JPS6156611B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6156611B2
JPS6156611B2 JP2851684A JP2851684A JPS6156611B2 JP S6156611 B2 JPS6156611 B2 JP S6156611B2 JP 2851684 A JP2851684 A JP 2851684A JP 2851684 A JP2851684 A JP 2851684A JP S6156611 B2 JPS6156611 B2 JP S6156611B2
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JP
Japan
Prior art keywords
hot plate
photo mask
processed
objects
air
Prior art date
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Expired
Application number
JP2851684A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS59161034A (en
Inventor
Kyoshi Nakagawa
Masahiro Dan
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2851684A priority Critical patent/JPS59161034A/en
Publication of JPS59161034A publication Critical patent/JPS59161034A/en
Publication of JPS6156611B2 publication Critical patent/JPS6156611B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40Treatment after imagewise removal, e.g. baking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は無塵ベーキング方法に関し、とくにホ
ツトプレートを利用した無塵ベーキング方法に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a dust-free baking method, and more particularly to a dust-free baking method using a hot plate.

たとえばホトレジストを塗布したフオト・マス
クのベーキングを図る場合、従来においては第6
図に示すように治具32内にフオト・マスク33
を入れ第7図に示す熱風循環炉31内に置いてベ
ーキングしていた。しかしながら、このような従
来の方法においては、熱風循環の際に炉31内の
塵埃も熱風と同様に循環しフオト・マスク33の
半乾き面に付着し、また治具32へのマスク33
の出し入れによつても塵埃や発生し、フオト・マ
スク33の品質を低下させていた。
For example, when baking a photo mask coated with photoresist, conventionally the sixth
A photo mask 33 is placed inside the jig 32 as shown in the figure.
was placed in a hot air circulation furnace 31 shown in FIG. 7 for baking. However, in such a conventional method, when the hot air is circulated, dust inside the furnace 31 also circulates like the hot air and adheres to the semi-dry surface of the photo mask 33, and the dust on the mask 33 to the jig 32 also circulates.
Dust was also generated when the photo mask 33 was put in and taken out, deteriorating the quality of the photo mask 33.

本発明はこのような従来のベーキング装置の欠
点を解消するものであつて、その目的は無塵状態
でベーキングが図れる方法を提供するにある。
The present invention is intended to overcome the drawbacks of the conventional baking equipment, and its purpose is to provide a method that allows baking to be performed in a dust-free manner.

このような目的を達成するための本発明のベー
キング方法によれば、ホツトプレートの一端から
他端に向つてそのホツトプレート表面に複数の被
処理物を一列に配列することができるように前記
ホツトプレートの大きさを規定し、第1の期間に
おいて前記ホツトプレート表面に一列に配列され
る複数の被処理物のそれぞれを前記ホツトプレー
ト表面から浮かせた状態にして同時に移動させ、
その移動後の第2の期間においてホツトプレート
表面にそれら複数の被処理物を同時に接触させて
加熱させ、それら第1の期間と第2の期間の動作
を交互に繰り返すことによつて、前記ホツトプレ
ートの一端側から他端側に向つて、順次複数の被
処理物を間欠的に移送させて、この移送期間中に
それら被処理物をベークすることを特徴とする。
According to the baking method of the present invention to achieve such an object, the hot plate is heated so that a plurality of objects to be processed can be arranged in a line on the surface of the hot plate from one end of the hot plate to the other end. defining the size of the plate, and simultaneously moving each of a plurality of objects to be processed arranged in a line on the surface of the hot plate in a first period while floating them from the surface of the hot plate;
In a second period after the movement, the plurality of objects to be processed are simultaneously brought into contact with the surface of the hot plate and heated, and the operations of the first period and the second period are alternately repeated. The method is characterized in that a plurality of objects to be processed are sequentially and intermittently transferred from one end of the plate toward the other end, and the objects to be processed are baked during this transfer period.

本発明によれば、ホツトプレートの一端から他
端に被処理物を順次間欠的に移送させる期間にベ
ークするので、特に、多数の被処理物を連続的に
ベークする場合に有効である。
According to the present invention, baking is performed during the period in which the objects to be processed are sequentially and intermittently transferred from one end of the hot plate to the other end, and is therefore particularly effective when baking a large number of objects to be processed continuously.

以下、図面を参照して本発明の実施例について
説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明のベーキング方法を実施する際
に用いる装置の一部を省略した平面図であつて、
断熱性のある炉体1内に真つ直ぐで細長いホツ
ト・プレート2を配置し、このプレート2の上面
に被処理物すなわちフオト・マスク3(以下フオ
ト・マスクという)に見合つた幅より幾分大きめ
にとつたガイド溝4を形成して、このガイド溝4
の幅方向の中間位置に送りピン5の先端を位置さ
せ、このピン5をガイド溝4の形成方向に沿つて
複数個配列し、これらの間隔をフオト・マスク3
の幅よりもピン5の分だけ広く開けてとつて連結
杆6で一体的に連結し、腕杆7を介して連結杆6
を固定軸8に摺動自在に取り付け、前記ガイド溝
4の形成方向に沿つて間欠的な往復運動できるよ
うに、連結杆6の端部をリンク9を介してカム1
0に連結させている。また、第2図に示すように
連結杆6の下部には支軸11が支えるリンク12
の一端に取り付けたローラ13を当接し、リンク
12の他端にはカムフオロア14を取り付けてカ
ム15に接触させることにより連結杆6を固定軸
8を支点にして回動できるようにしている。連結
杆6から伸びた送りピン5の先端は下方に折り曲
げてガイド溝4の平面に接触しない位置にあるよ
うにしている。
FIG. 1 is a partially omitted plan view of an apparatus used in carrying out the baking method of the present invention,
A straight and elongated hot plate 2 is arranged in a heat-insulating furnace body 1, and a width slightly larger than that corresponding to the object to be processed, that is, a photo mask 3 (hereinafter referred to as photo mask) is placed on the upper surface of this plate 2. A larger guide groove 4 is formed, and this guide groove 4
The tip of the feed pin 5 is positioned at an intermediate position in the width direction of
It is opened wider than the width of the pin 5 and connected integrally with the connecting rod 6, and the connecting rod 6 is connected via the arm rod 7.
is slidably attached to the fixed shaft 8, and the end of the connecting rod 6 is connected to the cam 1 through a link 9 so as to be able to perform intermittent reciprocating motion along the direction in which the guide groove 4 is formed.
It is connected to 0. In addition, as shown in FIG.
A roller 13 attached to one end of the link 12 is brought into contact with the link 12, and a cam follower 14 is attached to the other end of the link 12 and brought into contact with a cam 15, thereby enabling the connecting rod 6 to rotate about the fixed shaft 8 as a fulcrum. The tip of the feed pin 5 extending from the connecting rod 6 is bent downward so that it does not come into contact with the plane of the guide groove 4.

第3図は第1図に示すホツト・プレート2を拡
大し横断面した図であつて、ホツト・プレート2
のガイド溝4を形成する平面および側面には、そ
れぞれエアー噴出用の小穴16,17を開け、こ
れらの小穴16,17はガイド溝4の幅方向の両
端の角部寄りに対をなして設け、この状態でガイ
ド溝4の延長方向に繰返して形成し、これら小穴
16,17の間隔を充分に狭めるようにして設け
ている。そして各小穴16,17の端部を共通す
る配管18に連結し、熱交換器19、エアー・フ
イルタ20およびヒータ21を介して図示しない
エアー供給源へと連結させている。
FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of the hot plate 2 shown in FIG.
Small holes 16 and 17 for air injection are formed in the plane and side surfaces forming the guide groove 4, respectively, and these small holes 16 and 17 are provided in pairs near the corners of both widthwise ends of the guide groove 4. , are formed repeatedly in the extending direction of the guide groove 4 in this state so that the interval between the small holes 16 and 17 is sufficiently narrowed. The ends of each of the small holes 16 and 17 are connected to a common pipe 18, and connected to an air supply source (not shown) via a heat exchanger 19, an air filter 20, and a heater 21.

第4図はホツト・プレートとこの加熱手段との
配置を示す第1図を連結杆側から見た一部を省略
した断面図であつて、ホツト・プレート2の裏面
よりある間隔をあけた低い位置に断面弧状の反射
笠22を内面プレート2に向けて配置し、これら
の間にヒータ23を設けて、ヒータ23の熱が直
接ないしは反射笠22の内面で反射して間接的に
ホツト・プレート2を加熱できるようにしてい
る。
FIG. 4 is a partially omitted cross-sectional view of FIG. 1 showing the arrangement of the hot plate and this heating means, viewed from the connecting rod side, and shows a lower part of the hot plate 2 at a certain distance from the back surface of the hot plate 2. A reflective shade 22 with an arcuate cross section is placed at a position facing the inner surface plate 2, and a heater 23 is provided between them, so that the heat of the heater 23 is reflected directly or indirectly on the inner surface of the reflective shade 22 and is heated to the hot plate. 2 can be heated.

つぎに、送りピン5の上下運動および横行運動
の関係を第5図に線図によつて説明すれば、線図
の横軸に時間(S)をとり、縦軸には高さ(mm)
および移動距離(mm)を分けてとつている。そこ
で、送りピン5が上限一杯に上つた状態からスタ
ートして、下限に達する点24までの間は送りピ
ン5の横行はなく、点24に達した時点から横行
が始まり点25に達するまで続き、この点25で
今度はピン5が上がり、この間ピン5の横行は停
止しており、点26に達した時点で戻りの横行と
なり、この場合にはピン5は上がつた状態のまま
で初期位置まで戻る。
Next, the relationship between the vertical movement and the transverse movement of the feed pin 5 will be explained using a diagram in FIG. 5. The horizontal axis of the diagram shows time (S), and the vertical axis shows height (mm).
and travel distance (mm). Therefore, the feed pin 5 does not move horizontally from the point when the feed pin 5 is fully raised to the upper limit until it reaches the lower limit at point 24, and when it reaches point 24, the horizontal movement starts and continues until it reaches point 25. , at this point 25, the pin 5 is raised, and during this time the traverse of the pin 5 has stopped, and when it reaches the point 26, it returns to the traverse, and in this case, the pin 5 remains in the raised state and returns to the initial position. Return to position.

これを1つのサイクルとして、一定時間(ベー
ク時間)をおいて繰り返し行うことにより、フオ
ト・マスク3を順次間欠送りする。
By repeating this as one cycle after a certain period of time (bake time), the photo mask 3 is sequentially and intermittently fed.

また、第3図に示すホツト・プレート2の小穴
16,17からのエアーの吹き出しを、図示しな
いエアー供給源からヒータ21で任意の温度に高
めたうえにフイルタ20で清浄化し、熱交換器1
9でヒータ23の予熱をひろつてさらにエアーを
暖めて適温にして配管18を介してそれぞれの小
穴16,17から一定量のエアーを吹き出させて
フオト・マスク3を浮かすことができるようにし
ている。このエアーの吹き出しおよび停止は図示
しない切り替え装置によつて自由にできる。
Furthermore, the air blown from the small holes 16 and 17 of the hot plate 2 shown in FIG.
At step 9, the heater 23 is preheated and the air is further warmed to an appropriate temperature, and a certain amount of air is blown out from each of the small holes 16 and 17 via the piping 18, so that the photo mask 3 can be floated. . This air can be freely blown and stopped by a switching device (not shown).

なお、前記実施例においては、小穴16,17
から吹き出させる単なるエアーを用いているが、
このエアーの代りに窒素(N2)ガスなど不活性ガ
スを用いてもよく、これを暖めて小穴16,17
より吹き出させるか、または暖めずにそのまま吹
き出させる。
In addition, in the embodiment, the small holes 16, 17
It uses simple air blown out from the
Instead of this air, an inert gas such as nitrogen (N 2 ) gas may be used, and the gas is heated to fill the small holes 16 and 17.
Make it blow out more, or let it blow out without heating it.

つぎに、実施例の無塵ベーキング方法を順を追
つて説明すれば、まずフオト・マスク3を炉体1
内に送り入れる場合、フオト・マスク3のフオ
ト・レジストを塗布した面(パターン面)27が
上向きになるように第1図に二点鎖線で示す位置
にフオト・マスク3を図示しない塗布装置より送
つて、この位置で送りピン5でフオト・マスク3
をひつかけて炉体1内に送り込む。この際フオ
ト・マスク3は小穴16,17より吹き出すエア
ーによりガイド溝4の内面から微かに浮いた状態
で送られ1ピツチすなわちフオト・マスク31個分
移動した時点でエアーは切られてマスク3は浮い
た状態からガイド溝4の内面の少なくとも底面に
裏面を一致させた状態になり、ホツト・プレート
2の加熱を受けホトレジスト面のベーキングが図
られるが、この場合のベーキングは、前記間欠的
な送りピン5の動作と小穴16,17からのエア
ーの吹き出し操作の連係により炉体1の出口側の
端にくるまでの間に行われるもので、このように
ベーキングされたフオト・マスク3は、再び送り
ピン5の動作と小穴16,17からのエアーの吹
き出し力とにより、ガイド溝4とは無接触の状態
を保ちながら炉体1外に送り出され、あと図示し
ない任意の取り上げ手段によりフオト・マスク3
を取り上げ収容する。このようにして、炉体1の
一方からフオト・マスク3を取り入れ、他方から
抜き取る作業を連続的に行うものである。また送
りピン5によつてフオト・マスク3を移動させる
際に、ホツト・プレート2からマスク3が離れた
際にも予め暖められたエアーを吹き付けているこ
とで、フオト・マスク3のもつ温度を低下させな
いで充分な温度を保つたまま送る。
Next, to explain the dust-free baking method of the embodiment step by step, first, the photo mask 3 is placed on the furnace body 1.
When feeding the photo mask 3 into the interior, the photo mask 3 is placed in the position shown by the two-dot chain line in FIG. 1 using a coating device (not shown) so that the photo resist coated side (pattern side) 27 of the photo mask 3 faces upward. At this position, use the feed pin 5 to attach the photo mask 3.
and feed it into the furnace body 1. At this time, the photo mask 3 is sent in a slightly floating state from the inner surface of the guide groove 4 by the air blown out from the small holes 16 and 17, and when it has moved one pitch, that is, 31 photo masks, the air is cut off and the mask 3 is moved. The floating state changes to a state in which the back surface is aligned with at least the bottom surface of the inner surface of the guide groove 4, and the photoresist surface is baked by being heated by the hot plate 2. In this case, baking is performed by the intermittent feeding. This is done by the operation of the pin 5 and the air blowing operation from the small holes 16 and 17 until it reaches the outlet end of the furnace body 1, and the photo mask 3 that has been baked in this way is heated again. Due to the operation of the feed pin 5 and the blowing force of the air from the small holes 16 and 17, the air is sent out of the furnace body 1 while maintaining a non-contact state with the guide groove 4, and then the photo mask is removed by an arbitrary pick-up means (not shown). 3
be taken up and accommodated. In this way, the work of taking in the photo mask 3 from one side of the furnace body 1 and removing it from the other side is performed continuously. Furthermore, when the photo mask 3 is moved by the feed pin 5, pre-warmed air is blown even when the mask 3 is separated from the hot plate 2, thereby reducing the temperature of the photo mask 3. Send while maintaining sufficient temperature without lowering the temperature.

参考までに述べれば、フオト・マスク3の炉体
1内でのベーキング時間は、たとえば正味10分程
度である。
For reference, the baking time of the photo mask 3 in the furnace body 1 is, for example, about 10 minutes net.

以上の説明から明らかなように本発明によれ
ば、炉体内にホツト・プレートを置いて、このプ
レートによりフオト・マスクを加熱することか
ら、従来のような熱風循環式のものと異なり炉前
内に塵埃等を発生させることがない。
As is clear from the above explanation, according to the present invention, a hot plate is placed inside the furnace body and the photo mask is heated by this plate, so unlike the conventional hot air circulation type, there is no need to heat the inside of the furnace. It does not generate dust etc.

さらに炉体内での移動を図つていることから、
従来のように治具へのフオト・マスクの出し入れ
時およびこの治具を炉体内に出し入れする際に生
じていた塵埃の発生がない。また、フオト・マス
クのベーキング全工程において塵埃の発生する部
分がなくフオト・マスクのホトレジスト面を常に
清浄に保つた状態でベーキングが完了する。
Furthermore, since we are trying to move within the reactor body,
There is no dust generated when the photo mask is taken in and taken out of the jig and when this jig is taken in and out of the furnace body as in the past. Further, during the entire process of baking the photo mask, there is no part where dust is generated, and the baking is completed in a state where the photoresist surface of the photo mask is always kept clean.

したがつて、フオト・マスクの表面に形成され
たパターンの品質の向上が図れる。
Therefore, the quality of the pattern formed on the surface of the photo mask can be improved.

ホツトプレートに密着し、均一に加熱し、且、
予め暖められた空気で送ることにより、フオト・
マスク内の温度分布が均一となり、フオト・マス
ク表面に形成されたパターンの精度を充分に保つ
ことができる。
Closely adheres to the hot plate, heats evenly, and
By sending pre-warmed air, photo-
The temperature distribution within the mask becomes uniform, and the accuracy of the pattern formed on the photo mask surface can be maintained sufficiently.

また、エアーの吹き出しと送りピンの動作によ
つてフオト・プレートの自動的かつ連続的な供給
およびベーキングがなされるから手数が省け、人
員低減が図れるなどの効果が得られる。
Further, since the photo plate is automatically and continuously supplied and baked by blowing out air and operating the feed pin, it is possible to save labor and reduce the number of personnel.

前記実施例においては被処理物としてフオト・
マスク3を例示したが、これはウエハーにも充分
適用できる。
In the above embodiments, the object to be processed is a photo film.
Although the mask 3 is shown as an example, it is also fully applicable to wafers.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明のベーキング方法を実施する際
に用いる装置の一部を省略した平面図、第2図は
第1図に示すA―A′線に沿つて矢印方向に見た
図、第3図は第1図のホツト・プレートを拡大し
横断面した図、第4図はホツト・プレートとこの
加熱手段との配置を示す第1図を連結杆側から見
た一部を省略した断面図、第5図は送りピンの上
下および横行運動の関係を示す線図、第6図およ
び第7図は従来のベーキング方法を実施する際に
用いる治具および熱風循環炉の概略図である。 1……炉体、2……ホツト・プレート、3……
フオト・マスク、4……ガイド溝、5……送りピ
ン、6……連結杆、7……腕杆、8……固定軸、
9……リンク、10……カム、11……支軸、1
2……リンク、13……ローラ、14……カムフ
オロア、15……カム、16……小穴、17……
小穴、18……配管、19……熱交換器、20…
…エアー・フイルタ、21……ヒータ、22……
反射笠、23……ヒータ、24……点、25……
点、26……点、27……ホトレジストを塗布し
た面、31……熱風循環炉、32……治具、33
……フオト・マスク。
FIG. 1 is a partially omitted plan view of the apparatus used in carrying out the baking method of the present invention, FIG. 2 is a view taken along the line A-A' shown in FIG. Figure 3 is an enlarged cross-sectional view of the hot plate in Figure 1, and Figure 4 is a partially omitted cross-section of Figure 1, showing the arrangement of the hot plate and heating means, as seen from the connecting rod side. Figures 5 and 5 are diagrams showing the relationship between the vertical and lateral movements of the feed pin, and Figures 6 and 7 are schematic diagrams of a jig and a hot air circulation furnace used in carrying out the conventional baking method. 1...Furnace body, 2...Hot plate, 3...
Photo mask, 4... Guide groove, 5... Feed pin, 6... Connecting rod, 7... Arm rod, 8... Fixed shaft,
9...Link, 10...Cam, 11...Spindle, 1
2... Link, 13... Roller, 14... Cam follower, 15... Cam, 16... Small hole, 17...
Small hole, 18... Piping, 19... Heat exchanger, 20...
...Air filter, 21...Heater, 22...
Reflective shade, 23... Heater, 24... Point, 25...
Point, 26... Point, 27... Surface coated with photoresist, 31... Hot air circulation furnace, 32... Jig, 33
...Photo mask.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 ホツトプレートの一端から他端に向つてその
ホツトプレート表面に複数の被処理物を一列に配
列することができるように前記ホツトプレートの
大きさを規定し、第1の期間において前記ホツト
プレート表面に一列に配列される複数の被処理物
のそれぞれを前記ホツトプレート表面から浮かせ
た状態にして同時に移動させ、その移動後の第2
の期間においてホツトプレート表面にそれら複数
の被処理物を同時に接触させて加熱させ、それら
第1の期間と第2の期間の動作を交互に繰り返す
ことによつて、前記ホツトプレートの一端側から
他端側に向つて、順次複数の被処理物を間欠的に
移送させて、この移送期間中にそれら被処理物を
ベークすることを特徴とするベーキング方法。
1. The size of the hot plate is defined so that a plurality of objects to be processed can be arranged in a line on the hot plate surface from one end to the other end, and the hot plate surface is A plurality of objects to be processed arranged in a line are moved simultaneously while floating from the surface of the hot plate, and a second object after the movement is moved.
By bringing the plurality of objects to be processed into contact with the surface of the hot plate at the same time and heating them, and repeating the operations of the first period and the second period alternately, the hot plate is heated from one end side to the other. A baking method characterized in that a plurality of objects to be processed are intermittently transferred one after another toward an end side, and the objects to be processed are baked during the transfer period.
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