capacitor C1, the bit line BL is set to the 1H'' level, the storage node N is set to the vIK potential, and ``1'' information is written.

一方、読み出しは、以下に記すようにして行なう。すな
わち、前もってビット線BLを所定の電位に充電(グリ
チャー−))シておき、この後ワード線WLを″″H#
H#レベルしてトランジスタQs t−導通させる。こ
れによって、記憶ノードNの電荷QNとビット線BLの
電荷Q□とが再配分され、ビット線BLの電位が記憶情
報に応じてわずかに変動する。この変動を検知増幅器で
検知して、記ttされていた10mおるいはQljlの
情報に応じて大振幅の信号に増幅して読み出し出力を得
るとともに、ビット線BLを再びvssあるいは@H”
レベルに駆動することにより、記憶ノードNの電位をv
8BまたはV□電位に設定してリフレッシュを行なう。
On the other hand, reading is performed as described below. That is, the bit line BL is charged to a predetermined potential in advance, and then the word line WL is set to ``H#''.
The signal is set to H# level and the transistor Qs t- is made conductive. As a result, the charge QN on the storage node N and the charge Q□ on the bit line BL are redistributed, and the potential on the bit line BL changes slightly depending on the stored information. This fluctuation is detected by a detection amplifier and amplified to a large amplitude signal according to the information of 10m or Qljl that was written down to obtain a readout output, and the bit line BL is again changed to vss or @H.
By driving the potential of the storage node N to the level v
Refresh is performed by setting the potential to 8B or V□.

〔背景技術の問題点〕[Problems with background technology]

ところで、上述したようなダイナミックRAIMでは、
情報の深持状態ではトランジスタQ!が非導通となり、
記憶ノードNは浮遊状態となる。
By the way, in the dynamic RAIM mentioned above,
In a state of deep information retention, transistor Q! becomes non-conductive,
Storage node N becomes floating.

しかし、リーク電流により記憶ノードNの電圧は変化し
て行き、時間とともに情報を失なう。
However, the voltage at the storage node N changes due to leakage current, and information is lost over time.

これを防止するため、定期的に上記のような読み出し、
再書き込み(リフレッシュ)動作を行なう必要がある。
To prevent this, periodically read the above,
It is necessary to perform a rewrite (refresh) operation.

このような動作中は1通常の任意のアドレスの読み出し
動作は行なうことができず、リフレッシュの終了を待っ
てから行なわなければならない。このように、1個のト
ランジスタと1個のキヤ・臂シタとによって構成したダ
イナミックRAMは、高密度で低コストという利点を有
する反面、読み出し動作がリフレッシュ動作によ〕妨げ
られる欠点がある。
During such an operation, a normal read operation of any address cannot be performed, and must be performed after waiting for the completion of refresh. As described above, a dynamic RAM configured with one transistor and one capacitor has the advantage of high density and low cost, but has the disadvantage that the read operation is hindered by the refresh operation.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明は上記のような事情に鑑みてなされたもので、
その目的とするところは、読み出し動作とリフレッシュ
動作とを独立に行なうように構成することKよシ、読み
出し動作がリフレッシュ動作により妨げられないダイナ
ミック凰の半導体記憶装置を提供することである・〔発
明の概要〕 すなわち、この発明においては、上記の目的を達成する
ために、メモリセルに対して、情報の読み出し専用のワ
ード線とビット線、およびリフレッシュ用の読み出し、
書き込み専用のワード線とビット線をそれぞれ設けるこ
とにより、読み出し動作とリフレッシュ動作とを独立に
行なえるように構成したものである。
This invention was made in view of the above circumstances,
The purpose is to provide a dynamic semiconductor memory device configured to perform read operations and refresh operations independently, and in which the read operation is not hindered by the refresh operation. [Summary] That is, in the present invention, in order to achieve the above object, a word line and a bit line dedicated for reading information, and a read line for refreshing,
By providing write-only word lines and bit lines, the structure is such that read operations and refresh operations can be performed independently.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、この発明の一実施例につ込て図面を参照して説明
する。第1図におけるwLa 、 BLILはそれぞれ
、読み出し専用のワード線(行選択線)およびビット線
で、上記ワード線WLaには読み出しアドレスデコーダ
12が、上記ビット線BLaには読み出し回路13がそ
れぞれ接続される◎また、WLb 、 BLbはそれぞ
れリフレッシュ用の読み出し、書き込みのためのワード
9線およびビット線で、上記ワード線wLbには書き込
みおよびリフレッシュ用のアドレス制御回路14が、ビ
ット線BLbにはリフレッシュ用の読み出し書き込み回
路15がそれぞれ接続される。上記ビット線BLbは、
情報転送用トランジスタQ1の一端に接続され、このト
ランジスタQ1の他端が記憶用キャパシタC1の一方の
電極に接続されるとともに、ダートが上記ワード線wL
bに接続される。上記キャノクシタC1の他方の電極は
基準電源VBに接続され、このキャパシタC1と上記ト
ランジスタQ1との接続点(記憶ノードN)は、トラン
ジスタQ2のff−)に接続される。このトランジスタ
Q2の一端は、電源線V、 (例えば接地電位)に接続
ちれ、他端はr−)が上記ワード線WLaに接続される
トランジスタロ3t−介して上記ビット線BLaに接続
される。上記トランジスタQ1〜Q3およびキャノ9シ
タC1は、1つのメモリセル16を構成しており、この
ようなメモリセルが行および列方向に配置されて記憶装
置が構成される。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In FIG. 1, wLa and BLIL are a read-only word line (row selection line) and a bit line, respectively; a read address decoder 12 is connected to the word line WLa, and a read circuit 13 is connected to the bit line BLa. ◎ Also, WLb and BLb are a word line 9 and a bit line for reading and writing for refreshing, respectively.The word line wLb has an address control circuit 14 for writing and refreshing, and the bit line BLb has a line for refreshing. read/write circuits 15 are connected to the read/write circuits 15, respectively. The bit line BLb is
It is connected to one end of the information transfer transistor Q1, the other end of this transistor Q1 is connected to one electrode of the storage capacitor C1, and the dirt is connected to the word line wL.
connected to b. The other electrode of the capacitor C1 is connected to the reference power supply VB, and the connection point (storage node N) between the capacitor C1 and the transistor Q1 is connected to ff-) of the transistor Q2. One end of this transistor Q2 is connected to the power supply line V (for example, ground potential), and the other end is connected to the bit line BLa through a transistor 3t- whose other end (r-) is connected to the word line WLa. . The transistors Q1 to Q3 and the transistor C1 constitute one memory cell 16, and such memory cells are arranged in row and column directions to constitute a memory device.

次に、上記のような構成において動作勿説明する。メモ
リセル16のリフレッシュ動作は次のように行なわれる
。まず、書き込みおよびリフレッシュ用のアドレス制御
回路14に設けられたアドレスカウンタのカウント値に
応じたりフレソシーアドレスに対応するワード線WLa
 t″“H#レベルに設定して行を選択し、トランジス
タQs ’に導通させる。これによって、記憶ノードN
の電荷がビット線BLbに読み出される。このビット線
BLbの電位変化が、リフレッシュ用の読み出し書き込
み回路15の検知増幅回路で増幅され、読み出した情報
に応じた大振幅の信号を再反ビット線BLbに返すこと
により記憶ノードNの電位がリフレッシュされる。また
、誓き込みも上記リフレッシュと同様に行なわれる。
Next, the operation of the above configuration will be explained. The refresh operation of memory cell 16 is performed as follows. First, the word line WLa corresponding to the flexible address is
t″″ is set to H# level to select a row and make transistor Qs′ conductive. By this, storage node N
The charges are read out to bit line BLb. This change in the potential of the bit line BLb is amplified by the detection amplifier circuit of the refresh read/write circuit 15, and a large amplitude signal corresponding to the read information is returned to the bit line BLb, thereby increasing the potential of the storage node N. will be refreshed. In addition, the pledge is also performed in the same manner as the above-mentioned refresh.

一方、通常の読み出し動作は、ワード線WLaを読み出
しアドレスデコーダ12で高電位に設定することにより
、トランジスタQst導通させる。この時、トランジス
タQ!は記憶ノードNの電位に応じて導通あるいは非導
通状態となっているので、トランジスタQ3.Q2の直
流・母スの電流をビット線BLaの信号の形で読み出す
。上記トランジスタQ2のコンダクタンスは、記憶ノー
ドNの電位によって決定されるので、ワード線wtbが
″H#レベルで、ビット線BLbの電荷がノードNに流
入する時を除けば、リフレッシュ動作中であっても読み
出しを自由に行なうことができる。
On the other hand, in a normal read operation, the word line WLa is set to a high potential by the read address decoder 12, thereby making the transistor Qst conductive. At this time, transistor Q! are in a conductive or non-conductive state depending on the potential of storage node N, so that transistors Q3. The direct current/bus current of Q2 is read out in the form of a signal on the bit line BLa. The conductance of the transistor Q2 is determined by the potential of the storage node N. Therefore, except when the word line wtb is at the "H# level" and the charge on the bit line BLb flows into the node N, the conductance of the transistor Q2 is determined by the potential of the storage node N. can also be read freely.

また、上記ビット線BLbの電荷が記憶ノードNに流入
する際の問題は、次のようにして防ぐことができる。す
なわち、リフレッシュ動作において、ワード線wLbの
電位は始めQVからトランジスタQ1あるいはQ2の閾
値電圧V、の1゜5〜2倍程度に上げる。こうすること
により、たとえ記憶ノードNの電位がOvである場合で
も、トランジスタQ1が導通してもノードNの電位は上
記閾値電圧vTの0.5〜1倍程度にしか上昇しない。
Further, the problem when the charge on the bit line BLb flows into the storage node N can be prevented as follows. That is, in the refresh operation, the potential of the word line wLb is initially raised from QV to about 1.5 to 2 times the threshold voltage V of the transistor Q1 or Q2. By doing so, even if the potential of the storage node N is Ov, the potential of the node N will only rise to about 0.5 to 1 times the threshold voltage vT even if the transistor Q1 becomes conductive.

従って、トランジスタQ2は導通せず、ビット線BLa
側からどのようなタイミングで読み出し動作を行なって
も間−題は生じない。
Therefore, transistor Q2 is not conductive and bit line BLa
No problem occurs no matter what timing the read operation is performed from the side.

そして、ビット線BLbの微小な信号を、リフレッシュ
用の読み出し書き込み回路15の検知増幅器で増幅する
とともに、ワード線wLbは中間電位から更に高い電位
に引き上げ、その後ビット線BLbから接地電位あるい
は電源電圧の電位全書き込んでリフレッシュ動作を行な
う。上記ワード線wLbの振幅は最初小さいので、リフ
レッシュ用の読み出しは高速には行なえないが、リフレ
ッシュは数ミリ秒以上に1回行なうというような動作で
あるため、特に問題にはならない。なお、第1図におい
ては、記憶用キャパシタC1の一端を基準電源vRに接
続したが、電源ラインv8に接続しても良い。
Then, the minute signal on the bit line BLb is amplified by the sense amplifier of the refresh read/write circuit 15, and the word line wLb is raised from the intermediate potential to a higher potential, and then the bit line BLb is connected to the ground potential or the power supply voltage. Write all potentials and perform a refresh operation. Since the amplitude of the word line wLb is initially small, refresh reading cannot be performed at high speed, but this is not a particular problem since refresh is performed once every several milliseconds or more. Although one end of the storage capacitor C1 is connected to the reference power supply vR in FIG. 1, it may be connected to the power supply line v8.

このような構成によれば、ダイナミック型半導体記憶装
置における読み出し動作が、リフレッシュ動作によって
妨げられることはほとんどない。しかも、通常の読み出
しは゛d流値全検出する方式であるので、極めてS/N
比が高く、従来の電荷読み出し方式に比べてより大容量
メモリへの応用が可能となる。
According to such a configuration, the read operation in the dynamic semiconductor memory device is hardly hindered by the refresh operation. Moreover, since normal readout is a method of detecting all d current values, the S/N is extremely high.
The ratio is high, making it possible to apply it to larger capacity memories compared to conventional charge readout methods.

第2図は、この発明による半η寥体記憶装置のメモリセ
ルの他の構成13’lを示している。情報転送用トラン
ジスタQ1の一端はピッ) 線BLbに接続され、他端
は記憶用キャパシタC1の一方の電極およびトランジス
タQ4のケ0−トに汲絖されるとともに、r−トはワー
ド線M・bに接続される。上記キヤ・ぐシタC1の他方
の電極は、ワード線WLaに接続される。また、上記ト
ランジスタQ4の一端は、ビット線BLaに接続され、
他端は接地されてメモリセルが構成される。
FIG. 2 shows another structure 13'l of the memory cell of the semi-η-plane storage device according to the present invention. One end of the information transfer transistor Q1 is connected to the pin line BLb, the other end is connected to one electrode of the storage capacitor C1 and the gate of the transistor Q4, and the r-to is connected to the word line M. connected to b. The other electrode of the capacitor C1 is connected to the word line WLa. Further, one end of the transistor Q4 is connected to the bit line BLa,
The other end is grounded to form a memory cell.

このような構成では、ワード線WLaの4位に応じて、
記憶用キャパシタC1とトランジスタQ4のr−)、ソ
ース間の寄生容(t C2との容量結合により、記憶ノ
ードNの′電位が変化する。
In such a configuration, depending on the fourth position of word line WLa,
Due to the capacitive coupling between the storage capacitor C1, the parasitic capacitance (t) between the storage capacitor C1, the transistor Q4 (r-), and the source, the potential of the storage node N changes.

これによって゛、トランジスタQ4の導通抵抗が変化す
るので、ノードNの電位に応じてビット   。
As a result, the conduction resistance of the transistor Q4 changes, so that the bit voltage changes depending on the potential of the node N.

線BLaの電位が変化し、記憶情報全貌み出すことがで
きる。この場合、各キャ・母シタC1+C2の容量比の
設定に応じて、出力レベルの電位幅が決定される。なお
、リフレッシュおよび書き込みは、前記第1図の回路と
同様に行なえば良い。
The potential of the line BLa changes and the entire stored information can be exposed. In this case, the potential width of the output level is determined according to the setting of the capacitance ratio of each capacitor/mother capacitor C1+C2. Note that refreshing and writing may be performed in the same manner as in the circuit shown in FIG.

第3図および第4図はそれぞれ、この発明の半導体記憶
装置におけるメモリセルの他の構成例を示すもので、M
OS )ランジスタの基板バイアス効果を用いて情報を
読み出すようにしている。
3 and 4 respectively show other configuration examples of memory cells in the semiconductor memory device of the present invention.
OS) Information is read out using the substrate bias effect of the transistor.

第3図における情報転送用トランジスタQrの一端は、
ビット線BLb K接続され、他端はトランジスタQs
のr−)に接続されるとともに、ゲ9−トはワード線W
Lbに接続される。上記トランジスタQsの一端は基準
電源vR(例えばIAvCc)に接続され、他端がビッ
ト線BLaに接続されるとともに、パックダートがワー
ド線WLaに接続されて成る。
One end of the information transfer transistor Qr in FIG.
Bit line BLb is connected to K, and the other end is connected to transistor Qs.
r-) of the word line W, and the gate 9- is connected to the word line W
Connected to Lb. One end of the transistor Qs is connected to a reference power supply vR (for example, IAvCc), the other end is connected to a bit line BLa, and the packed dirt is connected to a word line WLa.

上記のような構成において、ワード線WLaの電位をO
V(非選択)〜1/2VCc(選択)に変化すれば、基
板バイアス効果によりトランジスタQ5のオン電圧が変
化する。そして、ワード線WLaが070時はトランジ
スタQSのオフ状態が維持され、l/2vcCレベルの
時は記憶ノードNの電位に応じて上記トランジスタQ5
の導通抵抗が変化する。これによって、ビット&IBL
aがら記憶情報を読み出すことができる。リフレッシュ
および書き込み動作は、前記第1図の場合と同様であり
、トランジスタQsのデート、ソース間の容量に電荷が
蓄積されることにより情報が記憶される。
In the above configuration, the potential of the word line WLa is set to O.
When the voltage changes from V (non-selected) to 1/2 VCc (selected), the on-voltage of transistor Q5 changes due to the substrate bias effect. When the word line WLa is at 070, the transistor QS is maintained in an off state, and when the word line WLa is at the 1/2vcC level, the transistor Q5 is
The conduction resistance of changes. By this, bit & IBL
The stored information can be read from a. The refresh and write operations are similar to those shown in FIG. 1, and information is stored by accumulating charge in the capacitance between the date and source of the transistor Qs.

一方、第4図における情報転送用トランジスタQ1の一
端は、ビット線BLbに接続され、他端はトランジスタ
Q6のパックe−)に接続されるとともに、ダートはワ
ード線WLb K接続される。上記トランジスタQ6の
一端は基準電源VIL(例えば1/2 Vcc)に接続
され、他端がビット線BLaに接続されるとともに、デ
ートがワード線司JJLK接続されて成る。
On the other hand, one end of the information transfer transistor Q1 in FIG. 4 is connected to the bit line BLb, the other end is connected to the pack e-) of the transistor Q6, and the dart is connected to the word line WLbK. One end of the transistor Q6 is connected to the reference power supply VIL (for example, 1/2 Vcc), the other end is connected to the bit line BLa, and the date is connected to the word line JJLK.

上記のような構成において、ワード線WLaの電位をQ
V(非・選択)〜vcc(選択)に変化することにより
、トランジスタQs ’にオン/オフ制脚できる・この
トランジスタQ6がオン状態の時、記憶ノードNの電位
に応じてトランジスタQ6の基板バイアス効果が変化し
、これによってトランジスタQ6の導通抵抗が変化する
。従って、今、ノードNの電位がov〜l/2vccで
あるとすると、ビット線BLaからは、1/2VCC〜
vcCまでの電位振幅の信号が読み出し情報として得ら
れる。リフレッシュおよび書き込み動作は、前記第1図
の場合と同様であり、トランジスタQ6のパックデート
(基板)とソース間の容量に電荷が蓄積さnることによ
りリフレッシュおよび書き込みが行なわnる。
In the above configuration, the potential of the word line WLa is set to Q
By changing from V (non-selected) to vcc (selected), the transistor Qs' can be turned on/off. When this transistor Q6 is in the on state, the substrate bias of the transistor Q6 is changed according to the potential of the storage node N. The effect changes, which changes the conduction resistance of transistor Q6. Therefore, if the potential of node N is now ov~l/2vcc, the potential from bit line BLa is 1/2vcc~l/2vcc.
A signal with a potential amplitude up to vcC is obtained as read information. Refresh and write operations are the same as in the case of FIG. 1, and refresh and write operations are performed by accumulating charge in the capacitance between the pack date (substrate) and source of transistor Q6.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したようにこの発明によれば、読み出し動作と
りフレッシュ動作と全独立に行なうように構成したので
、読み出し動作がリフレッシュ動作に妨げられないダイ
ナミック型の半導体記憶装置が得られる。
As described above, according to the present invention, since the read operation and the refresh operation are performed completely independently, a dynamic semiconductor memory device in which the read operation is not interfered with by the refresh operation can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の一実施例に係、わる半導体記憶装置
を説明するための図、第2図ないし第4図はそれぞれこ
の発明の他の実施例を説明するための回路図、第5図は
従来の半4体記憶装置itを説明するための図である。 12・・・読み出しアドレスデコーダ、13・・・読み
出し回路、14・・・書き込みおよびリフレッシ1用の
アPレス制−回路、15・・・リフレッシュ用の読み出
し書き込み回路、16・・・記憶セル、wLb・・・第
1ワード線、BLb・・・第1ビット線、WLa・・・
第2ワード線、BLa・・・第2ビット線、Q。 ・・・情報転送用トランジスタ、C1・・・記憶用キヤ
・ぐシタ、N・・・記憶ノード%Q2〜Q6・・・トラ
ンジスタ。 出願人代理人  弁理士 鈴 江 武 彦第1図 第2図 第3図 第4 図 R 第 5図
FIG. 1 is a diagram for explaining a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, FIGS. 2 to 4 are circuit diagrams for explaining other embodiments of the invention, and FIG. The figure is a diagram for explaining a conventional semi-quadramid storage device IT. 12... Read address decoder, 13... Read circuit, 14... Address control circuit for writing and refresh 1, 15... Read/write circuit for refreshing, 16... Memory cell, wLb...first word line, BLb...first bit line, WLa...
Second word line, BLa...second bit line, Q. . . . Transistor for information transfer, C1 . Applicant's Representative Patent Attorney Takehiko Suzue Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 4 Figure R Figure 5

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 容量素子に電荷を蓄えて情報を記憶するダイナミック型
の半導体記憶装置において、記憶セルの記憶ノードに電
荷を注入、あるいは記憶ノードから電荷の取り出しを行
なってリフレッシュおよび情報の書き込みを行なうリフ
レッシュ書き込み手段と、このリフレッシュ書き込み手
段の出力に基づいて記憶セルを選択する第1ワード線、
第1ビット線と、上記電荷を蓄積した記憶ノードの電圧
をこれに対応した電流に変換する電圧−電流変換手段と
、この電圧−電流変換手段の出力に基づいて記憶セルの
記憶ノードから情報を読み出すための第2ワード線、第
2ビット線とを具備したことを特徴とする半導体記憶装
置。
In a dynamic semiconductor memory device that stores information by storing charge in a capacitive element, refresh writing means performs refreshing and writing of information by injecting charge into a storage node of a memory cell or extracting charge from a storage node. , a first word line that selects a storage cell based on the output of the refresh writing means;
A first bit line, a voltage-current conversion means for converting the voltage of the storage node storing the charge into a current corresponding to the voltage, and information from the storage node of the storage cell based on the output of the voltage-current conversion means. A semiconductor memory device comprising a second word line and a second bit line for reading.
JP59217806A 1984-10-17 1984-10-17 Semiconductor memory device Pending JPS6196595A (en)

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