JPS6161105B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6161105B2
JPS6161105B2 JP8065578A JP8065578A JPS6161105B2 JP S6161105 B2 JPS6161105 B2 JP S6161105B2 JP 8065578 A JP8065578 A JP 8065578A JP 8065578 A JP8065578 A JP 8065578A JP S6161105 B2 JPS6161105 B2 JP S6161105B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
photoconductive layer
image forming
binder
photoconductive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP8065578A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS557761A (en
Inventor
Katsumi Nakagawa
Tadaharu Fukuda
Tooru Takahashi
Hideyo Kondo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP8065578A priority Critical patent/JPS557761A/en
Publication of JPS557761A publication Critical patent/JPS557761A/en
Publication of JPS6161105B2 publication Critical patent/JPS6161105B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、光(ここでは広義の光で、紫外線可
視光線、赤外光線、X線、γ線等を示す)の様な
電磁波を利用して像形成するのに使用される電子
写真用像形成部材に関する。 従来、電子写真用像形成部材の光導電層を構成
する光導電材料としては、Se、CdS、ZnO等の無
機光導電材料やポリ−Nビニルカルバゾール
(PVK)、トリニトロフルオレノン(TNF)等の
有機光導電材料(OPC)が一般的に使用されて
いる。 両乍ら、これ等の光導電材料を使用する電子写
真用像形成部材に於いては、未だ諸々の解決され
得る可き点があつて、ある程度の条件緩和をし
て、個々の状況に応じて各々適当な電子写真用像
形成部材を使用し、その傍、改善改良を計つてい
るのが実情である。 他方、電子写真用像形成部材の光導電層を構成
する光導電材料として、新しい第3の材料の開発
も進められている。 その様な材料として最近有望視されているもの
の中にアモルフアスシリコン(以後a−Siと略記
する)がある。 a−Si膜は、開発初期のころは、その製造法や
製造条件によつて、その構造が左右される為に
種々の電気的特性、光学的特性を示し、再現性の
点に大きな問題を抱えていた。例えば、初期にお
いて、真空蒸着法やスパツタ−リング法で形成さ
れたa−Si膜は、ポイド等の欠陥を多量に含んで
いて、その為に電気的性質も光学的性質も大きく
影響を受け、基礎物性の研究材料としてもそれ程
注目されてはいず、応用の為の研究開発もされな
かつた。而乍ら、アモルフアスではP、n制御が
不可能とされていたのが、a−Siに於いて、1976
年初頭にアモルフアスとして初めてp−n接合が
実現し得るという報告(Applid Physics
Letter;Vol 28、No.2、15 January 1976)が成
されて以来、大きな関心が集められ、以後主とし
て太陽電池への応用に研究開発力が注がれて来て
いる。 この為、これ迄に報告されているa−Si膜は、
太陽電池用として開発されたものであるので、そ
の電気的特性・光学的特性の点に於いて、電子写
真用像形成部材の光導電層としては使用し得ない
のが現状である。即ち、太陽電池は、太陽エネル
ギーを電流の形に変換して取り出すので、SN比
が良くて、効率良く電流を取り出すには、a−Si
膜の抵抗は比較的小さくなければならないが、余
り抵抗が小さ過ぎると光感度が低下し、SN比が
悪くなるので、その特性の一つとしての抵抗は
105〜108Ωcm程度が要求される。 而乍ら、この程度の抵抗(暗抵抗:暗所での抵
抗)を有するa−Si膜は、電子写真用像形成部材
の光導電層としては、余りにも抵抗(暗抵抗)が
低過ぎて、現在、知られている電子写真法を適用
するのでは全く使用し得ない。 又、電子写真用像形成部材の光導電層構成材料
としては、明抵抗(光照射時の抵抗)が暗抵抗に
較べて2〜4桁程度小さいことが要求されるが、
従来、報告されているa−Si膜では精々2桁程度
あるので、この点に於いても従来のa−Si膜で
は、その特性を充分満足し得る光導電層とは成り
得なかつた。 又、別には、これ迄のa−Si膜に関する報告で
は、暗抵抗を増大させると光感度が低下し、例え
ば、暗抵抗が1010Ω・cmでのa−Si膜では、明
抵抗も同程度の値を示すことが示されているが、
この点に於ても、従来のa−Si膜は電子写真用像
形成部材の光導電層とは成り得なかつた。 従つて、電子写真用像形成部材の光導電層とし
て充分適用される可き暗抵抗と光感度を具備する
a−Si膜が再現性と生産性を加味して開発される
必要がある。 ところで、a−Si層は一般的には、グロー放電
法やスパツタリング法等の放電現象を利用する堆
積法によつて適当な支持体上に形成される。 この様な堆積法によつてa−Si層を形成する場
合、層形成時の支持体温度によつて形成された層
の暗抵抗と光感度が変わることは種々の報告書や
文献に示されている。 即ち、例えば、支持体温度を400℃程度の高温
に保持して層形成すれば電気的特性の一つである
明抵抗の減少を計る事が出来る。而乍らa−Siの
層成長速度は、例えばSe等に較べて遥かに遅い
為、先の様な高温を電子写真用像形成部材の光導
電層に要求される層厚になる迄精度良く一定に維
持することは甚だ困難である。更に、電子写真用
像形成部材の光導電層としては、総受光面は、通
常の場合であつても、例えばA4判やB4判程度以
上の大面積を要するものであるから、この様な大
面積に亘つて層形成終了まで先に示した様な高温
状態を均一に保持する為に温度制御することは現
在の技術では至難の術である。然も、支持体温度
を変化させる場合に於いても、先の様な大面積に
亘つて、場所による温度の変化率斑のない様に制
御することすらも難かしい。 この様に所望の暗抵抗及び明抵抗を得る為に支
持体温度を高温で長時間且つ温度斑のない様に大
面積に亘つて制御するのは極めて困難である。従
つて、層形成時の場所及び時間による温度斑が生
じ大面積に亘つて層厚の均一化が計れないばかり
か、電子写真用像形成部材の光導電層に要求され
る電気的及び光学的特性の均一化を計ることも出
来ない。 本発明は上記の点に鑑み成されたものであつ
て、a−Si形成用の材料の存在下で後述するある
特定の条件下でプラズマを生起させれば極めて光
感度の高いa−Siが粉末状として単時間に多量得
られ、然も斯かるa−Si粉末粒子はそのまま単一
構成材料系の光導電層としたのでは、電子写真用
像形成部材の光導電層としては適用され得ない
が、親和性のある結着剤中に分散させたタイプの
光導電層とすれば、極めて電子写真特性に優れた
光導電層と成り得る事を見出した点に基いてい
る。 本発明の電子写真用像形成部材は、支持体と、
光導電材料粉末粒子が結着剤中に分散されて層形
成されている光導電層とを有する電子写真用像形
成部材に於いて、光導電材料粉末粒子が10〜40原
子%の水素を含有するアモルフアスシリコン粉末
粒子である事を特徴とする。 この様に、a−Si粉末を結着剤中に分散して光
導電層を形成する場合にはa−Si粉末粒子が短時
間に多量生産され得るのでグロー放電法やスバツ
ターリング法等の放電現象を利用する堆積法によ
つて、a−Si光導電層を形成する場合に較べて、
厳密な支持体温度の制御を、然も長時間行う必要
がない、前記の堆積法によつてa−Si光導電層を
形成する場合の様に層成長速度の緩慢さに由来す
る生産効率上の不利がない生産設備の資本投下が
それ程多くない、幾らでも大きな面積を有する光
導電層が、然も如何様な形状の支持体へも形成す
る事が出来る、等々、前記の堆積法によつてa−
Si光導電層を形成する場合にはない工業的に優れ
た効果を有する。 又、形成された電子写真用像形成部材は、高感
度であり、繰返し使用に優れていると共に機械的
強度が強く、又、帯電作用や放電作用に対して常
時安定しており、クリーニング性、転写効率にも
優れ、常に多数枚の良質のコピーを提供し得る。 本発明の電子写真用像形成部材は、基本的に
は、後述する方法によつて製造されたa−Si粉末
粒子を必要に応じて溶剤を使用して所定の特性を
有する結着剤と共に混練し、金属等の適当な支持
体上に塗布し、固化させて光導電層を形成する事
によつて得られる。 本発明に於て、使用される支持体としては、通
常電子写真分野に於いて使用される支持体の殆ん
どのものが有効であるが、製造される像形成部材
の形態、例えば静電像形成の為の帯電時に支持体
側より光導電層中に電荷が注入される必要がある
か否かによつて使用される支持体の種類は異なる
ものであるから、像形成部材の形態に合せて、適
宜選択して最良のものを使用する様にするのが望
ましい。 本発明に於いて、使用される支持体としては例
えば、ステンレス、Al、Cr、Mo、Au、Ir、
Nb、Ta、V、Ti、Pt、Pd等の金属又はこれ等の
合金等の導電性支持体、或いは、合成樹脂のフイ
ルム又はシート、又はガラス、セラミツク等の電
気絶縁性支持体が挙げられる。支持体はその上に
光導電層が形成される前に、一連の清浄処理が施
されるのが望ましい。この様な清浄処理に於て、
一般的には、例えば金属性支持体であれば、エツ
チングによつて表面を効果的に清浄化するアルカ
リ性又は酸性の溶液と接触される。その後支持体
は清浄雰囲気中で乾燥され、その後の準備処理が
なければ、次いでその上に光導電層が形成され
る。電気絶縁性支持体の場合には、必要に応じ
て、その表面を導電処理される。 例えば、ガラスであれば、In2O3、SnO2等でそ
の表面が導電処理され、或いはポリイミドフイル
ム等の合成樹脂フイルムであれば、Al、Ag、
Pb、Zn、Ni、Au、Cr、Mo、Ir、Nb、Ta、V、
Ti、Pt等の金属を以つて真空蒸着、電子ビーム
蒸着、スパツタリング等で処理し、又は前記金属
でラミネート処理して、その表面が導電処理され
る。支持体の形状としては、円筒状、ベルト状、
板状等、任意の形状とし得、所望によつて、その
形状は決定されるが、連続高速複写の場合には、
無端ベルト状又は円筒状とするのが望ましい。 支持体の厚さは、所望通りの像形成部材が形成
される様に適宜決定されるが、像形成部材として
可撓性が要求される場合には、支持体としての機
能が充分発揮される範囲内であれば、可能な限り
薄くされる。而乍ら、この様な場合、支持体の製
造上及び取扱い上、機械的強度等の点から、通常
は、10μ以上とされる。 a−Si粉末粒子と共に光導電層を構成する材料
である結着剤としては、本発明の目的を達成す可
く、製造されたa−Si粉末粒子の電気的特性、光
学的物性及び該a−Si粉末粒子との化学的・物理
的親和性等を考慮して、所望とし得る材料から適
宜選択して使用される。その様な材料としては、
通常、電子写真分野において、使用されている、
成膜能を有し電気絶縁性である樹脂結着剤の多く
のものが有効に使用される。 この様な樹脂結着剤としては、熱硬化性樹脂、
熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂、電子線硬化性樹
脂、X線硬化性樹脂等であり、具体的には、フエ
ノール樹脂:フラン樹脂:キシレン樹脂:ホルム
アルデヒト樹脂:尿素樹脂:メラミン樹脂:アニ
リン樹脂:スルホンアミド樹脂:アルキド樹脂:
不飽和ポリエステル樹脂:エポキシ樹脂:トリア
リルシアヌレート樹脂:ポリエチレン:ポリプロ
ピレン:ポリスチレン:ポリ酢酸ビニル:ポリア
クリレート:ポリメタクリレート:ポリ塩化ビニ
ル:ポリ塩化ビニリデン:ポリテトラフルオロエ
チレン:ポリクロロトリフルオロエチレン:ポリ
フツ化ビニル:ポリ弗化ビニリデン:テトラフル
オロエチレン:ヘキサフルオロプロピレン共重合
体:クロロトリフルオロエチレン:弗化ビニリデ
ン共重合体等の弗素樹脂:ポリアクリロニトリ
ル;ポリビニルエーテル:ポリビニルケトン:ポ
リエーテル:ポリカーボネート:ポリエステル:
ナイロン6、ナイロン66、ナイロン6/66等のポ
リアミド:ポリウレタン:シリコーン酢酸セルロ
ース、エチルセルロース、プロピオン酢酸セルロ
ース、、等のセルロース誘導体:等々が挙げら
れ、これ等は、必要に応じて2種以上混合して使
用しても良い。 本発明に於いては、光導電層を構成する結着剤
として、上記した樹脂結着剤から適宜選択して使
用されるものであるが又、別にはa−Si粉末粒子
との化学的近似性の点から、成膜能を有するシリ
コーンワニス、シリコーンゴム等のシリコーン系
化合物も結合剤として有効に使用され得る。 シリコーンワニスとしては、塗膜形成用ワニ
ス、各種塗料用ビヒクル、あるいは成形材料用の
ベースレンジとして使用されるシリコーンワニス
が挙げられ、例えば次式で示されるようなポリシ
ロキサンを主体としてなる純シリコーンワニス、 ケイ素原子に結合した水酸基やアルコキシ基を
もつ例えば次式の如き低分子量ポリシロキサンを
主体としてなるシリコーン中間体、 また、各種樹脂をシリコーン中間体あるいはシ
ランカツプリング剤、純シリコーンワニスと反応
させることにより得られる各種樹脂のシリコーン
変性ワニスが挙げられ、例えば アルキツド変性シリコーンワニスとしては分子
中に なる構造を有するもの、エポキシシリコーンワニ
スとしては例えば ポリエステル変性シリコーンワニス アクリル変性シリコーンワニス フエノール変性シリコーンワニス ポリウレタン変性シリコーンワニス メラミン変性シリコーンワニス等があり、 更に無溶剤シリコーンワニスとして次式で表わ
される如きシリコーンワニスも挙げられる。 (φ:C6H5、Me;CH3、V;CH2=CH) シリコーンゴムとしては熱硬化型と常温硬化型
(一般にRTVと称す)とに区別されるが、本発明
では常温硬化型(RTV型)の方が好ましく使用
されるものである。 RTVシリコーンゴムには一液型と二液型があ
るがどちらも選択が可能である。 一液型RTVシリコーンゴムとしては一般式 (ここではR1、R2はアルキル基、フエニル基、ビ
ニル基、三フツ化プロピル基等)から成る主鎖の
末端にアセトキシ基、オキシム基、アコキシル
基、又はアルキル基を付けたもので、空気中の湿
分により脱酢酸、脱オキシム、脱アルコール、脱
アミンの縮合反応が進行し常温から比較的低い温
度で架橋構造をとるもので、前記縮合反応の型に
より脱酢酸型一液性常温硬化型シリコーンゴム、
脱オキシ型一液性常温硬化型シリコーンゴム、脱
アルコール型一液性常温硬化型シリコーンゴム、
脱アミン型一液性常温硬化型シリコーンゴムの4
つの型を挙げることができる。 次に二液性常温硬化型シリコーンゴムも使用可
能でありこのシリコーンゴムはベースオイルとし
てジオルガノポリシロキサンと架橋剤として3官
能性以上のシラン又はシロキサン及び硬化触媒な
どから構成され、硬化機構としては縮合反応型
(脱アルコール縮合反応型、脱水縮合反応型、脱
水素縮合反応型)及び付加反応型がある。 本発明の目的と達成する為に結着剤として使用
される上記シリコーン系化合物としては、市販さ
れているシリコーン系のワニス、ゴム等の多くの
ものが有効に使用され、例えば、具体例として信
越化学工業株式会社のKR251、KR255、
KR5240、KR114、KE10RTV、KE66RTV、
KE1204(B)、KE104Gel、KE103RTV、
KE111RTV、KE1400RTV、KE41RTV、
KE44RTV、KE445RTV、KE42S−RTV、
KE441RTV、KE45S−RTV、KE48RTV、
KE102RTV、KE1206RTV、KE16、
KE1091RTV、KE12RTV、KE112RTV、
KJR601、KJR4010、東芝シリコーン株式会社の
TSR144、TSR1205、TSR1291、YR3110、
TSE370RTV、TSE328RTV、TSE371RTV、
TSE353RTV、TSE380RTV、TSE3402RTV、
TSE3503RTV、TSE−350−5RTV、
TSE300RTV、RTV11、TSE370−RTV、
YE3085、YE5505、トーレ・シリコーン株式会社
のSH630、SH850、SH6005、R4−3117、
SH649、SH6101、SH6100、SE5011RTV、
SH780、SH738、SH9551、SH9583、SH9731、
SH1820、SH1840、SH643、SH2104、富士高分子
工業株式会社のベルガンC、ベルガンD、ベルガ
ンF、FSXR−2622、シラスコンRTV6501、シラ
スコンRTV6521、シラスコンRTV6700、シラス
コンRTV6601、シラスコンRTV6589、FSXS−
2279、シルポツト200、シラシール3FW、シロテ
ツクス32B、FSXF−2500等を上げることがで
き、必要に応じてこれ等結着剤として使用される
化合物を2種以上混合使用しても良い。 更に、本発明に於いては結着剤として、電気絶
縁性であつて、成膜性のある合成ゴムの多くのも
のが有効に使用され得る。具体的には例えば、ポ
リブタジエンゴム、ブタジエンアクリロニトクル
ゴム、アクリルゴム、ウレタンゴム等が挙げられ
る。 これ迄に列挙した結着剤の中で、殊に体積固有
抵抗が1012Ω・cm以上、好適には1013Ω・cm以
上、最適には1014Ω・cm以上のものの中から選択
して使用するのが望ましい。 又、絶縁耐力として通常、10KV/mm以上、好
適には15KV/mm以上、最適には20KV/mm以上の
ものから選択されると良い。 本発明に於いて、光導電層を形成する際の上記
結着剤の量は、所望とする電子写真特性を有する
光導電層が形成される可く適宜決定されるもので
あるが、a−Si粉末粒子との重量比で通常は5〜
60Wt%、好適には8〜50wt%最適には10〜40wt
%とされる。 a−Si粉末粒子を結着剤と共に混練分散させる
為の溶剤としては使用される結着剤の種類に応じ
て、a−Si粉末粒子に悪影響を与えないものから
選択される。この様な溶剤としては、通常、市販
されている有機溶剤の多くのものが有効に使用さ
れ得る。具体的に挙げれば、例えば塩化メチレ
ン、クロロホルム、二塩化エタン、1・1・2三
塩化エタン、三塩化レチレン、四塩化エタン、四
塩化炭素、1・2塩化プロパン、1・1・1三塩
化エタン、四塩化エチレン、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、酢酸イソアミル、セロソルビアセテート、
トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケ
トン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルアミド、N−メチルピロリドン、メチルアルコ
ール、エチルアルコール、イソプロピルアルコー
ルおよびブチルアルコール等のアルコール類など
が挙げられる。 本発明に於いては、光導電層を構成する結着剤
として、前記の材料の他、光感度の向上、層中で
の電荷移動性の向上等の目的で、所謂有機光電材
料を使用しても良い。 使用される有機光導電材料としては、非光照射
時の抵抗(暗抵抗)及び成膜性として前記した結
着剤に就て記した特性と同様の特性を有するもの
から選択して使用するのが望ましい。その様な有
機光導電材料としては、PVK、カルバゾール、
N−エチルカルバゾール、N−イソプロピルカル
バゾール、N−フエニルカルバゾール、テトラフ
エニルビレン、1−メチルビレン、ペリレン、ク
リセン、アトラセン、テトラセン、テトラフエ
ン、2−フエニルナフタリン、アザピレン、フル
オレン、フルオレノン、1−エチルピレン、アセ
チルピレン、2・3−ベンゾグリセリン、3・4
−ベンゾピレン、1・4−ブロモピレン、フエニ
ルインドール、ポリビニルピレン、ポリビニルテ
トラセン、ポリビニルベリレン、ポリビニルテト
ラフエン、ポリアクリロニトリル、PVK:TNF
(単量体でのモル比1:1)に、テトラニトロフ
ルオレノン、ジニトロアントラセン、ジニトロア
クリデン、テトラシアノフイレン、ジニトロアン
トラキノン等が挙げられる。 これらの有機光導電材料は、要求される特性を
低下させない範囲に於いて、2種以上混合して使
用しても良いし、又、前記した電気絶縁性の結着
剤と混合して使用しても良い。 a−Si系光導電層の層厚としては、所望される
電子写真特性及び使用条件、例えば、可撓性が要
求されるか否か或いは、適用されるa−Si粉末粒
子の粒経、暗減衰特性、又は形成された光導電層
の電気的、光学的特性の均一化の点等に応じて適
宜決定されるものがあるが、通常の場合10〜80
μ、好適には15〜70μ最適には20〜50μとされる
のが望ましい。 本発明の電子写真用像形成部材に於いては、上
記の様に支持体と光導電層を基本的層構成とする
ものであるが、更に光導電層上に所謂保護層や電
気絶縁層と称される表面被覆層を設けても良い。 本発明に於いて、表面被覆層に要求される特性
は、適用する電子写真プロセスによつて各々異な
る。即ち、例えば、特公昭42−23910号公報、同
43−24748号公報に記載されている如きNP方式の
様な電子写真プロセスを適用するのであれば、表
面被覆層は、電気的絶縁性であつて、帯電処理を
受けた際の静電荷保持能が充分あつて、ある程度
以上の厚みがあることが要求されるが、例えば、
カールソンプロセスの如き電子写真プロセスを適
用するのであれば、静電像形成後の明部の電位は
非常に小さいことが望ましいので表面被覆層の厚
さとしては非常に薄いことが要求される。表面被
覆層は、その所望される電気的特性を満足するの
に加えて、光導電層に化学的・物理的に悪影響を
与えないこと、光導電層との電気的接触性及び接
着性、更には耐湿性、耐摩耗性、クリーニング性
等を考慮して形成される。 表面被覆層の形成材料として有効に使用される
ものとして、その代表的なのは、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリカーボネート、ポリプロピレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
ビニルアルコール、ポリスチレン、ポリアミド、
ポリ四弗化エチレン、ポリ三弗化塩化エチレン、
ポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビニリデン、六弗化プ
ロピレン一四弗化エチレンコポリマー、三弗化エ
チレン一弗化ビニリデンコポリマー、ポリブデ
ン、ポリビニルブチラール、ポリウレタン等の合
成樹脂、シアセテート、トリアセテート等のセル
ロース誘導体等が挙げられる。これらの合成樹脂
又はセルロース誘導体は、フイルム状とされて光
導電層上に貼合されても良く、又、それ等の塗布
液を形成して、光導電層上に塗布し、層形成して
も良い。 表面被覆層の層厚は、所望される特性に応じ
て、又、使用される材質によつて適宜決定される
が、通常の場合、0.5〜70μ程度とされる。殊に
表面被覆層が先述した保護層としての機能が要求
される場合には、通常の場合、10μ以下とされ、
逆に電気的絶縁層としての機能が要求される場合
には、通常の場合10μ以上とされる。而乍ら、こ
の保護層と電気絶縁層とを差別する層厚値は、使
用材料及び適用される電子写真プロセス、設計さ
れる電子写真用像形成部材の構造によつて、変動
するもので、先に10μという値は絶対的なもので
はない。 基本的構成を支持体と光導電層とし、該光導電
層が自由表面を有するか、又は該光導電層上に設
けられた所謂保護層としての表面被覆層が自由表
面を有し、前記光篤導電層或いは保護層の自由表
面に静電像形成の為の帯電処理が施される像形成
部材に於いては、支持体と該支持体上に設けられ
る層との間に、静電線形成の際の帯電処理時に支
持体側からキヤリアーの注入を阻止する働きのあ
る障壁層を設けるのが一層好ましいものである。
この様な支持体側からのキヤリアーの注入を阻止
する働きのある障壁層を形成する材料としては、
選択される支持体の種類光導電層の電気的特性に
応じて適宜選択されて適当なものが使用される。
その様な障壁層形成材料としては、例えば
Al2O3、SiO、SiO2等の無機絶縁性化合物、ポリ
エチレン、ポリカーボネイト、ポリウレタン、パ
リレン等の有機絶縁性化合物Au、Ir、Pt、Rh、
Pd、Mo等の金属である。 本発明に於いては、形成される電子写真用像形
成部材の転写画像性、耐久性、繰返し使用性、或
いは光導電層、支持体、表面被覆層、障壁層等の
中間層等各層間に於ける電気的特性等の一層の改
善の目的で、層形成する際支持体或いは既に形成
した層の表面をシラン系処理剤で表面処理すると
良い。 本発明に於いて、好適に使用されるシラン系処
理剤としては、例えば次の様な化学式で表わされ
る化合物が挙げられる。即ち アミノシランのメタノール溶液等である。 本発明に使用されるシラン系処理剤として具体
的には通常市販されている多くのものが有効に使
用され、例えばトーレ・シリコーン株式会社の
SH6020、SH6026、SH6031、DC6032、SH6040、
SH6062、SH6075、SH6076、DC5456、X1−
6000、PRX−11、PRX−19、PRX−24、
SH6070、SH6079、SH2260、信越化学工業株式
会社のKA1003、KBE1003、KBC1003、
KBM403、KBM503、KBM602、KBM603、プラ
イマーMT、プライマーU、プライマーW、プラ
イマーD、プライーT、プライマーA、プライマ
ーS、プライマーNo.4、プライマーNo.5、東芝シ
リコーン株式会社のME11、ME13、ME121、
ME123、ME124、ME151、ME152、ME20、
ME21、富士高分子工業株式会社のFSプライマー
Sなどが挙げられる。 これらのシラン系処理剤は有機溶剤または水、
または結着剤を溶解した溶液で稀釈するか、ある
いは何ら稀釈せずに、そのままシラン系処理剤で
処理する表面にスプレー塗布、ハケ塗り、回転塗
布、コーテイングロツド塗布、デイツピング法な
どの塗布方法により単分子層から数10μ程度の厚
さで塗布される。 本発明に於いて、使用されるa−Si粉末粒子
は、キヤパシタンスタイプ或いはインダンクタン
スタイプの気体放電装置を利用して、a−Si粉末
粒子形成用の原料ガス、例えばSiH4、Si2H6等や
必要に応じて混合されるHe、Ne等の稀釈ガスを
減圧にし得る気体放電室内に導入し、該放電室内
にグロー放電を生起させてプラズマ雰囲気を形成
する事によつて製造される。 本発明に於いて、その目的を達成する為のa−
Si粉末粒子を得る為に、所望のプラズマ雰囲気を
形成するに有効な放電現象を放電室内に生起させ
る条件は、使用する気体放電装置の電極配置、電
極の形状、放電室の内部容積及び内部形状、電極
間距離、更には気体放電を維持する時の電極間の
電界強度、放電室内に導入される気体の種類等に
よつて適宜決定される。 例えば、電気的条件としては、キヤパシタンス
タイプの場合、電極間電圧として、通常20〜
2000V、好適には50〜1500Vに調整されると良
い。投入される電力としては、キヤパシタンスタ
イプ及びインダンクタンスタイプ共に、通常0.05
〜500w、好適には0.1〜300w、最適には1〜
200wとされるのが良く、又更には、ACの場合、
その周波数は、通常0.2〜30MHz、好適には5〜
20MHzとされるのが望ましい。 形成されるa−Si粉末粒子は、目的とする電子
写真用としての光導電層が形成される可き特性を
有する可く、その暗抵抗及び光電利得が、その形
成時にHを含有させて制御される。ここに於い
て、「a−Si粉末粒子中にHが含有される」とい
うことは、「Hが、Siと結合した状態」、「Hがイ
オン化して粉末粒子中に取り込まれている状態」
又は「H2として粉末粒子中に取り込まれている
状態」の何れかの又はそれ等の複合されている状
態を意味する。a−Si粉末粒子へのHの含有は、
a−Si粉末粒子を形成する際、製造装置系内に
SiH4、Si2H6等の化合物又はH2の形で導入し、気
体放電によつて、それらの化合物又はHを分解し
て、a−Si粉末粒子中に、粉末粒子の形成に併せ
て含有させる。 本発明者の知見によれば、a−Si粉末粒子中へ
のHの含有量は、形成される光導電層が、実際面
に於いて電子写真用として適用され得るか否かを
左右する大きな要因の一つであつて、極めて重要
であることが判明している。 本発明に於いて、形成される光導電層を実際面
に充分適用させ得る為には、a−Si粉末粒子中に
含有されるHの量は通常の場合10〜40atomic
%、好適には15〜30atomie%とされるのが望ま
しい。 a−Si粉末粒子は、製造時の不純物のドーピン
グによつて真性にし得、又その伝導型を制御する
ことができる。 a−Si粉末粒子中にドーピングされる不純物と
しては、a−Si粉末粒子をP型にするには、周期
律表第族Aの元素、例えばB、Al、Ga、In、
Tl等が好適なものとして挙げられ、n型にする
場合には、周期律表第V族Aの元素、例えば、
N、P、As、Sb、Bi等が好適なものとして挙げ
られる。 a−Si粉末粒子中にドーピングされる不純物の
量は、所望される電気的、光学的特性に応じて適
宜決定されるが、周期律表第族Aの不純物の場
合には通常10-6〜10-3atomic%、好適には10-3
10-4atomic%、周期律表第V族Aの不純物の場合
には、通常10-8〜10-5atomic%、好適には10-3
10-7atomic%とされるのが望ましい。 放電室内に導入される気体の量は、放電室内の
圧力表示で、通常は0.1〜20Torr、好適には0.5〜
10Torrとされ、a−Si粉末形成用の原料ガス圧
としては、通常10-2〜10Torr、好適には10-2
5Torr、最適には10-1〜2Torrとされるのが望ま
しいものである。 本発明に於いて、使用されるa−Si粉末粒子を
製造するには、通常使用されている気体放電装置
を利用することが出来る。その様な気体放電装置
の一例を第1図に示す。 第1図はキヤパシタンスタイプグロー放電法に
よつて、a−Si粉末粒子を製造する為の気体放電
装置の模式的説明図である。 1はグロー放電室であり、該室1の上部外側に
は、高周波電源2と接続されているキヤパシタン
スタイプ電極3,4が巻かれており、前記高周波
電源2がONされると前記電極3,4に高周波電
力が印加されて室1内にグロー放電が生起される
様になつている。 放電室1の上端部には、ガス導入管が接続され
ており、ガスボンベ5,6,7,8より各々のボ
ンベ内のガスが必要時に放電室1内に導入される
様になつている。9,10,11,12は各々フ
ロメータであつてガスの流量を検知する為のメー
タであり、又、13,14,15,16は流量調
整バルブ、バルブ21は補助バルブである。 又放電室1の下側端部はメインバルブ22を介
して排気装置(図示されていない)に接続されて
いる。23は、放電室1内の真空を破る為のバル
ブである。 放電室1の下端部には、中心部に穴が設けられ
た円錐状の収集板24が取り付けられており、収
集室25内の前記収集板24の穴の真下の位置に
は、製造されるa−Si粉末を収納する為の収納器
26が置かれてある。 27は、収集室25内の収納器26を出し入れ
る為の開閉扉であつて、閉じた状態に於いては、
収集室26内の真空が充分保たれる様に設計され
ている。 収集板24は、放電室1内で生成されるa−Si
粉末を、その中心部に収集する機能がある他、生
成されたa−Si粉末が排気系に取込まれるのでを
防止する機能も有している。 28は、ゲートバルブであつて、放電室1と収
集室25間を遮断開放する為のバルブである。 29は、例えばゲートバルブ28を閉めて放電
室1との機密を遮断した後、収集室25内の真空
を破る為のバルブである。 第1図の装置を使用して、a−Si粉末を製造す
るには、先ずメインバルブ22及びゲートバルブ
28を全開して放電室1内及び収集室の空気を矢
印Aで示す様に排気して、真空度10-5Torr程
度にする。放電室1内が所定の真空度に達した
後、次に補助バルブ21を全開し、続いてガスボ
ンベ5のバルブ17及びガスボンベ6のバルブ1
8を全開する。ガスボンベ5は例えばArガス等
の稀釈ガス用であり、ガスボンベ6はa−Siを形
成する為の原料ガス用であつて、例えば、
SiH4、Si2H6、Si4H10又は、それ等の混合物等が
貯蔵されている。又、ボンベ7及びボンベ8は必
要に応じてa−Si系光導電層中に不純物を導入す
る為の原料ガス用であつて、例えばボンベ7には
PH3、P2H4、ボンベ8にはB2H6等が貯蔵されて
いる。 その後ガスボンベ5及び6の流量調節バルブ1
3,14を、フローメータ9及び10を見乍ら、
徐々に開口し、放電室1内に稀釈ガスとして例え
ばArガス及び例えば、SiH4ガス等のa−Si形成
用の原料ガスを導入する。この時Arガス等の稀
釈ガスは必ずしも要するものではなく、SiH4
ス等の前記原料ガスのみ導入しても良い。Arガ
スをSiH4ガス等のa−Si形成用の原料ガスに混合
して導入する場合、その量的割合は、所望に従つ
て決定されるが、通常の場合、稀釈ガスに対して
前記原料ガスが10Vol%以上とされる。尚稀釈ガ
スとしてArガスの代りにHeガス等の稀ガスを使
用しても良い。 放電室1内に、ボンベ5,6より所望のガスが
導入された時点に於いて、メインバルブ22を調
節して、所定の真空度、通常の場合は、a−Si粉
末を形成する時の全ガス圧で0.1〜20Torrに保
つ。次いで、放電室1外に巻かれたキヤパシタン
スタイプの電極3,4に高周波電源2より所定周
波数、通常の場合は0.2〜30MHzの高周波電力を
加えてグロー放電を放電室1内に起すとプラズマ
雰囲気が形成され、例えばa−Si形成用の原料ガ
スとしてSiH4を使用すると、該SiH4が分解され
て、a−Si粉末粒子が形成される。形成されたa
−Si粉末粒子は、収集板24によつて、収集板2
4の中央に収集されて、その下方に設置してある
収集室25内の収納器26中に収容される。 形成されるa−Si粉末粒子中に不純物を導入す
る際には、ボンベ7又は/及びボンベ8より不純
物生成用のガスを、a−Si粉末形成時に放電室1
内に導入してやれば良い。この場合、流量調節バ
ルブ15は/及び16を適当に調節することによ
り、ボンベ7又は/及び8よりの放電室1へのガ
スの導入量を適切に制御することが出来るので、
形成されるa−Si粉末粒子中に導入される不純物
の量を任意に制御することが出来る。 第1図に示される気体放電装置に於いては、キ
ヤパシタンスタイプグロー放電法が採用されてい
るが、この他、インダクタンスタイプグロー放電
法も本発明に於いて採用される。又、グロー放電
の為の電極は、放電室1の内に設けても良いし又
放電室1の外に設けても良い。 以下、本発明を実施例に従つて、具体的に説明
する。 実施例 1 光導電性物質として平均粒径5〜10μのn型a
−Si粉末粒子20gと結着剤として平均粒径10μの
弗素樹脂(商品名MP−10;三井フロロケミカル
社)粉末20gとをトリニトン2gを含むフレオン
溶液50ml中に混合分散させて光導電層形成用の分
散液を作成した。 この分散液中に表面をマツト処理したアルミニ
ウム製円筒状ドラム支持体の浸漬した後、引上げ
て充分乾燥させた後約370℃で60分間焼成処理を
施して膜厚20μの光導電層を形成して、電子写真
用像形成部材とした。 得られた電子写真用像形成部材の光導電層表面
は極めて平滑性に優れ、良好な外観を示してい
た。 この電子写真用像形成部材に暗所に於いて、
6KVのコロナを与え次いで画像露光し、に荷電
したトナーを用いて現像を行い、得られたトナー
像を普通紙上に転写した。 クリーニングはウレタンゴム製のブレードクリ
ーニングを採用した。この様な画像再生処理を繰
返し10万回行つたところ10万枚目の転写画像の画
質と一枚目の転写画像の画質とには、何等差はな
く、被りのない鮮明な極めて良好なものであり、
又、転写性も優れている為に画像再生処理の繰返
し毎には殆どクリーニングの必要がなく、本実施
例に於いては、30枚毎にクリーニング処理を適用
させた。又、感度も10 lux.secと良好であつて帯
電特性も6KVのコロナ放電を与えると500V
の表面電位が観測され実用的にも充分満足し得る
ものであることが立証された。 実施例 2 光導電性物質として平均粒径1μのP型a−Si
粉末20gと結着剤として平均粒径10μのポリフル
オロエチレンプロピレン樹脂粉末20gとトリニト
ン1gとをフレオン溶液50ml中に混合分散させて
光導電層形成用の分散液を作成した。 この分散液中に表面をマツト処理したアルミニ
ウム製円筒状ドラム支持体を浸漬した後、引上げ
て充分乾燥させた後約280℃で60分間焼成処理を
施して膜厚30μの光導電層を形成して、電子写真
用像形成部材とした。 得られた電子写真用像形成部材の光導電層表面
は極めて平滑性に優れ、良好な外観を示してい
た。 この電子写真用像形成部材に暗所に於いて、
6KVのコロナ放電を与え次いで画像露光し、に
荷重したトナーを用いて現象を行い、得られたト
ナー像を普通紙上に転写した。 クリーニングはウレタンゴム製のブレードクリ
ーニングを採用した。この様な画像再生処理を繰
返し10万回行つたところ10万枚目の転写画像の画
質と一枚目の転写画像の画質とには、何等差はな
く、被りのない極めて良好なものであり、又、転
写性も優れている為に画像再生処理の繰返し毎に
は殆どクリーニングの必要がなく、本実施例に於
いては、10枚毎にクリーニング処理を適用させた
場合でもクリーニングには何等支障は生じなかつ
た。又、感度も7.0 lux.secと良好であつて帯電
特性も6KVのコロナ放電を与えると500Vの
表面電位が観測され実用的にも充分満足し得るも
のであることが立証された。 実施例 3 第1図に示した装置によつて製造したn型a−
Si粉末100重量部と樹脂固形分として芳香族ポリ
エステル化ウレタン樹脂(分子量約3万)(商品
名;CA101、日本油脂社製)50重量部とを含む分
散液を円筒状アルミニウムドラムに塗布乾燥し、
次いで、80℃で15分間乾燥後、4KW水銀ランプ
で5分間光照射して硬化させ、50μ厚の光導電層
を形成した。 次に、得られた光導電層表面を光硬化型不飽和
ポリエステル樹脂(商品名;UV−CM−102、カ
シユーKK製)の粘度が90CPSとなる様にメチル
エチルケトンで希釈した液に浸し、30mm/minの
速度で引き上げた後、4KW水銀ランプで5分間
照射して硬化させた。この操作を3回くり返して
30μの絶縁層を設けた。 この様にして形成された電子写真用像形成部材
の絶縁層表面に一次帯電として、電源電圧6000V
でコロナ放電を0.2sec間行つたところ、
2000Vに帯電した。次に、二次帯電として電源電
圧5500Vでコロナ放電を行うと同時に露光量15
lux.secで画像露光を行い、次いで像形成部材表
面を一様に全面照射して静電像を形成した。この
静電像をカスケード法によつてに荷電されたト
ナーで現像し、転写紙上に転写定着したところ極
めて良品質の画像が得られた。又、上記の画像再
生処理を繰返し10万回行つたところ10万枚目の転
写画像の画質と1枚目の転写画像の器画質とに
は、何等差はなく、被りのない極めて良質なもの
であつた。 実施例 4 第1図に示した装置によつて製造したP型a−
Si粉末100重量部に塩化ビニル−酢酸ビニルコポ
リマー10重量部、希釈剤としてメチルイソブチル
ケトン10重量部を混合してロールミルで良く分散
し、ペースト状光導電性組成物を調整し、更にメ
チルエチルケトンを加えて20℃で700cpsの粘度
に調製した。その組成物溶液中にアルミニウム製
円筒形ドラムをデイツピング、30mm/minの速度
で引き上げて塗布し、70℃20分間乾燥して溶媒を
完全に揮発させて厚さ50μの光導電層を形成し
た。次いで上記ドラムをα、ωポリブタジエンジ
カルボン酸樹脂のカルボキシル基をアンモニアで
中和して得た水系分散液(粘度;20℃70cps)に
デイツピングし、30mm/minの速度で引き上げて
塗布し、70℃で30分間乾燥して、水及びアンモニ
アを揮発させて、上記光導電層上に厚さ4μの目
止層を形成した。更に上記ドラムを光硬化型アク
リル化ウレタン樹脂をエチルアルコールで希釈し
た(粘度;20℃70cps)溶液中にデイツピング
し、30mm/minの速度で引き上げ目止層に上記物
質の薄膜を形成した後、紫外線照射装置中で、
100秒間紫外線を照射して硬化し、絶縁層を形成
した。この絶縁層は、1回の塗布でできる膜の厚
さは10μで、この後更に2回同じ操作をくり返し
て合計30μの絶縁層とした。 この様にして製造した電子写真用像形成部材の
絶縁層表面に一次帯電として、電源電圧6000Vで
コロナ放電を0.2sec間行つたところ、2000V
に帯電した。次に、二次帯電として電源電圧
5500Vでコロナ放電を行うと同時に露光量15
lux.secで画像露光を行い、次いで像形成部材表
面を一様に全面照射して静電像を形成した。この
静電像をカスケード法によつてに荷電されたト
ナーで現像し、転写紙上に転写定着したところ極
めて良品質の画像が得られた。又、上記の画像再
生処理を繰返し10万回行つたところ10万枚目の転
写画像の画質と1枚目の転写画像の画質とには、
何等差はなく、被りのない極めて良質のものであ
つた。 実施例 5 第1表に示す様に光導電層形成用の分散液を調
合した。これ等の分散液をステンレス製円筒状ド
ラム支持体上に浸漬法にて塗布し、所定の硬化処
理を施して約35μ厚の光導電層を形成して試料
NosS51〜S56の電子写真用像形成部材を得た。こ
れ等の像形成部材の中試料NosS51〜S53の像形成
部材に、暗中に於いて電源電圧5500Vでコロナ
放電を光導電層表面に行い、次いで15 lux.secの
露光量で画像露光を行つて、静電像を形成し、該
静電像をカスケード法により荷電されたトナー
で現像して転写紙上に転写・定着したところ解像
力が高く極めて鮮明な画像が得られた。 一方、試料NosS54〜S56の像形成部材に就て、
暗中で電源電圧6000Vでコロナ放電を施し、次
いで15 lux.secの光量で画像露光を行い、前記の
コロナ放電を施して画像出しをした時と同様の
条件で画像出しを行つたところ、得られた転写紙
上の画像は、解像力が高く極めて鮮明で良質の画
像であつた。 各々に適した上記の様な画像形成処理を繰返
し、試料NosS51〜S56の電子写真用像形成部材に
施し、これ等の電子写真用像形成部材の耐久性に
就て試験したところ、15万枚目の転写紙上に得ら
れた画像も極めて良質であつて、1枚目の転写紙
上の画像と較べても何等差違はなく、これ等の電
子写真用像形成部材が耐コロナイオン性、耐摩耗
性に優れ著しく耐久性に富んでいることが実証さ
れた。
The present invention relates to an electrophotographic image that is used to form an image using electromagnetic waves such as light (herein, light in a broad sense refers to ultraviolet visible light, infrared light, X-rays, gamma rays, etc.). It relates to a forming member. Conventionally, photoconductive materials constituting the photoconductive layer of electrophotographic image forming members include inorganic photoconductive materials such as Se, CdS, and ZnO, poly-N vinyl carbazole (PVK), and trinitrofluorenone (TNF). Organic photoconductive materials (OPC) are commonly used. However, regarding electrophotographic image forming members using these photoconductive materials, there are still various issues that can be resolved, and the conditions may be relaxed to a certain extent to suit individual circumstances. The reality is that appropriate electrophotographic imaging members are used in each case, and improvements and improvements are made along the way. On the other hand, a new third material is also being developed as a photoconductive material constituting the photoconductive layer of an electrophotographic image forming member. Among such materials that have recently been viewed as promising is amorphous silicon (hereinafter abbreviated as a-Si). In the early stages of development, a-Si films exhibited various electrical and optical properties due to their structure being influenced by the manufacturing method and manufacturing conditions, which caused major problems in terms of reproducibility. I was holding it. For example, in the early stages, a-Si films formed by vacuum evaporation or sputtering methods contained a large number of defects such as voids, which greatly affected their electrical and optical properties. It did not receive much attention as a research material for fundamental physical properties, and no research and development was conducted for its application. However, in 1976, P and n control was thought to be impossible in amorphous a-Si.
At the beginning of 2018, it was reported that p-n junctions could be realized for the first time using amorphous materials (Applied Physics
Since its publication in 1976 (Vol. 28, No. 2, 15 January 1976), it has attracted a great deal of attention, and research and development efforts have since focused primarily on its application to solar cells. For this reason, the a-Si films reported so far are
Since it was developed for use in solar cells, it cannot currently be used as a photoconductive layer in an electrophotographic image forming member due to its electrical and optical properties. In other words, solar cells convert solar energy into current and extract it, so in order to have a good signal-to-noise ratio and efficiently extract current, a-Si
The resistance of the film must be relatively small, but if the resistance is too small, the photosensitivity will decrease and the signal-to-noise ratio will deteriorate, so one of its characteristics is resistance.
A resistance of about 10 5 to 10 8 Ωcm is required. However, the resistance (dark resistance) of an a-Si film having this level of resistance (dark resistance) is too low to be used as a photoconductive layer of an electrophotographic image forming member. , it cannot be used at all by applying currently known electrophotographic methods. In addition, the material constituting the photoconductive layer of an electrophotographic image forming member is required to have a bright resistance (resistance when irradiated with light) that is about 2 to 4 orders of magnitude smaller than the dark resistance.
Since the a-Si films that have been reported so far have values of about two digits at most, in this respect as well, conventional a-Si films could not provide a photoconductive layer that fully satisfies these characteristics. In addition, previous reports on a-Si films have shown that increasing the dark resistance reduces photosensitivity; for example, in an a-Si film with a dark resistance of 10 10 Ωcm, the bright resistance is also the same. Although it has been shown that the value of
In this respect as well, conventional a-Si films could not serve as photoconductive layers for electrophotographic image forming members. Therefore, it is necessary to develop an a-Si film having sufficient dark resistance and photosensitivity to be used as a photoconductive layer of an electrophotographic imaging member, taking into account reproducibility and productivity. Incidentally, the a-Si layer is generally formed on a suitable support by a deposition method utilizing a discharge phenomenon such as a glow discharge method or a sputtering method. When forming an a-Si layer by such a deposition method, various reports and literature have shown that the dark resistance and photosensitivity of the formed layer change depending on the temperature of the support during layer formation. ing. That is, for example, by forming a layer while maintaining the support temperature at a high temperature of about 400° C., it is possible to reduce the bright resistance, which is one of the electrical characteristics. However, since the layer growth rate of a-Si is much slower than that of, for example, Se, etc., the above-mentioned high temperatures can be applied with high precision to achieve the layer thickness required for the photoconductive layer of an electrophotographic image forming member. It is extremely difficult to maintain it constant. Furthermore, as the photoconductive layer of an electrophotographic image forming member, the total light-receiving surface requires a large area, for example, A4 size or B4 size or more, even in normal cases. With the current technology, it is extremely difficult to control the temperature in order to maintain the above-mentioned high-temperature state uniformly over the area until the layer formation is completed. However, even when changing the temperature of the support, it is difficult to control it over such a large area so that the rate of temperature change does not vary depending on location. As described above, it is extremely difficult to control the support temperature at a high temperature for a long time and over a large area without temperature unevenness in order to obtain the desired dark resistance and bright resistance. Therefore, temperature variations occur depending on the location and time during layer formation, and it is not only impossible to achieve uniform layer thickness over a large area, but also the electrical and optical properties required for the photoconductive layer of an electrophotographic image forming member. It is also impossible to measure the uniformity of characteristics. The present invention has been made in view of the above points, and it is possible to generate a-Si with extremely high photosensitivity by generating plasma under certain specific conditions described below in the presence of a material for forming a-Si. A-Si powder particles that can be obtained in large quantities in a single hour in powder form cannot be used as a photoconductive layer of an electrophotographic image forming member if they are used as a photoconductive layer of a single constituent material. However, it is based on the discovery that if the photoconductive layer is dispersed in a binder with affinity, it can be a photoconductive layer with extremely excellent electrophotographic properties. The electrophotographic imaging member of the present invention includes a support;
In an electrophotographic imaging member having a photoconductive layer formed by dispersing photoconductive material powder particles in a binder, the photoconductive material powder particles contain 10 to 40 atomic percent hydrogen. It is characterized by being amorphous silicon powder particles. In this way, when a-Si powder is dispersed in a binder to form a photoconductive layer, a-Si powder particles can be produced in large quantities in a short time, so glow discharge method, sputtering method, etc. can be used. Compared to forming an a-Si photoconductive layer by a deposition method that utilizes the discharge phenomenon of
There is no need to strictly control the temperature of the support for a long time, and the production efficiency is improved due to the slow layer growth rate, as in the case of forming an a-Si photoconductive layer by the above-mentioned deposition method. The above-mentioned deposition method has no disadvantages, does not require much capital investment in production equipment, photoconductive layers with any large area can be formed on supports of any shape, etc. Tsute a-
It has industrially excellent effects that are not available when forming a Si photoconductive layer. In addition, the formed electrophotographic image forming member has high sensitivity, is excellent in repeated use, has strong mechanical strength, is always stable against charging action and discharging action, and has excellent cleaning properties. It also has excellent transfer efficiency and can always provide a large number of high-quality copies. The electrophotographic image forming member of the present invention basically consists of a-Si powder particles produced by the method described below, which are kneaded together with a binder having predetermined properties using a solvent as necessary. It can be obtained by coating the photoconductive layer on a suitable support such as metal and solidifying it to form a photoconductive layer. In the present invention, most of the supports normally used in the field of electrophotography are effective as supports used, but depending on the form of the image forming member to be manufactured, e.g. The type of support used differs depending on whether or not charges need to be injected from the support side into the photoconductive layer during charging for formation. It is desirable to select the appropriate one and use the best one. In the present invention, examples of the support used include stainless steel, Al, Cr, Mo, Au, Ir,
Examples include conductive supports such as metals such as Nb, Ta, V, Ti, Pt, and Pd, or alloys thereof, films or sheets of synthetic resins, and electrically insulating supports such as glass and ceramics. The support is preferably subjected to a series of cleaning treatments before the photoconductive layer is formed thereon. In this kind of cleaning process,
Typically, for example, a metallic support is contacted with an alkaline or acidic solution which effectively cleans the surface by etching. The support is then dried in a clean atmosphere and, without further preparatory treatment, a photoconductive layer is then formed thereon. In the case of an electrically insulating support, its surface is subjected to conductive treatment, if necessary. For example, in the case of glass, its surface is conductively treated with In 2 O 3 or SnO 2 , or in the case of a synthetic resin film such as polyimide film, it is treated with Al, Ag,
Pb, Zn, Ni, Au, Cr, Mo, Ir, Nb, Ta, V,
The surface is treated with a metal such as Ti or Pt by vacuum evaporation, electron beam evaporation, sputtering, etc., or laminated with the metal, so that the surface thereof is conductive. The shape of the support body is cylindrical, belt-shaped,
It can be of any shape, such as a plate shape, and the shape is determined as desired, but in the case of continuous high-speed copying,
It is desirable to have an endless belt shape or a cylindrical shape. The thickness of the support is determined appropriately so that the desired image forming member is formed, but when flexibility is required as an image forming member, the support function can be fully demonstrated. Within this range, it is made as thin as possible. However, in such cases, the thickness is usually set to 10μ or more in view of manufacturing and handling of the support, mechanical strength, etc. The binder, which is a material constituting the photoconductive layer together with the a-Si powder particles, is suitable for achieving the purpose of the present invention and is suitable for the electrical properties, optical properties, and the a-Si powder particles produced. - The material is appropriately selected and used from desired materials, taking into consideration the chemical and physical affinity with the Si powder particles. Such materials include
Usually used in the electrophotographic field,
Many resin binders that have film-forming ability and are electrically insulating can be effectively used. Such resin binders include thermosetting resins,
These include thermoplastic resins, photocurable resins, electron beam curable resins, X-ray curable resins, etc. Specifically, phenol resins: furan resins: xylene resins: formaldehyde resins: urea resins: melamine resins: aniline resins: Sulfonamide resin: Alkyd resin:
Unsaturated polyester resin: Epoxy resin: Triallyl cyanurate resin: Polyethylene: Polypropylene: Polystyrene: Polyvinyl acetate: Polyacrylate: Polymethacrylate: Polyvinyl chloride: Polyvinylidene chloride: Polytetrafluoroethylene: Polychlorotrifluoroethylene: Polyfts Vinyl chloride: Polyvinylidene fluoride: Tetrafluoroethylene: Hexafluoropropylene copolymer: Chlorotrifluoroethylene: Fluororesin such as vinylidene fluoride copolymer: Polyacrylonitrile; Polyvinyl ether: Polyvinyl ketone: Polyether: Polycarbonate: Polyester :
Examples include polyamides such as nylon 6, nylon 66, and nylon 6/66; polyurethanes; cellulose derivatives such as silicone cellulose acetate, ethyl cellulose, propionic cellulose acetate, etc., and two or more of these may be mixed as necessary. You can use it as well. In the present invention, the binder constituting the photoconductive layer is appropriately selected from the resin binders described above, but also a binder chemically similar to a-Si powder particles is used. From the viewpoint of properties, silicone compounds such as silicone varnish and silicone rubber that have film-forming ability can also be effectively used as the binder. Examples of silicone varnishes include silicone varnishes used for coating film formation, vehicles for various paints, and base ranges for molding materials. For example, pure silicone varnishes mainly composed of polysiloxane as shown by the following formula: , A silicone intermediate mainly composed of a low molecular weight polysiloxane having a hydroxyl group or an alkoxy group bonded to a silicon atom, such as the following formula, In addition, examples include silicone-modified varnishes of various resins obtained by reacting various resins with silicone intermediates, silane coupling agents, and pure silicone varnishes.For example, alkyd-modified silicone varnishes include For example, epoxy silicone varnishes have the following structure: There are polyester-modified silicone varnishes, acrylic-modified silicone varnishes, phenol-modified silicone varnishes, polyurethane-modified silicone varnishes, melamine-modified silicone varnishes, etc. Furthermore, examples of solvent-free silicone varnishes include silicone varnishes represented by the following formula. (φ: C 6 H 5 , Me; CH 3 , V; CH 2 =CH) Silicone rubber is classified into thermosetting type and room temperature curing type (generally referred to as RTV), but in the present invention, room temperature curing type (RTV type) is more preferably used. RTV silicone rubber comes in one-component and two-component types, both of which can be selected. General formula for one-component RTV silicone rubber (Here, R 1 and R 2 are alkyl groups, phenyl groups, vinyl groups, propyl trifluoride groups, etc.) with an acetoxy group, oxime group, acoxyl group, or alkyl group attached to the end of the main chain, Condensation reactions of deacetic acid, deoxime, alcohol, and deamine proceed due to moisture in the air, forming a crosslinked structure at a relatively low temperature from room temperature. Curing silicone rubber,
Deoxidized one-component room-temperature-curing silicone rubber, alcohol-dealing one-component room-temperature-curing silicone rubber,
Deamined one-component room-temperature curing silicone rubber 4
Two types can be mentioned. Next, two-component room-temperature curing silicone rubber can also be used, and this silicone rubber is composed of diorganopolysiloxane as a base oil, a trifunctional or higher functional silane or siloxane as a crosslinking agent, and a curing catalyst, and the curing mechanism is condensation. There are reaction types (dealcoholization condensation reaction type, dehydration condensation reaction type, dehydrogenation condensation reaction type) and addition reaction types. As the silicone compound used as a binder to achieve the purpose of the present invention, many commercially available silicone varnishes, rubbers, etc. can be effectively used. KR251, KR255 from Kagaku Kogyo Co., Ltd.
KR5240, KR114, KE10RTV, KE66RTV,
KE1204(B), KE104Gel, KE103RTV,
KE111RTV, KE1400RTV, KE41RTV,
KE44RTV, KE445RTV, KE42S−RTV,
KE441RTV, KE45S−RTV, KE48RTV,
KE102RTV, KE1206RTV, KE16,
KE1091RTV, KE12RTV, KE112RTV,
KJR601, KJR4010, Toshiba Silicone Corporation
TSR144, TSR1205, TSR1291, YR3110,
TSE370RTV, TSE328RTV, TSE371RTV,
TSE353RTV, TSE380RTV, TSE3402RTV,
TSE3503RTV, TSE−350−5RTV,
TSE300RTV, RTV11, TSE370−RTV,
YE3085, YE5505, Toray Silicone Co., Ltd. SH630, SH850, SH6005, R4−3117,
SH649, SH6101, SH6100, SE5011RTV,
SH780, SH738, SH9551, SH9583, SH9731,
SH1820, SH1840, SH643, SH2104, Fuji Polymer Industries Co., Ltd.'s Bergan C, Bergan D, Bergan F, FSXR-2622, Silascon RTV6501, Silascon RTV6521, Silascon RTV6700, Silascon RTV6601, Silascon RTV6589, FSXS-
2279, Silpot 200, Silaseal 3FW, Sirotex 32B, FSXF-2500, etc., and if necessary, two or more of these compounds used as a binder may be used in combination. Furthermore, in the present invention, many synthetic rubbers that are electrically insulating and have film-forming properties can be effectively used as the binder. Specifically, examples thereof include polybutadiene rubber, butadiene acrylonitole rubber, acrylic rubber, urethane rubber, and the like. Among the binders listed so far, those with a volume resistivity of 10 12 Ω·cm or more, preferably 10 13 Ω·cm or more, most preferably 10 14 Ω·cm or more are selected. It is desirable to use the In addition, the dielectric strength is usually selected from those having a dielectric strength of 10 KV/mm or more, preferably 15 KV/mm or more, and optimally 20 KV/mm or more. In the present invention, the amount of the binder used in forming the photoconductive layer is determined as appropriate so that a photoconductive layer having desired electrophotographic properties can be formed. Weight ratio with Si powder particles is usually 5~
60wt%, preferably 8-50wt% optimally 10-40wt
%. The solvent for kneading and dispersing the a-Si powder particles together with the binder is selected from solvents that do not adversely affect the a-Si powder particles, depending on the type of binder used. As such a solvent, many commercially available organic solvents can be effectively used. Specifically, for example, methylene chloride, chloroform, ethane dichloride, 1,1,2 ethane trichloride, retylene trichloride, ethane tetrachloride, carbon tetrachloride, propane 1,2 chloride, 1,1,1 trichloride. Ethane, ethylene tetrachloride, ethyl acetate, butyl acetate, isoamyl acetate, cellosorbiacetate,
Examples include alcohols such as toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, dioxane, tetrahydrofuran, dimethylamide, N-methylpyrrolidone, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, and butyl alcohol. In the present invention, in addition to the above-mentioned materials, so-called organic photoelectric materials are used as the binder constituting the photoconductive layer for the purpose of improving photosensitivity, improving charge mobility in the layer, etc. It's okay. The organic photoconductive material to be used is selected from those having the same properties as those described above for the binder in terms of resistance when not irradiated with light (dark resistance) and film forming properties. is desirable. Such organic photoconductive materials include PVK, carbazole,
N-ethylcarbazole, N-isopropylcarbazole, N-phenylcarbazole, tetraphenylpyrene, 1-methylpyrene, perylene, chrysene, atracene, tetracene, tetraphene, 2-phenylnaphthalene, azapyrene, fluorene, fluorenone, 1-ethylpyrene , acetylpyrene, 2,3-benzoglycerin, 3,4
-Benzopyrene, 1,4-bromopyrene, phenylindole, polyvinylpyrene, polyvinyltetracene, polyvinylberylene, polyvinyltetraphene, polyacrylonitrile, PVK: TNF
(Molar ratio of monomers 1:1) includes tetranitrofluorenone, dinitroanthracene, dinitroacridene, tetracyanophylene, dinitroanthraquinone, and the like. These organic photoconductive materials may be used in combination of two or more types as long as the required properties are not deteriorated, or they may be used in combination with the electrically insulating binder described above. It's okay. The layer thickness of the a-Si photoconductive layer depends on the desired electrophotographic properties and usage conditions, such as whether flexibility is required, the particle size of the a-Si powder particles to be applied, and the darkness. It may be determined as appropriate depending on the attenuation characteristics or the uniformity of the electrical and optical characteristics of the photoconductive layer formed, but usually 10 to 80
μ, preferably 15 to 70μ, most preferably 20 to 50μ. The electrophotographic image forming member of the present invention has a basic layer structure consisting of a support and a photoconductive layer as described above, but also has a so-called protective layer and an electrically insulating layer on the photoconductive layer. A so-called surface coating layer may also be provided. In the present invention, the characteristics required of the surface coating layer differ depending on the electrophotographic process to which it is applied. That is, for example, Japanese Patent Publication No. 42-23910,
If an electrophotographic process such as the NP method described in Publication No. 43-24748 is applied, the surface coating layer should be electrically insulating and have a high ability to retain static charge when subjected to charging treatment. It is required to have sufficient thickness and a certain level of thickness, for example,
If an electrophotographic process such as the Carlson process is applied, it is desirable that the potential of the bright area after electrostatic image formation be very small, so the thickness of the surface coating layer is required to be very thin. In addition to satisfying the desired electrical properties, the surface coating layer should also have no adverse chemical or physical effects on the photoconductive layer, good electrical contact and adhesive properties with the photoconductive layer, and is formed taking into consideration moisture resistance, abrasion resistance, cleanability, etc. Typical materials effectively used for forming the surface coating layer include polyethylene terephthalate, polycarbonate, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polystyrene, polyamide,
Polytetrafluoroethylene, polytrifluorochloroethylene,
Synthetic resins such as polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, propylene hexafluoride-tetrafluoroethylene copolymer, ethylene trifluoride monofluoride vinylidene copolymer, polybutene, polyvinyl butyral, polyurethane, cellulose derivatives such as cyacetate and triacetate etc. These synthetic resins or cellulose derivatives may be formed into a film and laminated onto the photoconductive layer, or a coating solution thereof may be formed and applied onto the photoconductive layer to form a layer. Also good. The thickness of the surface coating layer is appropriately determined depending on the desired characteristics and the material used, but is usually about 0.5 to 70 μm. In particular, when the surface coating layer is required to function as the above-mentioned protective layer, it is usually 10μ or less,
On the other hand, when a function as an electrically insulating layer is required, the thickness is usually set to 10μ or more. However, the layer thickness value that distinguishes between the protective layer and the electrically insulating layer varies depending on the materials used, the applied electrophotographic process, and the structure of the designed electrophotographic imaging member. The value of 10μ is not absolute. The basic structure is a support and a photoconductive layer, and either the photoconductive layer has a free surface, or a surface coating layer as a so-called protective layer provided on the photoconductive layer has a free surface, and the photoconductive layer has a free surface. In an image forming member in which the free surface of a highly conductive layer or a protective layer is subjected to charging treatment for forming an electrostatic image, an electrostatic line forming layer is formed between a support and a layer provided on the support. It is more preferable to provide a barrier layer that acts to prevent carrier injection from the support side during the charging process.
Materials for forming a barrier layer that acts to prevent carrier injection from the support side include:
The type of support to be selected is appropriately selected depending on the electrical characteristics of the photoconductive layer, and an appropriate support is used.
Examples of such barrier layer forming materials include:
Inorganic insulating compounds such as Al 2 O 3 , SiO, SiO 2 , organic insulating compounds such as polyethylene, polycarbonate, polyurethane, parylene, Au, Ir, Pt, Rh,
Metals such as Pd and Mo. In the present invention, the transfer image properties, durability, and repeatability of the formed electrophotographic image forming member, or the interlayers such as the photoconductive layer, the support, the surface coating layer, the barrier layer, etc. In order to further improve the electrical properties, etc., it is preferable to surface-treat the support or the surface of the layer that has already been formed with a silane-based treatment agent when forming the layer. In the present invention, examples of the silane treatment agent suitably used include compounds represented by the following chemical formula. That is, Examples include a methanol solution of aminosilane. As the silane treatment agent used in the present invention, many commercially available silane treatment agents are effectively used, such as those available from Toray Silicone Co., Ltd.
SH6020, SH6026, SH6031, DC6032, SH6040,
SH6062, SH6075, SH6076, DC5456, X1−
6000, PRX-11, PRX-19, PRX-24,
SH6070, SH6079, SH2260, KA1003, KBE1003, KBC1003 of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
KBM403, KBM503, KBM602, KBM603, Primer MT, Primer U, Primer W, Primer D, Primer T, Primer A, Primer S, Primer No. 4, Primer No. 5, Toshiba Silicone Corporation's ME11, ME13, ME121,
ME123, ME124, ME151, ME152, ME20,
Examples include ME21 and FS Primer S from Fuji Polymer Industries Co., Ltd. These silane-based treatment agents are organic solvents or water,
Alternatively, the surface is diluted with a solution containing a binder, or the surface is directly treated with a silane-based treatment agent without any dilution. Application methods include spray coating, brush coating, spin coating, coating rod coating, dipping method, etc. It is coated with a thickness ranging from a monomolecular layer to several tens of microns. In the present invention, the a-Si powder particles used are prepared by using a capacitance type or inductance type gas discharge device to form a raw material gas for forming the a-Si powder particles, such as SiH 4 , Si 2 Manufactured by introducing diluent gas such as He, Ne, etc. mixed as necessary into a gas discharge chamber that can reduce the pressure, and generating a glow discharge in the discharge chamber to form a plasma atmosphere. be done. In the present invention, a-
In order to obtain Si powder particles, the conditions for generating a discharge phenomenon in the discharge chamber that are effective for forming a desired plasma atmosphere are the electrode arrangement of the gas discharge device used, the shape of the electrodes, the internal volume and internal shape of the discharge chamber. , the distance between the electrodes, the electric field strength between the electrodes when maintaining gas discharge, the type of gas introduced into the discharge chamber, etc., as appropriate. For example, as for electrical conditions, in the case of capacitance type, the voltage between the electrodes is usually 20~
It is good to adjust it to 2000V, preferably 50 to 1500V. The input power is usually 0.05 for both capacitance and inductance types.
~500w, preferably 0.1~300w, optimally 1~
It is better to set it to 200w, or even more, in the case of AC,
The frequency is usually 0.2~30MHz, preferably 5~
It is desirable to set it to 20MHz. The a-Si powder particles formed have characteristics that enable the formation of a photoconductive layer for intended electrophotography, and their dark resistance and photoelectric gain can be controlled by incorporating H during formation. be done. Here, "H is contained in the a-Si powder particles" means "a state where H is combined with Si" or "a state where H is ionized and incorporated into the powder particles".
or "a state in which H 2 is incorporated into powder particles" or a combination thereof. The inclusion of H in the a-Si powder particles is
When forming a-Si powder particles, inside the manufacturing equipment system
Introduced in the form of compounds such as SiH 4 , Si 2 H 6 or H 2 , these compounds or H are decomposed by gas discharge, and are added to the a-Si powder particles along with the formation of powder particles. Contain. According to the findings of the present inventors, the H content in the a-Si powder particles has a large effect on whether or not the formed photoconductive layer can actually be applied for electrophotography. This is one of the factors, and it has been found to be extremely important. In the present invention, in order to make the formed photoconductive layer sufficiently applicable to practical applications, the amount of H contained in the a-Si powder particles is usually 10 to 40 atomic.
%, preferably 15 to 30 atomie%. The a-Si powder particles can be made intrinsic by doping with impurities during manufacture and their conductivity type can be controlled. In order to make the a-Si powder particles P-type, impurities doped into the a-Si powder particles include elements of group A of the periodic table, such as B, Al, Ga, In,
Preferred examples include Tl, and when n-type, elements of group V A of the periodic table, for example,
Preferred examples include N, P, As, Sb, Bi, and the like. The amount of impurity doped into the a-Si powder particles is appropriately determined depending on the desired electrical and optical properties, but in the case of impurities in group A of the periodic table, it is usually 10 -6 ~ 10 -3 atomic%, preferably 10 -3 ~
10 -4 atomic%, in the case of impurities of group V A of the periodic table, usually 10 -8 to 10 -5 atomic%, preferably 10 -3 to
It is desirable to set it to 10 -7 atomic%. The amount of gas introduced into the discharge chamber is usually 0.1 to 20 Torr, preferably 0.5 to 20 Torr, as indicated by the pressure inside the discharge chamber.
10 Torr, and the raw material gas pressure for forming a-Si powder is usually 10 -2 to 10 Torr, preferably 10 -2 to
A value of 5 Torr, optimally 10 -1 to 2 Torr is desirable. In the present invention, a commonly used gas discharge device can be used to produce the a-Si powder particles used. An example of such a gas discharge device is shown in FIG. FIG. 1 is a schematic illustration of a gas discharge apparatus for producing a-Si powder particles by a capacitance type glow discharge method. Reference numeral 1 designates a glow discharge chamber, and capacitance type electrodes 3 and 4 connected to a high frequency power source 2 are wound around the upper outside of the chamber 1, and when the high frequency power source 2 is turned on, the electrodes High frequency power is applied to 3 and 4 to generate glow discharge within the chamber 1. A gas introduction pipe is connected to the upper end of the discharge chamber 1, so that the gas in each cylinder is introduced into the discharge chamber 1 from the gas cylinders 5, 6, 7, and 8 when necessary. Reference numerals 9, 10, 11 and 12 are flowmeters for detecting the flow rate of gas, 13, 14, 15 and 16 are flow rate adjustment valves, and valve 21 is an auxiliary valve. Further, the lower end of the discharge chamber 1 is connected to an exhaust device (not shown) via a main valve 22. 23 is a valve for breaking the vacuum in the discharge chamber 1. A conical collecting plate 24 with a hole in the center is attached to the lower end of the discharge chamber 1, and a conical collecting plate 24 with a hole in the center is installed in the collecting chamber 25 at a position directly below the hole of the collecting plate 24. A container 26 for storing a-Si powder is placed. 27 is an opening/closing door for taking in and out the storage container 26 in the collection chamber 25, and in the closed state,
The collection chamber 26 is designed to maintain sufficient vacuum. The collection plate 24 collects a-Si generated in the discharge chamber 1.
In addition to having the function of collecting the powder in its center, it also has the function of preventing the generated a-Si powder from being taken into the exhaust system. Reference numeral 28 is a gate valve, which is used to cut off and open the discharge chamber 1 and the collection chamber 25. 29 is a valve for breaking the vacuum in the collection chamber 25 after, for example, the gate valve 28 is closed and the discharge chamber 1 is sealed off. To produce a-Si powder using the apparatus shown in FIG. 1, first, the main valve 22 and gate valve 28 are fully opened to exhaust the air in the discharge chamber 1 and the collection chamber as shown by arrow A. to create a vacuum of about 10 -5 Torr. After the inside of the discharge chamber 1 reaches a predetermined degree of vacuum, the auxiliary valve 21 is then fully opened, and then the valve 17 of the gas cylinder 5 and the valve 1 of the gas cylinder 6 are opened.
Fully open 8. The gas cylinder 5 is for dilution gas such as Ar gas, and the gas cylinder 6 is for raw material gas for forming a-Si, for example,
SiH 4 , Si 2 H 6 , Si 4 H 10 or mixtures thereof are stored. Further, the cylinders 7 and 8 are used for raw material gas to introduce impurities into the a-Si photoconductive layer as required.
PH 3 , P 2 H 4 , B 2 H 6 and the like are stored in cylinder 8. After that, the flow rate adjustment valve 1 of gas cylinders 5 and 6
3 and 14 while looking at flow meters 9 and 10,
The discharge chamber 1 is gradually opened, and a diluent gas such as Ar gas and a raw material gas for forming a-Si such as SiH 4 gas is introduced into the discharge chamber 1 . At this time, a diluent gas such as Ar gas is not necessarily required, and only the source gas such as SiH 4 gas may be introduced. When Ar gas is introduced as a mixture with a raw material gas for a-Si formation such as SiH 4 gas, the quantitative ratio is determined as desired. Gas is considered to be 10Vol% or more. Note that a rare gas such as He gas may be used as the diluent gas instead of Ar gas. When the desired gas is introduced into the discharge chamber 1 from the cylinders 5 and 6, the main valve 22 is adjusted to obtain a predetermined degree of vacuum, which is normally used to form a-Si powder. Keep total gas pressure between 0.1 and 20 Torr. Next, high frequency power of a predetermined frequency, usually 0.2 to 30 MHz, is applied from the high frequency power source 2 to the capacitance type electrodes 3 and 4 wound outside the discharge chamber 1 to generate a glow discharge inside the discharge chamber 1. When a plasma atmosphere is formed and, for example, SiH 4 is used as a raw material gas for a-Si formation, the SiH 4 is decomposed to form a-Si powder particles. formed a
- the Si powder particles are collected by the collection plate 24;
4 and stored in a storage container 26 in a collection chamber 25 installed below. When introducing impurities into the a-Si powder particles to be formed, a gas for impurity generation is supplied from the cylinder 7 and/or cylinder 8 to the discharge chamber 1 during the formation of the a-Si powder.
It would be better to introduce it internally. In this case, by appropriately adjusting the flow rate control valves 15 and 16, the amount of gas introduced into the discharge chamber 1 from the cylinders 7 and/or 8 can be appropriately controlled.
The amount of impurities introduced into the a-Si powder particles formed can be arbitrarily controlled. In the gas discharge device shown in FIG. 1, a capacitance type glow discharge method is employed, but an inductance type glow discharge method is also employed in the present invention. Further, the electrode for glow discharge may be provided inside the discharge chamber 1 or may be provided outside the discharge chamber 1. Hereinafter, the present invention will be specifically explained based on examples. Example 1 N-type a with an average particle size of 5 to 10μ as a photoconductive substance
- Form a photoconductive layer by mixing and dispersing 20 g of Si powder particles and 20 g of fluororesin (product name MP-10; Mitsui Fluorochemical Co., Ltd.) powder with an average particle size of 10 μ as a binder in 50 ml of Freon solution containing 2 g of trinitone. A dispersion liquid was prepared. An aluminum cylindrical drum support with a matte surface was immersed in this dispersion, then pulled up, thoroughly dried, and then baked at approximately 370°C for 60 minutes to form a photoconductive layer with a thickness of 20μ. This was used as an electrophotographic image forming member. The surface of the photoconductive layer of the obtained electrophotographic image forming member was extremely smooth and had a good appearance. In this electrophotographic imaging member, in a dark place,
A 6 KV corona was applied, image exposure was performed, development was performed using a charged toner, and the obtained toner image was transferred onto plain paper. For cleaning, a urethane rubber blade was used. After repeating this image reproduction process 100,000 times, there was no difference between the image quality of the 100,000th transferred image and the first transferred image, and it was clear and extremely good with no overlap. and
Furthermore, since the transferability is excellent, there is almost no need for cleaning every time the image reproduction process is repeated, and in this example, the cleaning process was applied every 30 sheets. In addition, the sensitivity is good at 10 lux.sec, and the charging property is 500V when a 6KV corona discharge is applied.
The surface potential was observed and proved to be sufficiently satisfactory for practical use. Example 2 P-type a-Si with an average particle size of 1μ as a photoconductive substance
A dispersion liquid for forming a photoconductive layer was prepared by mixing and dispersing 20 g of powder, 20 g of polyfluoroethylene propylene resin powder having an average particle size of 10 μm as a binder, and 1 g of Trinitone in 50 ml of Freon solution. An aluminum cylindrical drum support with a matte surface was immersed in this dispersion, then pulled up, thoroughly dried, and then baked at approximately 280°C for 60 minutes to form a photoconductive layer with a thickness of 30μ. This was used as an electrophotographic image forming member. The surface of the photoconductive layer of the obtained electrophotographic image forming member was extremely smooth and had a good appearance. In this electrophotographic imaging member, in a dark place,
A 6 KV corona discharge was applied and then imagewise exposed, the phenomenon was performed using a loaded toner, and the resulting toner image was transferred onto plain paper. For cleaning, a urethane rubber blade was used. After repeating this image reproduction process 100,000 times, there was no difference in the image quality between the 100,000th transferred image and the first transferred image, which was extremely good with no overlap. Also, since the transferability is excellent, there is almost no need for cleaning every time the image reproduction process is repeated, and in this example, even if the cleaning process is applied every 10 sheets, there is no need for cleaning at all. No problems occurred. In addition, the sensitivity was good at 7.0 lux.sec, and the charging characteristics were shown to be sufficiently satisfactory for practical use, as a surface potential of 500V was observed when a 6KV corona discharge was applied. Example 3 An n-type a-
A dispersion containing 100 parts by weight of Si powder and 50 parts by weight of aromatic polyester urethane resin (molecular weight approximately 30,000) (trade name: CA101, manufactured by NOF Corporation) as resin solid content was applied to a cylindrical aluminum drum and dried. ,
Next, after drying at 80° C. for 15 minutes, the film was cured by irradiation with light using a 4KW mercury lamp for 5 minutes to form a photoconductive layer with a thickness of 50 μm. Next, the surface of the photoconductive layer obtained was immersed in a solution of photocurable unsaturated polyester resin (trade name: UV-CM-102, manufactured by Kashiyu KK) diluted with methyl ethyl ketone so that the viscosity was 90 CPS. After pulling up at a speed of 10 min, it was irradiated with a 4KW mercury lamp for 5 minutes to cure. Repeat this operation three times
A 30μ insulating layer was provided. The surface of the insulating layer of the electrophotographic image forming member formed in this manner is primarily charged at a power supply voltage of 6,000 V.
When corona discharge was performed for 0.2 seconds,
Charged to 2000V. Next, as a secondary charge, corona discharge is performed at a power supply voltage of 5500V, and at the same time the exposure amount is 15V.
Image exposure was performed at lux.sec, and then the entire surface of the image forming member was uniformly irradiated to form an electrostatic image. When this electrostatic image was developed with toner charged by the cascade method and transferred and fixed onto transfer paper, an image of extremely good quality was obtained. In addition, after repeating the above image reproduction process 100,000 times, there was no difference in the image quality of the 100,000th transferred image and the first transferred image, and it was extremely high quality with no overlap. It was hot. Example 4 P-type a- manufactured by the apparatus shown in FIG.
100 parts by weight of Si powder, 10 parts by weight of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, and 10 parts by weight of methyl isobutyl ketone as a diluent were mixed and dispersed well with a roll mill to prepare a paste-like photoconductive composition, and then methyl ethyl ketone was added. The viscosity was adjusted to 700 cps at 20°C. The composition solution was coated by dipping an aluminum cylindrical drum at a speed of 30 mm/min, and was dried at 70° C. for 20 minutes to completely volatilize the solvent to form a photoconductive layer with a thickness of 50 μm. Next, the above drum was dipped in an aqueous dispersion (viscosity: 70 cps at 20°C) obtained by neutralizing the carboxyl groups of α, ω polybutadiene dicarboxylic acid resin with ammonia, and was coated by pulling up at a speed of 30 mm/min, and then heated at 70°C. The photoconductive layer was dried for 30 minutes to volatilize water and ammonia, and a sealing layer with a thickness of 4 μm was formed on the photoconductive layer. Furthermore, the drum was immersed in a solution of photocurable acrylated urethane resin diluted with ethyl alcohol (viscosity: 20°C, 70 cps) and pulled up at a speed of 30 mm/min to form a thin film of the above material on the sealing layer. In the ultraviolet irradiation equipment,
It was cured by irradiating ultraviolet light for 100 seconds to form an insulating layer. The thickness of this insulating layer was 10 μm after one application, and the same operation was repeated two more times to obtain an insulating layer with a total thickness of 30 μm. When a corona discharge was performed for 0.2 seconds at a power supply voltage of 6000V as a primary charge on the surface of the insulating layer of the electrophotographic image forming member manufactured in this way, the surface of the insulating layer was 2000V.
charged. Next, as a secondary charge, the power supply voltage
Corona discharge at 5500V and exposure amount 15 at the same time
Image exposure was performed at lux.sec, and then the entire surface of the image forming member was uniformly irradiated to form an electrostatic image. When this electrostatic image was developed with toner charged by the cascade method and transferred and fixed onto transfer paper, an image of extremely good quality was obtained. Also, after repeating the above image reproduction process 100,000 times, the image quality of the 100,000th transferred image and the image quality of the first transferred image are as follows.
There was no difference whatsoever, and it was of extremely high quality with no overlap. Example 5 A dispersion liquid for forming a photoconductive layer was prepared as shown in Table 1. These dispersions were coated on a stainless steel cylindrical drum support using a dipping method, and a predetermined curing treatment was performed to form a photoconductive layer approximately 35μ thick.
Electrophotographic imaging members of NosS 51 to S 56 were obtained. For the image forming members of samples NosS 51 to S 53 among these image forming members, corona discharge was applied to the surface of the photoconductive layer in the dark with a power supply voltage of 5500 V, and then image exposure was performed at an exposure amount of 15 lux.sec. Then, an electrostatic image was formed, and the electrostatic image was developed with toner charged by a cascade method, and then transferred and fixed onto a transfer paper. An extremely clear image with high resolution was obtained. On the other hand, regarding the image forming members of samples NosS 54 to S 56 ,
Corona discharge was applied in the dark with a power supply voltage of 6000V, then image exposure was performed with a light intensity of 15 lux.sec, and the image was created under the same conditions as when the image was created with the corona discharge described above. The image on the transfer paper had high resolution, was extremely clear, and was of good quality. The above-mentioned image forming process suitable for each was repeated and applied to the electrophotographic image forming members of samples NosS 51 to S 56 , and the durability of these electrophotographic image forming members was tested. The image obtained on the 10,000th sheet of transfer paper is also of extremely good quality, and there is no difference in quality compared to the image on the first sheet of transfer paper. It has been demonstrated that it has excellent abrasion resistance and is extremely durable.

【表】【table】

【表】 実施例 6 第1図に示した装置によつて製造したn型a−
Si粉末10重量部に塩化ビニル−酢酸ビニルコポリ
マー10重量部、希釈剤としてメチルイソブチルケ
トン10重量部を混合してロールミルで良く分散
し、ペースト状光導電性組成物を調整し、更にメ
チルエチルケトンを加えて20℃で700cpsの粘度
に調製した。その組成物溶液中にアルミニウム製
円筒形ドラムをデイツピングし、30mm/minの速
度で引き上げて塗布し、70℃20分間乾燥して溶媒
を完全に揮発させて厚さ50μの光導電層を形成し
た。次いで上記ドラムを、ポリビニールアルコー
ル(商品名:ポバールC−17、信越化学社製)の
水系分散液(粘度:20℃70cps)にデイツピング
し、30mm/minの速度で引き上げて塗布し、70℃
で30分間乾燥して、水を揮発させて、上記光導電
層上に厚さ2μの保護層を形成した。 この様にして製造した電子写真用像形成部材
に、暗中に於いて電源電圧5500Vでコロナ放電
を光導電層表面に行い、次いで15 lux.secの露光
量で画像露光を行つて、静電像を形成し、該静電
像をカスケード法により、荷電されたトナーで
現像して転写紙上に転写・定着したところ解像力
が高く極めて鮮明な画像が得られた。 又、更には上記の画像再生処理を繰返し2万回
行つたところ2万枚目の転写画像の画質と一枚目
の転写画像の画質とには何等差違はなく、被りの
ない極めて良質なものであつた。 実施例 7 実施例6の保護層形成材料としてのポリビニル
アルコールの代りに第2表に示す保護層形成材料
を用いた以外は、実施例6と同様の条件と手順で
試料NosS71〜S74の電子写真用像形成部材を製造
した。これ等の像形成部材に就て実施例6と同様
の画像再生処理を施したところ実施例6の場合と
同様に良好な結果を得た。
[Table] Example 6 N-type a- manufactured by the apparatus shown in Fig. 1
10 parts by weight of Si powder, 10 parts by weight of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, and 10 parts by weight of methyl isobutyl ketone as a diluent were mixed and dispersed well with a roll mill to prepare a paste-like photoconductive composition, and then methyl ethyl ketone was added. The viscosity was adjusted to 700 cps at 20°C. An aluminum cylindrical drum was dropped into the composition solution, pulled up at a speed of 30 mm/min for coating, and dried at 70°C for 20 minutes to completely volatilize the solvent and form a photoconductive layer with a thickness of 50 μm. . Next, the drum was coated with an aqueous dispersion (viscosity: 20°C, 70 cps) of polyvinyl alcohol (trade name: Poval C-17, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and the coating was applied by pulling up at a speed of 30 mm/min.
The photoconductive layer was dried for 30 minutes to evaporate the water and form a protective layer with a thickness of 2 μm on the photoconductive layer. The thus produced electrophotographic image forming member was subjected to corona discharge on the surface of the photoconductive layer in the dark at a power supply voltage of 5500 V, and then subjected to image exposure at an exposure dose of 15 lux.sec to form an electrostatic image. was formed, and the electrostatic image was developed with charged toner by a cascade method and transferred and fixed onto transfer paper, resulting in an extremely clear image with high resolution. Furthermore, after repeating the above image reproduction process 20,000 times, there was no difference in the image quality between the 20,000th transferred image and the first transferred image, and the image quality was extremely high with no overlap. It was hot. Example 7 Samples NosS 71 to S 74 were prepared under the same conditions and procedures as in Example 6, except that the protective layer forming material shown in Table 2 was used instead of polyvinyl alcohol as the protective layer forming material in Example 6. An electrophotographic imaging member was manufactured. When these image forming members were subjected to the same image reproduction process as in Example 6, good results were obtained as in Example 6.

【表】 実施例 8 アルミニウム製円筒状ドラム6本を用意し各々
の表面を第3表に示すシラン系処理剤(溶剤はエ
チルアルコールを使用)で表面処理した。 別に第1図に示す装置で製造したn型a−Si粉
末100重量部に塩化ビニル−酢酸ビニル共重合ワ
ニス(商品名V−1・森川インキ社製)を固形分
で10重量部、稀釈剤としてメチルイソブチルケト
ン5重量部を混合してロールミルで良く分散しペ
ースト状光導電性組成物を調製した。次いでこの
組成物にメチルエチルケトンを加えて500〜
600C.P.Sの粘度とした。その組成物溶液中に前
記の6本のアルミニウム組円筒形ドラムを別々に
各々デイツピングし、30cm/minの速度で引上
げ、70℃で20分間乾燥して溶剤を完全に揮発させ
て厚さ35μの光導電層を形成した。 次いで上記6本のドラムを各々40℃に加熱溶解
させた10%ゼラチン水溶液(新田ゼラチン社製)
中にデイツピングし、約4cm/minの速度で引上
げ、上記光導電層上に厚さ1μの目止め層を形成
した。 更に上記6本のドラムを光硬化型アクリルウレ
タン樹脂(商品名ゾンネ:関西ペイント社製)を
エチルアルコールで100C.P.Sに稀釈した溶液中
に各々、別々にデイツピングし、4cm/minの速
度で引上げ、目止層上に上記物質の薄膜を形成し
た後紫外線照射装置中で120秒間紫外線を照射し
て硬化させた。この塗布を6本のドラムに対して
各々3回くり返えし30μの厚さの絶縁層を形成し
て、試料NosS81〜S85の電子写真用像形成部材を
得た。 これ等の電子写真用像形成部材の絶縁層表面に
一次帯電として、電源電圧6000Vでコロナ放電
を0.2sec間行つたところ、2000Vに帯電した。
次に、二次帯電として電源電圧5500Vでコロナ
放電を行うと同時に露光量15 lux.secで画像露光
を行い、次いで像形成部材表面を一様に全面照射
して静電像を形成した。この静電像をカスケード
法によつてに荷重されたトナーで現像し、転写
紙上に転写定着したところ極めて良品質の画像が
得られ。又、上記の画像再生処理を繰返し10万回
行つたところ10万枚目の転写像の画質と1枚目の
転写画像の画質とには、何等差はなく、被りのな
い極めて良質のものであつた。
[Table] Example 8 Six cylindrical aluminum drums were prepared, and the surface of each drum was treated with the silane treatment agent shown in Table 3 (ethyl alcohol was used as the solvent). Separately, add vinyl chloride-vinyl acetate copolymer varnish (trade name V-1, manufactured by Morikawa Ink Co., Ltd.) to 100 parts by weight of n-type a-Si powder produced using the apparatus shown in Figure 1, and add 10 parts by weight of solid content, and a diluent. A paste-like photoconductive composition was prepared by mixing 5 parts by weight of methyl isobutyl ketone and thoroughly dispersing the mixture using a roll mill. Next, add methyl ethyl ketone to this composition to
The viscosity was 600C.PS. The above six aluminum cylindrical drums were individually dipped into the composition solution, pulled up at a speed of 30cm/min, and dried at 70°C for 20 minutes to completely volatilize the solvent and form a 35μ thick drum. A photoconductive layer was formed. Next, a 10% aqueous gelatin solution (manufactured by Nitta Gelatin Co., Ltd.) was prepared by heating and dissolving each of the above six drums at 40°C.
The photoconductive layer was dipped into the photoconductive layer and pulled up at a speed of about 4 cm/min to form a sealing layer with a thickness of 1 μm on the photoconductive layer. Furthermore, each of the above six drums was separately dropped into a solution of photocurable acrylic urethane resin (product name: Sonne, manufactured by Kansai Paint Co., Ltd.) diluted with ethyl alcohol to 100 C.PS, and pulled up at a speed of 4 cm/min. After forming a thin film of the above substance on the sealing layer, it was cured by irradiating it with ultraviolet rays for 120 seconds in an ultraviolet irradiation device. This coating was repeated three times on each of the six drums to form an insulating layer with a thickness of 30 μm to obtain electrophotographic imaging members of samples NosS 81 to S 85 . When corona discharge was performed for 0.2 seconds at a power supply voltage of 6000V as a primary charge on the surface of the insulating layer of these electrophotographic image forming members, the surface was charged to 2000V.
Next, as secondary charging, corona discharge was performed at a power supply voltage of 5500 V, and at the same time image exposure was performed at an exposure amount of 15 lux.sec, and then the entire surface of the image forming member was uniformly irradiated to form an electrostatic image. When this electrostatic image was developed with toner loaded by the cascade method and transferred and fixed onto transfer paper, an extremely high quality image was obtained. Furthermore, after repeating the above image reproduction process 100,000 times, there was no difference in the image quality between the 100,000th transfer image and the first transfer image, and they were of extremely high quality with no overlap. It was hot.

【表】 数値は、溶剤とシラン系処理剤との重量比。
実施例 9 アルミニウム製円筒状ドラム表面にシラン系処
理剤(CH3O)3Si(CH23NHCH2CH2NH22.0重量
%エチルアルコール溶液をスプレーで吹付けて塗
布処理した。 別に第1図に示す装置で製造したn型a−Si粉
末100重量部に塩化ビニル−酢酸ビニル共重合ワ
ニス(商品名v−1:森川インキ社製)を固形分
で10重量部、稀釈剤としてメチルイソブチルケト
ン5重量部を混合してロールミルで良く分散しペ
ースト状光導電性組成物を調製した。次いでこの
組成物にメチルエチルケトンを加えて約550C.P.
Sの粘度とした。その組成物溶液中に前記アルミ
ニウム製円筒形ドラムをデイツピングし、30cm/
minの速度で引上げ、70℃で20分間乾燥して溶剤
を完全に揮発させて厚さ35μの光導電層を形成し
た。 この光導電層表面を前記と同様のシラン系処理
剤で表面処理した後、ポリカーボネイト樹脂を乾
燥後の厚さが15μとなる様に塗布して、電気的絶
縁層を形成して、電子写真用像形成部材とした。
この像形成部材の絶縁層表面に一次帯電として、
電源電圧6000Vでコロナ放電を0.2sec間行つた
ところ、2000Vに帯電した。次に、二次帯電と
して電源電圧5500Vでコロナ放電を行うと同時
に露光量15 lux.secで画像露光を行い、次いで感
光体表面を一様に全面照射して静電像を形成し
た。この静電像をカスケード法によつてに荷電
されたトナーで現像し、転写紙上に転写定着した
ところ極めて良品質の画像が得られた。 実施例 10 実施例6に於けるアルミニウム円筒状ドラムの
表面をアルマイト処理して厚さ約2μの障壁層を
形成した以外は、実施例6と同様の条件と手順で
電子写真用像形成部材を製造した。 この像形成部材に就て、実施例6と同様の画像
再生処理を施したところ、実施例6と同様に良好
な転写画像が得られた。
[Table] Values are the weight ratio of solvent and silane treatment agent.
Example 9 A silane treatment agent (CH 3 O) 3 Si(CH 2 ) 3 NHCH 2 CH 2 NH 2 2.0% by weight ethyl alcohol solution was applied by spraying onto the surface of an aluminum cylindrical drum. Separately, 100 parts by weight of n-type a-Si powder produced using the apparatus shown in Figure 1, 10 parts by weight of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer varnish (trade name v-1, manufactured by Morikawa Ink Co., Ltd.) as a solid content, and a diluent. A paste-like photoconductive composition was prepared by mixing 5 parts by weight of methyl isobutyl ketone and thoroughly dispersing the mixture using a roll mill. Methyl ethyl ketone is then added to this composition to give approximately 550 C.P.
The viscosity is S. Dip the aluminum cylindrical drum into the composition solution and
The sample was pulled up at a speed of 10 min and dried at 70°C for 20 minutes to completely volatilize the solvent and form a photoconductive layer with a thickness of 35 μm. After the surface of this photoconductive layer was treated with the same silane treatment agent as described above, polycarbonate resin was applied to a dry thickness of 15 μm to form an electrically insulating layer. It was used as an image forming member.
As a primary charge on the surface of the insulating layer of this image forming member,
When corona discharge was performed for 0.2 seconds with a power supply voltage of 6000V, it was charged to 2000V. Next, as secondary charging, corona discharge was performed at a power supply voltage of 5500 V, and at the same time, image exposure was performed at an exposure amount of 15 lux.sec, and then the entire surface of the photoreceptor was uniformly irradiated to form an electrostatic image. When this electrostatic image was developed with toner charged by the cascade method and transferred and fixed onto transfer paper, an image of extremely good quality was obtained. Example 10 An electrophotographic image forming member was produced under the same conditions and procedures as in Example 6, except that the surface of the aluminum cylindrical drum in Example 6 was alumite-treated to form a barrier layer with a thickness of approximately 2 μm. Manufactured. When this image forming member was subjected to the same image reproduction process as in Example 6, a good transferred image was obtained as in Example 6.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明に於いて使用される光導電材
料粉末を製造する為の気体放電装置の一例を説明
する為の模式的説明図である。 1……放電室、2……高周波電源、3,4……
電極、5,6,7,8……ボンベ、25……収集
室、26……収納器、27……開閉扉、28……
ゲートバルブ。
FIG. 1 is a schematic explanatory diagram for explaining an example of a gas discharge apparatus for producing photoconductive material powder used in the present invention. 1...discharge chamber, 2...high frequency power supply, 3, 4...
Electrode, 5, 6, 7, 8...Cylinder, 25...Collection chamber, 26...Storage container, 27...Opening/closing door, 28...
gate valve.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 支持体と、光導電材料粉末粒子が結着剤中に
分散されて層形成されている光導電層とを有する
電子写真用像形成部材において、光導電材料粉末
粒子が10〜40原子%の水素を含有するアモルフア
スシリコン粉末粒子である事を特徴とする電子写
真用像形成部材。 2 結着剤がアモルフアスシリコン粉末粒子との
重量比で5〜60wt%含有されている特許請求の
範囲第1項の電子写真用像形成部材。 3 光導電層の厚さが10〜80μである特許請求の
範囲第1項の電子写真用像形成部材。 4 結着剤が樹脂結着剤である特許請求の範囲第
1項乃至第2項の電子写真用像形成部材。 5 結着剤がシリコーン化合物である特許請求の
範囲第1項の電子写真用像形成部材。 6 結着剤が有機光導電材料である特許請求の範
囲第1項の電子写真用像形成部材。 7 結着剤の絶縁耐力が10KV/mm以上である特
許請求の範囲第1項の電子写真用像形成部材。 8 結着剤の体積固有抵抗が1012Ωcm以上である
特許請求の範囲第1項の電子写真用像形成部材。 9 支持体と光導電層との界面がシラン系処理剤
で処理されている特許請求の範囲第1項乃至第8
項の電子写真用像形成部材。 10 光導電層上に表面被覆層を有する特許請求
の範囲第1項乃至第8項の電子写真用像形成部
材。 11 前記支持体と前記光導電層との間に障壁層
が設けられている特許請求の範囲第1項の電子写
真用像形成部材。
[Scope of Claims] 1. An electrophotographic imaging member comprising a support and a photoconductive layer formed by dispersing photoconductive material powder particles in a binder, wherein the photoconductive material powder particles are dispersed in a binder. An electrophotographic image forming member characterized by being amorphous silicon powder particles containing 10 to 40 atomic percent hydrogen. 2. The electrophotographic image forming member according to claim 1, wherein the binder is contained in a weight ratio of 5 to 60 wt% with respect to the amorphous silicon powder particles. 3. The electrophotographic imaging member according to claim 1, wherein the photoconductive layer has a thickness of 10 to 80 μm. 4. The electrophotographic image forming member according to claims 1 and 2, wherein the binder is a resin binder. 5. The electrophotographic image forming member according to claim 1, wherein the binder is a silicone compound. 6. The electrophotographic imaging member according to claim 1, wherein the binder is an organic photoconductive material. 7. The electrophotographic image forming member according to claim 1, wherein the binder has a dielectric strength of 10 KV/mm or more. 8. The electrophotographic image forming member according to claim 1, wherein the binder has a volume resistivity of 10 12 Ωcm or more. 9 Claims 1 to 8, wherein the interface between the support and the photoconductive layer is treated with a silane treatment agent.
1. Electrophotographic imaging member. 10. The electrophotographic image forming member according to claims 1 to 8, which has a surface coating layer on the photoconductive layer. 11. The electrophotographic imaging member according to claim 1, wherein a barrier layer is provided between the support and the photoconductive layer.
JP8065578A 1978-07-03 1978-07-03 Image forming member for electrophotography Granted JPS557761A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8065578A JPS557761A (en) 1978-07-03 1978-07-03 Image forming member for electrophotography

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8065578A JPS557761A (en) 1978-07-03 1978-07-03 Image forming member for electrophotography

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59148311A Division JPS6068348A (en) 1984-07-16 1984-07-16 Preparation of amorphous silicon powdery particles

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS557761A JPS557761A (en) 1980-01-19
JPS6161105B2 true JPS6161105B2 (en) 1986-12-24

Family

ID=13724365

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8065578A Granted JPS557761A (en) 1978-07-03 1978-07-03 Image forming member for electrophotography

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS557761A (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55166647A (en) * 1979-06-15 1980-12-25 Fuji Photo Film Co Ltd Photoconductive composition and electrophotographic receptor using this
US4349617A (en) * 1979-10-23 1982-09-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Function separated type electrophotographic light-sensitive members and process for production thereof
JPS5669658A (en) * 1979-11-12 1981-06-11 Fuji Photo Film Co Ltd Formation of electrophotography picture
US4394426A (en) * 1980-09-25 1983-07-19 Canon Kabushiki Kaisha Photoconductive member with α-Si(N) barrier layer

Also Published As

Publication number Publication date
JPS557761A (en) 1980-01-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1321314C (en) Electrophotographic imaging members
JPS6226459B2 (en)
JP2009251241A (en) Electrophotographic photoreceptor, and process cartridge and image forming apparatus using the same
JPH021303B2 (en)
JPH021305B2 (en)
US4741982A (en) Photosensitive member having undercoat layer of amorphous carbon
US4749636A (en) Photosensitive member with hydrogen-containing carbon layer
US4613556A (en) Heterogeneous electrophotographic imaging members of amorphous silicon and silicon oxide
JPS6161105B2 (en)
JP2002123020A (en) Electrophotographic photoreceptor for negative electrification
JP5125393B2 (en) Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus
JP2508654B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JPS639218B2 (en)
US5945241A (en) Light receiving member for electrophotography and fabrication process thereof
JPS6068348A (en) Preparation of amorphous silicon powdery particles
JPH0546539B2 (en)
JPS5952251A (en) Manufacture of electrophotographic image forming material
JP2002311612A (en) Electrophotographic method, electrophotographic photoreceptor and electrophotographic device
JPH0682216B2 (en) Photoconductive member
JPH07107606B2 (en) Photoconductor
JP3113453B2 (en) Manufacturing method of electrophotographic photoreceptor
JP2024046538A (en) Image forming apparatus
Chou et al. Study on the optoelectronic properties of amorphous selenium-based photoreceptors
JPH0616178B2 (en) Photoconductive member
JPH0331846A (en) Photosensitive body superior in oxidation prevention and manufacture of the same