JPS616147A - Glaze composition for porcelain enamel having low melting point - Google Patents

Glaze composition for porcelain enamel having low melting point

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JPS616147A
JPS616147A JP12562584A JP12562584A JPS616147A JP S616147 A JPS616147 A JP S616147A JP 12562584 A JP12562584 A JP 12562584A JP 12562584 A JP12562584 A JP 12562584A JP S616147 A JPS616147 A JP S616147A
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修三 徳満
Yoshiyasu Nobuto
吉保 延藤
Hajime Oyabu
大薮 一
Yukinobu Hoshida
幸信 星田
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • C03C8/06Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing halogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/14Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions

Abstract

PURPOSE:To prevent generation of tearing and cracks, etc. and to permit storage of slip for a long period by mixing zeolite to a glaze compsn. for porcelain enamel calcinable at low temp. consisting essentially of porcelain enamel frit having low softening temp. CONSTITUTION:A porcelain emamel frit having low softening point is prepd. consisting of 31-39wt% SiO2, 13-21wt% B2O3, 14-22wt% Na2O, 1-5wt% K2O, 13-20wt% ZnO, and 2-10wt% F, and contg. 2-9wt% intermediate oxide selected from Al2O3, ZrO2, and TiO2. Further, 0.2-3pts.wt. zeolite as a tearing and crack inhibitor is added to 100pts.wt. porcelain enamel glaze compsn. consisting essentially of the porcelain enamel frit and being capable of calcination at <=750 deg.C to obtain an aimed compsn. usable without refrigeration even in summer season.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、750℃以下の低温で焼成可能なホーローの
釉薬組成物に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to an enamel glaze composition that can be fired at a low temperature of 750° C. or lower.

従来例の構成とその問題点 一般に鋼機のホーロー処理は、鋼機より少し小さい熱膨
張係数を持ったホーローフリットに懸濁剤の蛙目粘土、
コロイダルシリカ、止まり調整剤としてNaNO2、N
aAlO2、MgCO3などの電解質、それに溶媒の水
を配合してミル引きし、できたスリップを酸洗、ニッケ
ル処理した鉄板に施釉、焼成して行なう。
Conventional structure and its problems Generally, the enameling process for steel machinery uses enamel frit, which has a coefficient of thermal expansion slightly smaller than that of steel machinery, and a suspending agent of frog's eye clay.
Colloidal silica, NaNO2, N as a stopping agent
Electrolytes such as aAlO2, MgCO3, and water as a solvent are mixed and milled, and the resulting slip is pickled, glazed on a nickel-treated iron plate, and fired.

このようにして加工されたホーロ一層表面にあられれる
欠陥のうち、釉薬が直接起因する欠陥としてテアリング
、亀裂、ヘヤーライン、泡、コノバーヘッドがある。こ
れらの欠陥は、ホーローフリットから溶出するホウ素や
アルカ・りが原因となっている。そして、それらの欠陥
の発生はスリップの製造条件、スリップの保存条件、ホ
ーロー膜厚、皮膜乾燥条件、乾燥した器物の取り扱い、
焼成条件などにl+j2響される。
Among the defects that appear on the surface of the enamel processed in this way, defects directly caused by the glaze include tearing, cracks, hair lines, bubbles, and conover heads. These defects are caused by boron and alkali dissolved from the enamel frit. The occurrence of these defects is determined by the slip manufacturing conditions, slip storage conditions, enamel film thickness, film drying conditions, handling of dried utensils, etc.
It is affected by l+j2 depending on the firing conditions, etc.

特にホーローフリット中にB2O3やアルカリ成分を多
く添加する必要のある低融ホーローの場合1/こは、上
記欠陥が早期に発生しゃすがった。
Particularly in the case of low-melting enamel, in which a large amount of B2O3 or alkali components needs to be added to the enamel frit, the above-mentioned defects occur early.

しかし、低融ホーローは省資源、省エネルギーをはじめ
、鋼のA1  変態点以上にキープされないため、(1
)焼成変形が少なく、薄扱が使える、(2)寸法精度が
高いため複雑形状の設計が可能である、7(3)鋼板に
吸着あるいは吸蔵されている水素ガスの脱着や、スリッ
プと鋼板の炭素の反応による炭酸ガスの発生が少なく、
爪飛び、泡、ピンホールの欠陥が少ないなどの多くの長
所かある。
However, low-melting enamel saves resources and energy, and because it cannot be kept above the A1 transformation point of steel,
) There is little deformation during firing, allowing for thin handling; (2) High dimensional accuracy allows for the design of complex shapes; (3) Desorption of hydrogen gas adsorbed or occluded in steel sheets, and prevention of slip and steel sheets. Less carbon dioxide gas is generated due to carbon reactions,
It has many advantages such as fewer defects such as nail skipping, bubbles, and pinholes.

したがって、これまでにも多く低融ホーローが開発され
ている。しかし、それらの多くは低軟化点ホーローフリ
ット中にpbo%5b203、P2O5を多量に添加し
たものであり、食品衛生、環境公害あるいはフリット製
造時の危険性の問題があった。
Therefore, many low-melting enamels have been developed so far. However, many of these have low softening point enamel frits with large amounts of pbo%5b203 and P2O5 added, which pose problems in food hygiene, environmental pollution, or danger during frit production.

そこで、有害な物質を含捷ない低軟化点フリットが特開
昭58−140342七で擢案された。
Therefore, a low softening point frit that does not contain harmful substances was proposed in JP-A-58-1403427.

この低軟化点フリットは、少なくとも51o2、B2O
5、N a 20、F20、ZnOオよびF2とAe2
o6、Z rO2、TiO□の群から選択される少なく
とも1種の中間酸化物とから構成され、 5i0231〜39重量%(以下単に%で表わす)B2
0313〜21% N&2014〜22% に201〜5% ZnO13〜20% F2  2〜10% 〔A1206〕+〔ZrO2〕+〔TlO2〕=2〜9
重量%Al2O,55重量%、Zr0256重量%、1
10255重量%であるホーローフリットである3、こ
の低軟化ホーローフリットはCdS系赤色顔料やTlO
2系顔料にも良く適合し、赤色をはじめ、黄色、桃色、
緑色、青色、かっ色、黒色、白色などの色調を自由に発
色させることができる。
This low softening point frit is at least 51o2, B2O
5, Na 20, F20, ZnO and F2 and Ae2
o6, ZrO2, and at least one intermediate oxide selected from the group of TiO□, and 5i0231 to 39% by weight (hereinafter simply expressed as %)
0313-21% N&2014-22% 201-5% ZnO13-20% F2 2-10% [A1206] + [ZrO2] + [TlO2] = 2-9
wt% Al2O, 55 wt%, Zr0256 wt%, 1
3. This low softening enamel frit contains CdS-based red pigment and TlO.
Compatible with 2-based pigments, including red, yellow, pink,
You can freely create colors such as green, blue, brown, black, and white.

しかし、この低軟化点ホーローフリットを下記のような
一般のホーロー釉薬組成物で鋼板に焼き付けた場合、 フリット   100重量部 蛙目粘土   4〜7重量部 コロイダル/リカ   0〜1重量部 硅石粉(326メノ/二のふるいを通過)0〜6重量部 NaNO2’   O−0,25重量部顔 料    
2〜6重量部 水     45〜b ミル引きした後、短時間の間に使用すれば、ホーo−の
表面状態、光沢、色調のいずれも良好である。しかし、
スリップを高温、たとえば夏場35℃位で貯蔵した場合
、スリップの粘性の上昇、テアリング、亀裂、ヘヤーラ
イン、コノパーヘッド、ゆず肌、泡および色調の変化等
の重大欠陥の発生が児らItた。特にテアリング、亀裂
およびヘヤーラインは、高温で数時間保存しただけで発
生した。
However, when this low softening point enamel frit is baked on a steel plate with a general enamel glaze composition as shown below, the frit: 100 parts by weight Frog's eye clay 4 to 7 parts by weight Colloidal/Lica 0 to 1 part by weight Silica powder (326 Passed through the second sieve) 0 to 6 parts by weight NaNO2' O-0.25 parts by weight Pigment
2 to 6 parts by weight Water 45-b If used for a short time after milling, the surface condition, gloss, and color tone of the hoe will be good. but,
When slips are stored at high temperatures, for example around 35° C. in the summer, serious defects such as increased slip viscosity, tearing, cracks, hair lines, conoper heads, orange skin, bubbles and color changes occur. In particular, tearing, cracking, and hairlines occurred after only a few hours of storage at high temperatures.

一般に低軟化ノ1(ホーローフリットは高温型に比べて
、ホウ素やアルカリ等の溶出が多い。この溶出した成分
が釉薬と鋼板の濡れ(なじみ)を悪くしたり、あるいは
溶出成分がフリット粒子間に結晶物質、たとえば°ホウ
砂を生成したりして、テアリング、亀裂およびヘヤーラ
インを生じると考えられる。
In general, low softening (enamel frits) elute more boron, alkali, etc. than high-temperature types. These eluted components may impair the wetting (compatibility) between the glaze and the steel plate, or the eluted components may be present between the frit particles. It is believed that crystalline substances such as borax may form, resulting in tearing, cracking and hairlines.

特に前記組成の低軟化点ホーローンリットは発色性に優
れているが、スリップ中にホウ素やアルカリ分を多く溶
出するという欠点表、フリットの溶融時の表面張力が太
きいという欠点を持っているため、テアリングや亀裂熔
を非常に発生しやすかった。
In particular, the low softening point enamel frit with the above composition has excellent color development, but it has the drawbacks of eluting a large amount of boron and alkali during slipping, and that the surface tension of the frit is high when melted. Therefore, tearing and cracking were extremely likely to occur.

従来テアリングや亀裂を防止する力法として、ミル引き
後、スリップに尿素を少量添加することが行なわれてい
た。しかし、尿素の添加されたスリップを高温で貯蔵し
た場合、短時間で犬さな泡が発生する。これは尿素ある
いは尿素分解物が粘土あるいはコロイダル/リカへ吸着
され、吸着された尿素あるいは尿素分解物が焼成温度付
近の高温で脱着するので、ホーロー表面に大きな泡が発
生すると思われる。低融ホーローの場合、フリットから
溶出し、たアルカリ等によって、尿素あるいは尿素分解
物の吸着が促進され、発泡の時期も早い。前記低軟化点
ホーローフリットを用いたスリップに尿素を添加して、
36℃で貯蔵した場合、数時間で発泡した。
Conventionally, as a force method to prevent tearing and cracking, a small amount of urea was added to the slip after milling. However, when urea-doped slips are stored at high temperatures, bubbles form within a short period of time. This is thought to be because urea or urea decomposition products are adsorbed to clay or colloidal/lica, and the adsorbed urea or urea decomposition products are desorbed at high temperatures near the firing temperature, resulting in large bubbles being generated on the enamel surface. In the case of low-melting enamel, adsorption of urea or urea decomposition products is promoted by the alkali etc. eluted from the frit, and foaming occurs quickly. Adding urea to the slip using the low softening point enamel frit,
When stored at 36°C, foaming occurred within a few hours.

しだかっ−C,低融ポーローにおいては、尿素をミル引
き時に添加する場合はミル温度が高温にならないように
注ぐ)、することが必要であり、ミル引き後の添加の場
合でも、夏場にはスリップ貯蔵温度が高温にならないよ
うに(30℃以下に)管理しなければな1.ムいという
欠点かあった。
Shidaka-C, for low-melting polyurethane, when adding urea during milling, it is necessary to pour it so that the mill temperature does not become high. Even when adding urea after milling, it is necessary to 1. The slip storage temperature must be controlled to avoid high temperatures (below 30°C). There was a drawback that it was dull.

発明の目的 本発明は、750℃以下の温度で焼成でさ、しかもスリ
ップの1〈期貯蔵か可能である低融ホ一一−釉薬組成物
を提供することを目的とする。
OBJECTS OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a low-melting glaze composition which can be fired at a temperature of 750 DEG C. or lower and can be stored as a slip for a period of one year.

発明の構成 本発明の低融ホーロー釉薬組成物は、低軟化点ホーロー
フリットを主成分とし、ゼオライトをテアリングおよび
亀裂防止剤として含有することを基本とするものである
Structure of the Invention The low melting enamel glaze composition of the present invention is based on a low softening point enamel frit as a main component and zeolite as a tearing and crack preventing agent.

ゼオライトは低軟化点ホーローフリット100重量部に
対して、o、2〜3重量部が94−ましい1、さらに下
記組成の低軟化点ホーローフリットに対しで効果が大き
く、スリップのボッ[・ライフがゼオライトの有害イオ
ンを吸着する作りI)および乾燥皮膜強化作用(lこよ
って長くできる。よって発色性に優れた一回掛けの低融
ホーローを実用化に近づけることができる。その低軟化
点ポーローノリノドの組成は少なくとも51o2、B2
O3、Na2O、F20. ZnC)オヨびF2とAl
2O2、ZrO2、Ti020群から選択される少なく
とも1種の中間酸化物とから構成され、 Si0□   31〜39重惜% B2O313〜21 正量% Ha20   14−21 1詐% に20    1〜5重量% ZnO13〜20重量% F2    2〜10重量% 〔Ag2O,〕+〔ZrO2〕+〔T1o2〕−2〜9
重刊%Al2O3≦6申jii%、210255重量%
、710256重量%である。  ゛ ゼオライトはホーローフリットから溶出するホウ素やア
ルカリ分を吸着あるいはイオン交換すると共に、乾燥皮
膜を強化して、テアリングや亀裂をμh止していると思
われる。ゼオライトはフリット100重社部に対し3重
量部を超えて■含有されていると、作業温度が上昇し、
泡が発生し光沢が恕くなり、0.2重量部未満の場合に
は、テアリングや亀裂防止効果はほとんどなく、夏場に
アルカリ等のtW出か非常に多いフリットを用いた場合
、特に施釉膜厚か厚い(200μm程度以上)時、デア
リング、亀裂、ヘヤーラインが発生し易い。
It is preferable that 2 to 3 parts by weight of zeolite be added to 100 parts by weight of the low softening point enamel frit, and it is also highly effective for the low softening point enamel frit with the following composition, and improves the slip resistance and life. zeolite adsorbs harmful ions (1) and strengthens the drying film (1), which makes it possible to extend the drying film length.Thus, it is possible to bring one-shot low-melting enamel with excellent color development closer to practical use. The composition of is at least 51o2, B2
O3, Na2O, F20. ZnC) Oyobi F2 and Al
2O2, ZrO2, and at least one intermediate oxide selected from the Ti020 group, Si0□ 31-39% by weight, B2O3 13-21% by weight, Ha20 14-21 1% by weight, and 20 1-5% by weight. ZnO 13-20% by weight F2 2-10% by weight [Ag2O,] + [ZrO2] + [T1o2] -2-9
Reprint% Al2O3≦6%, 210255% by weight
, 710256% by weight. It is thought that zeolite adsorbs or ion-exchanges boron and alkali components eluted from the hollow frit, and also strengthens the dry film to prevent tearing and cracking. If zeolite is contained in excess of 3 parts by weight per 100 parts of frit, the working temperature will rise.
If the amount is less than 0.2 parts by weight, there will be almost no effect on preventing tearing or cracking, and if a frit with a very large amount of tW such as alkali is used in the summer, the glazed film will be damaged. When it is thick (approximately 200 μm or more), deering, cracks, and hair lines are likely to occur.

ゼオライトの釉薬組成物中への添加方法は、ミル添加の
方が好ましい。しかし、この場合でも、ミル引き時間を
短かくしく1時間以内)ミル中の温度が30℃を超えな
いようにすることが望ましい。
As for the method of adding zeolite into the glaze composition, mill addition is preferable. However, even in this case, it is desirable to keep the milling time short (within 1 hour) and to keep the temperature in the mill from exceeding 30°C.

実施例の説明 本発明の低融ホーロー釉薬組成物を得るには、まず低軟
化点ホーローフリットを作る3、その順Jj。
Description of Examples In order to obtain the low melting enamel glaze composition of the present invention, first a low softening point enamel frit is prepared.

は、所望のフリット組成に応じて、各成分の原1羽料を
調合する。充分乾式混合した後、1100〜13oo℃
で加熱7容融する。溶融温度、時間は〕′υ終的なフリ
ットの組成比を変化させるので、良く管理することが必
要である。原石の7′6解後20〜40分間ガラス化を
進行させ、必要に1,1sじて撹1′4、することが重
要である。長い間R1:融温1良に維持しすぎると、ア
ルカリ成分やF2 成分が昇華してしまうので、余り長
くしないようにする1、浴融後、ガラスは水中に4JQ
人して、急冷する。これを乾6″こすると低軟化点ホー
ローフリットが得らゎ、る。
The raw material of each component is prepared in accordance with the desired frit composition. After thorough dry mixing, 1100~13oo℃
Heat for 7 hours to melt. Since the melting temperature and time change the final composition ratio of the frit, it is necessary to carefully control the melting temperature and time. It is important to allow the vitrification to proceed for 20 to 40 minutes after 7'6 decomposition of the rough stone, and to stir it every 1.1 seconds as necessary. If R1: Melting temperature 1 is maintained for too long, the alkali components and F2 components will sublimate, so do not keep it too long.
People and quench. Dry and rub this for 6 inches to obtain a low softening point enamel frit.

このようにして得られたホー(1−フリッ100重社部
に、懸濁剤として蛙目粘1f、コロイダル/す力等を3
〜9重か部、止り調整剤とし−C叱硝r没ンーダ、アル
ミン酸ソーダ、炭酸マグネ/ラム等を1重量%以下、さ
らに顔料1o重敬部以下、その他硅石粉、含水硼砂に水
40〜To芥量部を添加してボールミル等で粉砕、混合
する。
To the thus obtained Ho (1-Fri 100 Jushabu), add 1f of Frog's eye viscosity, colloidal/Suroku, etc. as a suspending agent.
~9 parts by weight, 1 part by weight or less as a stop adjustment agent, sodium aluminate, magnesium carbonate/rum, etc., 1 part by weight or less of pigment, and 40 parts by weight of other silica powder, hydrated borax, and water. To the amount of water is added, and the mixture is ground and mixed using a ball mill or the like.

この時、同時にゼオライトを02〜3重i11部添加す
る。ここで、ミル温度はなるへ<30″C以下に管理す
ると、ミル出し後のスリップのボットライフは長くなる
At this time, 11 parts of zeolite is added at the same time. Here, if the mill temperature is controlled to <30''C or less, the bot life of the slip after being removed from the mill will be extended.

スリップの粒度は、スリップcsomlの200メツ/
ユ(74μ約残清が、スプレィで施釉する場合は1〜7
)、ディップで施釉する場合は169以下であって、な
るべく粗い方がフリット成分の溶出が少なくなり好捷し
い。
The particle size of the slip is 200 meth/slip csoml.
(approximately 74μ residual liquid, 1 to 7 if spray glazing)
), when applying the glaze by dipping, it is preferable that the glaze is 169 or less, and as coarse as possible, the elution of frit components will be reduced.

このようにして得られたホーロー釉薬組成物は、酸洗、
無電解ニノクルメノギ処理した鋼材器物にスプレィ捷だ
C1ディップを施釉し、乾燥した後、焼成(たとえは6
90°C以上4分)し5てホーロー皮膜化する。
The enamel glaze composition obtained in this way is pickled,
Glaze the steel utensils that have been electrolessly treated with spray glaze C1 dip, dry, and then fire (for example, 6
90°C or higher for 4 minutes) to form an enamel film.

次に実施例について比較例とイJトナて説明する。。Next, examples will be explained with reference to comparative examples and examples. .

〔低軟化点ホー11−フリットの製造〕1ず、第1表に
示す原料を同表に示す割合で配合し、低軟化点ホーロー
フリット用配合物1,2をつくった。
[Production of low softening point enamel frit 11] First, the raw materials shown in Table 1 were blended in the proportions shown in the same table to prepare formulations 1 and 2 for low softening point enamel frit.

第   2   表 (単位蔓重量%) そして、この配合物を混合してアルミするつぼに入れ、
11oO〜1300°Cにおいて溶融して清澄させたの
ち、水中に投入して冷却し2だ。
Table 2 (unit weight %) Then, mix this mixture and put it in an aluminum pot,
After melting and clarifying at 1100°C to 1300°C, it was poured into water and cooled.

その結果、第2表の低軟化点ホーローフIJ 7 )G
−1,G−2が得られた。
As a result, the low softening point hollow loaf IJ7)G in Table 2
-1 and G-2 were obtained.

ホーローフリツトG−1.G−2共に750″(:以下
で焼成可能な低軟化点フリットでを)るが、G−1の方
が鋼板との濡れが悪く、スリップ中に溶出するアルカリ
量も多い。
Hollow frit G-1. Although both G-2 and G-2 have a low softening point frit that can be fired at 750'', G-1 has poorer wetting with the steel plate and a larger amount of alkali is eluted during slipping.

なお、第2表における評価方法は以下に従った。The evaluation method in Table 2 was as follows.

(1)  タブレットテスト(フリットの流動PC)ガ
ラスフリットの流動性は200ツノシユのふるいを通過
する粒径のフ’) ノ) 2 gを採取し、その試料を
金型に入れ、1ト:z/C4の圧力でプレス成形し、的
径12.7marのタフレットとする。
(1) Tablet test (frit fluidity PC) The fluidity of glass frit is determined by the particle size that passes through a 200-horn sieve. /C4 pressure to form a tufflet with a target diameter of 12.7 mar.

そして、その試料を酸洗、無電解りッケルノノキ処理し
た鋼板の上にのせ、690°Cで5分間加熱し、試料の
流動径をノギスで測定する。この値は、フリットの硬さ
と濡れ性を合せた評価となる。
Then, the sample was placed on a steel plate that had been pickled and treated with electroless nickel, heated at 690°C for 5 minutes, and the flow diameter of the sample was measured with calipers. This value is an evaluation that combines the hardness and wettability of the frit.

(2)  フリットの熱水浴重量 20oメツ/ユ〜300メノンユのフリット5gを10
0CGの蒸留水に浸漬し、1時間煮沸した後、−1のト
澄み液を取り、メナルオレ/ノ指示薬を用いて落出し、
たアルカリ成分を0.lN−H2SO4−C滴定し、そ
の消費量を溶出アルカリ昂の尺1隻どした。
(2) Hot water bath for frits 5g of frits with a weight of 20 to 300 menonyu to 10
After immersing in 0CG distilled water and boiling for 1 hour, take the -1 clear solution and drop it using a menalore/no indicator.
The alkaline component was 0. Titration of 1N-H2SO4-C was carried out, and the amount consumed was calculated as one unit of eluted alkaline gas.

〔ポーロースリップの製造〕[Manufacture of pouro slip]

上記のようにして(4)られた低軟化点ボーローフ’)
 /トG−1 、G−2を乾燥して粗粉砕したのち、第
3表に示すミル添加剤を同表に小ず割合で配合した。
Low softening point Borlauf') obtained as described above (4)
After drying and coarsely pulverizing G-1 and G-2, mill additives shown in Table 3 were added in small proportions.

(以 ト 余 白) 次に第3表(で示す配合物のフリット3に9分を、10
eのボットミルに投入して、約75r、p、m。
(Hereinafter in the margin) Next, add 9 minutes to frit 3 of the formulation shown in Table 3,
Approximately 75 r, p, m by putting it in the bot mill of e.

で1時間混合粉砕した。この時、ミル出し温度は30°
゛(:以下に、スリップの粒度(50ccの200メツ
/ユ残清)は1〜71となるように調整した。
The mixture was mixed and ground for 1 hour. At this time, the mill temperature is 30°
(: Below, the particle size of the slip (50 cc of 200 ml of residual liquid) was adjusted to be 1 to 71.

スリップはミル出し直後にホーロー皮膜の状態を確認し
、第3表に示す貯蔵温度の恒温槽あるいは恒温水槽:て
貯蔵し、定期的にホーローの皮膜の状態を確認した。
The state of the enamel film on the slip was checked immediately after being taken out of the mill, and the slip was stored in a constant temperature bath or a constant temperature water bath at the storage temperature shown in Table 3, and the state of the enamel film was periodically checked.

ホーロー加−に処理は次の条件で行なった。The enamel treatment was carried out under the following conditions.

暴利;■鋼神:spp材、■寸/1.:大きさ100K
Mx’+oo朋、厚さ0.6ff ■前処]!f!、 :酸洗減量値400〜soo#+9
./ dnfニッケル付着計14〜20urg7山ノ1
2施釉、スプレィ法 ホーロー膜厚; 150〜1807+ m乾燥方法、遠
赤外線乾燥 焼成条件;焼成時間は3分40秒とし、焼成温度に1第
4表に示す。
Profiteering; ■Kogami: SPP material, ■Size/1. :Size 100K
Mx'+oo, thickness 0.6ff ■Preface]! f! , : Pickling weight loss value 400~soo#+9
.. / dnf nickel adhesion meter 14-20urg 7 mountain No. 1
2 Glazing, spray method Enamel film thickness: 150-1807+ m Drying method, far infrared drying Firing conditions: Firing time was 3 minutes and 40 seconds, firing temperature is shown in Table 4.

1−記の条件てポットライプを確認した結果を第4表に
示す。
Table 4 shows the results of checking potripes under the conditions described in 1-.

第   4   表 フリットG〜1に対するゼオライトの効果を、テアリン
グ・亀裂防止剤を添加しなかった場合、および尿素の効
果と比較した。
Table 4 The effect of zeolite on Frit G-1 was compared to the effect of no anti-tearing agent and to the effect of urea.

第4表に示すように、スリップを冷蔵する場合ト は、防止剤を添加しなくても実府穐題はない。しかし、
35°C(」近、たとえば夏場に室温でG−1フリツト
のスリップを貯蔵する場合は、テアリング・亀裂防止剤
を添加しなければ、4時間程度で使用に耐えないスリッ
プてなる。
As shown in Table 4, if the slip is refrigerated, there is no problem even if no inhibitor is added. but,
When G-1 frit slips are stored at room temperature near 35°C, for example in the summer, the slips become unusable in about 4 hours unless a tearing/cracking inhibitor is added.

そこで、防止剤として尿素を試みると、6時間以内で大
きな泡か発生する。したがって、これらの防止剤も実用
的ではない。
Therefore, when urea was tried as an inhibitor, large bubbles were generated within 6 hours. Therefore, these inhibitors are also not practical.

これらに比較して、ゼオライト(たとえば和光紬薬工業
(株)製「ヒタチェンジ」、Permutit Go。
Compared to these, zeolites (eg, "Hitachange" manufactured by Wako Tsumugi Kogyo Co., Ltd., Permutit Go).

(米国)製「パームチット」)を添加すると、テアリン
ク−や亀裂の発生を遅らすと共に、大きな泡の発生も尿
素などにくらべるとかなり遅くなり、夏場では1〜2日
は冷蔵しなくても充分使用に耐えるものを得ることがで
きる。
(Palm Chit, made in the United States) delays the formation of tear links and cracks, and also significantly slows the formation of large bubbles compared to urea, so it can be used for 1 to 2 days in the summer without refrigeration. You can get something that will last.

実施例4、比較例6,7でフ’) ノ) G−2のスリ
ップのポットライフ特性を示し/、−0第4表に示すよ
うに、低軟化点ホーローフリットでも流動性が良く、溶
出アルカリ−11の少ないフリットの場合は、テアリン
グ・亀裂防LL削を添加しなくても充分実用に11える
。。
Example 4 and Comparative Examples 6 and 7 show the pot life characteristics of the G-2 slip/,-0 As shown in Table 4, even a low softening point enamel frit has good fluidity and has good fluidity and no dissolution. In the case of a frit with a small amount of alkali-11, the level of 11 is sufficient for practical use without adding tearing/crack prevention LL cutting. .

しかし、フリットG−2においても、器物のをり扱い上
の衝撃でテアリックおよび亀裂の’A 1.L−する恐
れのある場合には防止剤を添加する1、この場合にも尿
素よりも十オライドを使用しノこ方が、泡発生捷ての時
期が長くて優れている3、発明の効果 以」−のように、本発明のゼオライトを含有した低融ホ
ーロー釉薬組成物は、テアリックおよび亀裂、さらに大
きな泡の発生しにくいものである。。
However, Frit G-2 also suffers from tearing and cracking due to the impact of handling the utensils.1. If there is a risk of L-, add an inhibitor. 1. In this case, it is also better to use decaolide than urea, as it takes a longer time to generate and break up foam. 3. Effects of the invention As described above, the low-melting enamel glaze composition containing the zeolite of the present invention is resistant to tearing, cracking, and large bubbles. .

特にフリットとして流動性や鋼板との濡れflが悪く、
アルカリ溶出量の多い低軟化点ホーローフリットを用い
た場合でも、夏場においても充分に使用に耐える低融ホ
ーロー釉薬組成物を桿供できる。
In particular, as a frit, it has poor fluidity and wettability fl with the steel plate.
Even when a low softening point enamel frit with a large amount of alkali elution is used, a low melting enamel glaze composition that can be satisfactorily used even in summer can be provided.

これまでの低融ホーローは、変形・強度劣化およびピン
ホール・瓜飛びが少なく、かつ省資源・省エネルギであ
るなど多くの特徴を持ちながら、フリットからのB2O
2やアルカリ成分の溶出が多いため、スリップのポット
ライフが短かく実用化に大きな支障があった。しかし1
、本発明によって大きく実用化に近づけることができる
Conventional low-melting enamels have many features such as less deformation, strength deterioration, pinholes and porosity, and are resource- and energy-saving.
Since a large amount of 2 and alkali components were eluted, the pot life of the slip was short, which was a major hindrance to its practical use. But 1
, the present invention can greatly bring the technology closer to practical application.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)低軟化点ホーローフリットを主成分とし、750
℃以下で焼成できるホーロー釉薬組成物であって、ゼオ
ライトをテアリングおよび亀裂防止剤として含有する低
融ホーロー釉薬組成物。
(1) Main component is low softening point enamel frit, 750
A low-melting enamel glaze composition which can be fired at temperatures below 0.degree. C. and which contains zeolite as a tearing and cracking preventive agent.
(2)ゼオライトが前記ホーローフリット100重量部
に対して0.2〜3重量部含有されている特許請求の範
囲第1項記載の低融ホーロー釉薬組成分。
(2) The low melting enamel glaze composition according to claim 1, wherein the zeolite is contained in an amount of 0.2 to 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the enamel frit.
(3)前記ホーローフリットが、少なくともSiO_2
、B_2O_3、Na_2O、K_2O、ZnOおよび
F_2と、Al_2O_3、ZrO_2、TiO_2の
群から選択される少なくとも1種の中間酸化物とから構
成され、SiO_2を31〜39重量%、B_2O_3
を13〜21重量%、Na_2Oを14〜22重量%、
K_2Oを1〜5重量%、ZnOを13〜20重量%、
F_2を2〜10重量%含有し、かつ前記中間酸化物を
1種で5重量%以下、総量で2〜9重量%の範囲で含有
するホーローフリットである特許請求の範囲第1項又は
第2項記載の低融ホーロー釉薬組成物。
(3) The enamel frit is at least SiO_2
, B_2O_3, Na_2O, K_2O, ZnO and F_2, and at least one intermediate oxide selected from the group of Al_2O_3, ZrO_2, TiO_2, containing 31 to 39% by weight of SiO_2, B_2O_3
13 to 21% by weight, 14 to 22% by weight of Na_2O,
1 to 5% by weight of K_2O, 13 to 20% by weight of ZnO,
Claim 1 or 2, which is a hollow frit containing 2 to 10% by weight of F_2 and 5% by weight or less of the intermediate oxide in a total amount of 2 to 9% by weight. The low melting enamel glaze composition described in Section 1.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01306548A (en) * 1988-05-31 1989-12-11 Seikosha Co Ltd Formation of titanium nitride
JPH0652312A (en) * 1992-07-31 1994-02-25 Nagoya Denki Kogyo Kk Moving body detecting method
KR20020076465A (en) * 2001-03-28 2002-10-11 최영기 Pottery glaze using zeolite and manufacturing method the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01306548A (en) * 1988-05-31 1989-12-11 Seikosha Co Ltd Formation of titanium nitride
JPH0652312A (en) * 1992-07-31 1994-02-25 Nagoya Denki Kogyo Kk Moving body detecting method
KR20020076465A (en) * 2001-03-28 2002-10-11 최영기 Pottery glaze using zeolite and manufacturing method the same

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