JPS6159693A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPS6159693A
JPS6159693A JP59181042A JP18104284A JPS6159693A JP S6159693 A JPS6159693 A JP S6159693A JP 59181042 A JP59181042 A JP 59181042A JP 18104284 A JP18104284 A JP 18104284A JP S6159693 A JPS6159693 A JP S6159693A
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JP
Japan
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memory device
semiconductor memory
output
signal
circuit
Prior art date
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Application number
JP59181042A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Yasuda
保田 博史
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Publication of JPS6159693A publication Critical patent/JPS6159693A/en
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Abstract

PURPOSE:To enable the functional test without employing memory elements for the testing by incorporating a circuit for turning all of the row lines to the non-selective mode to output the data before the writing. CONSTITUTION:A column decoder 14 of NAND structure is incorporated with a circuit for turning all of the row lines to the non-selective mode. When a non-selective signal 13 is turned to the L-level, the output from inverter 15 is turned to the L-level, irrespective or an address 12 and a row line 21 is turned to the L-level through a depression type N-transistor 16 to be non-selective. Hence, the function test of writable read-only semiconductor device for writing the threshold voltage in the direction of OFF can be performed without providing any memory element for testing and the peripheral circuits.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明1−t8込み可能な読入出し専用半導体記憶装置
、特(フローティングゲート溝造のM OS )ランジ
スタから成る半導体記憶装置のテスト回路に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention 1-T8 is concerned with a test circuit for a semiconductor memory device consisting of a read-only semiconductor memory device, particularly a (floating gate trench MOS) transistor. .

〔従来技術〕[Prior art]

一般に書込み可能な読入出し専用半導体記憶装[け、デ
ータ書込み前の状態では全てのデータが”01又け“1
′の固定した状態にあり、この状態で機能試験を行なう
場合、常に同じ状態となるため機能しているか否かの判
別ができない。
In general, a writable read/write semiconductor memory device [Before writing data, all data is ``01'' or ``1''
' is in a fixed state, and if a function test is performed in this state, it is always in the same state and it is impossible to determine whether it is functioning or not.

従来このような半導体記憶装置では、特開昭59−22
99号公報のようにテスト用の列線(前記資料ではワー
ドラインとなっている)を設け、テスト用のメモリ素子
を使って試験をしていた。その例を第2図にブロヴク図
で示す、10〜1z、2Q〜畑、けアドレス入力、30
〜3nけデータ入出力端子、4.6はアドレスバヴファ
回路、56行デコーダ、7け列デコーダ、8はメモリ素
子アレイ、9けテスト用メモリ素子アレイ、10は行セ
レクタ、11け出力回路である。第2図において、通常
データを読人出寸場合アドレス入力10〜1z、、2r
1〜2mシてアドレス入力信号を入力するとアドレスバ
ノフ74.6を通りデコーダ5.7及び行セレクタによ
って、入出力端子の数に等しいメモリ素子が選択され、
出力回路11を介してデータが出力される。データ書込
人前の状態での機能試験時には、例えばテスト用の端子
等を用いて、列デコーダでテスト用列線を選択し、通常
の時と同じようにテスト用メモリ素子を選択し、この時
テスト用メモリ素子にあらかじめ書込まれていたデータ
が出力をれる。
Conventionally, such a semiconductor memory device was disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 59-22
As in Publication No. 99, test column lines (word lines in the above document) were provided, and tests were performed using test memory elements. An example of this is shown in a block diagram in Figure 2. 10~1z, 2Q~field, ke address input,
~3n data input/output terminals, 4.6 is address buffer circuit, 56 row decoder, 7 digit column decoder, 8 is memory element array, 9 digit test memory element array, 10 is row selector, 11 digit output circuit It is. In Figure 2, when reading normal data, address inputs 10 to 1z, 2r
When an address input signal is input after 1 to 2 m, it passes through an address banoff 74.6, and a memory element equal to the number of input/output terminals is selected by a decoder 5.7 and a row selector.
Data is output via the output circuit 11. When performing a functional test in front of someone writing data, use a test terminal, for example, to select a test column line with a column decoder, select a test memory element in the same way as normal, and then Data written in advance in the test memory element is output.

〔発明が解決しようとする間素点〕[The problem that the invention attempts to solve]

しかし一前述の半導体記憶装置では、テスト用に特別の
メモリ素子及び周辺回路が必要であり、半導体記憶装置
1:?の素子数の増加、すなわちコストの上昇となって
しまう。特に本発明にかかわるフローティングゲート溝
造のMOSトランジスタから成る半導体記憶装置で紫外
線により消去可能なもの(F:FROM)では、最終形
態としてプラスティック パッケージとなる場合では、
出荷検査時のみ書込み前の状態で機能試験することにな
り、前記資料、特開昭59−2299号公報記載のよう
に信号線のショートは考えにくく、1lfI線に対する
機能試験が中心となる。そこで本発明はこのような問題
点を解決するもので、その目的とするところは、素子数
を増加することなく、EP  ROM特に消去不能な実
装状態での最終機卵試験を可能とすることてあり、ざら
には書込みが可能な状態においても、書込人前の状態で
ほぼ機能試験を行なえるようにすることにある。
However, the aforementioned semiconductor memory device requires a special memory element and peripheral circuit for testing, and the semiconductor memory device 1:? This results in an increase in the number of elements, that is, an increase in cost. In particular, in the case of a semiconductor memory device comprising a floating gate trench MOS transistor according to the present invention that can be erased by ultraviolet rays (F:FROM), when the final form is a plastic package,
Functional testing is performed in the state before writing only during shipping inspection, and as described in the above-mentioned document, Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-2299, short circuits in the signal lines are unlikely to occur, and the functional testing is mainly performed on the 1lfI line. The present invention is intended to solve these problems, and its purpose is to enable final prototype testing of EP ROMs, especially in non-erasable packaging, without increasing the number of elements. Basically, the purpose is to make it possible to perform a functional test in front of the user even when writing is possible.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明の半導体記憶装置は、婁込み可能な読み出し専用
半導体記憶装置のデータ読み出し状態でメモリ素子の制
御ゲートである列線を全て非選択状態とする回路を内蔵
したことを特徴とする。
The semiconductor memory device of the present invention is characterized in that it incorporates a circuit that unselects all column lines, which are control gates of memory elements, in a data read state of the programmable read-only semiconductor memory device.

〔作用〕[Effect]

上記のように構成された書込み可能な読入出し専用半導
体記憶装置では、書込人前の状態では全てのデータが”
01又け”1fの固定した状態になっているが、EF 
 ROMのようにシャイ値電圧をオフ方向に書込む半導
体記憶装置で、データ読人出し状態で列線を全フへ択と
することで5選択した行線をあ之かもメモリ素子がオフ
状態にあるかのごとく作用ζせ、前記書込む前のデータ
を出力ζせ、機能試験を可能とするもの6である。
In the writable read/write semiconductor memory device configured as described above, all data is "
01 straddle "1f" is in a fixed state, but EF
In a semiconductor memory device such as a ROM, in which the shy value voltage is written in the off direction, by selecting the column lines to all OFF in the data read state, the memory element will also be in the OFF state for the 5 selected row lines. The device 6 operates as if it were there, outputs the data before writing, and enables a functional test.

〔実施例〕〔Example〕

第1図にその実施例を示す。@1図けNANDで構成は
れた列デコーダに非選択とするための信号を入力したも
のであり、12けアドレス信号、15は列線21を非選
択にするための信号、14け列デコーダであるNAND
ゲート、15けMOSインバータ、16け書込み時MO
Sインバータ15の出力T位をプログラム重圧源20か
ら分離してMOSインバータの電源電圧以下にするため
のNチャネルMO8)ランジスタ、176M0Sインバ
ータ16のゲート信号、19け列線21f。
An example is shown in FIG. @1: A signal for deselecting the column line 21 is input to the NAND column decoder, 12-digit address signal, 15 is a signal for deselecting the column line 21, 14-digit column decoder. is NAND
Gate, 15-digit MOS inverter, 16-digit MO when writing
N-channel MO8) transistor for isolating the output T of the S inverter 15 from the program heavy pressure source 20 and below the power supply voltage of the MOS inverter, a gate signal for the 176M0S inverter 16, and a 19-digit column line 21f.

プログラム電圧て引き上げるためのPチャネルMOSト
ランジスタ、181−tその制御信号である。
A P-channel MOS transistor 181-t for raising the program voltage is its control signal.

データ読み出し状態で列線21を選択する場合、アドレ
ス信号12全て高レベルとなり・、MOSインバータ1
5の出力端子は高レベルとなり、NチャネルM OS 
)ランジメタ161−fデプレシヨン型に作られており
そのゲート信号は高レベルにありMOSインバータ15
の出力信号を列線21に伝達する。PチャネルMOSト
ランジスタ19けゲート信号18が読入出し時高レベル
にありオフ状態となっている。この状態では列線全てを
非選択にする信号13は高レベルにあり、非選択にする
時信号13け低レベルとなり列線21を低レベルにアド
レス信号と無関優に設定することができる。
When selecting the column line 21 in the data read state, all the address signals 12 become high level, and the MOS inverter 1
The output terminal of 5 becomes high level, and the N-channel MOS
) Range Meta 161-f is made of depletion type and its gate signal is at high level and MOS inverter 15
The output signal of is transmitted to the column line 21. The gate signal 18 of the P-channel MOS transistor 19 is at a high level during read/write and is in an off state. In this state, the signal 13 for deselecting all column lines is at a high level, and when deselecting, the signal 13 becomes a low level, allowing the column line 21 to be set to a low level, regardless of the address signal.

第3図に本発明の他の実施例を示す。筆2図の列デコー
ダの数は列線に等しい数だけあり、NANDゲート14
のアドレス信号は、アドレス入力信号からアドレスバ・
lファを介して一対の相補の信号トなり、列デコーダの
半数ずつに接続され、片方が高レベルの詩仙は低レベル
となっている。
FIG. 3 shows another embodiment of the invention. The number of column decoders in Figure 2 is equal to the number of column lines, and the NAND gate 14
The address signal of
A pair of complementary signals are connected to each half of the column decoders through the I/F, one of which is at a high level and the other is at a low level.

ここでこの一対の相補アドレス信号を両方共像レベルと
することで、列線を全て低レベルにするのが第3図に示
すアドレス入力信号である。第3図において22はアド
レス入力端子、25.26はアドレス信号、24f″t
アドレス信号25.26を低レベルとし、列線を非選択
にする信号、23け待機状態にアドレス入力を禁止する
信号である。通常の読み出し状態で1−t23t:を低
レベルに、24け高レベルにあり、アドレス信号25.
26にアドレス入力に対してそれぞれ相補な信号が出力
でれる。
The address input signal shown in FIG. 3 sets all the column lines to a low level by setting both of the pair of complementary address signals to the same image level. In Fig. 3, 22 is an address input terminal, 25.26 is an address signal, and 24f''t
This is a signal that sets the address signals 25 and 26 to a low level to deselect a column line, and a signal that prohibits address input in the 23-digit standby state. In the normal read state, 1-t23t: is at low level, 24 is at high level, and address signal 25.
26, signals complementary to the address inputs are outputted.

24を低レベルにするとアドレス信号25.26はいず
れも低レベルとなり全列線を非選択とするものである。
When address signal 24 is set to low level, both address signals 25 and 26 are set to low level, thereby deselecting all column lines.

次に前述のように列線を非選択とすることで半導体記憶
装置の出力信号として0“、71′の両レベルが取り出
略せることをメモリ素子のデータ検出回路の例で説明す
る。第4図はその一例であり、27け読み出し動作用の
電源端子、28けデータ書込入口路、29けメモリ素子
36がオン状態の時出力端子37を高レベルに9+き上
げるPチャネルM OS トランジスタ、511−を書
き込みと読み出しを切り換えるNチャネルMOSトラン
ジスタ、32けその制御信号、3升は行セレクタである
NチャネルMO8)ランンスタ、336行デコーダの出
力線、35け列線、38け行線、39づセンスアンプを
構成するPチャネルMO8トランジスタ 40け1司+
;KVCNチャ211MO3)ランジスタ、41けその
出力端子である。メモリ素子36はフローティングゲー
ト信造のNチャネルMOSトランジスタであり、ゲート
及びドレイン端子に高電圧を印加することによってフロ
ーティングゲートVC電子が注入されシキイ値重、圧を
ケ化でせデータを書き込むメモリ素子である。メモリ素
子66に書込まれていない時、通常そのシキイ値電圧け
1〜2vであり1列線35が選択でれ高レベル忙なると
メモリ素子36けオン状態となり、行線38が選択され
ると行デコーダの出力線53は高レベルとなり、行セレ
クタ54はオン状態となる。読入出し状態でI−t52
げ高レベルにあり切換用MO8)ランジスタ31もオン
状態となっており、又29け読み出し時低レベルにあり
、?E源端子27から接地に対して全てのMO3hラン
ノスタがオン状態となり、それぞれのインピーダンヌで
37.38の電位か決まり1通常にこの状態でけ37け
低レベル側になるよう設定されている。
Next, it will be explained using an example of a data detection circuit of a memory element that by deselecting a column line as mentioned above, both levels 0" and 71' can be extracted as an output signal of a semiconductor memory device. Figure 4 shows an example of this, which includes a power supply terminal for a 27-digit read operation, a 28-digit data write input path, and a P-channel MOS transistor that raises the output terminal 37 to a high level when the 29-digit memory element 36 is in the on state. , 511- is an N-channel MOS transistor that switches between writing and reading, 32 digits control signal, 3 squares is a row selector N-channel MO8) run star, 336 row decoder output line, 35 column line, 38 column line, 40 P-channel MO8 transistors forming a sense amplifier
; KVCN transistor 211MO3) transistor, output terminal of 41. The memory element 36 is a floating gate N-channel MOS transistor, and is a memory element in which floating gate VC electrons are injected by applying a high voltage to the gate and drain terminals to oxidize the critical value and pressure to write data. It is. When the memory element 66 is not being written, normally its threshold voltage is 1 to 2V, and the 1st column line 35 is selected, and when the high level is busy, the memory element 36 is turned on, and when the row line 38 is selected. The output line 53 of the row decoder goes high, and the row selector 54 turns on. I-t52 in read/read state
The switching MO8) transistor 31 is also on, and it is at a low level when reading 29. All the MO3h runnostars are turned on from the E source terminal 27 to the ground, and each impedance has a potential of 37.38, which is normally set to be 37 times lower in this state.

その結果センスアンプの出力端子は高レベルとなる。次
にメモリ素子66にtき込まれている時、通常そのシ千
イ値電圧ri1avぐらいであり、列@55が高17ベ
ルとなってもメモリ索子36けオンとけなす、57の電
位は電源端子27の電位まで上り、センス7ンプの出力
は低レベルとなる。
As a result, the output terminal of the sense amplifier becomes high level. Next, when data is being written into the memory element 66, the value voltage of the memory element 66 is normally about ri1av, and even if the column @55 is high 17 bells, the potential of the memory element 36 is turned on and the potential of 57 is The voltage rises to the potential of the power supply terminal 27, and the output of the sense 7 amplifier becomes low level.

このように2値を記憶するものであるが、行線38が選
択されている状態で、前述のように列線35を含め全て
が低レベルになると、メモリ素子36に書込まh、てい
なくとも、前述の状態と同じょ5にセンスアンプに低レ
ベルが出力される。
Although binary values are stored in this way, when the row line 38 is selected and all lines including the column line 35 become low level as described above, the data is written to the memory element 36. In both cases, a low level is output to the sense amplifier in the same manner as in the above-mentioned state.

次に第5図に特許請求の範囲第2項に記載の入力回路の
実施例を示す。42け入力端子、43f′iエンハンス
メント型のPチャネルMosト7ンンスタ、44げNチ
ャネルMO51トランンスタ、45けその出力端子であ
る。入力端子42が電源電圧範囲内にある場合、必ずP
チャネルMQS)ランジスタ43けオフ状態にあり、出
力端子451−を低レベルとなる。入力端子42より充
分高くなるとPチャネルMO9)ランジスタ46及びN
チャネルMO8トランジスタ両方がオン状態となり、ざ
らて入力端子42を高くすると出力端子は低レベル側に
移動する。このように端子を増加中ることなく前述のよ
うなテスト機能を働かせることが可能である。又実施例
°でf′i雷源■、圧より高い入力電圧について説明し
たが、低い入力電圧に対する回路も容易に想岱できるで
あろう、 〔発明の効果〕 以上のように本発明によれば、列線を全て非選択にする
回路を内蔵することくよって、書込み前の状態でもテス
ト用メモリ素子等を必要とせず機能試験が可能であり、
又、内蔵する素子も約1・0素子8度で、トリ、素子数
を増加中ることなく容易に低価格で実現することができ
る。
Next, FIG. 5 shows an embodiment of the input circuit according to claim 2. There are 42 input terminals, 43f'i enhancement type P-channel Most 7 transistors, 44 N-channel MO51 transistors, and 45 output terminals. When the input terminal 42 is within the power supply voltage range, P
The channel MQS) transistor 43 is in an off state, and the output terminal 451- becomes a low level. When it becomes sufficiently higher than the input terminal 42, the P channel MO9) transistors 46 and N
Both channel MO8 transistors are turned on, and when the input terminal 42 is made high, the output terminal moves to the low level side. In this way, the test function described above can be performed without increasing the number of terminals. Furthermore, although the input voltage higher than the voltage of the f'i lightning source was explained in the embodiment, one can easily imagine a circuit for a lower input voltage. For example, by incorporating a circuit that deselects all column lines, it is possible to perform functional tests without the need for test memory elements even before writing.
Furthermore, the built-in elements are approximately 1.0 elements and 8 degrees, and can be easily realized at low cost without increasing the number of elements.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

i1図は本発明の実施例を示す図であり、12けアドレ
ス信号、13け列線を非選択にする入力信号、14けN
AhrDゲート、15けMOSインバータ、161′l
tNチャネルMOSトランジスタ、17けそのゲート制
御信号、19げPチャネルMOSトランジスタ、18は
その制御信号、20け書込み電源端子、21け列線であ
る。 第2図は従来の半導体記憶装置の一例を示す図であり、
10〜12.20〜2g、 titアドレス入力端子、
30〜3mはデータ入出力端子、4.6Fiアドレスバ
ツフア、5.7はデコーダ、8けメモリ素子アレイ、9
けテスト用メモリ素子アレイ、10け行セレクタ、11
け出力回路である。 第3図は本発明の他の実施例を示す図であり。 アドレスバッファであり、22は入力端子、23け制御
入力端子、24け列線を非選択にする入力端子、25.
26はアドレス信号である。 第4図は機能試験動作を説明するデータ検出回路図であ
り、28はデータ書込入口路、51,54゜40dNチ
ャネ#MOSh 5 ン’)スタ、3Q、 39t:t
PチャネルMO8)ランジスタ、29.32は制御信号
、35け行デコータ゛の出力線、35け列線、36けメ
モリ素子である。 第5図は本発明の実施例を示す図であり、高電圧入力時
に信号が得られる回路であり、42は入力端子、43け
PチャネルMO8)ランジスタ。 44けNチャネルMOSトランジスタ、45け出力端子
である。 以  上 出g人 株式会社 諏訪精工舎
Figure i1 is a diagram showing an embodiment of the present invention, in which a 12-digit address signal, an input signal for deselecting a 13-digit column line, and a 14-digit N
AhrD gate, 15 MOS inverter, 161'l
tN channel MOS transistors, 17 gate control signals, 19 P channel MOS transistors, 18 their control signals, 20 write power supply terminals, and 21 column lines. FIG. 2 is a diagram showing an example of a conventional semiconductor memory device.
10~12.20~2g, tit address input terminal,
30 to 3m are data input/output terminals, 4.6Fi address buffer, 5.7 is a decoder, 8 memory element array, 9
memory element array for testing, 10 row selectors, 11
This is an output circuit. FIG. 3 is a diagram showing another embodiment of the present invention. An address buffer includes an input terminal 22, a 23-digit control input terminal, an input terminal for deselecting a 24-digit column line, and 25.
26 is an address signal. FIG. 4 is a data detection circuit diagram explaining the functional test operation, in which 28 is a data write entrance path, 51, 54° 40dN channel #MOSh 5 n') star, 3Q, 39t:t
P channel MO8) transistor, 29.32 is a control signal, an output line of a 35-digit row decoder, a 35-digit column line, and a 36-digit memory element. FIG. 5 is a diagram showing an embodiment of the present invention, and is a circuit from which a signal can be obtained when a high voltage is input. 42 is an input terminal, and 43 P-channel MO8) transistors. There are 44 N-channel MOS transistors and 45 output terminals. The above people are Suwa Seikosha Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)書込み可能な読み出し専用半導体記憶装置におい
て、前記半導体記憶装置のデータ読み出し状態でメモリ
素子の制御ゲートである列線を全て非選択状態とする回
路を内蔵したことを特徴とする半導体記憶装置。
(1) A writable read-only semiconductor memory device, characterized in that the semiconductor memory device has a built-in circuit that sets all column lines, which are control gates of memory elements, to a non-selected state in a data read state of the semiconductor memory device. .
(2)入力端子の電圧を電源電圧以上又は以下とした時
、全ての列線を非選択状態とする回路を内蔵したことを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置
(2) The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a built-in circuit that sets all column lines to a non-selected state when the voltage of the input terminal is set to be higher than or lower than the power supply voltage.
JP59181042A 1984-08-30 1984-08-30 Semiconductor memory device Pending JPS6159693A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62229600A (en) * 1986-03-31 1987-10-08 Toshiba Corp Nonvolatile semiconductor memory device

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