JPS6161675A - Control system for varnish device - Google Patents

Control system for varnish device

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Publication number
JPS6161675A
JPS6161675A JP18332884A JP18332884A JPS6161675A JP S6161675 A JPS6161675 A JP S6161675A JP 18332884 A JP18332884 A JP 18332884A JP 18332884 A JP18332884 A JP 18332884A JP S6161675 A JPS6161675 A JP S6161675A
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JP
Japan
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varnish
manipulated variable
temperature
control method
output
Prior art date
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Pending
Application number
JP18332884A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Kagawa
香川 和夫
Yoshinori Nakamura
中村 佳則
Kazuhiro Kuwamoto
桑本 和博
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SWCC Corp
Original Assignee
Showa Electric Wire and Cable Co
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Publication date
Application filed by Showa Electric Wire and Cable Co filed Critical Showa Electric Wire and Cable Co
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Publication of JPS6161675A publication Critical patent/JPS6161675A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To make possible the simultaneous and automatic control of manipulated variable such as the heating temp. of a heater in such a manner that the respective controlled variables attain respectively desired values in the stage executing the multi-variable control of a varnish device. CONSTITUTION:The initial value of integral control action is first set at the measured quantities Y1-Y3 including the controlled variables Y1, Y2 by operat ing the varnish device 1. Then a CPU reads the data of the measuring quantities Y1-Y3 including the target values YR1-YR2 and controlled variables Y1, Y2. The computing element C, feedback element F and feed forward element N of the CPU make computation in accordance with said data in such a manner that the respective manipulated variable outputs U'c, UF, UN attain prescribed rangevalue. The manipulated variables U'c1, U'c2 are subjected to integral control action until the differences epsilon1, epsilon2 between the target values and the controlled variables are made zero. The manipulated variable U=Uc-UF+UN is calcu lated in such a manner that the controlled variables are approximated as far as possible to the target values and the result thereof is outputted to a con trolled system 1.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はワニス装置の制御方式に関し、特に装置内の温
度のような制御量が多変数であるワニス装置の制御方式
に係わる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a control method for a varnishing device, and particularly to a control method for a varnishing device in which a controlled variable such as the temperature inside the device is multivariable.

従来から、銅線、アルミ線などに絶縁塗料を焼き付けて
、電動モータ等に用いる絶縁電線を製造するための熱風
循環式エナメル線焼付炉が知られている。この焼付炉は
、炉に送給される電線に予じめ塗付されている焼付用ワ
ニス(例えばエステル系、あるいはホルマリン系樹脂)
の溶剤を1w。
BACKGROUND ART A hot air circulation type enamelled wire baking furnace for producing insulated wires used in electric motors and the like by baking insulating paint on copper wires, aluminum wires, etc. has been known. This baking furnace uses a baking varnish (for example, ester-based or formalin-based resin) that is applied in advance to the electric wires that are fed to the furnace.
1w of solvent.

数のダンパーを介して循環、供給される高温ガスにより
燃焼させ焼付ける炉である。そしてこの炉に付属するワ
ニス装置によりワニスを塗付し、再び焼付炉によって焼
付けるという工程を複数回繰り返えすことにより仕上が
り外径の均一なエナメル線を得ていた。この工程におい
て、エナメル線の仕上がり外径を均一にするには、ワニ
ス装置における塗付時のワニス温度を常に一定に制御し
なければならない。従来1行なわれているワニス装置内
のワニス温度の制御方法は、ワニス塗付装置内に設けた
加熱装置のヒーターをP I D制御するか、あるいは
ワニス塗付装置側にワニスタンクを設け、このタンク内
のワニスを加熱する熱媒体の温度を温度調節計によって
測定し、熱媒体の加熱ヒータをPID制御する方法によ
って行なわれている。すなわち、第1図に示すように、
ワニス装置1はエナメル線焼付炉から送給される電線上
にワニス2を塗付するワニス塗付装置3と、この装置3
と連通するタンク4内のワニス5を循環させ。
This is a furnace that burns and bakes using high-temperature gas that is circulated and supplied through several dampers. The process of applying varnish using a varnishing device attached to this furnace and baking it again using a baking furnace was repeated several times to obtain an enameled wire with a uniform finished outer diameter. In this process, in order to make the finished outer diameter of the enameled wire uniform, the temperature of the varnish during application in the varnishing device must be constantly controlled to be constant. One conventional method for controlling the varnish temperature in a varnishing device is to perform PID control on the heater of a heating device installed in the varnishing device, or to provide a varnish tank on the varnishing device side, and to control the varnish temperature in the varnishing device. The temperature of the heat medium that heats the varnish inside is measured using a temperature controller, and the heater for the heat medium is controlled by PID. That is, as shown in Figure 1,
The varnishing device 1 includes a varnishing device 3 that applies varnish 2 onto electric wires fed from an enameled wire baking furnace, and this device 3.
The varnish 5 in the tank 4 communicating with the tank 4 is circulated.

かつ装置3へ補給するバイブロおよびポンプ7と。and a vibro and pump 7 for replenishing the device 3.

タンク4内のワニス5を所定の温度に保つため、タンク
4を囲繞して設けた熱媒体(水あるいは油)8を加熱す
るヒータ9aを内蔵する加熱炉10とから構成される。
In order to maintain the varnish 5 in the tank 4 at a predetermined temperature, the heating furnace 10 includes a heater 9a that heats a heat medium (water or oil) 8 surrounding the tank 4.

そして、ワニス2の温度1゛1を常に一定にしてワニス
粘度、濃度等を調整してワニスを塗付装置3とタンク4
との間を矢示の方向に循環させ、ワニス2を電線に塗付
している。ワニスの温度制御は、塗付装置3内のワニス
2の温度T1を熱電対11により、タンク4内のワニス
4の温度゛r2を熱電対12により、熱媒体8の温度T
3を熱電対13によりそれぞれ検出し、lL度TIが常
時一定となるように熱媒体8を加熱するヒータ9aを以
下に述べるようにPID制御している。すなわち、予じ
め設定する塗付装置3のワニス温度をSlとし、温度T
Iと温度S1との差ε1により工動作でタンク4内のワ
ニス5の設定温度をS、とし、温度T2と温度S7との
差を2により、PI動作で熱媒体8の設定温度を89と
し、温度T3温度S3との差ε3により、P I D動
作でヒータ9の操作量をI10コントローラ14でA/
D変換する。そしてCI’tl15へ供給され、演算制
御された信号が再びI10コントローラ14を介した点
線で示すようにヒーター9へ入力され、温度T1が常に
一定となるように制御される。
Then, the varnish is applied to the coating device 3 and the tank 4 by keeping the temperature 1 of the varnish 2 constant and adjusting the varnish viscosity, concentration, etc.
The varnish 2 is applied to the wire by circulating it between the wires in the direction of the arrow. The temperature of the varnish is controlled by controlling the temperature T1 of the varnish 2 in the coating device 3 using a thermocouple 11, controlling the temperature R2 of the varnish 4 in the tank 4 using a thermocouple 12, and controlling the temperature T1 of the varnish 2 in the coating device 3 using a thermocouple 12.
3 is detected by the thermocouple 13, and the heater 9a that heats the heat medium 8 is PID-controlled as described below so that the 1L degree TI is always constant. That is, the varnish temperature of the coating device 3 set in advance is Sl, and the temperature T
Due to the difference ε1 between I and temperature S1, the set temperature of the varnish 5 in the tank 4 is set to S in the construction operation, and the set temperature of the heat medium 8 is set to 89 in the PI operation due to the difference between the temperature T2 and the temperature S7 is set to 2. , temperature T3 and temperature S3, ε3, I10 controller 14 changes the operation amount of heater 9 by PID operation to A/
D-convert. The signal is then supplied to the CI'tl 15 and subjected to arithmetic control. The signal is again input to the heater 9 as shown by the dotted line via the I10 controller 14, and is controlled so that the temperature T1 is always constant.

ところで、上述のようなワニス加熱手段を用いた場合、
前者では加熱部周辺と、加熱部周辺以外の部分との間に
温度分布のばらつきが生じ、ワニスの正常な塗布が行な
われず、従ってエナメル線の仕上がり外径が不均一にな
る。また後者では、タンク4内のワニス5の温度T2に
もとづき熱媒体8の加熱ヒータ9を制御しているが、熱
の伝導時間の差などにより遅れが生じ、温度T8が異常
に上昇して温度T1を正確に設定することがむずかしく
なる。また、温度T3を直接に制御していないため経験
的に温度T3と温度T2との関係を外部(例えば夏、冬
の季節など)の条件に応じて求め。
By the way, when using the above-mentioned varnish heating means,
In the former case, variations in temperature distribution occur between the periphery of the heating part and the area other than the periphery of the heating part, and the varnish cannot be applied properly, resulting in uneven finished outer diameter of the enameled wire. In the latter case, the heater 9 of the heat medium 8 is controlled based on the temperature T2 of the varnish 5 in the tank 4, but there is a delay due to differences in heat conduction time, etc., and the temperature T8 rises abnormally. It becomes difficult to set T1 accurately. Furthermore, since the temperature T3 is not directly controlled, the relationship between the temperatures T3 and T2 is determined empirically according to external conditions (for example, summer, winter seasons, etc.).

温度T8を設定しなければ、ワニス2の温度T。If temperature T8 is not set, the temperature T of varnish 2.

を一定に保つことができない。その結果、エナメル線の
仕上がり外径が不均一になる。また、塗付されるt線の
線径は0.2〜2mmφ程度の多種におよぶ。従ってワ
ニス装置lに送給される線速は線径によって異なり、し
かもワニスの種類によっても異なる。つまり、このよう
な事情の下でのPID制御法は温度T3を正確に制御で
きても温度T2゜温度T1を制御できない、また外部の
条件等により温度’r、、温度−[+、が左右され、温
度1′1を一定値に調節することができない等の難点を
相伴している6特に、塗布装置3内の温度゛1゛1のみ
で制御しようとすると1時定数が極端に大きくなり。
cannot be kept constant. As a result, the finished outer diameter of the enameled wire becomes uneven. Further, the wire diameter of the applied T-line ranges from about 0.2 to 2 mmφ. Therefore, the speed of the wire fed to the varnishing device 1 varies depending on the wire diameter and also varies depending on the type of varnish. In other words, under these circumstances, the PID control method can accurately control temperature T3, but cannot control temperature T2゜temperature T1, and temperature 'r, temperature -[+, may vary depending on external conditions, etc. 6. In particular, when trying to control only the temperature 1'1 in the coating device 3, the 1 time constant becomes extremely large. .

制御性が甚しく悪化する。Controllability deteriorates significantly.

これは測定点温度の何れか1つを所望の値に制御するた
め、例えばヒーター9を調整すれば、当該点の温度はそ
の所望値に調節できたとしても他の点における温度もこ
とごとく変イヒしてしまうからである。
This is because the temperature at one of the measurement points is controlled to a desired value, so if the heater 9 is adjusted, for example, even if the temperature at that point can be adjusted to the desired value, the temperature at all other points will also change. This is because you end up doing it.

すな4つも、複数の制御量(本実施例の場合、タンク4
.加熱炉10における温度)を含む複数の測定量(本実
施例の場合、タンク4.加熱炉10゜塗付装置3におけ
る温度)が複数の操作量(ヒータ9a−cの加熱温度)
のいずれか1つを操作した時、それぞれ変動する場合の
制御(多変数制御)においで、測定量の測定により各制
御量が所望の値になるようにそれぞれの操作量を同時に
かつ自動的に制御することは従来技術では不可能であっ
た。
In other words, four control variables (in the case of this embodiment, tank 4
.. A plurality of measured quantities (in the case of this example, the temperature in the tank 4.heating furnace 10° coating device 3) including the temperature in the heating furnace 10) is a plurality of manipulated variables (the heating temperature of the heaters 9a-c).
In control (multivariable control) where each variable changes when one of them is operated, each manipulated variable is simultaneously and automatically adjusted so that each controlled variable becomes the desired value by measuring the measured amount. control was not possible with the prior art.

また、このような多変数の制御量と操作量の相関関係で
、かかる各対の制御量−操作量に依る制御方式では、制
御量の安定性が悪く、かつ応答性に劣るという難点があ
った。従って、本発明の主目的は、ワニス装はの多変数
制御を行なうにあたり、各装置内の温度のような制御量
を含む測定量の検出要素により、各制御量がそれぞれ所
望の値(設定目標値)になるようにヒーターの加熱温度
のような操作量を同時に、かつ自動的に制御するワニス
装置の制御方式(系)を提供することである。
Furthermore, due to the correlation between the controlled variable and the manipulated variable of multiple variables, a control method that relies on each pair of controlled variable and manipulated variable has the disadvantage that the stability of the controlled variable is poor and the responsiveness is poor. Ta. Therefore, the main purpose of the present invention is to perform multivariable control of a varnish system by detecting elements for measuring variables including controlled variables such as temperature in each device, so that each controlled variable can be set to a desired value (set target value). It is an object of the present invention to provide a control method (system) for a varnish device that simultaneously and automatically controls manipulated variables such as the heating temperature of a heater so that the heating temperature of the heater reaches the desired value.

本発明の他の目的は、かかる方式において安定性および
(または)応答性の一段と向上した制御手段を毘具する
ことである。
Another object of the invention is to provide control means with improved stability and/or responsiveness in such a system.

以下、本発明によるワニス装置の制御方式をワニス塗付
装置の温度制御に適用した実施例につき図面にもとづき
詳述する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment in which the varnish apparatus control method according to the present invention is applied to temperature control of a varnish application apparatus will be described in detail below with reference to the drawings.

先ず本実施例では、第1図に示すように熱媒体加熱炉1
0.塗布装置3にはヒータ9a、9bが設けられている
。そして塗付装置3.タンク4゜加熱炉10にはそれぞ
れ熱電対11.12.13が、またポンプ7には流量計
14が設けである6そして各熱電対からは、出力信号(
実線で承す)が生起され、110コントローラ15を介
してCPU16(ヒユーレットパラカード社製HP 1
000Mシリーズ)へ供給され、そこで演算、制御され
た信号が再び【10コントローラ15を介してヒータ9
a、bへ印加される(点線で示す)。
First, in this embodiment, as shown in FIG.
0. The coating device 3 is provided with heaters 9a and 9b. and coating device 3. The tank 4° heating furnace 10 is equipped with thermocouples 11, 12, and 13, and the pump 7 is equipped with a flow meter 146, and each thermocouple outputs an output signal (
(indicated by a solid line) is generated, and the CPU 16 (HP 1 manufactured by Hewlett Paracard Co., Ltd.) is generated via the 110 controller 15.
000M series), and the calculated and controlled signals are again supplied to the heater 9 via the controller 15.
a, b (indicated by dotted lines).

次に、かかる制御方式について第2図にもとすき詳述す
る。
Next, such a control system will be explained in detail in FIG.

同方式において、制御対象であるワニス装置lの例えば
温度のような複数の制御量(タンク4゜加熱炉IOにお
ける温度) を含む複数の測定量(塗付装置3、タンク4.加熱炉I
Oにおける温度 がヒータ9a、bによる熱媒体の温度のような複に調節
さ九るように操作量を制御せんとするものである。
In this method, a plurality of measured quantities (applying device 3, tank 4, heating furnace I
It is intended to control the manipulated variable so that the temperature at O is adjusted in multiple ways, such as the temperature of the heat medium by the heaters 9a and b.

制御量y、、y、、は引出し点21から引出された目標
値YR,、YR,の差引き点22へそれぞれ接続され、
制御量と目標値の差 を得ている。
The control amounts y, , y, are connected to the subtraction point 22 of the target values YR, , YR, drawn from the drawing point 21, respectively,
The difference between the controlled variable and the target value is obtained.

これらの差!亀、ε2は演算要素Cに印加される。要理
Cは と記述される行列で。
These differences! ε2 is applied to the calculation element C. Catechism C is a matrix written as.

るものである、これらの操作変数はそれぞれ積分器t、
、12に印加され、積分動作が遂行されて量Uc1. 
LJc2として各操作量IJ +’ 、 U 2に印加
される。
These manipulated variables are the integrators t,
, 12 and an integral operation is performed to obtain the quantity Uc1.
It is applied to each manipulated variable IJ +' and U 2 as LJc2.

この量Ucは、積分機能が遂行される結果、次のように
表わされる。
This quantity Uc is expressed as follows as a result of performing an integral function.

この積分動作とは、積分器による線形の積分機能のみな
らず、積分機能を含む、あるいはこれと類似する動作を
包含するものである。
This integral operation includes not only a linear integral function by an integrator but also an operation that includes or is similar to an integral function.

また、積分動作には、動的補償を含ませるようにしても
よい。
Further, the integral operation may include dynamic compensation.

なお、演算要素Cの 各要素は、制御対象としてのワニス装置1を自動制御す
る前に、予じめその制御対象をモデルとして最適制御理
論と、目標値Yl(1〜YR2を与えるときの、操作変
数U ’ c l= U ’ C7、操作量U1〜U2
.制御量Y1〜Y2の挙動のシュミレーションとにより
求め、最も適切に定められるものである。
In addition, before automatically controlling the varnish apparatus 1 as a control object, each element of the calculation element C is calculated based on the optimal control theory using the control object as a model, and when giving the target value Yl (1 to YR2). Manipulated variable U' c l = U' C7, manipulated variable U1 to U2
.. This is determined most appropriately by simulating the behavior of the control amounts Y1 and Y2.

また、引出し点21は、フィードバック要素ト′を介し
て差引き点23に接続されている。これにより、制御量
y、、y、を含む測定量Y1〜Y、1にフィードバック
動作が線形処理により遂行され操作量LJ、、U2八減
算的に印加される。このフィ−ドパツク動作には、動的
補償を含ませるようにしてもよい、フィードバックの出
力LIFは。
Further, the extraction point 21 is connected to the subtraction point 23 via a feedback element T'. As a result, a feedback operation is performed by linear processing on the measured quantities Y1 to Y,1 including the controlled quantities y, , y, and the manipulated quantities LJ, , U2 are applied in a subtractive manner. The feedback output LIF may include dynamic compensation in this feed pack operation.

の各要素も、前述の最適制御理論と、シュミレーシミン
とにより予じめ求められるものである。
Each element is also determined in advance by the aforementioned optimal control theory and simulation.

更に、引出し点24は、フィードフォワード要素Nを介
して加合せ点23へ接続されている。これにより、目標
(直YH,、YR,、にフィードフォワード動作即ち比
例動作が線形処理により遂行されて操作量U、、U、へ
加算的に印加される。このフィードフォワード動作には
、動的補償を含ませるようにしてもよい。フィードフォ
ワードの出力LINは。
Furthermore, the extraction point 24 is connected via a feedforward element N to the summing point 23. As a result, a feedforward operation, that is, a proportional operation to the target (direct YH, ,YR, , is performed by linear processing and is additively applied to the manipulated variable U, ,U. The feedforward output LIN may include compensation.

である。It is.

の各要素も、前述と同様に最適制御理論と、シュミレー
シ目ンとによって予じめ求められるものである。
Each element is also determined in advance using the optimal control theory and the simulation method, as described above.

このように、操作量Uには、3種類の操作入力が供給さ
れる結果、最終的には操作量Uは次のようになる。
In this way, as a result of three types of operation inputs being supplied to the manipulated variable U, the manipulated variable U finally becomes as follows.

U = UC−UF + UN 操作量へ供給されるこれらの和出力 UC−UF +UN が所定の範囲を越えるときに、前記積分動作を停止させ
るリミッタLi=L2が各操作ラインに介在されている
(第2図)。
U=UC-UF+UN A limiter Li=L2 is interposed in each operating line to stop the integral operation when the sum output UC-UF+UN supplied to the manipulated variable exceeds a predetermined range ( Figure 2).

第2図において1点線で含む部分はCPUを表わし、目
標値YR,#YR2の入力インターフェースにはA/D
変換のための入出力装置l10−1゜操作量U、 、U
2の出力インターフェースにはD/A変換のための入出
力装置l10−2、制御量Y1〜Y2を含む測定量Y1
〜Y8の後向き径路への入力インターフェースにはA/
D変換のための入出力装置l10−3が介在されている
(第2図)、このように構成されて成る多変数自動制御
系は次のように動作する。
In Fig. 2, the part enclosed by a dotted line represents the CPU, and the input interface for target values YR and #YR2 is an A/D
Input/output device for conversion l10-1゜operated amount U, ,U
The output interface of No. 2 includes an input/output device l10-2 for D/A conversion, and a measured quantity Y1 including control quantities Y1 to Y2.
~The input interface to the backward path of Y8 is A/
The multivariable automatic control system thus constructed, in which the input/output device 110-3 for D conversion is interposed (FIG. 2), operates as follows.

先ずワニス装置1を働らかせて、制御量Y1〜Y2を含
む測定量Y1〜Y3に応じて積分動作の初期値を設定す
る(第3図)8次いで、CPUは目標値YR工〜YR2
,制御量Y□〜Y2を含む測定量Y、〜Y3のデータを
読み取る。CPUの演算要素C,フィードバック要素F
、フィードフォワード要素Nはそれぞれ前述の行列式で
表わされる値に従ってその演算を遂行し、 を計算する。
First, the varnishing device 1 is operated to set the initial value of the integral operation according to the measured quantities Y1 to Y3 including the controlled quantities Y1 to Y2 (Fig. 3).8Then, the CPU sets the target values YR to YR2.
, the data of the measured quantities Y, -Y3 including the controlled quantities Y□ -Y2 are read. CPU calculation element C, feedback element F
, feedforward element N performs its operation according to the value expressed by the above-mentioned determinant, respectively, and calculates .

この操作量出力は、所定の範囲内に維持されて制御され
る必要がある。このため、各操作量出力値は、その範囲
にあるか否かが判断され、若しもその範囲内にあるとき
は、積分動作を遂行し、範囲を越えるときは、リミッタ
Lを介して出力せしめる(第3図)。
This manipulated variable output needs to be controlled and maintained within a predetermined range. Therefore, it is determined whether each manipulated variable output value is within the range, and if it is within the range, an integral operation is performed, and if it exceeds the range, it is output via limiter L. (Figure 3).

このようにして、各操作変数U’c1 、 U’ c 
2はそれぞれ積分器11.I2が働らき、積分動作が遂
行されて の積分出力を生じる。
In this way, each manipulated variable U'c1, U'c
2 are integrators 11. I2 is activated and an integral operation is performed to produce an integral output.

このような機能を導入すれば、本実施例のように操作量
としての例えばヒータ9a、bの加熱温度が所定の範囲
内であるにもかかわらず、動作開始時から積分動作を遂
行すれば、当初は操作量と目標値との差t1、ε2が大
きいので、加熱温度が異常に上昇するという不都合な操
作量信号を発生するということが回避される。
If such a function is introduced, even if the heating temperature of the heaters 9a and b as the manipulated variable is within a predetermined range as in this embodiment, if the integral operation is performed from the start of the operation, Since the differences t1 and ε2 between the manipulated variable and the target value are initially large, generation of an inconvenient manipulated variable signal that would abnormally increase the heating temperature can be avoided.

こうして、積分器は目標値と制御量の差が零になるまで
積分動作を繰返し、制御量が目標値に可及的に接近する
ように制御ループを形成するものである。
In this way, the integrator repeats the integration operation until the difference between the target value and the controlled variable becomes zero, forming a control loop so that the controlled variable approaches the target value as much as possible.

而して、操作量U U = Uc  −UF +UN が計算され、制御対象1へ出力される。Therefore, the manipulated variable U U = Uc - UF + UN is calculated and output to the controlled object 1.

この場合、フィードバック要素Fのフィードバック出力
UFは、制御系の固有の特性を安定化させる機能をもつ
ものである。
In this case, the feedback output UF of the feedback element F has the function of stabilizing the inherent characteristics of the control system.

一方、フィードフォワード要素Nの出力UNは。On the other hand, the output UN of the feedforward element N is.

目標値YRに制御量Yが迅速に接近するようにその立上
りを早めるもので、特に装置の動作開始時に大きな効果
を有する。この要素Nにより制御系の応答性(レスポン
ス)は一段と向上する。
This is to accelerate the rise of the control amount Y so that it quickly approaches the target value YR, and has a great effect particularly at the start of operation of the device. This element N further improves the responsiveness of the control system.

こうして、操作量Uが制御対象1へ出力されると、次の
サンプリングまで所定時間遅延させ、再び次の動作が繰
返される。
In this way, when the manipulated variable U is output to the controlled object 1, the next sampling is delayed for a predetermined time and the next operation is repeated again.

なお、上記実施例において、ワニスタンク4からワニス
を塗布装置!3へ補給するバイブロにヒータ9cを設け
、これを第3の操作量U、とじて制御することにより、
更に精度の良い制御系を構成することができる。
In the above embodiment, the varnish is applied from the varnish tank 4 by the application device! By providing a heater 9c in the vibro that supplies the air to the vibro 3, and controlling this using the third operation amount U,
A more accurate control system can be configured.

上記実施例において、制御量、目標値は2個、操作変数
、操作量は2個、測定量は3個の場合について説明した
が、それぞれQ、n、m個(Q、n、mは正の整数で、
m≧Q)の場合にも、本発明は等しく適用できるもので
ある。
In the above embodiment, the case was explained in which there were two controlled variables and target values, two manipulated variables and manipulated variables, and three measured quantities. is an integer of
The present invention is equally applicable to the case where m≧Q).

以上の実施例からも明らかなように、本発明によれば、
制御対象としてのワニス装置の、例えば温度のような複
数の制御量を含む測定量が例えばヒータによる加熱温度
のような複数の操作量の何れによっても変動する場合に
、制御量をその目標値に調節されるように操作量を制御
するにあたり。
As is clear from the above examples, according to the present invention,
When a measured quantity including multiple controlled variables, such as temperature, of a varnishing device as a controlled object fluctuates depending on any of multiple manipulated variables, such as the heating temperature by a heater, it is possible to set the controlled variable to its target value. In controlling the amount of operation to be adjusted.

制御量と目標値の差から得られる操作変数のそれぞれに
積分動作を遂行して各操作量に印加するようにしたから
、各操作量が相互にかつ独立して機能を遂行し、制御量
が目標値に接近するように多変数制御される。
Since the integral operation is performed on each manipulated variable obtained from the difference between the controlled variable and the target value and applied to each manipulated variable, each manipulated variable performs its function mutually and independently, and the controlled variable is Multivariable control is performed to approach the target value.

また、この制御系に、フィードフォワード動作および(
または)フィードバック動作を遂行させることにより、
レスポンスが向上し、安定性が増大する。
In addition, this control system includes feedforward operation and (
or) by performing a feedback action.
Improved response and increased stability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は制御対象としてのワニス装置の説明図。 第2図は該制御対象へ本発明を適用した自動制御方式の
ブロックダイヤグラム、第3図は該方式の動作フローチ
ャートを示す。 Yl、Y2・・・・・・制御量 Y1〜Y3・・・・・・測定量
FIG. 1 is an explanatory diagram of a varnish device as a controlled object. FIG. 2 is a block diagram of an automatic control system in which the present invention is applied to the controlled object, and FIG. 3 is an operational flowchart of the system. Yl, Y2... Controlled amount Y1-Y3... Measured amount

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ワニスタンクと、該タンクを囲繞する熱媒体加熱
炉と、該ワニスタンクからワニスがパイプを介して補給
される塗布装置とを有するワニス装置の、例えばワニス
タンクのワニス温度、塗布装置のワニス温度のような複
数の制御量 Y=〔Y_1・・・・・・Y_2〕 を含む、例えばワニスタンクのワニス温度、塗布装置の
ワニス温度、熱媒体加熱炉の熱媒体温度のような複数の
測定量 〔Y_1・・・・・・Y_m〕 が、例えば塗布装置、熱媒体加熱炉、パイプにおいて各
ヒータによる加熱量のような複数の操作量U=〔U_l
・・・・・・U_n〕(但し、l、n、mは2以上の正
の整数 でm≧l) の何れによっても変動する場合に、前記制御量がその目
標値 YR=〔YR_1・・・・・・YR_l〕 に調節されるように前記操作量を制御するにあたり、前
記制御量と前記目標値の差 ▲数式、化学式、表等があります▼ から得られる操作変数 U′c=〔U′c_1・・・・・・U′c_n〕のそれ
ぞれに積分動作を遂行した出力 Uc=〔Uc_1・・・・・・Uc_n〕 を各操作量とすることを特徴としたワニス装置の制御方
式。
(1) For example, the varnish temperature in the varnish tank and the varnish temperature in the coating device of a varnish device that has a varnish tank, a heat medium heating furnace surrounding the tank, and a coating device to which varnish is supplied from the varnish tank via a pipe. A plurality of measured quantities [Y_1] include a plurality of controlled quantities Y=[Y_1...Y_2], such as the varnish temperature in the varnish tank, the varnish temperature in the coating device, and the heat medium temperature in the heat medium heating furnace. ...... Y_m] is a plurality of operation variables U = [U_l
...U_n] (where l, n, and m are positive integers of 2 or more, and m≧l), the control amount changes to its target value YR=[YR_1...・・・YR_l] In controlling the manipulated variable so that it is adjusted to, the manipulated variable U'c = [U A control system for a varnishing device characterized in that the output Uc=[Uc_1...Uc_n] obtained by performing an integral operation on each of 'c_1...U'c_n] is used as each manipulated variable.
(2)前記制御量を含む複数個の測定量 〔Y_1・・・・・・Y_m〕 にフィードバック動作を遂行した出力 UF_1=〔UF_1・・・・・・UF_n〕を前記操
作量へ印加することを特徴とした特許請求の範囲第1項
記載のワニス装置の制御方式。
(2) Applying the output UF_1=[UF_1...UF_n] obtained by performing a feedback operation to the plurality of measured quantities [Y_1...Y_m] including the controlled quantity to the manipulated variable; A control system for a varnish device according to claim 1, characterized in that:
(3)前記目標値にフィードフォワード動作を遂行した
出力 UN=〔UN_1・・・・・・UN_n〕 を前記操作量へ印加することを特徴とした特許請求の範
囲第1項または第2項記載のワニス装置の制御方式。
(3) According to claim 1 or 2, the output UN=[UN_1...UN_n] obtained by performing a feedforward operation on the target value is applied to the manipulated variable. Control method of varnish equipment.
(4)前記操作量へ供給される、前記出力Uc−前記出
力UF+前記出力UNの和出力が所定の範囲を越えると
きに、前記積分動作を停止させることを特徴とする特許
請求の範囲第3項記載のワニス装置の制御方式。
(4) The integral operation is stopped when the sum output of the output Uc - the output UF + the output UN supplied to the manipulated variable exceeds a predetermined range. Control method of the varnishing device described in Section.
(5)前記測定量に応じて前記積分動作の初期値を設定
することを特徴とした特許請求の範囲第1項または第2
項記載のワニス装置の制御方式。
(5) Claim 1 or 2, characterized in that the initial value of the integral operation is set according to the measured quantity.
Control method of the varnishing device described in Section.
(6)前記操作変数および前記積分動作は線形処理によ
って得られることを特徴とした特許請求の範囲第1項記
載のワニス装置の制御方式。
(6) A control method for a varnishing apparatus according to claim 1, wherein the manipulated variable and the integral operation are obtained by linear processing.
(7)前記操作変数は動的補償を含むことを特徴とした
特許請求の範囲第1項記載のワニス装置の制御方式。
(7) A control method for a varnish device according to claim 1, wherein the manipulated variable includes dynamic compensation.
(8)前記フィードバック動作は線形処理によって得ら
れることを特徴とした特許請求の範囲第2項記載のワニ
ス装置の制御方式。
(8) A control method for a varnish device according to claim 2, wherein the feedback operation is obtained by linear processing.
(9)前記フィードバック動作は動的補償を含むことを
特徴とした特許請求の範囲第2項記載のワニス装置の制
御方式。
(9) A control method for a varnish device according to claim 2, wherein the feedback operation includes dynamic compensation.
(10)前記フィードフォワード動作は線形処理によっ
て得られることを特徴とした特許請求の範囲第3項記載
のワニス装置の制御方式。
(10) A control method for a varnishing device according to claim 3, wherein the feedforward operation is obtained by linear processing.
(11)前記フィードフォワード動作は動的補償を含む
ことを特徴とした特許請求の範囲第3項記載のワニス装
置の制御方式。
(11) A control method for a varnish device according to claim 3, wherein the feedforward operation includes dynamic compensation.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2002012967A1 (en) * 2000-08-04 2002-02-14 Yamatake Corporation Controlling device and controlling method

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