JPS6157320B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はＤ−ホモステロイドの製造方法に関す
る。

本発明に従つて得られるＤ−ホモステロイドは
一般式 〔式中、R¹はヒドロキシまたは第三級（低級アル
コキシ）基を表わしそしてR²は水素原子を表わ
すか、或いはR¹及びR²は一緒になつてオキソ基
を表わし、R³は低級アルキル基を表わす〕 の19−ノル−Ｄ−ホモステロイドである。

本発明に従えば、上記式の19−ノル−Ｄ−ホ
モステロイドは、 (a) 一般式 〔式中、R³は上記の意味を有し、R¹¹はヒドロ
キシまたは第三級（低級アルコキシ）基を表わ
しそしてR²¹は水素原子を表わすか、或いはR¹¹
及びR²¹は一緒になつてオキソ基またはケター
ル基を表わす〕 の化合物を、有機酸及び第三級アミンの存在下
において、ホルムアルデヒド及び一般式 R⁴SO₂H 〔式中、R⁴は低級アルキル、フエニル、ハロフ
エニル、（低級アルコキシ）−フエニル、フエノ
キシ−フエニル、フエニル−（低級アルキル）
または（低級アルキル）−フエニル基を表わ
す〕 のスルフイン酸と反応させて一般式 〔式中、R¹¹、R²¹、R³及びR⁴は上記の意味を有
する〕 のスルホンを生成させ、 (b) 式のスルホンを、存在し得るケタール基の
解裂後に、貴金属触媒によつて水素添加して一
般式 〔式中、R¹、R²、R³及びR⁴は上記の意味を有す
る〕 の水素添加されたスルホンを生成させ； (c) 式の水素添加されたスルホンを、塩基の存
在下において、一般式 CH₃C（Ｘ）（CH₂）₃COCH₂COOR 〔式中、Ｘはケタール基を表わし、そしてＲは
低級アルキル基を表わす〕 のβ−ケト酸エステルを縮合させ、その縮合生
成物を水−アルコール性塩基で処理し、次に該
混合物を加温して一般式 〔式中、R¹、R²、R³及びＸは上記の意味を有す
る〕 の４・５−セコ−Ｄ−ホモステロイドを生成さ
せ；そして (d) 式の４・５−セコ−Ｄ−ホモステロイドを
任意の順序で、貴金属触媒による水素添加、脱
ケタール化、最初に生じた３・５−ジケトンの
環化に付す ことによつて製造される。

本明細書において用いる「低級アルキル」なる
語は、炭素原子１〜６個を含む直鎖状及び分枝鎖
状のアルキル基を表わす。かかる基の例はメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル及びブチル
基並びに後者の異性体である。第三級（低級アル
コキシ）基は好ましくは第三級ブトキシ基であ
る。（低級アルキル）−フエニル基の例はｐ−トリ
ル基である。ハロフエニル基の例はｐ−クロルフ
エニル基であり、フエニル−（低級アルキル基）
の例はベンジル基である。R¹¹及びR²¹が一緒にな
つて表わされるケタール基は例えばエチレンジオ
キシ基の如きアルキレンジオキシ基であることが
できる。Ｘによつて表わされるケタール基は同様
にエチレンジオキシ基の如きアルキレンジオキシ
基であることができる。Ｘによつて表わされる好
適なケタール基は２・２−ジメチル−１・３−プ
ロピレンジオキシ基である。

本発明の好適な具体例においては、R¹は第三
級ブトキシ基を表わし、そしてR²は水素原子を
表わすか、或いはR¹及びR²は一緒になつてオキ
ソ基を表わし、R³はメチルまたはエチル基を表
わし、R⁴はフエニル基を表わし、そしてＸは
２・２−ジメチル−１・３−プロピレンジオキシ
基を表わす。

本方法の工程(a)に使用し得る第三級アミンの中
で、トリエタノールアミン及びテトラメチルエチ
レンジアミンが好適である。

工程(a)に必要なホルムアルデヒドはパラホルム
アルデヒドもしくはガス状ホルムアルデヒドの状
態で、或いは好ましくはパラホルムアルデヒドと
ガス状ホルムアルデヒドとの混合物の状態で用い
ることができる。工程(a)においては、有機酸より
も過剰の第三級アミンを用いることが有利でさ
る。好適な有機酸は酢酸である。この反応は室温
または昇温下（例えば50゜〜60℃の温度）で行な
うことができる。有利にはこの反応を保護ガス
（例えばアルゴン）の雰囲気下で行なう。

本方法の工程(b)における式のスルホンからの
ケタール基の解裂は、それ自体公知の方法におい
て、水−アルコール性塩化水素酸の如き水性酸を
用いて行なうことができる。

本方法の工程(b)に使用し得る貴金属触媒の中で
はパラジウム／炭素の如きパラジウム触媒が特に
好ましい。水素添加は1N塩酸約１〜２％を含む
エタノール中にて常圧及び室温で有利に行なわれ
る。

本方法の工程(c)において、式の水素添加され
たスルホンをβ−ケト酸エステルと縮合させる。
塩基性結合剤として水素化ナトリウムまたはアル
コール性アルカリ金属水酸化物（例えばメタノー
ル性水酸化カリウム）或いはtert−ブタノール中
のカリウムtert−ブチレートを用いることができ
る。この縮合は室温で行なうことができる。溶媒
としてベンゼンの如き芳香族炭化水素または塩化
メチレンの如き塩素化された炭化水素を用いるこ
とができる。

縮合生成物を次に水−アルコール性塩基（例え
ば水−メタノール性水酸化カリウム）で処理し、
最終的に、脱カルボキシル化を完了させるために
加温する。

本方法の工程(d)において、生じた式の４・５
−セコ−Ｄ−ホモステロイド中の二重結合を、少
量の塩基（例えばトリエチルアミンの如き第三級
アミン）の存在下において、アルコール性（例え
ばエタノール性）溶液中にて普通の条件下で、貴
金属触媒（例えばパラジウム／炭素）によつて水
素添加することができる。酸（例えば塩化水素酸
の如き鉱酸）で処理することにより水素添加生成
物から得られたケトンを、それ自体公知の方法に
おいて、塩基性環化剤（例えばアルコール性アル
カリ金属水酸化物）で処理して環化することがで
きる。しかしながらまた、ケタールの解裂は水素
添加前に行なうこともできる。

式の19−ノル−Ｄ−ホモステロイドは公知の
ものであるか、或いは公知の化合物群に属する。
これらはホルモン的に活性なＤ−ホモステロイド
を製造する際の中間体として特に価値がある。本
方法は式の19−ノル−Ｄ−ホモステロイドを特
に経済的な方法で製造することを可能にするもの
である。

以下の実施例は本発明をさらに説明するもので
ある。

実施例 １ (a) （4aS・5S）−５−ｔ−ブトキシ−４・4a・
５・６・７・８−ヘキサヒドロ−4a−メチル−
２（3H）−ナフタレノン23.6ｇ（0.1モル）、パ
ラホルムアルデヒド3.5ｇ及びベンゼンスルフ
イン酸18ｇを容量250mlの丸底フラスコに入
れ、そして氷酢酸32mlを一部溶解させた。この
混合物を＋５℃に冷却し、撹拌しながらテトラ
メチルエチレンジアミン48mlで処理し、アルゴ
ン下にて50℃で３日間撹拌した。この混合物を
塩化メチレンに溶解し、注意して飽和重炭酸塩
溶液で２回、塩酸で１回、そして水で１回洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、回転蒸発機で
濃縮乾固させた。エーテルから結晶化させ、
（4aS・5S）−５−tert−ブトキシ−４・4a・
５・６・７・８−ヘキサヒドロ−4a−メチル−
１−〔（フエニルスルホニル）メチル〕−２
（3H）−ナフタレノン14.8ｇ（38％）が得られ
た。母液をシリカゲル上でクロマトグラフにか
けた後、更に9.6ｇ（24％）を単離した。融点
128゜〜129℃（エーテルから結晶化）；〔α〕
^２５ _５８９＝＋59゜（ｃ＝0.099、ジオキサン中）。

(b) 精製したアルコール350ml及び1N塩酸７ml中
の（4aS・5S）−５−tert−ブトキシ−４・4a・
５・６・７・８−ヘキサヒドロ−4a−メチル−
１−〔（フエニルスルホニル）メチル〕−２
（3H）−ナフタレノン12.5ｇ（0.032モル）の溶
液を、普通の条件下に、５％パラジウム／炭素
1.5ｇ上で水素添加した。４時間後、水素800ml
を吸収し、この混合物をスピーデツクス
（Speedex）上で吸引過した。液の蒸発後
に得られた残渣を塩化メチレンに溶解し、飽和
重炭酸塩溶液で１回及び水で１回洗浄し、硫酸
ナトリウム上で乾燥し、回転蒸発機で濃縮し
た。エーテルから結晶化後、（1S・4aS・5S・
8aS）−５−ｔ−ブトキシオクタヒドロ−4a−
メチル−１−〔（フエニルスルホニル）メチル〕
−２（1H）−ナフタレノン７ｇ（56％）が得ら
れた：融点130゜〜132℃（エーテルから結晶
化）；〔α〕^２５ _５８９＝＋33゜（ｃ＝0.105、ジオキ
サ
ン中）。

(c) 鉱油中の水素化ナトリウムの55％懸濁液1.3
ｇ（約30ミリモル）をヘキサン中で２回洗浄
し、ベンゼン20mlでおおい、25℃で撹拌しなが
らベンゼン100ml中の（1S・4aS・5S・8aS）−
５−tert−ブトキシオクタヒドロ−4a−メチル
−１−〔（フエニルスルホニル）メチル〕−２
（1H）−ナフタレノン7.84ｇ（20ミリモル）及
び7.7−〔（２・２−ジメチル−１・３−プロピ
レン）ジオキシ）−オクタン−３−オン−１−
オイツク酸メチルエステル6.3ｇ（23ミリモ
ル）の溶液で15分以内に処理した。25℃で４時
間撹拌した後、沈殿物を別し、液を注意し
て氷酢酸約２mlの添加によつて中和し、重炭酸
塩でアルカリ性にし、エーテルで希釈し、水で
２回洗浄した。硫酸マグネシウム上で乾燥した
後、回転蒸発機上で濃縮した際、粗製の生成物
11.2ｇが残り、このものをメタノール140mlに
溶解し、水30ml中の水酸化ナトリウム3.4ｇの
溶液で処理した。25℃で10分後、メタノールを
回転蒸発機で除去し、残渣をエーテルに採り入
れ、氷酢酸5.6mlの添加によつて酸性にし、水
で２回洗浄した。硫酸マグネシウム上で乾燥
し、蒸発させた後に得られた残渣をベンゼン70
mlに溶解し、30分間還流下に加熱した。蒸発後
に得られた残渣をヘキサンから結晶化し、１回
の結晶化で17aβ−tert−ブトキシ−３・３−
〔（２・２−ジメチル−１・３−プロピレン）ジ
オキシ〕−４・５−セコ−Ｄ−ホモオエストル
−９−エン−５−オン4.56ｇ（51％）を得た；
融点125℃（ヘキサンから結晶化）；〔α〕^２５ _５８９
＝−23゜（ｃ＝0.102、ジオキサン中）。

(d) メタノール20ml中の17aβ−ｔ−ブトキシ−
３・３−〔（２・２−ジメチル−１・３−プロピ
レン）ジオキシ〕−４・５−セコ−Ｄ−ホモオ
エストル−９−エン−５−オン1.25ｇの溶液を
1N塩酸４mlで処理し、この混合物を４時間25
℃で撹拌した。回転蒸発機上でメタノールを蒸
発させた後、この混合物を水及び塩化メチレン
で抽出した。抽出液を重炭酸塩溶液及び水で洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、回転蒸発機
上で濃縮した。残渣（１ｇ）を容量100mlの水
素添加用フラスコ中のエタノール20mlに溶解
し、トリエチルアミン0.1ml及び５％パラジウ
ム／炭素0.25ｇで処理し、普通の条件下で水素
添加した。40分後（水素90mlを吸収）、この混
合物をスピーデツクス上で吸収過し、液を
蒸発させ、残渣をベンゼン30mlに溶解し、1N
メタノール性水酸化カリウム10mlで処理した。
25℃で20時間後、この混合物を氷水上に注ぎ、
エーテルで抽出した。水で洗浄し、硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、回転蒸発機により蒸発させ
た後に得られた粗第の生成物をシリカゲル
（0.06〜0.2mm）100ｇに吸着させた。ヘキサ
ン／酢酸エチル（10：１）で溶離し、融点160
゜〜161℃（ヘキサンから結晶化）の17aβ−ｔ
−ブトキシ−Ｄ−ホモオエストル−４−エン−
３−オン0.4ｇを得た。

実施例 ２ (a) （4aS・5S）−４・4a・５・６・７・８−ヘ
キサヒドロ−５−ヒドロキシ−4a−メチル−２
（3H）−ナフタレノン18ｇ（0.1モル）、パラホ
ルムアルデヒド3.5ｇ及びベンゼンスルフイン
酸18ｇを容量250mlの丸底フラスコに入れ、氷
酢酸32mlに一部溶解した。＋５℃に冷却したこ
の混合物を撹拌しながらテトラメチルエチレン
ジアミン48mlで処理し、アルゴン下にて60℃で
２日間撹拌した。この混合物を塩化メチレンに
溶解し、注意して飽和重炭酸塩溶液で２回、塩
酸で１回そして水で１回洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、回転蒸発機上で濃縮した。粗製
の生成物をシリカゲル（メルク；0.06〜0.2
mm）800ｇに吸着させた。ヘキサン／酢酸エチ
ル（１：１）で溶離し、抽出物2.2ｇの後、純
粋な無定形の（4aS・5S）−５−ヒドロキシ−
４・4a・５・６・７・８−ヘキサヒドロ−4a−
メチル−１−〔（フエニルスルホニル）メチル〕
−２（3H）−ナフタレノン12ｇ（36％）及び全
く均一でない物質更に約10ｇを得た。

(b) エタノール500ml及び1N塩酸50ml中の
（4aS・5S）−５−ヒドロキシ−４・4a・５・
６・７・８−ヘキサヒドロ−4a−メチル−１−
〔（フエニルスルホニル）メチル〕−２（3H）−
ナフタレノン12ｇ（0.036モル）の溶液を、普
通の条件下にて５％パラジウム／炭素３ｇ上で
水素添加した。15分後、水素880mlを吸収し、
この混合物をスピーデツクス上で吸引過し
た。液を蒸発させ、残渣を塩化メチレンに溶
解し、飽和重炭酸塩溶液で１回及び水で１回洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、回転蒸発機
により濃縮乾燥した。残渣を酢酸エチル／ヘキ
サンから結晶化させ、（1S・4aS・5S・8aS）−
５−ヒドロキシオクタヒドロ−4a−メチル−１
−〔（フエニルスルホニル）メチル〕−２（1H）
−ナフタレノン7.2ｇ（60％）を得た；融点132
゜〜133℃；〔α〕^２５ _５８９＝＋32゜（ｃ＝0.108、ジ
オキサン中）。

(c) 塩化メチレン50ml中の７・７−〔（２・２−ジ
メチル−１・３−プロピレン）ジオキシ〕−オ
クタン−３−オン−１−オイツク酸メチルエス
テル1.5ｇ（5.5ミリモル）の溶液を０℃で撹拌
しながら、まず1Nメタノール性水酸化カリウ
ム６mlで、次に塩化メチレン20ml中の（1S・
4aS・5S・8aS）−５−ヒドロキシオクタヒドロ
−4a−メチル−１−〔（フエニルスルホニル）メ
チル〕−２（1H）−ナフタレノン1.68ｇの溶液
で処理した。25℃で７時間撹拌した後、この混
合物を注意して1N塩酸で酸性にし、塩化メチ
レン／水間に分配させた。重炭酸塩溶液及び水
で洗浄した後、有機相を硫酸ナトリウム上で乾
燥し、回転蒸発機により濃縮乾固した。

上記節に従つて得られた粗製の残渣をメタノ
ール100mlに溶解し、1Nメタノール性水酸化カ
リウム25mlで処理した。25℃で20時間後、この
混合物を回転蒸発機により蒸発させ、残渣を塩
化メチレンに採り入れ、1N塩酸で１回及び水
で１回洗浄し、次に硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。乾燥剤を除去しそして溶媒を蒸発させた
後、粗製の生成物1.9ｇが得られ、このものを
シリカゲル（メルク；0.06〜0.2mm）100ｇに吸
着させた。ヘキサン／酢酸エチル（３：１）で
溶離し、無定形の17aβ−ヒドロキシ−３・３
−〔（２・２−ジメチル−１・３−プロピレン）
ジオキシ〕−４・５−セコ−Ｄ−ホモオエスト
ル−９−エン−５−オン0.62ｇを得た。

(d) 粗製したアルコール200ml及びトリエチルア
ミン0.1ml中の17aβ−ヒドロキシ−３・３−
〔（２・２−ジメチル−１・３−プロピレン）ジ
オキシ〕−４・５−セコ−Ｄ−ホモオエストル
−９−エン−５−オン1.2ｇの溶液を、普通の
条件下にて５％パラジウム／炭素0.2ｇ上で水
素添加した。24時間後（水素65mlを吸収）、こ
の混合物をスピーデツクス上で吸引過し、
液を蒸発させ、残渣を1N塩酸３mlで処理し
た。25℃で20時間後、この混合物を飽和重炭酸
溶液の添加によつて中和し、回転蒸発機により
濃縮した。残渣をエーテルに採り入れ、水で２
回洗浄した。硫酸マグネシウム上で乾燥した
後、溶媒を蒸発によつて除去し、残渣をベンゼ
ン30mlに溶解し、1Nメタノール性水酸化カリ
ウム10mlで処理し、25℃で20時間貯蔵した。こ
の混合物をエーテルで希釈し、水で２回洗浄
し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、回転蒸発機
上で濃縮した。粗製の生成物（0.82ｇ）をシリ
カゲル（メルク；0.06〜0.2mm）50ｇに吸着さ
せた。ヘキサン／酢酸エチル（１：１）で溶離
し、19−ノル−Ｄ−ホモテストステロン0.50ｇ
を得た；融点137゜〜138℃（エーテル／ヘキサ
ンから結晶化〕；〔α〕^２５ _５８９＝＋41゜（ｃ＝
0.103、ジオキサン中）。

実施例 ３ (a) （8aS）−３・４・８・8a−テトラヒドロ−
8a−メチル−１・６（2H・7H）−ナフタリン
ジオン17.8ｇ（0.1モル）、パラホルムアルデヒ
ド3.5ｇ及びベンゼンスルフイン酸18ｇを容量
250mlの丸底フラスコに入れ、氷酢酸32mlに一
部溶解した。＋５℃に冷却したこの混合物を撹
拌しながら、テトラメチルエチレンジアミン48
mlで処理し、アルゴン下にて25℃で３日間撹拌
し、この溶液は徐々に均質になつた。この混合
物を塩化メチレンに溶解し、注意して飽和重炭
酸塩溶液で２回、塩酸で１回、そして水で１回
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、回転蒸発
機上で濃縮した。粗製の生成物（暗色油36ｇ）
をシリカゲル（0.06〜0.2mm）１Kgに吸着させ
た。ヘキサン／酢酸エチル（２：１）で溶離
し、溶離物4.8ｇの後、（8aS）−３・４・８・8a
−テトラヒドロ−8a−メチル−５−〔（フエニル
スルホニル）メチル〕−１・６（2H・7H）−ナ
フタリンジオン14.5ｇ（43％）を得た；融点
114゜〜115℃（酢酸エチル／ヘキサンから結晶
化）；〔α〕^２５ _５８９＝＋74゜（ｃ＝0.101、ジオキ
サ
ン中）。

(b) 上記の（8aS）−３・４・８・8a−テトラヒ
ドロ−8a−メチル−５−〔（フエニルスルホニ
ル）メチル〕−１・６（2H・7H）−ナフタリン
ジオンを実施例１のｂ）節に述べた方法と同様
にして水素添加し、（4aS・5S・8aS）−３・
４・4a・５・８・8a−ヘキサヒドロ−8a−メチ
ル−５−〔（フエニルスルホニル）メチル〕−
１・６（2H・7H）−ナフタリンジオンを生成
させた。

(c) 実施例１の(c)節に述べた方法に従い、本実施
例の(b)節に従つて得られた水素添加したスルホ
ンを７・７−〔（２・２−ジメチル−１・３−プ
ロピレン）ジオキシ〕−オクタン−３−オン−
１−オイツク酸メチルエステルと縮合させ、更
に反応させ、３・３−〔（２・２−ジメチル−
１・３−プロピレン）ジオキシ〕−４・５−セ
コ−Ｄ−ホモオエストル−９−エン−５・17a
−ジオンを生成させ。

(d) 本実施例の(c)節に従つて得られた４・５−セ
コ−Ｄ−ホモステロイドを実施例１の(d)に述べ
た方法と同様にして水素添加、脱ケタール化及
び環化し、Ｄ−ホモ−19−ノルアンドロスト−
４−エン−３・17a−ジオンを得た；融点165℃
（酢酸エチルから結晶化）；〔α〕^２５ _Ｄ＝−17゜
（ｃ＝0.106、ジオキサン中）。

実施例 ４ (a) （8a′S）−3′・4′・8′・8a′−テトラヒドロ
−
8a′−メチルスピロ〔１・３−ジオキソラン−
２・1′（2′H）−ナフタレン〕−6′（7′H）−オン
2.22ｇ（0.01モル）、パラホルムアルデヒド0.35
ｇ及びベンゼンスルフイン酸1.8ｇを容量100ml
の丸底フラスコに入れ、氷酢酸3.2mlに一部溶
解させた。＋５℃に冷却したこの混合物を撹拌
しながらテトラメチルエチレンジアミン4.8ml
で処理し、アルゴン下にて60℃で20時間撹拌し
た。この混合物をエーテルに溶解し、注意して
飽和重炭酸塩溶液で２回、塩酸で１回及び水で
１回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、回
転蒸発機上で濃縮した。粗製の生成物を酢酸エ
チルから結晶化させ、結晶性の物質約1.5ｇが
得られ、このものをシリカゲルを通して過
し、酢酸エチルから再結晶後、（8a′S）−3′・
4′・8′・8a′−テトラヒドロ−8a′−メチル−
5′−〔（フエニルスルホニル）メチル〕−スピロ
〔１・３−ジオキソラン−２・1′（2′H）−ナフ
タレン〕−6′（7′H）−オン1.1ｇ（30％）を得
た。母液をシリカゲル上でクロマトグラフにか
け、更に0.73ｇ（19％）の純物質を得た。融点
163゜〜164℃；〔α〕^２５ _５８９＝＋24゜（ｃ＝0.103
、
ジオキサン中）。

(b) 上記(a)節に従つて得られたスルホンをメタノ
ール性−水性塩酸を用いて脱ケタール化し、
（8aS）−３・４・８・8a−テトラヒドロ−8a−
メチル−５−〔（フエニルスルホニル）メチル〕
−１・６（2H・7H）−ナフタリンジオンを得
た。実施例２の(b)節に述べた方法と同様にして
パラジウム／炭素上で水素添加し、（4aS・
5S・8aS）−３・４・4a・５・８・8a−ヘキサ
ヒドロ−8a−メチル−５−〔（フエニルスルホニ
ル）メチル〕−１・６（2H、7H）−ナフタリン
ジオンが得られ、このものを実施例３の(c)及び
(d)節に従つてＤ−ホモ−19−ノルアンドロスト
−４−エン−３・17a−ジオンに変えた。

実施例 ５ 実施例１の(a)節に述べた方法と同様にして、ベ
ンゼンスルフイン酸の代りにｐ−クロルベンゼン
スルフイン酸を用いて、（4aS、5S）−５−ｔ−ブ
トキシ−１−［〔（ｐ−クロルフエニル）スルホニ
ル〕メチル］−４・4a・５・６・７・８−ヘキサ
ヒドロ−4a−メチル−２（3H）−ナフタレノンが
得られた；融点117゜〜119℃（エーテル／ヘキサ
ンから結晶化）；〔α〕^２５ _５８９＝＋53゜（ｃ＝0.10
2、
ジオキサン中）。

実施例 ６ (a) 実施例１の(a)節に述べた方法と同様にして、
ベンゼンスルフイン酸の代りにｐ−フエノキシ
ベンゼンスルフイン酸を用いて、（4aS・5S）−
５−ｔ−ブトキシ−１−［〔（ｐ−フエノキシフ
エニル）スルホニル〕メチル］−４・4a・５・
６・７・８−ヘキサヒドロ−4a−メチル−２
（3H）−ナフタレノンが得られた；融点132゜〜
133℃（エーテルから結晶化）；〔α〕^２５ _５８９＝＋
41゜（ｃ＝0.105、ジオキサン中）。

(b) 実施例１の(b)節に述べた方法と同様にして、
本実施例の(a)節に従つて得られたスルホンを
（1S・4aS・5S・8aS）−５−ｔ−ブトキシオク
タヒドロ−4a−メチル−１−［〔（ｐ−フエノキ
シフエニル）スルホニル〕メチル］−２（1H）
−ナフタレノンに変えた；融点136℃（エーテ
ルから結晶化）；〔α〕^２５ _５８９＝＋24゜（ｃ＝
0.108、ジオキサン中）。

実施例 ７ 実施例３の(a)節に述べた方法と同様にして、ベ
ンゼンスルフイン酸の代りにｐ−フエノキシベン
ゼンスルフイン酸を用いて、（8aS）−３・４・
８・8a−テトラヒドロ−8a−メチル−５−［〔（ｐ
−フエノキシフエニル）スルホニル〕メチル］−
１・６（2H・7H）−ナフタレンジオンが得られ
た；融点132゜〜134℃（アセトン／エーテルから
結晶化〕；〔α〕^２５ _５８９＝＋52゜（ｃ＝0.104、ジ
オキ
サン中）。

実施例 ８ Ｎ・Ｎ・N′・N′−テトラメチルエチレンジア
ミン88mlを氷で冷却しながら、氷酢酸59ml中の
（4aS・5S）−５−ｔ−ブトキシ−４・4a・５・
６・７・８−ヘキサヒドロ−4a−メチル−２
（3H）−ナフタレノン47.2ｇ、ベンゼンスルフイ
ン酸ナトリウム塩から新らたに単離したもの）36
ｇ及びパラホルムアルデヒド4.1ｇの懸濁液中で
撹拌した。氷浴を温油浴（48℃）に換え、パラホ
ルムアルデヒド2.3ｇからのガス状ホルムアルデ
ヒド２ｇ（加温によつて昇華）を弱いアルゴン気
流中にて上記の溶液に導入した。アルゴン下で２
日間撹拌した後、更に２ｇのガス状ホルムアルデ
ヒドを溶液に導入し、この溶液は徐々に均質にな
つた。48℃で合計６日間の反応時間後、この混合
物を冷却し、容量２の分液ロート中でエーテル
600ml及び水500mlで洗浄した。有機相を水500
ml、1N塩酸150mlで１回、最後に飽和重炭酸塩水
溶液400mlで１回洗浄し、次に水相を分離し、エ
ーテル各600mlで２回逆抽出した。硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、回転蒸発機により蒸発させた
後、残渣を＋５℃でエーテル100mlから結晶させ
た。最初の晶出物（41ｇ；融点126゜〜127℃）を
紙を通して吸引過し、液を蒸発させ、残渣
（33ｇ）をシリカゲル60（メルク；0.06〜0.2mm）
900ｇに吸着させた。ヘキサン／酢酸エチル
（３：１）で溶離し、全く不均質の溶離物約5.7ｇ
を得た後、クロマトグラフ的に均質な（4aS・
5S）−５−ｔ−ブトキシ−４・4a・５・６・７・
８−ヘキサヒドロ−4a−メチル−１−〔（フエニル
スルホニル）メチル〕−２（3H）−ナフタレノン
更に17.2ｇ（合計58.2ｇ；74.6％）を得た；融点
128゜〜129℃（エーテルから結晶化）；〔α〕^２５ _５８
９
＝＋59゜（ｃ＝0.099、ジオキサン中）。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ (a) 一般式 〔式中、R³は低級アルキル基を表わし、R¹¹は
   ヒドロキシまたは第三級（低級アルコキシ）基
   を表わしそしてR²¹は水素原子を表わすか、或
   いはR¹¹及びR²¹は一緒になつてオキソ基または
   ケタール基を表わす〕 の化合物を、有機酸及び第三級アミンの存在下
   において、ホルムアルデヒド及び一般式 R⁴SO₂H 〔式中、R⁴は低級アルキル、フエニル、ハロフ
   エニル、（低級アルコキシ）−フエニル、フエノ
   キシ−フエニル、フエニル−（低級アルキル）
   または（低級アルキル）−フエニル基を表わ
   す〕 のスルフイル酸と反応させて一般式 〔式中、R¹¹、R²¹、R³及びR⁴は上記の意味を有
   する〕 のスルホンを生成させ； (b) 式のスルホンを、存在し得るケタール基の
   解裂後に、貴金属触媒によつて水素添加して一
   般式 〔式中、R¹はヒドロキシまたは第三級（低級ア
   ルコキシ）基を表わしそしてR²は水素原子を
   表わすか、或いはR¹及びR²は一緒になつてオ
   キソ基を表わし、R³及びR⁴は上記の意味を有
   する〕 の水素添加されたスルホンを生成させ； (c) 式の水素添加されたスルホンを、塩基の存
   在下において、一般式 CH₃C（Ｘ）（CH₂）₃COCH₂COOR 〔式中Ｘはケタール基を表わし、そしてＲは低
   級アルキル基を表わす〕 のβ−ケト酸エステルと縮合させ、その縮合生
   成物を水−アルコール性塩基で処理し、次に該
   混合物を加温して一般式 〔式中、R¹、R²、R³及びＸは上記の意味を有す
   る〕 の４・５−セコ−Ｄ−ホモステロイドを生成さ
   せ；そして (d) 式の４・５−セコ−Ｄ−ホモステロイド
   を、任意の順序で、貴金属触媒による水素添
   加、脱ケタール化、最後に生じた３・５−ジケ
   トンの環化に付す ことを特徴とする一般式 〔式中、R¹、R²及びR³は上記の意味を有する〕 の19−ノル−Ｄ−ホモステロイドの製造方法。 ２ 工程(a)において有機酸として酢酸を用い、工
   程(b)において水素添加をアルコール性塩化水素酸
   溶液中で行ない、工程(c)において水素添加を第三
   級アミンの存在下においてエタノール中で行なう
   特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 式の化合物をトリエタノールアミンまたは
   テトラメチルエチレンジアミンの存在下において
   パラホルムアルデヒド及びベンゼンスルフイン酸
   と反応させ、その際に有機酸に対して過剰のアミ
   ンを用いる、特許請求の範囲第１または２項記載
   の方法。 ４ 工程(a)においてガス状ホルムアルデヒド及び
   パラホルムアルデヒドを用いる、特許請求の範囲
   第１〜３項までのいずれかに記載の方法。 ５ 式のスルホンをパラジウム触媒で水素添加
   する、特許請求の範囲第１〜４項までのいずれか
   に記載の方法。 ６ 式の水素添加されたスルホンを（２・２−
   ジメチル−１・３−プロピレンジオキシ）−オク
   タン−３−オン−１−オイツク酸低級アルキルエ
   ステルと縮合させる、特許請求の範囲第１〜５項
   までのいずれかに記載の方法。 ７ 式の４・５−セコ−Ｄ−ホモステロイドを
   トリエチルアミンの存在下においてパラジウム触
   媒で水素添加し、そして水素添加生成物を、脱ケ
   タール化後に、アルコール性アルカリ金属水酸化
   物で環化する、特許請求の範囲第１〜６項までの
   いずれかに記載の方法。 ８ R¹が第三級ブトキシ基を表わしそしてR²が
   水素原子を表わすか、或いはR¹及びR²が一緒に
   なつてオキソ基を表わし、R³がメチルまたはエ
   チル基を表わす特許請求の範囲第１項記載の式
   の19−ノル−Ｄ−ホモステロイドを製造する、特
   許請求の範囲第１〜７項までのいずれかに記載の
   方法。