JPS6183213A - Disk base and its production - Google Patents

Disk base and its production

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Publication number
JPS6183213A
JPS6183213A JP59205120A JP20512084A JPS6183213A JP S6183213 A JPS6183213 A JP S6183213A JP 59205120 A JP59205120 A JP 59205120A JP 20512084 A JP20512084 A JP 20512084A JP S6183213 A JPS6183213 A JP S6183213A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
methacrylate
disk substrate
acrylate
methacrylic
Prior art date
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Pending
Application number
JP59205120A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Teruo Hasegawa
長谷川 輝夫
Mitsuo Otani
大谷 三夫
Koji Arakawa
荒川 興二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyowa Gas Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kyowa Gas Chemical Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Kyowa Gas Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kyowa Gas Chemical Industry Co Ltd
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Publication of JPS6183213A publication Critical patent/JPS6183213A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To produce an information recording disk having a low double refractive index and excellent mechanical strength, moisture resistance and solvent resistance, by curing a specified meethacrylate prepolymer in a mold. CONSTITUTION:A homogeneous methacrylate prepolymer (of a viscosity at 25 deg.C of 5-200 P) is formed by polymerizing 10-80 wt.% methyl methacrylate (a), 20-80 wt.% specified alkyl methacrylate (b), 0.3-10 wt.% crosslinking monomer (c) and 0-10 wt.% other monoethylenically unsaturated monomers (d) in the presence of a radical polymerization initiator and a chain transfer agent and stopping the reaction by cooling in the midst of the reaction. Said prepolymer and, if necessary, a radical polymerization initiator are poured into a mold and cured by post-polymerization by application of heat and pressure (about 40-100 deg.C, about 10-200 kg, about 5-30 min).

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光デイスク用基板およびその製造方法に関する
ものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an optical disk substrate and a method for manufacturing the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

一般家庭用および業務用の再生専用光学式ビデオディス
ク9基板材料としてメタクリル樹脂が使用され、またデ
ジタルオーディオディスクの基板材料としてポリカーボ
ネート樹脂が使用されているが、近い将来にむけて情報
記録用途としての大容量画像ファイルや大容量コンピュ
ーターメモリー用光ディスクが開発されつつあり、その
基板材料として何が適しているかが業界の最大の関心事
で、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂およびガラ
スが有力視されており、その中でも複屈折率等の光学的
特性、機械的強度、成形加工性からメタクリル樹脂が特
に注目されている。家庭用等の光学式ビデオディスクが
再生専用であり、射出成形法により金型内のスタンパ−
から信号が直接転写され、また二枚のディスク板が接着
剤で貼り合されて製造されているため、吸湿による寸法
□変化、そり等の問題が緩和され、また複屈折率も充分
許容範囲に入る値を有していることから基板材料として
メタクリル樹脂成形材料が用いられている。これに対し
、情報記録用の光ディスクは記録、再生および書き換え
可能であり、より精度の高い信号記録示要求されること
からより低い複屈折率が必要とされ、成形材料中最も低
い複屈折率を有するメタクリル樹脂成形材料からの射出
成形品でも今−歩の感があるとともにディスク用基板へ
の記録薄膜の蒸着、スパッタリング工程あるいは基板の
吸湿防止対策としての低吸湿膜のコーティング工程があ
り、これら工程に先だちディスク基板面上のほこり、ゴ
ミ、油分な有機溶剤で洗浄除去しなければならないこと
、あるいは有機記録材料の塗布溶液の塗布などからディ
スク基板の耐溶剤性の改善が必要とされる。また前述し
たメタクリル樹脂の吸湿性の問題は根本的にポリマーを
構成する単量体の化学構造に起因するものであり、その
意味で吸湿性の少ないポリマーを与える単量体を共重合
することにより改良が試みられており、例を挙げるとメ
タクリル酸メチル−メタクリル酸シクμヘキシル共重合
体(特開昭58−5318号、特開昭58−12775
4号)、メタクリル酸メチル−メタクリル酸ベンジル共
重合体(特開1185B−104939号)があるが、
いずれも低吸湿性膜のコーティング工程を除けるだけの
大巾な改良には致っておらず耐溶剤性の改善が必要とさ
れるとともに、得られた射出成形品の機械的強度が低下
し、複屈折率が増加する傾向にあり、また耐熱性の改良
も残されたままである。
Methacrylic resin is used as the substrate material for playback-only optical video discs for general home and business use, and polycarbonate resin is used as the substrate material for digital audio discs. Optical disks for large-capacity image files and large-capacity computer memories are being developed, and the industry's greatest concern is what is suitable for their substrate materials. Methacrylic resin, polycarbonate resin, and glass are considered likely. Among them, methacrylic resin is attracting particular attention because of its optical properties such as birefringence, mechanical strength, and moldability. Optical video discs for home use, etc. are for playback only, and the stamper inside the mold is made using the injection molding method.
Since the signal is directly transferred from the disc and two discs are bonded together with adhesive, problems such as dimensional changes and warpage due to moisture absorption are alleviated, and the birefringence is well within the allowable range. Methacrylic resin molding material is used as the substrate material because it has a value that falls within the range of On the other hand, optical discs for information recording are capable of recording, reproducing, and rewritable information, and require a lower birefringence because they are required to record and display signals with higher precision. Injection molded products made from methacrylic resin molding materials also have a modern feel, and include the vapor deposition and sputtering process of recording thin films on disk substrates, and the coating process of low moisture absorption films to prevent moisture absorption of substrates. It is necessary to improve the solvent resistance of the disk substrate because of the fact that the surface of the disk substrate must be cleaned with an organic solvent such as dust, dirt, and oil prior to the application of a coating solution of an organic recording material. Furthermore, the above-mentioned problem of hygroscopicity of methacrylic resin is fundamentally caused by the chemical structure of the monomers that make up the polymer. Improvements have been attempted, such as methyl methacrylate-cyclohexyl methacrylate copolymer (JP-A-58-5318, JP-A-58-12775).
No. 4), methyl methacrylate-benzyl methacrylate copolymer (JP 1185B-104939),
In both cases, the improvement has not been so great as to eliminate the coating process with a low hygroscopic film, and it is necessary to improve the solvent resistance, and the mechanical strength of the injection molded product obtained is reduced. The birefringence tends to increase, and improvements in heat resistance remain.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

本発明は前述した従来のメタクリル樹脂の欠点を改善し
、情報記録用としての複屈折率が低(機械的強度を保持
し、かつ耐吸湿、性および耐溶剤性が改善されたメタク
リル系樹脂からなるディスク用基板およびその製造方法
を提供することを目的とする。
The present invention improves the drawbacks of the conventional methacrylic resins mentioned above, and uses methacrylic resins that have a low birefringence (maintains mechanical strength, and has improved moisture absorption resistance, properties, and solvent resistance) for information recording. The present invention aims to provide a disk substrate and a method for manufacturing the same.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

これらの目的はメタクリル酸メチル10〜80重量%、
特定のメタクリル酸アルキルエステル(ム)20〜80
重量%、架橋性単量体(B)0.3〜10重量%および
これらと共重合可能なモノエチレン性不飽和単縫体θ〜
10重量%からなり、粘度が5〜200ボイズ(25℃
、B型粘度計)である均一なメタクリル系部分重合物(
I)を硬化させることにより得られることを特徴とする
ディスク用基板により解決される。
For these purposes, 10 to 80% by weight of methyl methacrylate,
Specific methacrylic acid alkyl ester (mu) 20-80
Weight%, crosslinkable monomer (B) 0.3 to 10% by weight and monoethylenically unsaturated single stitched body θ which can be copolymerized with these
It consists of 10% by weight and has a viscosity of 5 to 200 boids (at 25°C).
, type B viscometer) is a homogeneous methacrylic partial polymer (
The problem is solved by a disk substrate characterized in that it is obtained by curing I).

さらにこれらの目的はメタクリル酸メチルlO〜80f
it%、特定のメタクリル酸アルキルエステル(A)2
0〜80重量%、架橋性単量体(B)0.3〜10重量
%およびこれらと共重合可能なモノエチレン性不飽和単
量体0〜10重t%からなり、粘度が5〜200ボイズ
(25℃、B型粘度計)である均一なメタクリル系部分
重合物(I)をラジカル重合開始剤の存在下成形金型内
で加圧加熱条件下硬化させることを特徴とするディスク
用基板の製造方法によって解決される。
Furthermore, these purposes are methyl methacrylate lO~80f
it%, specific methacrylic acid alkyl ester (A)2
0 to 80% by weight, 0.3 to 10% by weight of the crosslinkable monomer (B), and 0 to 10% by weight of a monoethylenically unsaturated monomer copolymerizable with these, and has a viscosity of 5 to 200% by weight. A disk substrate characterized in that a homogeneous methacrylic partial polymer (I) of BOYS (25° C., B-type viscometer) is cured in a mold under pressure and heat in the presence of a radical polymerization initiator. The problem is solved by the manufacturing method.

本発明でのメタクリル酸メチルの使用割合は10〜80
重量%、より好ましくは30〜70重量%であり、10
重量%未溝では最終的に得られるディスク用基板の機械
的強度および熱変形温度が低下し好ましくなく、また8
0重量%を超えると耐吸湿性が低下し好ましくない。
The ratio of methyl methacrylate used in the present invention is 10 to 80
% by weight, more preferably 30-70% by weight, and 10% by weight.
If % by weight is left ungrooved, the mechanical strength and thermal deformation temperature of the final disk substrate will decrease, which is undesirable.
If it exceeds 0% by weight, the moisture absorption resistance decreases, which is not preferable.

特定のメタクリル酸アルキルエステル(A)としては、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタ
クリル酸イソブチル、メタクリル酸ターシャリブチルお
よびメタクリル酸イソボロニルのうち少くとも1種であ
り、これらメタクリル酸アルキルエステル(A)の使用
割合は20〜80重量%、より好ましくは30〜70重
量%である。20重量%未満では耐吸湿性が低下し、8
0重量%を超えると機械的強度および熱変形温度が低下
し好ましくない。
As the specific methacrylic acid alkyl ester (A),
At least one of ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, isobutyl methacrylate, tert-butyl methacrylate and isobornyl methacrylate, and the proportion of these methacrylic acid alkyl esters (A) used is preferably 20 to 80% by weight, more preferably is 30 to 70% by weight. If it is less than 20% by weight, moisture absorption resistance decreases, and 8
If it exceeds 0% by weight, mechanical strength and heat distortion temperature will decrease, which is not preferable.

架橋性単量体(B)としてはポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート(ポリエチレングリコールの分子
量が170〜1020)、ネオペンチルグリコールジ(
メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)ア
クリレートおよびトリメチルールプロパントリ(メタ)
アクリレートのうち少くとも1種を使用することが必要
であり、使用割合としては0.3〜10重蓋%、より好
ましくは1〜7重量%である。架橋性単量体はその種類
により得られるディスク基板の機械的強度や熱変形温度
に大きく影響し、ポリエチレングリコールジメタクリレ
ートにおいてもポリエチレングリコールの分子量が17
0未満になると得られたディスク用基板は割れやす(著
しく機械的強度が低下し、ジビニルベンゼン、アリルメ
タクリレートもこれと同様の傾向を示す。ポリエチレン
グリコールの分子量が1020を超えるとディスク用基
板の耐熱性が低下し基板への記録薄膜の蒸着が困難とな
り好ましくない。またフェニル基を含む架橋性単量体は
複屈折率を高くすることから好ましくな(、前述した架
橋性単量体(B)の使用割合が0.3重量%未満では耐
溶剤性が改善されず、ディスク用基板の有機溶剤による
クラックが生じやすい。また10重量%を超えると耐溶
剤性、耐熱性は良好であるが得られた基板の複屈折率が
高(なり目的とするディスク用基板としては好ましくな
い。
Examples of the crosslinkable monomer (B) include polyethylene glycol di(meth)acrylate (polyethylene glycol has a molecular weight of 170 to 1020), neopentyl glycol di(
meth)acrylate, pentaerythritol(meth)acrylate and trimethylolpropane tri(meth)
It is necessary to use at least one type of acrylate, and the usage ratio is 0.3 to 10% by weight, more preferably 1 to 7% by weight. The type of crosslinking monomer greatly influences the mechanical strength and heat distortion temperature of the disc substrate obtained, and even in polyethylene glycol dimethacrylate, the molecular weight of polyethylene glycol is 17.
If the molecular weight of polyethylene glycol exceeds 1020, the resulting disk substrate will be easily cracked (mechanical strength will decrease significantly, and divinylbenzene and allyl methacrylate will show a similar tendency. If the molecular weight of polyethylene glycol exceeds 1020, the heat resistance of the disk substrate will decrease. This is undesirable because it makes it difficult to deposit a recording thin film onto the substrate.Furthermore, a crosslinkable monomer containing a phenyl group is undesirable because it increases the birefringence (the above-mentioned crosslinkable monomer (B)). If the usage rate is less than 0.3% by weight, the solvent resistance will not be improved, and cracks will easily occur in the disk substrate due to organic solvents.If it exceeds 10% by weight, the solvent resistance and heat resistance will be good, but there will be no improvement in solvent resistance. The resulting substrate has a high birefringence (which is not desirable as a substrate for the intended disk).

また本発明では上述した単量体と共重合可能なモノエチ
レン性不飽和単量体を必要に応じて0〜lO重1ilt
%の割合で使用してもよい。これらのモノエチレン性不
飽和単量体としてはメタクリル酸n−プロピル、メタク
リル酸n −7’チル、メタクリル酸フェニル、メタク
リル酸ベンジル、メタクリル酸シクロヘキシル等のメタ
クリル酸エステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エ
チル、アクリル酸n−プpピル、アクリル酸n−ブチル
、アクリル酸シクロヘキシル等のアクリル酸エステル類
、スチレン、α−メチルスチレン、P−メチルスチレン
等の芳香族ビニル類あるいはアクリーントリル、メタク
リル酸)リル等のシアン化ビニル類が挙げられる。
In addition, in the present invention, a monoethylenically unsaturated monomer copolymerizable with the above-mentioned monomers is optionally added in an amount of 0 to 1O 1ilt.
% may be used. These monoethylenically unsaturated monomers include methacrylic acid esters such as n-propyl methacrylate, n-7'thyl methacrylate, phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, and cyclohexyl methacrylate, methyl acrylate, and acrylic acid. Acrylic acid esters such as ethyl, n-propyl acrylate, n-butyl acrylate, and cyclohexyl acrylate, aromatic vinyls such as styrene, α-methylstyrene, and p-methylstyrene, or acleantolyl, and methacrylic acid. ) vinyl cyanides such as lyl.

本発明のディスク用基板の製造方法としてはメタクリル
酸メチル、特定のメタクリル酸アルキルエステル(A)
、架橋性単量体(B)およびこれらと共重合可能なモノ
エチレン性不飽和単量体からなる均一なメタクリル系部
分重合物(I)を一旦製造することであり、この部分重
合物(I)は単量体に可溶なポリマーを架橋性単量体を
含む単量体に溶解した部分重合物、あるいは重合途中で
反応を停止させることにより得られる部分重合物であっ
てもよいが、単量体中にポリマーが均一溶解している部
分重合物に限られる。架橋性単量体が共重合されたポリ
マーが単量体に膨潤した状態で含まれる部分重合物ある
いはポリマーが不均一に溶解した状態の部分重合物によ
り得られたディスク用基板は複屈折が非常に高くなると
ともにヘイズも高く目的とするディスク用基板としては
使用不可能である。メタクリル系部分重合物(I)の粘
度は5〜200ボイズ(25℃、B型粘度計)より好ま
しくは30〜150ボイズである。5ポイズ未満ではデ
ィスク基板用成形金型中で硬化させる際、ヒケ、パリを
生じ一定板厚のものが得られに(かったり、気泡が生じ
やす(好ましくない。
The method for manufacturing the disk substrate of the present invention includes methyl methacrylate, a specific alkyl methacrylate ester (A)
, a homogeneous methacrylic partial polymer (I) consisting of a crosslinkable monomer (B) and a monoethylenically unsaturated monomer copolymerizable with these monomers (I) is once produced; ) may be a partial polymer obtained by dissolving a monomer-soluble polymer in a monomer containing a crosslinking monomer, or a partial polymer obtained by stopping the reaction during polymerization, but Limited to partial polymers in which the polymer is uniformly dissolved in the monomer. Disk substrates obtained from partial polymers containing swollen polymers copolymerized with crosslinkable monomers or partial polymers in which polymers are non-uniformly dissolved have extremely high birefringence. In addition to this, the haze is also high, making it impossible to use it as a target disc substrate. The viscosity of the methacrylic partial polymer (I) is preferably 5 to 200 voids (25° C., B-type viscometer), more preferably 30 to 150 voids. If it is less than 5 poise, when it is cured in a mold for forming a disk substrate, sink marks and cracks occur, making it difficult to obtain a plate of a constant thickness, and bubbles tend to occur (unpreferably).

粘度が200ポイズを超えるとラジカル重合開始剤の添
加混合が雌かしくなるばかりか複屈折率が高く・なり好
ましくない。
If the viscosity exceeds 200 poise, not only the addition and mixing of the radical polymerization initiator becomes difficult, but also the birefringence becomes high, which is not preferable.

また本発明のディスク用基板の製造方法のもう1つの特
徴はメタクリル系部分重合物(I)にラジカル重合開始
剤を添加して均一混合した後、所定量をディスク基板用
成形金型に注入して加圧、加熱条件下短時間で硬化させ
ることにより直接ディスク用基板を得ることであり、注
型板または押出板からの切り出し方法とは明らかに異な
り、切り出し時のゴミ、切粉、傷および切削優等ディス
ク用基板としての欠点から解放される。硬化条件として
は使用するメタクリル系部分重合物およびラジカル重合
開始剤の種類、添加量により異なり、圧力としては硬化
に伴い序々に増加させ最終的に10〜200kl?/7
Gより好ましくは50〜150Iq/dGの圧力条件が
適している。また温度条件としては40〜100℃より
好ましくは50〜90℃が適しており、場合によっては
90〜120℃で後重合してもよ(、硬化時間は5〜3
0分程度である。
Another feature of the method for manufacturing a disk substrate of the present invention is that after adding a radical polymerization initiator to the methacrylic partial polymer (I) and mixing uniformly, a predetermined amount is injected into a mold for forming a disk substrate. This method directly obtains a disk substrate by curing it under pressure and heating conditions in a short period of time, which is clearly different from the method of cutting from a cast plate or extrusion plate, and eliminates dust, chips, scratches, and It is freed from the drawbacks of a substrate for cutting-excellent disks. Curing conditions vary depending on the type and amount of the methacrylic partial polymer and radical polymerization initiator used, and the pressure is gradually increased with curing to a final pressure of 10 to 200kl. /7
A pressure condition of 50 to 150 Iq/dG is more suitable. In addition, as for the temperature condition, 50 to 90°C is more suitable than 40 to 100°C, and in some cases post-polymerization may be performed at 90 to 120°C (curing time is 5 to 30°C).
It takes about 0 minutes.

本発明で用いられるラジカル重合開始剤としては特に限
定されることはなく、ラウルイルパーオキサイド、ベン
ゾイルパーオキサイド、ターシャルブチルパーオキシビ
バレート、ターシャルブチルパーオキシネオデカノエー
ト、ターシャルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノ
エート、ターシャルブチルパーオキシイソブチレート、
シイツブρピルバーオキシジカーポネート、ジー2−エ
チルヘキシルパーオキシジカーボネート等の有機過酸化
物系開始剤、2.2′−アゾビスイソブチ−ニトリル、
ジメチル−2,2′−アゾビスイソブチレート、2.2
′−アゾビス(2−メチルブチルニトリル)、2.2′
−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2.
2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレ
ロニトリル)等のアゾ系開始剤およびベンゾイルパーオ
キサイドとN、N−ジ(2−ヒトρキシブpピル)−P
−1ルイジン、N%N−ジメチル−P−)ルイジン、N
1N−ジメチルアンリン等の第三級アミンの併用による
レドックス系開始剤が挙げられる。
The radical polymerization initiator used in the present invention is not particularly limited, and includes lauryl peroxide, benzoyl peroxide, tert-butyl peroxyvivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, and tert-butyl peroxide. Oxy-2-ethylhexanoate, tert-butyl peroxyisobutyrate,
Organic peroxide initiators such as Shiitsubu pyruvar oxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, 2,2'-azobisisobutynitrile,
Dimethyl-2,2'-azobisisobutyrate, 2.2
'-Azobis(2-methylbutylnitrile), 2.2'
-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), 2.
An azo initiator such as 2'-azobis(4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) and benzoyl peroxide and N,N-di(2-human ρxibupyl)-P
-1 luidine, N%N-dimethyl-P-) luidine, N
Examples include redox initiators in combination with tertiary amines such as 1N-dimethylanline.

このようKして得られるディスク用基板は射出成形材料
に比較して分子量が高く、かつ適度に架橋されているた
め耐熱性の点でも優れたものとなり、また本方法ではグ
ループ付スタンパ−を型に取り付けることによるプレグ
ルーブ付ディスク用基板はもちろんのこと、基板上に紫
外線硬化用樹脂を塗布した後グループを付けることも可
能である。
The disk substrate obtained by this method has a higher molecular weight than injection molding materials and is moderately crosslinked, so it has excellent heat resistance. It is of course possible to attach groups to a disc substrate with pre-grooves by attaching it to the substrate, but it is also possible to attach groups after applying an ultraviolet curing resin on the substrate.

なお、本発明のメタクリル系部分重合物(I)には必要
に応じて連鎖移動剤としてのメルカプタン類、染料、紫
外線吸収剤、離型剤等を添加してもよい。
In addition, mercaptans as chain transfer agents, dyes, ultraviolet absorbers, mold release agents, etc. may be added to the methacrylic partial polymer (I) of the present invention, if necessary.

〔実 施 例〕〔Example〕

以下実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。 The present invention will be specifically explained below with reference to Examples.

実施例で用いるメタクリル酸アルキルエステル、架橋性
単量体、モノエチレン性不飽和単量体および有機溶剤は
以下の略号で表わされている。
The methacrylic acid alkyl ester, crosslinking monomer, monoethylenically unsaturated monomer, and organic solvent used in the examples are represented by the following abbreviations.

メタクリル酸メチル(MMA)、メタクリル酸エチル(
EMA)、メタクリル酸イソブpビル〔i−PMA ]
、メタクリル酸インブチル(i−HMA〕、メタクリル
酸ターシャリブチル(t−HMA〕、メタクリル酸イソ
ボロニル(i−BoMA)、ポリエチレングリコールジ
メタクリレート(ポリエチレングリコールの分子i)C
PEGDMム(分子ik> )、ネオペンチルグリコー
ルジメタクリレート[:NPGDMA)、トリメチーー
ルプロパントリメタクリレートCTMPTMA)、ジク
ロルメタン(DCM)、テトラクロロジクIffRエタ
ン(TCDFE)、インプロピルアルコール〔IPA:
l。
Methyl methacrylate (MMA), ethyl methacrylate (
EMA), isobu-pvir methacrylate [i-PMA]
, inbutyl methacrylate (i-HMA), tert-butyl methacrylate (t-HMA), isobornyl methacrylate (i-BoMA), polyethylene glycol dimethacrylate (molecule i of polyethylene glycol) C
PEGDM (molecule ik>), neopentyl glycol dimethacrylate [:NPGDMA), trimethylpropane trimethacrylate CTMPTMA), dichloromethane (DCM), tetrachlorodic IfR ethane (TCDFE), inpropyl alcohol [IPA:
l.

実施例での複屈折率の評価としては、30cmディスク
用基板の中心から1Ocaの箇所での光路差の値である
The evaluation of the birefringence in Examples is the value of the optical path difference at a location 1 Oca from the center of the 30 cm disk substrate.

吸水率は得られた板厚1.2uのディスク用基板を2×
3インチに切出した試験片を恒温恒湿槽内で40℃、9
0%RHの条件下、30日間放置後の重量変化の値であ
る。
The water absorption rate is 2x for the obtained disk substrate with a thickness of 1.2u.
A test piece cut into 3-inch pieces was heated at 40°C in a constant temperature and humidity chamber.
This is the value of weight change after being left for 30 days under the condition of 0% RH.

また実施例での耐溶剤性はガラスシャーレの中にディス
ク用基板を入れ、各々の有機溶剤を含洩させたフランネ
ル布で基板を被い、シャーレカバーをして5分間放置後
の外観変化を判定した。
In addition, the solvent resistance in the examples was evaluated by placing a disk substrate in a glass petri dish, covering the substrate with flannel cloth impregnated with each organic solvent, covering the petri dish, and observing the change in appearance after leaving it for 5 minutes. I judged it.

実施例1〜7、比較例1〜4、 メタクリル酸メチルとメタクリル酸アルキルエステル(
A)の組成を変化させてラジカル重合開始剤および連鎖
移動剤の存在下重合し、重合途中冷却して反応を停止す
ることにより得られたシラツブに架橋性単1体の種類お
よび添加量を変化させて添加混合し均一なメタクリル系
部分重合物とした。この部分重合物100重蓋部に対し
てターシャリブチルパーオキシピバレート0.3重量部
を添加混合し、所定量を80℃に温調した直径3010
円盤型成形金型に注入して加圧下10分間保持して硬化
させ、冷却後板厚1.21mのディスク用基板を得た。
Examples 1 to 7, Comparative Examples 1 to 4, Methyl methacrylate and methacrylic acid alkyl ester (
By changing the composition of A), polymerizing in the presence of a radical polymerization initiator and a chain transfer agent, and cooling during the polymerization to stop the reaction, the type and amount of crosslinkable monomers added to the resulting sillage are changed. The mixture was added and mixed to obtain a uniform methacrylic partial polymer. 0.3 parts by weight of tert-butyl peroxypivalate was added to and mixed with 100 parts of this partially polymerized product, and a predetermined amount was heated to 80°C.
The mixture was injected into a disk-shaped mold and held under pressure for 10 minutes to harden, and after cooling, a disk substrate with a thickness of 1.21 m was obtained.

得られたディスク用基板の評価結果を比較例も含めて第
1表に示す。
The evaluation results of the obtained disk substrates are shown in Table 1, including comparative examples.

比較例5〜6、 メタクリル酸メチル、メタクリル酸アルキルエステル(
ム)および架橋性単量体の組成の異なる単量体混合物を
ラジカル重合開始剤および連鎖移動剤の存在下重合し、
重合途中冷却して反応を停止することにより得られたメ
タクリル系部分重合物100重量部に対してターシャリ
ブチルバーオキシピバレー)0.3重量部を添加混合し
、以下実施例1と同様の方法により直径30w、板厚1
゜2mのディスク用基板を得た。得られたディスク用基
板の評価結果を第1表に示す。
Comparative Examples 5-6, methyl methacrylate, alkyl methacrylate ester (
polymerization of monomer mixtures having different compositions of crosslinkable monomers (m) and crosslinkable monomers in the presence of a radical polymerization initiator and a chain transfer agent,
To 100 parts by weight of the methacrylic partial polymer obtained by cooling during the polymerization to stop the reaction, 0.3 parts by weight of tertiary butyl baroxypivalet was added and mixed, and the same procedure as in Example 1 was carried out. Depending on the method, diameter 30W, plate thickness 1
A substrate for a disk with a diameter of 2 m was obtained. Table 1 shows the evaluation results of the obtained disk substrate.

実施例8〜12、比較例7〜9、 メタクリル酸メチルとメタクリル酸アルキルエステル(
^)の組成を変化させてラジカル重合開始剤および連鎖
移動剤の存在下懸濁重合してポリマービーズを得た。こ
のポリマービーズをメタクリル酸メチル、メタクリル酸
アルキルエステル(A)および架橋性単量体からなる組
成の異なる単量体混合物で完全溶解し均一なメタクリル
系部分重合物とした。この部分重合物100重量部に対
してラウルイルパーオキサイド0.3重量部を添加混合
し、以下実施例1と同様の方法により直径30α、板厚
1.2話のディスク用基板を得た。
Examples 8 to 12, Comparative Examples 7 to 9, Methyl methacrylate and alkyl methacrylate (
Polymer beads were obtained by suspension polymerization in the presence of a radical polymerization initiator and a chain transfer agent while changing the composition of ^). These polymer beads were completely dissolved in a monomer mixture of different compositions consisting of methyl methacrylate, alkyl methacrylate (A), and crosslinkable monomers to form a uniform methacrylic partial polymer. 0.3 parts by weight of Raulyl peroxide was added to 100 parts by weight of this partially polymerized product, and the same method as in Example 1 was used to obtain a disk substrate having a diameter of 30α and a thickness of 1.2 mm.

得られたディスク用基板の評価結果を第2表に示す。The evaluation results of the obtained disk substrates are shown in Table 2.

比較例10〜11 バラグラス1.2iuI板(協和ガス化学工業■製、メ
タクリル樹脂注型板)から切り出した直径301のディ
スク用基板およびバラベラ)F−1000(協和ガス化
学工業■製、メタクリル樹脂成形材料)の射出成形によ
る板厚1.2關、直径30(111のディスク用基板の
評価結果をそれぞれ比較例1Oおよび11として第2表
に示す。
Comparative Examples 10-11 Substrate for a disk with a diameter of 301 cut from a roseglass 1.2iuI plate (manufactured by Kyowa Gas Chemical Industry ■, methacrylic resin casting plate) and rosette F-1000 (manufactured by Kyowa Gas Chemical Industry ■, methacrylic resin molded) The evaluation results of disk substrates having a thickness of 1.2 mm and a diameter of 30 mm (111 mm) are shown in Table 2 as Comparative Examples 1O and 11, respectively, by injection molding of the same material.

−17=−17=

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)メタクリル酸メチル10〜80重量%、特定のメ
タクリル酸アルキルエステル(A)20〜80重量%、
架橋性単量体(B)0.3〜10重量%およびこれらと
共重合可能なモノエチレン性不飽和単量体0〜10重量
%からなり、粘度が5〜200ポイズ(25℃)である
均一なメタクリル系部分重合物( I )を硬化させるこ
とにより得られることを特徴とするディスク用基板。
(1) Methyl methacrylate 10-80% by weight, specific methacrylic acid alkyl ester (A) 20-80% by weight,
Consists of 0.3 to 10% by weight of crosslinkable monomer (B) and 0 to 10% by weight of monoethylenically unsaturated monomer copolymerizable with these, and has a viscosity of 5 to 200 poise (25°C) A disk substrate characterized in that it is obtained by curing a uniform methacrylic partial polymer (I).
(2)特定のメタクリル酸アルキルエステル(A)がメ
タクリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタク
リル酸イソブチル、メタクリル酸ターシャリブチルおよ
びメタクリル酸イソボロニルのうち少くとも1種である
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のディス
ク用基板。
(2) A patent claim characterized in that the specific methacrylic acid alkyl ester (A) is at least one of ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, isobutyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, and isobornyl methacrylate. The disk substrate according to scope 1.
(3)架橋性単量体(B)が、ポリエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート(ポリエチレングリコールの分
子量が170〜1020)、ネオペンチルグリコールジ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレートおよびトリメチロールプロパントリ(
メタ)アクリレートのうち少くとも1種であることを特
徴とする特許請求の範囲第1項に記載のディスク用基板
(3) The crosslinkable monomer (B) is polyethylene glycol di(meth)acrylate (the molecular weight of polyethylene glycol is 170 to 1020), neopentyl glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, and trimethylol Propantry (
The disk substrate according to claim 1, characterized in that the disk substrate is at least one type of meth)acrylate.
(4)メタクリル酸メチル10〜80重量%、特定のメ
タクリル酸アルキルエステル(A)20〜80重量%、
架橋性単量体(B)0.3〜10重量%およびこれらと
共重合可能なモノエチレン性不飽和単量体0〜10重量
%からなり、粘度が5〜200ポイズ(25℃)である
均一なメタクリル系部分重合物( I )をラジカル重合
開始剤の存在下成形金型内で加圧加熱条件下硬化させる
ことを特徴とするディスク用基板の製造方法。
(4) Methyl methacrylate 10 to 80% by weight, specific methacrylic acid alkyl ester (A) 20 to 80% by weight,
Consists of 0.3 to 10% by weight of crosslinkable monomer (B) and 0 to 10% by weight of monoethylenically unsaturated monomer copolymerizable with these, and has a viscosity of 5 to 200 poise (25°C) A method for producing a disk substrate, which comprises curing a uniform methacrylic partial polymer (I) in a mold under pressure and heating conditions in the presence of a radical polymerization initiator.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6313145A (en) * 1986-03-07 1988-01-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Writing/erasing type optical disk
EP0254915A2 (en) * 1986-07-08 1988-02-03 Lumenyte Corporation Method and apparatus for the production of a high temperature plastic light conduit
JPH01163030A (en) * 1987-11-13 1989-06-27 Tokuyama Soda Co Ltd Polymerization method and polymerization device
WO2012161100A1 (en) * 2011-05-23 2012-11-29 パナソニック株式会社 Methacrylic resin composition and molded product thereof

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