JPS6165307A - 非線形近似による写真乳剤製造プロセスの制御方法 - Google Patents
非線形近似による写真乳剤製造プロセスの制御方法Info
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- JPS6165307A JPS6165307A JP59186683A JP18668384A JPS6165307A JP S6165307 A JPS6165307 A JP S6165307A JP 59186683 A JP59186683 A JP 59186683A JP 18668384 A JP18668384 A JP 18668384A JP S6165307 A JPS6165307 A JP S6165307A
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B13/00—Adaptive control systems, i.e. systems automatically adjusting themselves to have a performance which is optimum according to some preassigned criterion
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-
- G—PHYSICS
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- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/015—Apparatus or processes for the preparation of emulsions
-
- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、写真乳剤製造プロセスの制御方法に関し、更
に詳しくは制御]が多変数である写真乳剤製造プロセス
の線形近似による制御方法にmする。
に詳しくは制御]が多変数である写真乳剤製造プロセス
の線形近似による制御方法にmする。
(従来の技術)
印画紙、フィルム等に用いられる写真乳剤とし ′ては
、ハロゲン化銀を主成分とし!、:ものが用いIうれる
。ハロゲン化銀1は、Brlのハロゲン族元素と銀との
化合物であり、写真乳剤として多用される。このような
ハ1]ゲン化銀は、晶析操作法により生産される。晶析
操作としては硝酸銀<A!l N03)と臭化カリウム
(KBr )乃至はヨウ化カリウム(K[)等を加えて
反応晶析ざ1!るものである。
、ハロゲン化銀を主成分とし!、:ものが用いIうれる
。ハロゲン化銀1は、Brlのハロゲン族元素と銀との
化合物であり、写真乳剤として多用される。このような
ハ1]ゲン化銀は、晶析操作法により生産される。晶析
操作としては硝酸銀<A!l N03)と臭化カリウム
(KBr )乃至はヨウ化カリウム(K[)等を加えて
反応晶析ざ1!るものである。
ところで、この種の反応晶析二[稈においては、ハロゲ
ン化銀の結晶倒・そのものを直接測定することができh
い。そこで、ハロゲン化銀の成長と関連している溶液中
の銀瀧酊によりハ1]ゲン化銀の成長を予測Mる。
ン化銀の結晶倒・そのものを直接測定することができh
い。そこで、ハロゲン化銀の成長と関連している溶液中
の銀瀧酊によりハ1]ゲン化銀の成長を予測Mる。
(発明が解決り、ようと覆る間艙点)
ところで、ハロゲン化銀の結晶成長工程においては、結
晶成長のしくみが現象的に−F分に解明されていない部
分もあり、その制御は経験による部分も少くない。又、
この種の結晶成艮工稈においては、ハロゲン化銀の結晶
の成長にはハ[]ゲン化銀濃度、ハロゲン淵度の他、溶
液温度攪拌速度等種々の要素が影響を与える。そして、
これらプ[1セス変置の1つを変化させてもその他のプ
ロセス変量に影響を及ぼす。このような名プロセス倹泪
の1つを変化させると曲のプロレス変川にも影響を及ぼ
す場合の制御(多礎数制御)において、測定すべきプロ
セス変はを計測して、各1iill m litが所望
の値になるようにそれぞれの操作用を同時に目つ自動的
に制御することは従来の制御方法では不可能であった。
晶成長のしくみが現象的に−F分に解明されていない部
分もあり、その制御は経験による部分も少くない。又、
この種の結晶成艮工稈においては、ハロゲン化銀の結晶
の成長にはハ[]ゲン化銀濃度、ハロゲン淵度の他、溶
液温度攪拌速度等種々の要素が影響を与える。そして、
これらプ[1セス変置の1つを変化させてもその他のプ
ロセス変量に影響を及ぼす。このような名プロセス倹泪
の1つを変化させると曲のプロレス変川にも影響を及ぼ
す場合の制御(多礎数制御)において、測定すべきプロ
セス変はを計測して、各1iill m litが所望
の値になるようにそれぞれの操作用を同時に目つ自動的
に制御することは従来の制御方法では不可能であった。
本発明はこのような点に鑑みてなされたもので、その目
的は、システムの状態を非線形近似して、多変数制御の
場合でも容易にフィードバック制御乃至フィードフォワ
ード制御が行えるような制御方法を実現するごとにある
。
的は、システムの状態を非線形近似して、多変数制御の
場合でも容易にフィードバック制御乃至フィードフォワ
ード制御が行えるような制御方法を実現するごとにある
。
(問題点を解決覆るための手段)
前記した問題点を解決でる本発明は、硝酸銀の流量等の
複数のプロセス入力の集合 IJ(k)を U (k ) = [LJl (k ’
) 、 ・ 、 Lノ n(k)] T=
[!LJM T (k)、 牧Jc T (k)I
丁ハロゲン化銀濃度等の複数の状態の集合X(k)
を X(k)−[X+ (k)、 ・・・、Xm(k)
]”銀電位、 I’) I−(等の複数のプロセス出力
の集合Y(k)を Y(k )=[Y+ (k >、・・・、YS<k)
]”と定義し、 システムを次式で与えられる状態方程式で非線形近似し
、 Y(k)=F(k、Y’ (k>、tJ’ (k)
)次に次式で表わされる評価関数J (k )を定義し
、J (k )=ey” (k ) ・O(k )e
y (k >ト△LJc”(k) ・IP (k
)・Δ1lc(k) 但し、 Sv (k ) =Y(k ) −YR(k )ΔU
c (k ) ==Uc (k )−υc(k−1
)O(k ) =diag[Qt (k ) 、−、
Qs (k )コIIi’ (k )=diag[
R+ (k )、 −、Rn (k )
]、F式で表わされる評1i11i関数J(k)を最小
にするようなフィードバック行列Fb(k)及びフィー
ドフォワード行列Ff(k)を求め、これらフィードバ
ック行列Fb(k)及びフィ〜ドフォワード行列Fr(
k)とか1うプラントに入力づる操作量を求めるように
したことを特徴とするものである。
複数のプロセス入力の集合 IJ(k)を U (k ) = [LJl (k ’
) 、 ・ 、 Lノ n(k)] T=
[!LJM T (k)、 牧Jc T (k)I
丁ハロゲン化銀濃度等の複数の状態の集合X(k)
を X(k)−[X+ (k)、 ・・・、Xm(k)
]”銀電位、 I’) I−(等の複数のプロセス出力
の集合Y(k)を Y(k )=[Y+ (k >、・・・、YS<k)
]”と定義し、 システムを次式で与えられる状態方程式で非線形近似し
、 Y(k)=F(k、Y’ (k>、tJ’ (k)
)次に次式で表わされる評価関数J (k )を定義し
、J (k )=ey” (k ) ・O(k )e
y (k >ト△LJc”(k) ・IP (k
)・Δ1lc(k) 但し、 Sv (k ) =Y(k ) −YR(k )ΔU
c (k ) ==Uc (k )−υc(k−1
)O(k ) =diag[Qt (k ) 、−、
Qs (k )コIIi’ (k )=diag[
R+ (k )、 −、Rn (k )
]、F式で表わされる評1i11i関数J(k)を最小
にするようなフィードバック行列Fb(k)及びフィー
ドフォワード行列Ff(k)を求め、これらフィードバ
ック行列Fb(k)及びフィ〜ドフォワード行列Fr(
k)とか1うプラントに入力づる操作量を求めるように
したことを特徴とするものである。
(実施例)
以下、図面を参照しτ本発明の詳細な説明り−る。
図は、本発明を実I/M−!lるための写真乳剤製造プ
ロセスの一実施例を示す構成ブロック図である。
ロセスの一実施例を示す構成ブロック図である。
図において、1はパターン操作MiIJM(k)、制御
目標値YM(k)及び状態量X(k)を受けて各種演算
を行い、系が最適な動作状態となるような操作113(
k)を出力する演算制御部である。
目標値YM(k)及び状態量X(k)を受けて各種演算
を行い、系が最適な動作状態となるような操作113(
k)を出力する演算制御部である。
(JM、YM共にコンビ1−夕に内蔵されているデータ
ベースに格納されているパターンデータの中から本写真
乳剤製造プロセスに用いて最も好適なものを取110ノ
たものの集合である。演算制御部1としては、マイク]
]=1ンピコータが用いられる。
ベースに格納されているパターンデータの中から本写真
乳剤製造プロセスに用いて最も好適なものを取110ノ
たものの集合である。演算制御部1としては、マイク]
]=1ンピコータが用いられる。
2は該演算制御部1の出力11(k)を操作量として受
【プる実プラントであり、該プラント・2でハ[]ゲン
化銀の結晶を成長ざゼる。該実プラント2には、演算制
御部1の演算結果による操f’l”fil [1(k
)が入力されてプラント内の制御ll11 <例えば溶
液中の銀淵欧乃至は銀If☆及びp t−1>を一定に
保つように働く、。
【プる実プラントであり、該プラント・2でハ[]ゲン
化銀の結晶を成長ざゼる。該実プラント2には、演算制
御部1の演算結果による操f’l”fil [1(k
)が入力されてプラント内の制御ll11 <例えば溶
液中の銀淵欧乃至は銀If☆及びp t−1>を一定に
保つように働く、。
プラント2からは、制御結果に、1.るプロレス変吊Y
(k)(例えば前記」)た銀゛電位及びpl」)が出力
される。3はプラン[・2の出力Y(k)及び演算制御
部1の出ツノμI(k)を受けるプラントモデルである
。該プラントニーデル3は複数個の計粋式の集合、にり
成り立っている。そして、該プラントモデル3からは複
数個の状態1nX (k )が出力され、演朴制御部1
に印加されている。14はデータベースに基づく基準パ
ターンYR(++)とプラント出力Y(k)との差分e
yを21Jるフィードバック要素で、該フィードバック
要素4からは制御量フィードバック行列[bが出力され
る。このように構成されたプロセスを用いて、本発明の
詳細な説明する。
(k)(例えば前記」)た銀゛電位及びpl」)が出力
される。3はプラン[・2の出力Y(k)及び演算制御
部1の出ツノμI(k)を受けるプラントモデルである
。該プラントニーデル3は複数個の計粋式の集合、にり
成り立っている。そして、該プラントモデル3からは複
数個の状態1nX (k )が出力され、演朴制御部1
に印加されている。14はデータベースに基づく基準パ
ターンYR(++)とプラント出力Y(k)との差分e
yを21Jるフィードバック要素で、該フィードバック
要素4からは制御量フィードバック行列[bが出力され
る。このように構成されたプロセスを用いて、本発明の
詳細な説明する。
今、硝酸銀の流量等の複数のプロトス入)Jの集合tJ
(k)を次式で表わす。
(k)を次式で表わす。
IJ (k )= [tJ+ (k >、 +++、
Un (k > ’I”=[LJM” (k >
、 UGT (k )11ここで、王は転置行列を示す
記号である。(1)式で表わされる゛マトリクス要素U
+(k)、・・・1ノn(k)は入力の包括的要素を示
しており、n行1列の列ベタ1〜ルで表わさfする。(
2)式で表わされるマトリクスUM” (k >、 L
Jc” (k )が具体的41人力を表わt。KIM”
(k)は、前述したようにコンビ1−夕に内蔵されてい
るデータベースの中から本写真乳剤IJ造プロセスに用
いて最も好適なパターンデータを取出したものの集合で
あり、パターン操作問として演算制御部1に入力される
。Uc”(k)は後述Jる評価関数J(Mを最小にする
J、うな操作量の集合であり、プラント2に加えられる
。これら操作量としT tit、例えばKBrやHA
Cが用いられる。ILIM’(k)。
Un (k > ’I”=[LJM” (k >
、 UGT (k )11ここで、王は転置行列を示す
記号である。(1)式で表わされる゛マトリクス要素U
+(k)、・・・1ノn(k)は入力の包括的要素を示
しており、n行1列の列ベタ1〜ルで表わさfする。(
2)式で表わされるマトリクスUM” (k >、 L
Jc” (k )が具体的41人力を表わt。KIM”
(k)は、前述したようにコンビ1−夕に内蔵されてい
るデータベースの中から本写真乳剤IJ造プロセスに用
いて最も好適なパターンデータを取出したものの集合で
あり、パターン操作問として演算制御部1に入力される
。Uc”(k)は後述Jる評価関数J(Mを最小にする
J、うな操作量の集合であり、プラント2に加えられる
。これら操作量としT tit、例えばKBrやHA
Cが用いられる。ILIM’(k)。
LJC”(k>を次式で表わす。
ILJM (k )・・[UM 、 I(k ) 、
−。
−。
UM、 n −3(k ) ]” (3)眼Jc
(k )−CUc 、 1(k >、・・・。
(k )−CUc 、 1(k >、・・・。
Uc、s (k )]” (4)ここで、操
作量IJc(k)は8個の要素で表わされた8行1列の
列ベク[〜ルであり、LIM(k)は(1)式で表わさ
れる全体の入力要索数0から操作1kLJc(k)の個
数Sを引いたvl(n −s )個の要素で表わされる
(n −s )行1列の列ベクトルである。
作量IJc(k)は8個の要素で表わされた8行1列の
列ベク[〜ルであり、LIM(k)は(1)式で表わさ
れる全体の入力要索数0から操作1kLJc(k)の個
数Sを引いたvl(n −s )個の要素で表わされる
(n −s )行1列の列ベクトルである。
次にプラン1〜2の出力Y(k)を次式で表わす。
Y(k )=[Y+ (k >、・・・、Ys(k)
]”ここで、Y(k)は■c(k)と同様、8行1列の
列ベクトルである。
]”ここで、Y(k)は■c(k)と同様、8行1列の
列ベクトルである。
次に、ハ[iゲン化銀濃度等の複数の状態の集合−〇−
X(k)を次式で表わす。
X(k )−[X+ (k )、 −、Xm (k
):1Tここで、状態量X(k)1.i;m個の要素
で表わされるn行1列の列ベクトルである。X(k)は
、前述したようにプラントモデル3から出力される。
):1Tここで、状態量X(k)1.i;m個の要素
で表わされるn行1列の列ベクトルである。X(k)は
、前述したようにプラントモデル3から出力される。
次に、銀電位等の複数の目標値(プロ1?スが)0従ず
べき値)の集合Yh(k)を次式で表わず。
べき値)の集合Yh(k)を次式で表わず。
YM (k )=[YM、 r (k >、・・・。
YM、S (k )]T <7)ここで、目標
値YM(k)は8個の要素で表わされる8行1列の列ベ
クトルであり、その要素は前述したようにデータベース
の中から最適なパターンとして予め抽出しておく。目標
値YM(k)は演算制御部1に与えられる。
値YM(k)は8個の要素で表わされる8行1列の列ベ
クトルであり、その要素は前述したようにデータベース
の中から最適なパターンとして予め抽出しておく。目標
値YM(k)は演算制御部1に与えられる。
次に、システムを次式で表わされる非線形の状態方程式
「で近似する。
「で近似する。
Y(k)=F(k、Y’ (k)、II’ (k)
>(8)式で、[は出力Y(k)が、Y’(k)。
>(8)式で、[は出力Y(k)が、Y’(k)。
tJ’(k)の関数であることを、しかも非線形関数で
あることを示している。
あることを示している。
ここで、Y’(k)は経時変化を考慮しlζ出力Y(+
+)の集合であり次式で与λられる。
+)の集合であり次式で与λられる。
Y’ (k)−[Y(k)、Y(k−1>、・・・。
Y (k−/v ) ](9)
又、(J’(k)は経時変化を考慮しI、二人力II(
k)の集合であり次式で与λられる。
k)の集合であり次式で与λられる。
Ll’ (k> −[J(k)、tl(k−1
m ・・・ 。
m ・・・ 。
II (1呪−/u)] (10)F式で、/
V、11は無駄時間を示している。
V、11は無駄時間を示している。
この時、次式でりえられる評価関数J (k )を考え
る。
る。
J (k ) =ev” (k ) ・G (k )
−ev (k )4−ΔtJeT (m> ・P(
ハ) ・ΔKlc(k) (11)ここで、e
y (k )は、前述したようにプラン1−2の出力Y
(k)と基準パターンγR(++)との差分てあり、次
式で表わされる。。
−ev (k )4−ΔtJeT (m> ・P(
ハ) ・ΔKlc(k) (11)ここで、e
y (k )は、前述したようにプラン1−2の出力Y
(k)と基準パターンγR(++)との差分てあり、次
式で表わされる。。
ey (k )=Y(k )−YR(k ) (1
2)一方、八〇〇(k)は時刻kにお【プる操作間[1
c(k)と時刻(k−11における操作ω1Jc(k−
1)との差分てあり、次式で与えらねる。
2)一方、八〇〇(k)は時刻kにお【プる操作間[1
c(k)と時刻(k−11における操作ω1Jc(k−
1)との差分てあり、次式で与えらねる。
ΔUc (k ) =Ljc (k )〜Uc(k
−1)if)(k)、E(k)は重み行列であり、0<
k)は出力誤差重み行列、E’(k)は操作変化重み行
列であり、それぞれ次式のように定義される。
−1)if)(k)、E(k)は重み行列であり、0<
k)は出力誤差重み行列、E’(k)は操作変化重み行
列であり、それぞれ次式のように定義される。
Q (k ) −(Iia(l[Qt (k > 、
−、OS (k >コF (k )”diag[R
+ (k >、 +・、 Rn (k )]但し、
diagは対角行列を示づ。(11)式の右)72の第
1項は誤差evに関する評価部であり、第2項は操作量
の変化が(11)式で表わされる場合において、これら
操作間の変化を最小限に抑えるためのものである。
−、OS (k >コF (k )”diag[R
+ (k >、 +・、 Rn (k )]但し、
diagは対角行列を示づ。(11)式の右)72の第
1項は誤差evに関する評価部であり、第2項は操作量
の変化が(11)式で表わされる場合において、これら
操作間の変化を最小限に抑えるためのものである。
図に示すプロセスの各工程を上j23シたように数式化
し、(11)式で表わされる評価関数J(k)を最小に
するようなフィードバック行列#b(k)及びフィード
フォワード行列:IIf (k)を演算により求める1
、シかる後、次式により操作11(J’ c(k)を求
め、プラント2に入力する新I、:な操作量とする。
し、(11)式で表わされる評価関数J(k)を最小に
するようなフィードバック行列#b(k)及びフィード
フォワード行列:IIf (k)を演算により求める1
、シかる後、次式により操作11(J’ c(k)を求
め、プラント2に入力する新I、:な操作量とする。
亀1’ c (k ) −1ie 、 fb (k
)+ljO,チf(k) (16) ここで、(Ic 、 ftb (k )はフィードバ
ック操作量、(Jc、すf(k)1.1フィードフォワ
ード操作りであり、何れも8行1列の列ベク[・ルであ
る。
)+ljO,チf(k) (16) ここで、(Ic 、 ftb (k )はフィードバ
ック操作量、(Jc、すf(k)1.1フィードフォワ
ード操作りであり、何れも8行1列の列ベク[・ルであ
る。
1)C,チb(k)、旺Jc、if (k )はそれ
ぞれ次式で表わされる。
ぞれ次式で表わされる。
11c 、 fb (k )=・「b(k)・Y(k
>+−FbM (k) ・Y(k) 十Sh (k ) (17) (Jc 、 if (k > =Fl’ (k )
・Y(k)+ll’fM(k)・Y (k ) +−5r(k) (18) ここで、l’b(k)は制御量フィードバック行列、F
b M <k )Calパターンフィードバック行列、
5ly(k)Iま定数フィードバック行列、1f(k>
は制御量フィードフォワード行列、Ff M (k )
はパターンフィードフォワード行列、5f(k)は定数
フィードフォワード行列であり、これらは何れも8行1
列の列ベクトルであり、それぞれ以下に示づ式で表わさ
れる。
>+−FbM (k) ・Y(k) 十Sh (k ) (17) (Jc 、 if (k > =Fl’ (k )
・Y(k)+ll’fM(k)・Y (k ) +−5r(k) (18) ここで、l’b(k)は制御量フィードバック行列、F
b M <k )Calパターンフィードバック行列、
5ly(k)Iま定数フィードバック行列、1f(k>
は制御量フィードフォワード行列、Ff M (k )
はパターンフィードフォワード行列、5f(k)は定数
フィードフォワード行列であり、これらは何れも8行1
列の列ベクトルであり、それぞれ以下に示づ式で表わさ
れる。
Fb(k)=
[Fb、1(k>、 ・・・ 、Fb、5(k)
コ TFt)r+(k)=・ [FbM、1 (k >、・・・、FbM、s (k
)]”5b(k)= [Sb、1(k)、・・・、Sb、5(k)]丁’Ff
(k)= [Ff、1(k>、・・・、Ff、5(k)]”FfM
(k)= [Ff M、 1 (k >、・・・、FfM、s
(k)]”5f(k)= [Sf、1(k>、・・・、Sf、5(k)]”(発明
の効果) 以上詳細に説明したように、本発明によれば、プロセス
の状態を非線形モデルで数式化し、この数式化したプラ
ント・rデルに基づいて演算制御を行うことにJ7す、
従来の方法では不可能であった多変数制御を行うことが
できる。従って、本発明によればハロゲン化銀の結晶成
長過程を最適な状態に一1ントー【]−ルすることがで
きる。
コ TFt)r+(k)=・ [FbM、1 (k >、・・・、FbM、s (k
)]”5b(k)= [Sb、1(k)、・・・、Sb、5(k)]丁’Ff
(k)= [Ff、1(k>、・・・、Ff、5(k)]”FfM
(k)= [Ff M、 1 (k >、・・・、FfM、s
(k)]”5f(k)= [Sf、1(k>、・・・、Sf、5(k)]”(発明
の効果) 以上詳細に説明したように、本発明によれば、プロセス
の状態を非線形モデルで数式化し、この数式化したプラ
ント・rデルに基づいて演算制御を行うことにJ7す、
従来の方法では不可能であった多変数制御を行うことが
できる。従って、本発明によればハロゲン化銀の結晶成
長過程を最適な状態に一1ントー【]−ルすることがで
きる。
図は本発明を実施するだめの写真乳剤III造プ[1セ
スの一実施例を示す構成ブ[]ツク図である。 1・・・演0制御部 2・・・プラントS3・・・
ブラントモデル 4・・・フィードバック要素 特許出願人 小西六写真工業株式会社代 埋 人
弁理士 井 島 藤 治外1名
スの一実施例を示す構成ブ[]ツク図である。 1・・・演0制御部 2・・・プラントS3・・・
ブラントモデル 4・・・フィードバック要素 特許出願人 小西六写真工業株式会社代 埋 人
弁理士 井 島 藤 治外1名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 硝酸銀の流量等の複数のプロセス入力の集合■(k)を ■(k)=[U_1(k)、・・・、U_n(k)]^
T−[■_M^T(k)、■_C^T(k)]^Tハロ
ゲン化銀濃度等の複数の状態の集合■(k)を ■(k)=[X_1(k)、・・・、X_m(k)]^
T銀電位、pH等の複数のプロセス出力の集合■(k)
を ■(k)=[Y_1(k)、・・・、Y_S(k)]^
Tと定義し、 システムを次式で与えられる状態方程式で非線形近似し
、 ■(k)=■(k、■′(k)、■′(k))次に次式
で表わされる評価関数J(k)を定義し、J(k)=■
_Y^T(k)・■(k)■_Y(k)+△■_C^T
(k)・■(k) ・△■_C(k) 但し、 ■_Y(k)=■(k)−■_R(k) △■_C(k)=■_C(k)−■_C(k−1)■(
k)=diag[Q_1(k)、・・・、Q_S(k)
]■(k)=diag[R_1(k)、・・・、R_n
(k)]上式で表わされる評価関数J(k)を最小にす
るようなフィードバック行列■_b(k)及びフィード
フォワード行列■_f(k)を求め、これらフィードバ
ック行列■_b(k)及びフィードフォワード行列■_
f(k)とからプラントに入力する操作量を求めるよう
にしたことを特徴とする非線形近似による写真乳剤製造
プロセスの制御方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59186683A JPS6165307A (ja) | 1984-09-05 | 1984-09-05 | 非線形近似による写真乳剤製造プロセスの制御方法 |
EP85111176A EP0176794A3 (en) | 1984-09-05 | 1985-09-04 | Method of controlling photographic emulsion manufacturing process by non-linear approximation |
US07/478,034 US5034312A (en) | 1984-09-05 | 1990-02-09 | Method of controlling photographic emulsion manufacturing process by non-linear approximation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59186683A JPS6165307A (ja) | 1984-09-05 | 1984-09-05 | 非線形近似による写真乳剤製造プロセスの制御方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6165307A true JPS6165307A (ja) | 1986-04-03 |
Family
ID=16192810
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59186683A Pending JPS6165307A (ja) | 1984-09-05 | 1984-09-05 | 非線形近似による写真乳剤製造プロセスの制御方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5034312A (ja) |
EP (1) | EP0176794A3 (ja) |
JP (1) | JPS6165307A (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5406488A (en) * | 1987-05-06 | 1995-04-11 | The Secretary Of State For Defence In Her Britannic Majesty's Government Of The United Kingdom Of Great Britain And Northern Ireland | Correction of errors in autopilots |
US5248577A (en) * | 1990-08-13 | 1993-09-28 | Eastman Kodak Company | Reactant concentration control method and apparatus for precipitation reactions |
JPH04308901A (ja) * | 1991-04-05 | 1992-10-30 | Nec Corp | 状態推定器と磁気ディスク装置の位置決め制御回路 |
DE4202578C2 (de) * | 1992-01-30 | 1995-06-08 | Deutsche Forsch Luft Raumfahrt | Verfahren und Vorrichtung zur Identifikation von dynamischen Kenngrößen |
US5448147A (en) * | 1992-05-08 | 1995-09-05 | Tel-Varian Limited | Selectable feedback control system |
AU658066B2 (en) * | 1992-09-10 | 1995-03-30 | Deere & Company | Neural network based control system |
FR2700026B1 (fr) * | 1992-12-30 | 1995-02-10 | Framatome Sa | Procédé et dispositif de réglage d'un processus. |
US5328787A (en) * | 1993-05-24 | 1994-07-12 | Eastman Kodak Company | Method for assessing and controlling the sensitometric characteristics of photographic products |
DE59409683D1 (de) * | 1993-07-05 | 2001-04-19 | Siemens Ag | Verfahren zur bestimmung optimaler werte für stellgrössen eines technischen systems |
US5422825A (en) * | 1993-08-17 | 1995-06-06 | Eastman Kodak Company | System for monitoring and controlling supersaturation in AgX precipitations |
US5772895A (en) * | 1996-02-15 | 1998-06-30 | Eastman Kodak Company | System for controlling the composition of color coupler on a real-time basis |
JP4551515B2 (ja) * | 1998-10-07 | 2010-09-29 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造装置およびその温度制御方法 |
US6721608B1 (en) | 2000-03-20 | 2004-04-13 | Mark L. Rutherford | Partitioned control structure |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA675768A (en) * | 1963-12-10 | Dersch Fritz | Method of preparing photographic emulsions | |
FR2135188B1 (ja) * | 1971-05-03 | 1974-07-26 | Ilford Ltd | |
US4184877A (en) * | 1976-06-10 | 1980-01-22 | Ciba-Geigy Ag | Process for the manufacture of photographic silver halide emulsions containing silver halide crystals of the twinned type |
US4378427A (en) * | 1980-09-11 | 1983-03-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for producing a long scale direct-positive photographic emulsion |
-
1984
- 1984-09-05 JP JP59186683A patent/JPS6165307A/ja active Pending
-
1985
- 1985-09-04 EP EP85111176A patent/EP0176794A3/en not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-02-09 US US07/478,034 patent/US5034312A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0176794A2 (en) | 1986-04-09 |
US5034312A (en) | 1991-07-23 |
EP0176794A3 (en) | 1988-01-07 |
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