JPH039052B2 - - Google Patents

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JPH039052B2
JPH039052B2 JP10780684A JP10780684A JPH039052B2 JP H039052 B2 JPH039052 B2 JP H039052B2 JP 10780684 A JP10780684 A JP 10780684A JP 10780684 A JP10780684 A JP 10780684A JP H039052 B2 JPH039052 B2 JP H039052B2
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JP
Japan
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frit
weight
enamel
low
softening point
Prior art date
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Expired
Application number
JP10780684A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS60251149A (en
Inventor
Shuzo Tokumitsu
Yoshasu Nobuto
Yukinobu Hoshida
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP10780684A priority Critical patent/JPS60251149A/en
Publication of JPS60251149A publication Critical patent/JPS60251149A/en
Publication of JPH039052B2 publication Critical patent/JPH039052B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

産業上の利用分野 本発明は、750℃以下の低温で焼成可能なホー
ローの釉薬組成物に関するものである。 従来例の構成とその問題点 一般に鉄板のホーロー処理は、鋼板より少し小
さい熱膨張係数を持つたホーローフリツトに懸濁
剤の粘土、コロイダルシリカ、止まり調整剤とし
てNaNO2、NaAlO2、MgCO3などの電解質、そ
れに溶媒の水を配合してミル引きし、できたスリ
ツプを酸洗、ニツケル処理した鉄板に施釉、焼成
して行なう。 このようにして加工されたホーロー層表面にあ
らわれる欠陥のうち、釉薬が直接起因する欠陥と
してテアリング、亀裂、ヘヤーライン、泡、コツ
パーヘツドがある。これらの欠陥は、ホーローフ
リツトから溶出するホウ素やアルカリが原因とな
つている。そして、それらの欠陥の発生はスリツ
プ製造条件、スリツプの保存条件、ホーロー膜
厚、皮膜乾燥条件、乾燥した器物の取り扱い、焼
成条件などに影響されるものである。 特にホーローフリツト中にB2O3やアルカリ成
分を多く添加する必要のある低融ホーローの場合
には、上記欠陥が早期に発生しやすかつた。 しかし、低融ホーローは省資源、省エネルギー
をはじめとし、鋼のA1変態点以上にキープさ
れないため、焼成変形が少なく、薄板が使える。
寸法精度が高いため、複雑形状の設計が可能で
ある。鋼板に吸着あるいは吸蔵されている水素
ガスの脱着や、スリツプと鋼板の炭素の反応によ
る炭酸ガスの発生が少なく、爪飛び、泡、ピンホ
ールの欠陥が少ないなどの多くの長所がある。 したがつて、これまでにも多く低融ホーローが
開発されている。しかし、それらの多くは低軟化
点ホーローフリツト中にPbO、Sb2O3、P2O5を多
量に添加したものであり、食品衛生、環境公害あ
るいはフリツト製造時の危険性の問題があつた。 そこで、有害な物質を含まない低軟化点フリツ
トが特願昭57−19243号で提案された。この低軟
化点フリツトは、少なくともSiO2、B2O3
Na2O、K2O、ZnOおよびF2と、Al2O3、ZrO2
TiO2の群から選択される少なくとも1種の中間
酸化物とから構成され、SiO231〜39重量%、
B2O313〜21重量%、Na2O14〜22重量%、K2O1
〜5重量%、ZnO13〜20重量%、F22〜10重量%、
〔Al2O3〕+〔ZrO2〕+〔TiO2〕=2〜9重量%、
Al2O3≦5重量%、ZrO2≦5重量%、TiO2≦5
重量%であるホーローフリツトである。この低軟
化点ホーローフリツトはCdS系赤色顔料やTiO2
系顔料にも良く適合し、赤色をはじめ、黄色、桃
色、緑色、青色、かつ色、黒色、白色などの色調
を自由に発色させることのできるものである。 しかし、この低軟化点ホーローフリツトを下記
のような一般のホーロー釉薬組成物で鋼板に焼き
付けた場合、 フリツト 100重量部 蛙目粘土 4〜7重量部 コロイダルシリカ 0〜1重量部 硅石粉(325メツシユのふるいを通過する粒度)
0〜6重量部 NaNO2 0〜0.25重量部 顔 料 2〜6重量部 水 45〜70容量部 ミル引きした後、短時間の間に使用すれば、ホ
ーローの表面状態、光沢、色調のいずれも良好で
ある。しかし、スリツプを高温、たとえば夏場35
℃位で貯蔵した場合、スリツプの粘性の上昇、テ
アリング、亀裂、ヘヤーライン、コツパーヘツ
ド、ゆず肌、泡および色調の変化等の重大欠陥の
発生が見られた。特にテアリング、亀裂およびヘ
ヤーラインは高温で数時間保存しただけで発生し
た。 一般に低軟化点ホーローフリツトは高温型に比
べて、ホウ素やアルカリ等の溶出が多い。この溶
出した成分が釉薬と鋼板の濡れ(なじみ)を悪く
したり、あるいは溶出成分がフリツト粒子間に結
晶物質、たとえばホウ砂を生成したりして、テア
リング、亀裂およびヘヤーラインを生じると考え
られる。 特に前記組成の低軟化点ホーローフリツトは発
色性に優れているが、スリツプ中にBやアルカリ
分を多く溶出するという欠点と、フリツトの溶融
時の表面張力が大きいという欠点が持つているた
め、テアリングや亀裂等を非常に発生しやすかつ
た。 従来、テアリングや亀裂を防止する方法とし
て、ミル引き後、スリツプに尿素を少量添加する
ことが行なわれていた。しかし、尿素の添加され
たスリツプを高温で貯蔵した場合、短時間で大き
な泡が発生する。これは尿素あるいは尿素分解物
が粘土あるいはコロイダルシリカへ吸着され、吸
着された尿素あるいは尿素分解物が焼成温度付近
の高温で脱着するので、ホーロー表面に大きな泡
が発生すると思われる。低融ホーローの場合、フ
リツトから溶出したアルカリ等によつて、尿素あ
るいは尿素分解物の吸着が促進され、発泡の時期
も早い。前記低軟化点ホーローフリツトを用いた
スリツプに尿素を添加して、35℃で貯蔵した場
合、数時間で発泡した。 したがつて、低融ホーローにおいては、尿素を
ミル引き時に添加する場合はもちろん、ミル引き
後の添加の場合でも、夏場にはミル引き時および
スリツプ貯蔵温度が高温にならないように30℃以
下に管理しなければならないという欠点があつ
た。 発明の目的 本発明は、750℃以下の温度で焼成でき、しか
もスリツプの長期貯蔵が可能である低融ホーロー
釉薬組成物を提供することを目的とする。 発明の構成 本発明の低融ホーロー釉薬組成物は、低軟化点
ホーローフリツトを主成分とし、式 MgxAl2(OH)yCO3・zH2Oで示される層状吸着
剤をテアリングおよび亀裂防止剤として含有する
ことを基本とするものである。なお、2X+4=
Y、X>0である。MgxAl2(OH)yCO3・zH2Oで
示される層状吸着剤は低軟化点ホーローフリツト
100重量部に対して、0.2〜3重量部が望ましい。 さらに下記組成の低軟化点ホーローフリツトの
スリツプのポツトライフをMgxAl2(OH)yCO3
zH2O吸着剤によつて長くできることによつて、
発色性に優れた一回掛けの低融ホーローを実用化
に近づけることができる。その低軟化点ホーロー
フリツトの組成は、少なくともSiO2、B2O3
Na2O、K2O、ZnOおよびF2と、Al2O3、ZrO2
TiO2の群から選択される少なくとも1種の中間
酸化物とから構成され、SiO231〜39重量%、
B2O313〜21重量%、Na2O14〜22重量%、K2O1
〜5重量%、ZnO13〜20重量%、F22〜10重量%、
〔Al2O3〕+〔ZrO2〕+〔TiO2〕=2〜9重量%、
Al2O3≦5重量%、ZrO2≦5重量%、TiO2≦5
重量%である。 式MgxAl2(OH)yCO3・zH2Oで示される層状吸
着剤はホーローフリツトから溶出するBやアルカ
リ分を吸着あるいはイオン交換し、テアリングや
亀裂を防止していると思われる。 前記の吸着剤は、ホーローフリツト100重量部
に対して3重量部を超えて含融されていると、作
業温度が上昇し、泡が発生し光沢が悪くなる。ま
た0.2重量部未満の場合には、テアリングや亀裂
防止効果はほとんどなく、夏場にアルカリ等の溶
出が非常に多いフリツトを用いた場合、特に施釉
膜厚が厚い(200μm程度以上)時、テアリング、
亀裂、ヘヤーラインが発生し易い。 前記の式で示される吸着剤の釉薬組成物中への
添加方法は、ミル添加の方が好ましい。しかし、
この場合でも、ミル引き時間を短くし(1時間以
内)、ミル中の温度が30℃を超えないようにする
ことが望ましい。 実施例の説明 本発明の低融ホーロー釉薬組成物を得るには、
まず低軟化点ホーローフリツトを作る。その順序
は、所望のフリツト組成に応じて、各成分の原材
料を調合する。充分乾式混合した後、1100〜1300
℃で加熱溶融する。溶融温度、時間は最終的なフ
リツトの組成比を変化させるので、良く管理する
ことが必要である。原料の溶解後20〜40分間ガラ
ス化を進行させ、必要に応じて撹拌することが重
要である。長い間溶融温度に維持しすぎると、ア
ルカリ成分やF2成分が昇華してしまうので、余
り長くしないようにする。溶融後、ガラスは水中
に投入して急冷する。これを乾燥すると低軟化点
ホーローフリツトが得られる。 このようにして得られたホーローフリツト100
重量部に、懸濁剤として粘土、コロイダルシリカ
等を3〜9重量部、止り調整剤として亜硝酸ソー
ダ(NaNO2)、アルミン酸ソーダ(NaAlO2)、
炭酸マグネシウム(MgCO3)等を1重量部以下、
さらに顔料10重量部以下、その他硅石粉、含水硼
砂に水40〜70容量部を添加してボールミル等で粉
砕、混合する。 この時、同時に前記の式で示される吸着剤を
0.2〜3重量部添加する。ここで、ミル内温度は
なるべく30℃以下に管理すると、ミル出し後のス
リツプのポツトライフは長くなる。 スリツプの粒度は、スリツプ50mlの200メツシ
ユ(74μm)残渣が、スプレイで施釉する場合は
1〜7g、デイツプで施釉する場合は15g以下で
あつて、なるべく粗い方がフリツト成分の溶出が
少なくなり好ましい。 このようにして得られたホーロー釉薬組成物
は、酸洗、無電解ニツケルメツキ処理した鋼材器
物にスプレイまたはデイツプ施釉し、乾燥した
後、焼成(たとえば690℃以上4分)してホーロ
ー皮膜化する。 次に実施例について比較例と併せて説明する。
(低軟化点ホーローフリツトの製造) まず、下記の第1表に示す原料を同表に示す割
合で配合し、低軟化点ホーローフリツト用配合物
1、2をつくつた。
INDUSTRIAL APPLICATION FIELD The present invention relates to an enamel glaze composition that can be fired at a low temperature of 750°C or lower. Structure of conventional examples and their problems In general, the enameling treatment of iron plates involves adding clay as a suspending agent, colloidal silica, and NaNO 2 , NaAlO 2 , MgCO 3 as a stopping agent to an enamel frit, which has a coefficient of thermal expansion slightly smaller than that of a steel plate. The resulting slip is mixed with an electrolyte such as, water as a solvent, and milled, and the resulting slip is pickled, glazed on a nickel-treated iron plate, and fired. Among the defects that appear on the surface of the enamel layer processed in this way, defects directly caused by the glaze include tearing, cracks, hair lines, bubbles, and copper heads. These defects are caused by boron and alkali eluted from the hollow frit. The occurrence of these defects is influenced by slip manufacturing conditions, slip storage conditions, enamel film thickness, film drying conditions, handling of dried utensils, firing conditions, etc. In particular, in the case of low-melting enamel that requires the addition of a large amount of B 2 O 3 or alkali components to the enamel frit, the above-mentioned defects tend to occur early. However, low-melting enamel saves resources and energy, and because it is not kept above the A1 transformation point of steel, there is less deformation during firing and thin plates can be used.
Due to its high dimensional accuracy, it is possible to design complex shapes. It has many advantages such as less generation of carbon dioxide gas due to desorption of hydrogen gas adsorbed or occluded in the steel plate and reaction of carbon between the slip and the steel plate, and fewer defects such as nail skipping, bubbles, and pinholes. Therefore, many low-melting enamels have been developed so far. However, most of these are low softening point hollow frits with large amounts of PbO, Sb 2 O 3 and P 2 O 5 added, which poses problems of food hygiene, environmental pollution, and danger during frit manufacturing. Ta. Therefore, a low softening point frit containing no harmful substances was proposed in Japanese Patent Application No. 19243/1983. This low softening point frit contains at least SiO 2 , B 2 O 3 ,
Na2O , K2O , ZnO and F2 , Al2O3 , ZrO2 ,
At least one intermediate oxide selected from the group of TiO 2 and 31 to 39% by weight of SiO 2 ,
B2O3 13-21 % by weight, Na2O14-22 % by weight, K2O1
~5 wt%, ZnO13~20 wt%, F2 2 ~10 wt%,
[Al 2 O 3 ] + [ZrO 2 ] + [TiO 2 ] = 2 to 9% by weight,
Al 2 O 3 ≦5% by weight, ZrO 2 ≦5% by weight, TiO 2 ≦5
% by weight of the hollow frit. This low softening point hollow frit is made of CdS-based red pigments and TiO 2
It is well suited to pigments such as red, yellow, pink, green, blue, black, white, etc., and can be freely produced. However, when this low softening point enamel frit is baked on a steel plate with a general enamel glaze composition as shown below, the frit: 100 parts by weight Frog's eye clay 4 to 7 parts by weight Colloidal silica 0 to 1 part by weight Silica powder (325 Particle size that passes through a mesh sieve)
0 to 6 parts by weight NaNO 2 0 to 0.25 parts by weight Pigment 2 to 6 parts by weight Water 45 to 70 parts by volume If used for a short time after milling, the surface condition, gloss, and color of the enamel will be improved. In good condition. However, if the slip is exposed to high temperatures, such as 35℃ in summer,
When stored at temperatures around 50°C, serious defects such as increased slip viscosity, tearing, cracks, hair lines, crack heads, orange skin, bubbles, and changes in color were observed. In particular, tearing, cracking, and hairlines occurred after only a few hours of storage at high temperatures. In general, low-softening point hollow frits elute more boron, alkali, etc. than high-temperature types. It is thought that this eluted component impairs the wetting (compatibility) between the glaze and the steel plate, or that the eluted component forms crystalline substances such as borax between the frit particles, causing tearing, cracks, and hairlines. . In particular, the low softening point hollow frit of the above composition has excellent color development, but has the drawbacks of eluting a large amount of B and alkali during the slip, and of having a large surface tension when the frit melts. , it was very prone to tearing and cracking. Conventionally, as a method to prevent tearing and cracking, a small amount of urea was added to the slip after milling. However, when urea-added slips are stored at high temperatures, large bubbles form within a short period of time. This is thought to be because urea or urea decomposition products are adsorbed to clay or colloidal silica, and the adsorbed urea or urea decomposition products are desorbed at high temperatures near the firing temperature, resulting in large bubbles being generated on the enamel surface. In the case of low-melting enamel, adsorption of urea or urea decomposition products is promoted by the alkali etc. eluted from the frit, and foaming occurs quickly. When urea was added to a slip using the low softening point hollow frit and stored at 35°C, foaming occurred within several hours. Therefore, in the case of low-melting enamel, whether urea is added during milling or after milling, it is important to keep the milling and slip storage temperatures below 30°C in the summer to avoid high temperatures. The disadvantage was that it had to be managed. OBJECTS OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a low-melting enamel glaze composition that can be fired at a temperature of 750° C. or lower and can be stored for a long period of time. Structure of the Invention The low melting enamel glaze composition of the present invention has a low softening point enamel frit as a main component , and a layered adsorbent represented by the formula Mg Basically, it is contained as an inhibitor. In addition, 2X+4=
Y, X>0. The layered adsorbent represented by Mg x Al 2 (OH) y CO 3・zH 2 O is a hollow frit with a low softening point.
It is preferably 0.2 to 3 parts by weight per 100 parts by weight. Furthermore, the pot life of the slip of the low softening point hollow frit with the following composition is Mg x Al 2 (OH) y CO 3 .
By being able to lengthen the zH 2 O adsorbent,
This brings us closer to practical use of low-melting enamel that can be applied once and has excellent color development. The composition of the low softening point hollow frit is at least SiO 2 , B 2 O 3 ,
Na2O , K2O , ZnO and F2 , Al2O3 , ZrO2 ,
At least one intermediate oxide selected from the group of TiO 2 and 31 to 39% by weight of SiO 2 ,
B2O3 13-21 % by weight, Na2O14-22 % by weight, K2O1
~5 wt%, ZnO13~20 wt%, F2 2 ~10 wt%,
[Al 2 O 3 ] + [ZrO 2 ] + [TiO 2 ] = 2 to 9% by weight,
Al 2 O 3 ≦5% by weight, ZrO 2 ≦5% by weight, TiO 2 ≦5
Weight%. The layered adsorbent with the formula Mg x Al 2 (OH) y CO 3 zH 2 O seems to adsorb or ion-exchange B and alkali components eluted from the hollow frit, thereby preventing tearing and cracking. . If the adsorbent is contained in an amount exceeding 3 parts by weight per 100 parts by weight of the enamel frit, the working temperature will rise, bubbles will occur, and the gloss will deteriorate. Furthermore, if the amount is less than 0.2 parts by weight, there will be little effect on preventing tearing or cracking, and if a frit is used in the summer where a large amount of alkali elutes, especially when the glaze thickness is thick (approximately 200 μm or more), tearing or cracking may occur.
Cracks and hairlines are likely to occur. As for the method of adding the adsorbent represented by the above formula into the glaze composition, mill addition is preferable. but,
Even in this case, it is desirable to keep the milling time short (within 1 hour) and to prevent the temperature in the mill from exceeding 30°C. Description of Examples To obtain the low melting enamel glaze composition of the present invention,
First, make a low softening point enamel frit. The order is that the raw materials for each component are mixed according to the desired frit composition. After thorough dry mixing, 1100~1300
Melt by heating at °C. Since the melting temperature and time change the composition ratio of the final frit, it is necessary to carefully control the melting temperature and time. It is important to allow vitrification to proceed for 20 to 40 minutes after dissolving the raw materials, stirring as necessary. If the temperature is maintained at the melting temperature for too long, the alkali components and F2 components will sublimate, so avoid keeping it too long. After melting, the glass is placed in water and rapidly cooled. When this is dried, a low softening point hollow frit is obtained. Enamel frit 100 obtained in this way
3 to 9 parts by weight of clay, colloidal silica, etc. as a suspending agent, sodium nitrite (NaNO 2 ), sodium aluminate (NaAlO 2 ) as a stopping agent,
1 part by weight or less of magnesium carbonate (MgCO 3 ), etc.
Further, 40 to 70 parts by volume of water are added to 10 parts by weight or less of the pigment, silica powder, and hydrated borax, and the mixture is ground and mixed using a ball mill or the like. At this time, at the same time, the adsorbent represented by the above formula is
Add 0.2 to 3 parts by weight. Here, if the temperature inside the mill is controlled to be as low as 30°C or lower, the pot life of the slip after being taken out of the mill will be longer. Regarding the particle size of the slip, the 200 mesh (74 μm) residue in 50 ml of the slip is 1 to 7 g when spray glazed, and 15 g or less when dip glazed, and the coarser the 200 mesh (74 μm) residue, the better the coarser the 200 mesh (74 μm) residue is, as this will reduce the elution of the frit components. . The enamel glaze composition thus obtained is sprayed or dip-glazed onto pickled and electroless nickel-plated steel utensils, dried, and fired (for example, at 690° C. or higher for 4 minutes) to form an enamel film. Next, examples will be described together with comparative examples.
(Manufacture of low softening point hollow frit) First, the raw materials shown in Table 1 below were blended in the proportions shown in the same table to prepare formulations 1 and 2 for low softening point hollow frit.

【表】【table】

【表】【table】

【表】 そして、この配合物を混合してアルミナるつぼ
に入れ、1100〜1300℃において溶融して清澄させ
たのち、水中に投入して冷却した。 その結果、第2表の低軟化点ホーローフリツト
G−1、G−2が得られた。 ホーローフリツトG−1、G−2共に750℃以
下で焼成可能な低軟化点フリツトであるが、G−
1の方がフリツトと鋼板の濡れが悪く、スリツプ
中に溶出するアルカリ量も多い。 なお、第2表における評価方法は以下に従つ
た。 (1) タブレツトテスト(フリツトの流動性) ガラスフリツトの流動性は200メツシユのふ
るいを通過する粒度のフリツト2gを採取し、
その試料を金型に入れ、1トン/cm2の圧力でプ
レス成形し、直径12.7mmのタブレツトとする。
そして、その試料を酸洗、無電解ニツケルメツ
キ処理した鋼板の上にのせ、690℃で5分間加
熱し、試料の流動径をノギスで測定する。この
値は、フリツトの硬さと濡れ性を合せた評価と
なる。 (2) フリツトの熱水溶解量 200メツシユのふるいを通過するが300メツシ
ユのふるいを通過しない粒度のフリツト5gを
100c.c.の蒸溜水に浸浸し1時間煮沸した後、そ
の上澄み液を取り、メチルオレンジ指示薬を用
いて、溶出したアルカリ成分を0.1N−H2SO4
で滴定し、その消費量を溶出アルカリ量の尺度
とした。 (ホーロースリツプの製造) 上記のようにして得られた低軟化点ホーローフ
リツトG−1、G−2を乾燥して粗粉砕したの
ち、下記の第3表に示すミル添加剤を同表に示す
割合で配合した。
[Table] Then, this mixture was mixed and put into an alumina crucible, and after melting and clarifying at 1100 to 1300°C, it was put into water and cooled. As a result, low softening point hollow frits G-1 and G-2 shown in Table 2 were obtained. Both hollow frits G-1 and G-2 are low softening point frits that can be fired at temperatures below 750°C, but G-
In case of No. 1, the wetting of the frit and the steel plate is poorer, and the amount of alkali eluted into the slip is also greater. The evaluation method in Table 2 was as follows. (1) Tablet test (fluidity of the frit) The fluidity of the glass frit was tested by taking 2 g of the frit with a particle size that would pass through a 200-mesh sieve.
The sample is placed in a mold and press-molded at a pressure of 1 ton/cm 2 to form a tablet with a diameter of 12.7 mm.
Then, the sample was placed on a steel plate that had been pickled and electroless nickel plated, heated at 690°C for 5 minutes, and the flow diameter of the sample was measured with calipers. This value is an evaluation that combines the hardness and wettability of the frit. (2) Amount of frit dissolved in hot water 5 g of frit with a particle size that passes through a 200 mesh sieve but not a 300 mesh sieve.
After immersing in 100 c.c. of distilled water and boiling for 1 hour, remove the supernatant liquid and use a methyl orange indicator to remove the eluted alkaline components by 0.1N−H 2 SO 4
The amount consumed was used as a measure of the amount of alkali eluted. (Manufacture of enamel frits) After drying and coarsely pulverizing the low softening point enamel frits G-1 and G-2 obtained as described above, the mill additives shown in Table 3 below were added to the same table. They were mixed in the proportions shown.

【表】 次に第3表に示す配合物のフリツト3Kg分を、
10のポツトミルに投入して、約75r.p.m.で1時
間混合粉砕した。この時、ミル出し温度は30℃以
下に、スリツプの粒度(50c.c.の200メツシユ残渣)
は1〜7gとなるように調整した。 スリツプはミル出し直後にホーロー皮膜の状態
を確認し、第3表に示す貯蔵温度の恒温槽あるい
は恒温水槽に貯蔵し、定期的にホーロー皮膜の状
態を確認した。 ホーロー加工処理は次の条件で行なつた。 基材: 鋼種 SPP材 寸法 大きさ100mm×100mm、厚さ0.6mm 前処理 酸洗減量値400〜500mg/dm2 ニツケル付着量14〜20mg/dm2 施釉:スプレイ法 ホーロー膜厚;150〜180μm 乾燥方法;遠赤外線乾燥 焼成条件;焼成時間は3分40秒とし、焼成温度は
第4表に示す。 上記の条件でポツトライフを確認した結果を第
4表に示す。
[Table] Next, add 3 kg of frits of the formulation shown in Table 3.
The mixture was placed in a No. 10 pot mill and mixed and pulverized at about 75 rpm for 1 hour. At this time, the milling temperature is below 30℃, and the slip particle size (50c.c. 200 mesh residue)
was adjusted to be 1 to 7 g. The condition of the enamel coating on the slips was checked immediately after being taken out of the mill, and the slips were stored in a constant temperature bath or constant temperature water bath at the storage temperature shown in Table 3, and the condition of the enamel coating was checked periodically. Enamel processing was performed under the following conditions. Base material: Steel type SPP material Dimensions Size 100mm x 100mm, thickness 0.6mm Pretreatment Pickling weight loss 400-500mg/dm 2Nickel adhesion amount 14-20mg/dm 2Glazing : Spray method Enamel film thickness: 150-180μm Drying Method: Far-infrared drying firing conditions: Firing time was 3 minutes and 40 seconds, and the firing temperature is shown in Table 4. Table 4 shows the results of checking the pot life under the above conditions.

【表】【table】

【表】 フリツトG−1に対するMgxAl2(OH)yCO3
zH2Oの効果を、テアリング・亀裂防止剤を添加
しなかつた場合、および尿素の効果と比較した。 第4表に示すように、スリツプを冷蔵する場合
は、防止剤を添加しなくても実用上問題はない。 しかし、35℃付近、たとえば夏場に室温でG−
1フリツトのスリツプを貯蔵する場合は、テアリ
ング・亀裂防止剤を添加しなければ、4時間程度
で使用に耐えないスリツプになる。 そこで、防止剤として尿素を試みると、6時間
以内で大きな泡が発生する。したがつて、これら
の防止剤も実用的ではない。 これらに比較して、層状吸着剤、たとえば
Mg4.5Al2(OH)13CO3・3.5H2O、 Mg6Al2(OH)16CO3・4H2Oを添加すると、テ
アリングや亀裂の発生を遅らすと共に、大きな泡
の発生も尿素などにくらべるとかなり遅くなり、
夏場では1〜2日は冷蔵しなくても充分使用に耐
えるものを得ることができる。 実施例6、比較例6,7でフリツトG−2のス
リツプのポツトライフ特性を示した。 第4表に示すように、低軟化点ホーローフリツ
トでも流動性が良く、溶出アルカリ量の少ないフ
リツトの場合は、テアリング・亀裂防止剤を添加
しなくても充分実用に耐える。 しかし、フリツトG−2においても、器物の取
り扱い上の衝撃でテアリングおよび亀裂の発生す
る恐れのある場合には防止剤を添加する。この場
合にも尿素よりも前記の式で示される吸着剤を使
用した方が、泡発生までの時期が長くて優れてい
る。 発明の効果 以上のように、本発明の低融ホーロー釉薬組成
物は、テアリングおよび亀裂、さらに大きな泡の
発生しにくいものである。特にフリツトとしての
流動性や鋼板との濡れ性が悪く、アルカリ溶出量
の多い低軟化点ホーローフリツトを用いた場合で
も、夏場においても充分に使用に耐える低融ホー
ロー釉薬組成物を提供できる。 これまでの低融ホーローは、変形・強度劣化お
よびピンホール・爪飛びが少なく、かつ省資源・
省エネルギであるなど多くの特徴を持ちながら、
フリツトからのB2O3やアルカリ成分の溶出が多
いため、スリツプのポツトライフが短く実用化に
大きな支障があつた。しかし、本発明によつて大
きく実用化に近づけることができる。
[Table] Mg x Al 2 (OH) y CO 3 for Fritz G-1
The effect of zH 2 O was compared to that of urea without the addition of anti-tearing agent. As shown in Table 4, when the slip is refrigerated, there is no practical problem even if no inhibitor is added. However, at room temperature around 35℃, for example in summer,
When storing one frit of slip, the slip becomes unusable in about 4 hours unless a tearing/cracking inhibitor is added. When urea was tried as an inhibitor, large bubbles were generated within 6 hours. Therefore, these inhibitors are also not practical. In comparison to these, layered adsorbents, e.g.
Adding Mg 4.5 Al 2 (OH) 13 CO 3・3.5H 2 O, Mg 6 Al 2 (OH) 16 CO 3・4H 2 O not only delays tearing and cracking, but also prevents the formation of large bubbles. It is considerably slower than
In the summer, it is possible to obtain products that can be used for 1 to 2 days without refrigeration. In Example 6 and Comparative Examples 6 and 7, the pot life characteristics of the slip of Frit G-2 were shown. As shown in Table 4, even low softening point hollow frits have good fluidity and are sufficiently usable for practical use without the addition of tearing/crack preventive agents. However, even in Frit G-2, an inhibitor is added if there is a risk of tearing or cracking occurring due to impact during handling of the utensil. In this case as well, it is better to use the adsorbent represented by the above formula than urea because it takes a longer time to generate bubbles. Effects of the Invention As described above, the low melting enamel glaze composition of the present invention is resistant to tearing, cracking, and large bubbles. In particular, even when using a low softening point enamel frit which has poor fluidity as a frit, poor wettability with a steel plate, and a large amount of alkali elution, it is possible to provide a low melting enamel glaze composition that can be satisfactorily used even in summer. Conventional low-melting enamel has minimal deformation, strength deterioration, pinholes, and nail skipping, and is resource-saving.
While having many features such as energy saving,
Because a large amount of B 2 O 3 and alkaline components were leached from the frit, the pot life of the slip was short, which greatly hindered its practical application. However, the present invention can greatly bring it closer to practical application.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 低軟化点ホーローフリツトを主成分とし、
750℃以下で焼成できるホーロー用釉薬組成物で
あつて式MgxAl2(OH)yCO3・zH2Oで示される層
状吸着剤をテアリングおよび亀裂防止剤として含
有する低融ホーロー釉薬組成物。 2 前記吸着剤がホーローフリツト100重量部に
対して0.2〜3重量部含有されている特許請求の
範囲第1項記載の低融ホーロー釉薬組成物。 3 低軟化点ホーローフリツトが、少なくとも
SiO2、B2O3、Na2O、K2O、ZnOおよびF2と、
Al2O3、ZrO2、TiO2の群から選択される少なく
とも1種の中間酸化物とから構成され、SiO2
31〜39重量%、B2O3を13〜21重量%、Na2Oを14
〜22重量%、K2Oを1〜5重量%、ZnOを13〜20
重量%、F2を2〜10重量%含有し、かつ前記中
間酸化物を1種で5重量%以下、総量で2〜9重
量%の範囲で含有するホーローフリツトである特
許請求の範囲第1項または第2項記載の低融ホー
ロー釉薬組成物。
[Claims] 1. Main component is low softening point hollow frit,
A low-melting enamel glaze composition that can be fired at 750°C or lower and contains a layered adsorbent represented by the formula Mg x Al 2 (OH) y CO 3 zH 2 O as a tearing and crack preventive agent. . 2. The low melting enamel glaze composition according to claim 1, wherein the adsorbent is contained in an amount of 0.2 to 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the enamel frit. 3 The low softening point hollow frit is at least
SiO2 , B2O3 , Na2O , K2O , ZnO and F2 ,
At least one intermediate oxide selected from the group of Al 2 O 3 , ZrO 2 and TiO 2 , and SiO 2
31-39 wt%, 13-21 wt% B2O3 , 14 wt% Na2O
~22 wt%, K2O 1-5 wt%, ZnO 13-20
Claim 1, which is a hollow frit containing 2 to 10% by weight of F2 and 5 to 9% by weight of one type of intermediate oxide, and 2 to 9% by weight in total. The low melting enamel glaze composition according to item 1 or 2.
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