JPS6154092B2

JPS6154092B2 -

Info

Publication number: JPS6154092B2
Application number: JP56045382A
Authority: JP
Inventors: Chotararu Sekudei Aabindo; Daburyu Butsukuwaarudo Robaato; Ei Sukumooru Robaato
Original assignee: Midland Ross Corp
Current assignee: Midland Ross Corp
Priority date: 1980-03-28
Filing date: 1981-03-27
Publication date: 1986-11-20
Also published as: US4310302A; CA1129645A; JPS56150137A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、内カバー内で金属のコイルが基部上
に置かれ、金属のコイルの中央軸方向通路を基部
の中央開口に整合させて垂直に配置し、軸流フア
ンを基部に近接して配置して雰囲気ガスを金属コ
イルの中央軸方向通路を上方へかつ次に金属のコ
イルの外側を軸流フアンの方へ下方へ循環させる
ようにした種類のバツチ・コイル焼なまし炉に関
する。

本発明は炉内の内カバー内での雰囲気ガスの循
環を効率よく行ないかつ乱流によつて生じる流れ
の損失を最小限にした簡単で便利な形の上記した
種類のバツチ・コイル焼なまし炉を提供すること
を目的とする。

本発明によれば、上記した種類のバツチ・コイ
ル焼なまし炉は軸流フアンの直下に、雰囲気ガス
の方向を変えかつ雰囲気ガスを全体的に軸方向へ
軸流フアンへ向ける整形部材及び転向羽根と、雰
囲気ガスの旋回流を最小限にする複数個の周方向
に離隔し半径方向に延在する整直部材とを配設し
たことを特徴とする。

本発明は、添付図面を参照して、以下述べる説
明と、前掲特許請求の範囲から、当業者には一そ
う明らかになるであろう。

本発明は先行技術に依るバツチ・コイル焼なま
し炉を示す第１図、第２図及び第３図及びバツ
チ・コイル焼なまし炉に関する本発明の一実施例
を示す第４図、第５図及び第６図を参照すること
によつて当業者によつて理解されるであろう。

第１図から第３図に示される先行技術に依るバ
ツチ・コイル焼なまし炉１において、加熱室３は
外壁２内に囲まれている。加熱室３に熱を供給す
るためバーナ４のごとき加熱装置が設けられてい
る。内カバー７が炉１の支持床８上の基部６上に
密閉するように据付けられている。好適なシール
１２が基部６と内カバー７との間に配置されてい
る。シール１２は砂、または例えばセラミツク繊
維の如き絶縁材料を以て成るブランケツト型シー
ルであり得る。使用されるセラミツク繊維の一種
はカオウールである。コイル１４の如き加工物
は、基板１３のごとき基部支持手段上に軸方向に
積み重ねられる。基板１３はデイフユーザ支持体
２２と普通支持体２３によつて支持される。言う
までもなく、当業界において知られている任意の
支持手段が使用され得る。各加工物即ちコイル１
４は外側面と軸方向の通路とを有する。積み重ね
られたとき、軸方向通路の軸線は基部６に対し概
ね垂直である。複数個のコイル１４は他のコイル
と同軸に積み重ねられ、これらコイル１４の軸方
向通路は、積み重ねられたコイル１４を貫通する
軸方向路３０の一部を構成する。対流放熱板１７
は、複数個のコイルが処理されるとき、各コイル
１４の間に配置され得る。対流放熱板１７は軸方
向の開口と、該開口から外側即ち周面へ連通する
通路であつて雰囲気ガスが軸方向の開口から外側
面へ流れる、即ち半径方向へ流れる、のを許すも
のとを有する。前記軸方向の開口は前記軸方向路
３０の一部を構成する軸方向通路と同軸である。

ラジアル・フアン即ち半径流フアン１８が、基
部６の中心に配置された半径流フアン軸１９に担
持されている。一般的に、前記半径流フアン軸１
９の軸線は軸方向路３０と同軸である。半径流フ
アン１８は台板１３の軸方向の開口１５を通じて
軸方向路３０と連通している。普通使用される半
径流フアンは約61cm（24″）の直径を有し、25定
格馬力を有し、約142m³〜284m³（5000ft³〜
10000ft³）毎分の流量を提供し得る。半径流フア
ンが使用されるとき、基部支持体は戦略的に配置
され、且つ空気動力学的に設計されなくてはなら
ない。デイフユーザ支持体２２と普通支持体２３
は特別の設計形状を有する。デイフユーザ支持体
２２は細長くてその端部を丸くされており、特別
の方向に取付けられなくてはならない。普通支持
体２３は内側のデイフユーザ支持体の周囲に同心
的に半径方向に分散され、湾曲した、または丸い
横断面を有しなくてはならない。このことは、直
接に基板１３と前記支持体が配列されている支持
床８との間の基部空間２５へ前記半径流フアン１
８から強制的に送り込まれる雰囲気ガスの圧力低
下を最小にするために重要なことである。

半径流フアン１８を有する基部６内の冷却管２
４は、一般的に整列形状に配設される。整列形状
は、第１図および第２図に示されるごとき正方形
横断面分布の如きコンパクトな形状である。かく
の如きコンパクトな形状は、典型的には約10cm
（4″）または約11cm（４1/2″）である最小高さ(H)
を可能にする。冷却管２４における圧力低下は、
最適の冷却管形状が使用される場合よりも大きい
かもしれないが、前記最小高さ(H)は、半径流フア
ン１８から、カバー壁２６とコイル１４の外径と
の間の環状空間２７内への最高送風速度を可能な
らしめる。

一般的に、焼なまし法は、加熱、均熱及び冷却
の諸工程を含む。熱処理工程間、雰囲気ガスは基
部に配された半径流フアン１８によつて内カバー
７の内部をコイル１４に添つて循環される。雰囲
気ガスの方向は第１図において矢印によつて表さ
れている。雰囲気ガスは半径流フアン１８によつ
て半径方向へ強制推進されて、基板１３と床８と
の間の基部空間２５を通り、そしてデイフユーザ
支持体２２、普通支持体２３及び冷却管２４の間
を通る。次いで、雰囲気ガスは内カバー壁２６と
コイル１４の外側面との間の環状空間２７を通つ
て上昇して、内カバーの頂と一番上のコイル１４
の頂との間の頂部空間２９に進入し、次いでコイ
ル１４の軸方向路３０を通つて下降して半径流フ
アン１８へ戻る。さらに、雰囲気ガスは環状空間
２７から対流放熱板１７を通つて軸方向路３０に
達する。

処理さるべき加工物の周囲に沿つて内カバー７
において雰囲気ガスを循環させるため基部６に半
径流フアン１８を配置することは、加熱工程間に
おける熱伝達と温度の均一性とを向上させる。し
かし、依然として加工物の非均一加熱が部分的に
行なわれ、それによつて、特に加熱間に熱伝達が
生じる速度が制限される。一番上のコイル１４の
頂上外側端縁３１に生じるコイルの局部的過熱区
域即ちホツトスポツトは対流と放射とによつて発
生される。一番上のコイル１４の頂上外側端縁３
１は、内カバー７の頂部と側部とに露出され、そ
の結果として、内カバー壁２６から放射エネルギ
を受取る他区域よりも多量の放射熱を供給され
る。さらにまた、第１図において矢印によつて示
される対流径路は積み重ねたコイル１４の非均一
加熱を生じさせて、一番上のコイル１４の頂部外
側端縁３１におけるホツトスポツトの発生の一因
となる。半径流フアン１８からの雰囲気ガスは、
それが内カバー７とコイル１４との間を壁に添つ
て上へ推進されるに従つて加熱される。空気はそ
れが一番上のコイルの頂上外側端縁３１に達して
ホツト・スポツトをさらに強く熱する時点までに
その最高温度に加熱される。熱い雰囲気ガスは内
カバー７の頂上と一番上のコイル１４との間の頂
部空間２９内に進入し、次いで軸方向路３０を通
つて下降する。雰囲気ガスは一番上のコイル１４
において最も熱く、それが半径流フアン１８に向
かつて下降復帰するに従つてその熱を非均等に放
散する。従つて、一番下のコイル１４の下内側か
ど３３は最上外側かど３１に比べるとき最小量の
熱を受取る。

内カバー７が加熱され得る温度は、コイル１４
の最上外側かど３１と外側面は、コイル１４の下
内側かど３３と内側面が焼なましのための適正温
度にされるのに充分な量の熱をより迅速に受取る
ために過度に加熱されることを許されないから、
制限される。この問題は、積み重ねられたコイル
のうち上のコイルは通常最も軽いコイルであると
いう事実によつて複合される。それらは、より小
さい質量を有するから、積み重ねられたコイルの
うち下のコイルに比べより速く熱くなる。したが
つて、内カバーの内部において雰囲気ガスを循環
させるために半径流フアンを使用しても、内カバ
ーが加熱され得る温度は制限され、加熱の非均一
性は依然として生じる。非均一の加熱処理に加え
て、非均一の軸方向及び半径方向勾配は、コイル
の巻きを反らせそして固着させる。

半径流フアンの流速を増加させることは、それ
によつて一そう均一の加熱が達成され得る一手段
であることは注目される。流速を増すことによつ
て、雰囲気ガスは内カバー壁２６とコイル１４と
の間の環状空間２７をより急速に通過する。一番
上のコイルの熱い外側頂上かどに沿つて通過する
雰囲気ガスは、熱を奮つてそれをコイル１４の内
側の軸方向路３０内に運搬する。半径流フアン１
８を使用して流速を増加しても、ホツト・スポツ
トが一番上のコイルの頂上外側かどに発生する。

本発明は、おのおの軸方向通路を有する少なく
とも１個の加工物、例えば１個または複数個の金
属コイル、を焼なまし処理するための炉である。
前記少なくとも１個のコイルは、基部支持装置上
に軸方向に積み重ねられて内カバーの如きカバー
装置内に配置される。複数個のコイルが配置され
るときは、コイルはおのおのの軸方向通路が軸方
向路の一部を構成するようにして同軸に積み重ね
られる。内カバーの内部に強制的に雰囲気ガスを
推進する装置が配設され、それによつて雰囲気ガ
スは軸方向路を通つて上昇し、加工物の外側面に
添つて該雰囲気ガスを推進する装置へ復するよう
にされている。熱は内カバー内のコイルへ供給さ
れる。好ましくは、内カバーは加工物を加熱室内
に密閉する。内カバーは加熱され、熱は内カバー
から加工物へ伝達される。本発明の一推奨実施例
は、第４図〜第６図に示されるバツチ・コイル焼
なまし炉とその運転方法である。しかし、この特
定実施例は本発明の範囲を限定するものと見なさ
れてはならない。

第４図に示される焼なまし炉は、加熱室１０３
を内部に画成する炉外壁１０２を有する。加熱室
１０３は当業界において知られている任意の好適
な装置によつて、例えば加熱室１０３内に燃焼ガ
スを導入し得るバーナ１０４によつて加熱され得
る。加熱室１０３内には、基部１０６上に密閉し
て取付けられた内カバー１０７が位置する。基部
１０６は支持床例えば炉床１０８上に支持され
る。任意の好適な密閉装置１１２例えば砂または
セラミツク繊維の如き絶縁材料が内カバー１０７
と基部１０６との間にシールを形成するように使
用され得る。使用され得るセラミツク繊維の一種
はカオウールである。

半径流フアン１８が先行技術によるバツチ・コ
イル焼なまし炉１においては使用されているが、
本発明を説明するのに使用されるバツチ・コイル
焼なまし炉１０１においては、雰囲気ガスを推進
する前記装置は基部１０６に配置された軸流フア
ン１２０である。軸流フアン１２０の使用の結果
として基部は修正され、運転方法は改良される。

軸流フアン１２０は、基部１０６の中心軸線に
沿つて配置される軸流フアン軸１２１に取付けら
れる。基部空間１２５が基板１１３と炉床１０８
との間に画成される。整形部材１３９が軸流フア
ン１２０の直下において基部１０６に軸線方向に
取付けられ、それによつて、基部空間１２５から
軸流フアン１２０へ通過する雰囲気ガスを軸方向
に導くのを助けるようにされている。転向羽根１
４０が前記整形部材１３９の近辺に同軸に取付け
られる。転向羽根１４０は基部空間１２５から軸
流フアン１２０へ流れる雰囲気ガスを軸方向に導
くのを助ける。複数個の整速部材１４１が転向羽
根１４０に添つて均等に配列されてそれに結合さ
れ、それによつて、基部空間１２５から軸流フア
ン１２０へ進む雰囲気ガスが軸流フアン軸１２１
を通る軸線を中心として螺線状に渦流を形成する
ことを阻止するのを助ける。

軸流及び半径流フアン性能の比較は特有速度に
基いて為され得る。特有速度は、フアン回転速度
×流量平方根÷出力3/4に対する圧力に等しい。
軸流フアンは高特有速度運転、即ち低圧高流量運
転に適している。半径流フアンは低特有速度運転
即ち高圧低流量運転に適している。軸流フアン１
２０を有する基部１０６は高流量における圧力低
下を最小にするように設計されなくてはならな
い。軸流フアン１２０を使用するとき基部空間１
２５の高さ（H′）は半径流フアン１８を用いる
ときの相当高さ(H)よりも大きくさるべきである。
その理由は、軸流フアンを使用するときの大流量
と低圧力とを受容するために比較的大きな流れが
通る区域を基部空間１２５に必要とするからであ
る。

前記基部１０６は、さらに、軸流フアン１２０
と共に使用されることが好ましい整形部材１３
９、転向羽根１４０、及び整直部材１４１を収容
するように設計される。このことは高さ（H′）
が、第２図に示されるごとき半径流フアン１８を
有するバツチ・コイル焼なまし炉１の基部６と共
に用いられる高さ(H)よりも少し大きくされること
を必要とする。好ましくは、高さ（H′）は約17.8
cm（7″）と約25.4cm（10″）との間である。この
ような追加の高さによつて、冷却管１３４の形状
は最適熱伝達及び雰囲気ガス流特性を得るように
設計され得る。推奨される一設計は第４図と第５
図に示される千鳥管配列である。千鳥管配列は、
基部１０６内を流れる雰囲気ガスに対しより均等
に露出され、従つて熱伝達を向上させるという利
益を提供し、且つ、圧力低下を小さくする。この
ことは、特性的に高静圧を発生せず、システム抵
抗を最小に保つことが望まれる軸流フアンを使用
するとき特に重要である。

本発明のバツチ・コイル焼なまし炉において
は、複数個の内支持体１３５と外支持体１３６と
によつて支持される基板１１３の如き支持手段が
配設される。１個または複数個のコイル１１４が
基板１１３上に同軸に積み重ねられる。基部１０
６に配置された軸流フアン１２０を雰囲気ガスを
推進する手段として使用するとき、少なくとも１
個のコイルの軸方向通路を通る軸方向路１３０は
軸流フアン１２０に対して整合され、従つて、雰
囲気ガスは基部１０６から推進されて軸方向路１
３０と通過する。軸流フアン１２０を使用すると
きは、半径流フアン１８を使用するときにデイフ
ユーザ支持体２２と普通支持体２３について必要
とされる態様に内支持体１３５と外支持体１３６
を戦略的に配置する、または特に空気動力学的に
設計することを必要としない。好ましくは内支持
体１３５と外支持体１３６は、風圧低下を最小に
するように基部１０６の軸線を中心として半径方
向に配列される。

本発明の雰囲気ガス循環法を助長するために軸
流フアンを使用することのもう一つの利益は、軸
流フアンは現存するバツチ・コイル焼なまし炉の
基部内にも取付けられ得ることである。

本発明の内カバー１０７内の雰囲気ガス流の方
向は先行技術による炉のそれとは逆である。本発
明の炉の作動において、雰囲気ガスはコイル１１
４の内部通路を以て構成される軸方向路１３０を
通つて上方へ推進される。次いで、雰囲気ガスは
頂部空間１２９において内カバー１０７の頂とコ
イル１１４の頂との間を通過するとともに、コイ
ル１１４の外側面と内カバー１０７の内カバー壁
１２６との間の環状空間１２７を通つて下降し、
そして、基板１１３と床１０８との間の基部空間
１２５を通過する。複数個のコイル１１４が軸方
向に積み重ねられている場合、雰囲気ガスは軸方
向路１３０から、第１図の基板１７に似た態様
で、しかし逆方向に、コイル１１４間に積置され
た対流放熱板１１７を通過して環状空間１２７へ
進入する。

本発明の雰囲気ガス流の方向は１個または複数
個のコイルの均等な加熱を生じさせる。雰囲気ガ
スは基部１０６から軸方向路１３０を通つて進む
間にその温度を減じられる。一番上のコイルの頂
上内側端縁１３２に達したとき、雰囲気ガスの温
度は再循環径路において最低である。この最低の
温度において、雰囲気ガスは頂上内側端縁１３２
と頂上外側端縁１３１とへより少ない量の熱を伝
達する。雰囲気ガスは、一番上のコイルの上方の
頂上空間１２９を通過するとともに一番上のコイ
ルの外側端縁１３１に沿つて下降するとき、熱を
除去することによつて加熱速度を実際上おそくす
る。このようにして、一番上のコイルの外側端縁
１３１におけるホツト・スポツトの発生は防止さ
れる。雰囲気ガスは環状空間１２７を通つて下方
へ進むにしたがつて内カバー１０７とコイル外側
面から熱を奪いつつそれ自体の温度を増す。加熱
された雰囲気ガスはそれが基部空間１２５を通過
する間にコイルへ熱を伝達する。下内側かど１３
３は軸流フアン１２０によつて軸方向路１３０内
へ推進される加熱された雰囲気ガスに対して露出
される。従つて、雰囲気ガスが推進される方向
は、頂上外側かど１３１においてはホツト・スポ
ツトを、下内側かど１３３においてはコールド・
スポツトをそれぞれ緩和する。コイルはより均等
に加熱されるから、内カバー１０７内の温度は、
より急速な熱処理を可能にするように増され得
る。

内カバー１０７の内部の最高温度は二つの要因
によつて決定される：即ち、内カバー１０７内の
コイル１１４のピーク温度と、内カバー１０７と
コイル１１４とにおける温度勾配とによつて決定
される。内カバー１０７における大きい勾配はそ
れを熱応力によつて変形させ得る。コイル１１４
における大きい勾配はコイル１１４の巻き片間の
固着を生じさせ得る。これら限界下において、高
流量の熱は、それがコイル１１４の表面上に、よ
り均等に分配されるときにのみ供給され得る。し
たがつて、本発明に従つて雰囲気ガス流方向を採
用することによつて、内カバー１０７とコイル１
１４とにおける温度勾配は小され、より高い温度
が加熱時間を短縮するために使用され得る。

加熱サイクルにおいて、放射はバツチ・コイル
焼なまし炉における卓越した熱伝達方式である。
本発明の雰囲気ガス流れ方向の使用による一そう
均等の加熱は、さらに、より高い雰囲気ガス速度
の使用によつて一そう効果的な熱伝達を可能にす
る。より高い空気速度は冷却方式において一そう
効果的である。より大きい雰囲気ガス流量が、在
来のバツチ・コイル焼なまし炉の場合よりも使用
され得る。例えば、約283〜708m³（10000〜
25000ft³）毎分の流量が、コイルの均等加熱を助
長する手段として働らく逆流れパターンの故にホ
ツト・スポツトを生じることなしに使用され得
る。先行技術によるバツチ・コイル焼なまし炉の
場合と同じように、対流放熱板１１７は、より一
そう均等の熱伝達をさらに助長するように、一そ
う大きい流量に対しても使用され得る。現在にお
いては、前記流量はフアン技術水準によつて制限
されるに過ぎない。

一般的に、軸流フアンは高静圧を発生せず、従
つてシステム抵抗は最小に維持さるべきである。
軸流フアンを配置される基部の構造の説明におい
て述べたごとく、高さ(H)は冷却管１３４の千鳥配
列を許すように増される。高さ(H)を増して冷却管
を千鳥配列することによつて基部における圧力低
下は最小にされ得る。軸流フアンの使用に関連し
て、支持体１３５，１３６は基部内において特別
な配列を必要とせず、また、特殊な形状を有する
ことも必要としないが、それらは、雰囲気ガスが
基部を通つて軸流フアンへ復帰するとき雰囲気ガ
スの圧力低下を最小にするように放射状に位置さ
れることが推奨される。

第４図に示される型式のバツチ・コイル焼なま
し炉の基部に配された約51cm（24″）のバツフア
ロ・フオージ四枚羽根軸流フアンによる実験テス
トは、毎分3200回転で約453m³（16000ft³）毎分及
び圧力ヘツド水柱約7.62cm（3″）の結果を生じ
た。軸流フアンは30馬力以下で作動される。フア
ン吐出口の排出デイフユーザは本発明には必要で
ないが、排出デイフユーザの使用は一定馬力数に
対しより大きい流量を生じた。バツチ・コイル焼
なまし炉の基部に半径流フアンに代えてそれと同
じ流量の軸流フアンを用いることによつて33％の
サイクル時間の短縮が達成可能であると予想され
る。軸流フアン回転速度は熱応力によつて制限さ
れ、許容応力は温度の増加にともなつて減少す
る。温度によつて制限される速度を必要とする比
較的大きい流量が希望されるならば、二速度フア
ンが使用される。比較的大きい流量は加熱及び冷
却間に使用され、比較的小さい流量は均熱間に使
用される。もし標準モータ速度以外の速度が使用
さるべきであるならば、別のフアン軸とモータ速
度とが使用され得る。速度は適正なプーリ比を選
ぶことによつて達成され得る。

在来のバツチ・コイル焼なまし炉は内カバーと
基部との間にサンド・シールを使用している。本
発明による大流量と逆流れ方向の使用の結果とし
て、露出サンド・シールから砂が捕捉される。こ
の現象は雰囲気ガスを砂からそらせるそらせ板を
用いることによつて、または金属対金属サンド・
シールもしくはブランケツト・シールを用いるこ
とによつて防止され得る。ブランケツト・シール
は、強化セラミツク繊維（例えばカオウール）ラ
イナを砂の代りに用いた修正形式のサンド・シー
ルである。ブランケツトは変形し、従つて定期的
に取り換えなくてはならないが、それは砂の捕捉
に起因するコイル破損を完全に防止する。

軸流フアンによる増加された雰囲気ガス流量の
可能力は、加熱サイクルよりも冷却サイクルに一
そう大きな効果を有する。既に説明されたごと
く、加熱サイクルは対流熱方式によるよりも放射
熱方式によつて一そう制御される。冷却サイクル
の初期において内カバー１０７は周囲に対して熱
を放射し、各コイルの外側面は内カバー１０７に
対して熱を放射する。内カバー１０７の熱慣性の
量が小さく、且つ、各コイルの外面の半径方向伝
導率が小さいから、内カバー１０７と各コイルは
急速に冷却して放射熱伝達の効果を生じさせない
温度になる。対流熱伝達係数は、加熱サイクル間
よりも冷却サイクル間において大きい。これは冷
却間の空気の平均温度が加熱間のそれに比べ相当
低いという事実に因る。気体運動速度を一定と仮
定すれば、対流熱伝達係数は、気体温度が低下す
るにしたがつて大きくなる。したがつて、増加さ
れた雰囲気ガス速度は、加熱時間よりも冷却時間
の短縮に一そう有効である。半径流フアンに比較
して大きい軸流フアン流量は、より急速な冷却サ
イクルを生じさせる。

以上説明した構成により、本発明は内カバー内
での雰囲気ガスの循環を効率よく行ないかつ乱流
によつて生じる流れの損失を最小限にし、しかも
構造が簡単で経済的であり、優れた焼なまし処理
性能を発揮するという効果を奏する。

本明細書に開示され、説明されそして図解され
た本発明の推奨形式に対する修正、変更及び改良
は、本発明の原理と教示とを理解する当業者によ
つて容易に考え出されるであろう。従つて、本発
明の範囲は、本明細書に説明された本発明の特定
実施例に限定さるべきではなく、本発明が達成し
た技術的進歩によつて限定さるべきである。

【図面の簡単な説明】

第１図は在来型のバツチ・コイル焼なまし炉の
断面図であり、半径流フアンによる雰囲気ガス循
環パターンを示す図面；第２図は第１図に示され
るバツチ・コイル焼なまし炉の基部の断面図；第
３図は第２図のバツチ・コイル焼なまし炉の基部
の３−３線に沿つた断面図；第４図は本発明の一
推奨実施例に基いたバツチ・コイル焼なまし炉の
断面図であり、軸流フアンによる空気循環パター
ンを示した図面；第５図は第４図に示されたバツ
チ・コイル焼なまし炉の基部の断面図；第６図は
第４図に示されたバツチ・コイル焼なまし炉の基
部の６−６線に沿う断面図であつて軸流フアンを
部分的に示している図面である。図面上、１０１は『バツチ・コイル焼なま
し』；１０２は『炉外壁』；１０３は『加熱
室』；１０４は『バーナ』；１０６は『基部』；
１０７は『内カバー』；１０８は『炉床』；１１
３は『基板』；１１４は『コイル』；１１７は
『対流放熱板』；１２０は『軸流フアン』；１２
５は『基部空間』；１２６は『内カバー壁』；１
２７は『環状空間』；１２９は『頂部空間』；１
３０は『軸方向路』；１３４は『冷却管』；１３
５は『内支持体』；１３６は『外支持体』；１３
９は『整形部材』；１４０は『転向羽根』；１４
１は『整直部材』を示す。

Claims

【特許請求の範囲】

１内カバー内で金属のコイルが基部上に置か
れ、金属のコイルの中央軸方向通路を基部の中央
開口に整合させて垂直に配置し、軸流フアンを基
部に近接して配置して雰囲気ガスを金属のコイル
の中央軸方向通路を上方へかつ次に金属のコイル
の外側を軸流フアンの方へ下方へ循環させるよう
にしたバツチ・コイル焼なまし炉において、軸流
フアンの直下に、雰囲気ガスの方向を変えかつ雰
囲気ガスを全体的に軸方向へ軸流フアンへ向ける
整形部材１３９及び転向羽根１４０と、雰囲気ガ
スの旋回流を最小限にする複数個の周方向に離隔
し半径方向に延在する整直部材１４１とを配設し
たことを特徴とするバツチ・コイル焼なまし炉。