JPS6152627A - Optical modulator - Google Patents

Optical modulator

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Publication number
JPS6152627A
JPS6152627A JP17435984A JP17435984A JPS6152627A JP S6152627 A JPS6152627 A JP S6152627A JP 17435984 A JP17435984 A JP 17435984A JP 17435984 A JP17435984 A JP 17435984A JP S6152627 A JPS6152627 A JP S6152627A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
thin plate
element group
effect element
free copper
Prior art date
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Pending
Application number
JP17435984A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiichi Yokoyama
横山 栄一
Shigeyoshi Hirashima
平島 滋義
Takeshi Kishimoto
健 岸本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP17435984A priority Critical patent/JPS6152627A/en
Publication of JPS6152627A publication Critical patent/JPS6152627A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To cool effectively a crystal thin plate by providing a Peltier effect element group by at least two stages by combining a Peltier effect element and a plate body of oxygen free copper. CONSTITUTION:A crystal thin plate 3 having an electrochemical effect cooled to a working temperature is provided on one surface of a transparent substrate 6 in a sealed pipe body, the first plate body 21 consisting of oxygen free copper is made to about on the other surface of the substrate 6 except an effective operating area of the thin plate 3, and on the plate body 21, a Peltier element group 22A of the first stage is provided so as to surround the effective operating area of the thin plate 3. Also, the second plate body 23 consisting of oxygen free copper is made to about on the element group 22A, a Peltier effect element group 22B of the second stage is made to about on the plate body 23, and also the third plate body 24 consisting of oxygen free copper is provided on the element group 22B in the same way. As for the plate body 24, a C-shaped shell 25 for making a cooling water pass through is welded and placed in the periphery of a through-hole 24a so that the cooling water is supplied from the outside of a pipe body 1 through a feed pipe 27 and a cooling water passage 26. Accordingly, the thin plate 3 can be cooled effectively to a necessary temperature.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えばテレビジョン画像をスクリーン上に投
射するグロジェクターに適用して好適な電気光学効果を
有する結晶の、電界による複屈折を利用した光変調器に
係る。
Detailed Description of the Invention [Industrial Field of Application] The present invention utilizes the birefringence caused by an electric field of a crystal that has an electro-optical effect suitable for application to, for example, a globjector that projects a television image onto a screen. The present invention relates to an optical modulator.

〔従来技術〕[Prior art]

光変調器を用いたプロジェクタ−は、例えば第5図に示
すように、管体(1)内にそのフェース部(1f)に対
向してターゲット(2)が配置される。ターゲット(2
)は、第6図に示すように、電気光学効果を有する結晶
薄板、例えば、KH2PO4(以下DKDPという)、
或いはKH2PO4(以下KDPという)よりなる結晶
薄板(3)の一方の面に2次電子放出比が犬で且つ可視
光を反射する例えば多層膜構造による誘電体ミラー膜(
4)が被着され、他方の面に透明導電膜(5)、例えば
、工n203膜が蒸着されて、この透明導電膜(5)側
において透明基板(6)にクランプされてなる。また、
との′ターゲット(2)は、その透明基板(6ン側がフ
ェース部(1f)に対向するように配置される。
In a projector using an optical modulator, for example, as shown in FIG. 5, a target (2) is arranged inside a tube (1) facing a face (1f) thereof. Target (2
) is a thin crystal plate having an electro-optic effect, such as KH2PO4 (hereinafter referred to as DKDP), as shown in FIG.
Alternatively, a dielectric mirror film (for example, a multilayer film structure) having a secondary electron emission ratio of 100% and reflecting visible light may be formed on one surface of a crystal thin plate (3) made of KH2PO4 (hereinafter referred to as KDP).
4) is deposited, a transparent conductive film (5), for example, a n203 film, is deposited on the other side, and the transparent conductive film (5) side is clamped to a transparent substrate (6). Also,
The target (2) is arranged such that its transparent substrate (6 side) faces the face portion (1f).

また、管体内には、ターゲット(2)のミラー膜(4)
側に対向して第1及び第2のグリッド電極G1及びG2
が配置される。
Also, inside the tube is a mirror film (4) of the target (2).
side facing first and second grid electrodes G1 and G2;
is placed.

そして、第5図に示すように、このターグット(2)の
ミラー膜(4)上にカソードKからの電子ビームbを集
束走査する。(7)及び(8)は夫々その集束及び走査
偏向用電磁手段を示す。
Then, as shown in FIG. 5, the electron beam b from the cathode K is focused and scanned on the mirror film (4) of this targut (2). (7) and (8) indicate the electromagnetic means for focusing and scanning deflection, respectively.

そして、管体(1ンの前方面の光透過フェースプレー 
ト(if)の前方からターグット(2)に向って光源(
9)からの可視光を偏光子αQを介して照射し、ミラー
膜(4)からの反射光を検光子αVを介してスクリーン
(2)上に投射する。一方、透明導電膜(5)と第2グ
リツドG2との間にビデオ信号、すなわちスクリーン(
6)上に投射すべき映像信号を印加する。この時、カソ
ードKから電子ビームを一定の電流密度Ipをもってタ
ーグット(2)の2次電子放出比δの高い誘電体ミラー
膜(4)上に走査し、ビデオ信号に応じて荷電させる。
Then, there is a light-transmitting face plate on the front surface of the tube (1).
The light source (
9) is irradiated via a polarizer αQ, and the reflected light from the mirror film (4) is projected onto the screen (2) via an analyzer αV. On the other hand, a video signal, that is, a screen (
6) Apply the video signal to be projected onto. At this time, an electron beam from the cathode K is scanned with a constant current density Ip over the dielectric mirror film (4) of the targut (2) having a high secondary electron emission ratio δ, and is charged in accordance with the video signal.

尚、第2グリツドG2は、ミラー膜(4)と近接した例
えば40μmの距離を有する位置に配置される。
Note that the second grid G2 is placed close to the mirror film (4) at a distance of, for example, 40 μm.

また、第1グリッドG、は、これに、例えば150vの
電位が与えられて、ミラー膜(4)より発生した浮遊す
る2次電子を捕捉して、この浮遊する2次電子によって
解像度の劣化が生じないようにするものである。
Further, the first grid G is applied with a potential of, for example, 150V, and captures floating secondary electrons generated from the mirror film (4), and the resolution is not degraded by the floating secondary electrons. This is to prevent this from occurring.

この構成によれば、電子ビームbの衝撃、すなわち1次
電子の入射によって誘電体ミラー膜(4)から2次電子
が放出されるか1次電子が蓄積されるかによって、これ
に応じた電荷が誘電体ミラー膜(4)に生じ、これによ
って誘電体ミラー膜(4)に電位が与えられる。この電
位は、第2グリツドG2と同電位となったところで2次
電子の放出が抑制されるので、この電位で平衡する。す
なわち、電子ビームbの各走査位置で第2グリツドG2
に与えられたビデオ信号による電圧変化に応じた電荷ノ
4ターンが生じ、これによってミラー膜(4ンと透明導
電膜(5ンとの間において、結晶薄板(3)にビデオ信
号に応じた電界パターンが与えられてビデオ信号に応じ
た縦効果による複屈折が生じる。
According to this configuration, depending on whether secondary electrons are emitted from the dielectric mirror film (4) or primary electrons are accumulated due to the impact of the electron beam b, that is, the incidence of primary electrons, a corresponding charge is generated. occurs in the dielectric mirror film (4), thereby applying a potential to the dielectric mirror film (4). Since the emission of secondary electrons is suppressed when this potential reaches the same potential as the second grid G2, it is balanced at this potential. That is, at each scanning position of the electron beam b, the second grid G2
4 turns of charges are generated in response to the voltage change due to the video signal applied to the crystal thin plate (3) between the mirror film (4) and the transparent conductive film (5). The pattern is given to create birefringence due to longitudinal effects depending on the video signal.

一方、偏光子叫と検光子αηとは、結晶薄板(3)に電
位ノ々ターンを与えない状態で光源(9)よりのターグ
ット(2)に入射する光と、これより反射する光に対し
てその光軸方向が直交するように配置される。
On the other hand, the polarizer and the analyzer αη are used to detect the light incident on the target (2) from the light source (9) and the light reflected from the light source (9) without applying any potential turns to the crystal thin plate (3). and are arranged so that their optical axis directions are perpendicular to each other.

このような構成によれば、偏光子αQを通じてターyッ
ト(2) K入る直線偏光が、誘電体ミラー膜(4)で
反射されて結晶薄板(3)中を往復通過することによっ
てととべおけるビデオ信号に応じて生じた複屈折によっ
て変調され、これKよって検光子α時を通過する光の濃
淡が生じ、スクリーン(2)上に光学像が投射されるこ
とになる。
According to this configuration, the linearly polarized light that enters the target (2) through the polarizer αQ is reflected by the dielectric mirror film (4) and passes back and forth through the thin crystal plate (3), thereby becoming amplified. The light is modulated by the birefringence generated in response to the video signal at the analyzer α, and this causes the light passing through the analyzer α to have shading, resulting in an optical image being projected onto the screen (2).

このように、光変調器を用いることによってプロジェク
タ−を構成できるものであり、この種のプロジェクタ−
は種々提案のなされているところである。その1例とし
ては、特公昭43−29086号公報が挙げられる。
In this way, a projector can be configured by using an optical modulator, and this type of projector
Various proposals have been made. One example is Japanese Patent Publication No. 43-29086.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上述した変調器は、その結晶薄淑のキュリ一点近傍でこ
れよりやや高い動作温度に保持されて用いられる。この
結晶薄板のキュリ一温度は、その結晶薄板の組成によっ
て多少相違するものであるが、例えば重水の置換度が9
596のDKDPの場合、そのキュリ一点は約−51℃
となるものでアシ、この種の結晶薄板を用いるときは、
例えば−50℃に冷却された状態で用いられる。ところ
が、上述した場合のように、この変調器が、電子ビーム
走査の下で用−られる場合等においては、これが高真空
度に保持された封止管体内に保持されるものであシ、こ
れに対する冷却手段もまた封止管体内に配置される必要
がある。したがってこの場合、この冷却手段によって真
空度が損われることがないように、即ち冷却手段自体か
ら不安定なガスの放出等が生じて管体内の真空度を低下
させる等の不都合が生じないようにすることが要求され
る。
The above-described modulator is used while being maintained at an operating temperature slightly higher than the Curie point of its crystal thin film. The Curie temperature of this crystal thin plate varies somewhat depending on the composition of the crystal thin plate, but for example, if the degree of substitution of heavy water is 9.
In the case of 596 DKDP, one cucumber is approximately -51℃
When using this type of crystal thin plate,
For example, it is used after being cooled to -50°C. However, as mentioned above, when this modulator is used under electron beam scanning, it must be held in a sealed tube maintained at a high degree of vacuum; Cooling means also need to be placed within the sealed tube. Therefore, in this case, care must be taken to ensure that the degree of vacuum is not impaired by this cooling means, that is, to prevent inconveniences such as unstable gas release from the cooling means itself and a decrease in the degree of vacuum inside the tube. required to do so.

本発明においては、上述した変調器、を、例えばプロジ
ェクタ−等に用いる場合において、これを電子ビーム走
査の下で用いる場合においても、管体内の真空度を阻害
することなく確実に変調器の結晶薄板を所定の低温、例
えば−50℃に冷却保持することができるようにした変
調器を提供するものである。
In the present invention, when the above-mentioned modulator is used in, for example, a projector, etc., even when the modulator is used under electron beam scanning, the crystal of the modulator can be reliably maintained without disturbing the degree of vacuum inside the tube. The present invention provides a modulator in which a thin plate can be cooled and maintained at a predetermined low temperature, for example, -50°C.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明においては、動作温度に例えば−50℃に冷却さ
れる電気光学効果を有する結晶薄板、例えばDKDP或
いはKDPよりなる結晶薄板を1の面に保持する透明基
板に対して、この透明基板の他の面に結晶薄板の有効動
作領域を除いてそれ以外の部分に当接される無酸素銅よ
りなる第1の板体を設ける。そしてこの第1の板体に当
接して上述した結晶薄板の有効動作領域以外において、
この有効動作領域を囲むように複数のベルチェ効果素子
を配置した第1段のペルチェ効果素子群を設ける。
In the present invention, in contrast to a transparent substrate holding a crystal thin plate having an electro-optical effect, such as DKDP or KDP, on one surface, which is cooled to an operating temperature of, for example, -50°C, other parts of the transparent substrate are used. A first plate made of oxygen-free copper is provided on the surface of the crystal thin plate, which is in contact with a portion other than the effective operating area of the crystal thin plate. In addition to the effective operating area of the thin crystal plate mentioned above in contact with this first plate,
A first stage Peltier effect element group is provided in which a plurality of Bertier effect elements are arranged so as to surround this effective operating area.

そしてこの第1段のペルチェ効果素子群の各ベルチェ効
果素子に当接して同様に無酸素銅よフなる第2の板体を
配置する。更に、この第2の板体に当接して上述した結
晶薄板の有効動作領域以外において、この有効動作領域
を囲むように同様に複数のベルチェ効果素子が配列され
た第2段のペルチェ効果素子群を設ける。そしてこの第
2段のペルチェ効果素子群の各ベルチェ効果素子に当接
して同様に無酸素銅よりなる第3の板体を配置する。
A second plate made of oxygen-free copper is similarly placed in contact with each Vertier effect element of the first stage Peltier effect element group. Furthermore, in a region other than the effective operating area of the above-mentioned crystal thin plate in contact with the second plate, a second stage Peltier effect element group is provided in which a plurality of Bertier effect elements are similarly arranged so as to surround this effective operating area. will be established. Then, a third plate made of oxygen-free copper is placed in contact with each of the Vertier effect elements of the second stage Peltier effect element group.

これら結晶薄板を有する透明基板と、第1〜第3の板体
、更にこれら間に配置される第1及び第2段のペルチェ
効果素子群は、例えば相互に機械的に一体化されてこれ
が真空封止管体内に配される。
The transparent substrate having these crystal thin plates, the first to third plates, and the first and second stage Peltier effect element groups disposed between them are, for example, mechanically integrated with each other and are placed in a vacuum. Disposed within a sealed tube.

そして第3の板体には、冷却手段例えば冷却水が通ずる
冷却パイプが熱的に密に接して設けられ、これによって
第3の板体を真空封止管体外から冷却する。
A cooling means, such as a cooling pipe through which cooling water flows, is provided in close thermal contact with the third plate, thereby cooling the third plate from outside the vacuum-sealed tube.

〔作 用〕[For production]

上述したように、本発明においては、少くとも第1〜第
3の無酸素銅の板体を設け、これら間にペルチェ効果素
子群を設けるものであるが、この無酸素銅は、無酸素な
るが故に、その熱伝導度が高くまた不要なガス放出が回
避されるものであシ、これがだめ、ベルチェ効果素子を
使用したことと相俟って真空封止管体内の真空度を低下
させる不都合を回避でき、10  Torr程反の真空
度を保持できることが確められた。
As described above, in the present invention, at least the first to third oxygen-free copper plates are provided, and the Peltier effect element group is provided between them. Therefore, its thermal conductivity is high and unnecessary gas release is avoided, but this is not possible, and together with the use of the Beltier effect element, it is an inconvenience that the degree of vacuum inside the vacuum-sealed tube decreases. It was confirmed that it was possible to avoid this and maintain a vacuum degree of about 10 Torr.

また本発明によるときは、上述した熱伝導度の高い無酸
素鋼を用いたこととペルチェ効果素子群を少なくとも2
段設けまた無酸素鋼による第3の板体を管体外から冷却
手段によって冷却するようにしたことによって結晶薄板
をその動作温度の一50℃程度に確実に冷却することが
できた。
Further, according to the present invention, the above-mentioned oxygen-free steel with high thermal conductivity is used and at least two groups of Peltier effect elements are used.
By providing steps and by cooling the third plate made of oxygen-free steel from outside the tube by means of a cooling means, it was possible to reliably cool the crystal thin plate to about 50° C. below its operating temperature.

〔実施例〕〔Example〕

第1図を参照して本発明による光変調器の一例を説明す
る。(1)は本発明による光変調器を全体として示す。
An example of an optical modulator according to the present invention will be explained with reference to FIG. (1) shows the optical modulator according to the present invention as a whole.

第1図において第5図と対応する部分には同一符号を付
す。この例においては、封止管体(1ン内に、例えばC
aF Zよりなる透明基板(6)に前述したと同様にD
KDP域いはKDPよりなる結晶薄板(3)をとシつけ
た組立体を配置する。結晶薄板(3)の透明基板側或い
は透明基板の結晶薄板側には、図示しないが前述した第
5図で説明した透明導電膜が形成され、また結晶薄板(
3)の透明基板(6)とは反対側には同様に図示しない
が第5図で説明した誘導体ミラー膜が被着形成されてい
る。そして、この結晶薄板(3)に対向して、第2のグ
リッド電極G2及び第1グリッド寛極G、が順次配置さ
れて管体(1ンの図示しないがネック側に設けられた電
子ビーム発射源即ちカソードに1結晶薄板(3)が対向
するように配置されている。そして透明基板(6)の、
結晶薄板(3)が配置される側とは反対側、即ち前方面
には無酸素銅よりなる第1の板体e1が当接配置される
。この第1の板体(ロ)Kは、その中心に結晶薄板(3
)における有効動作領域に対向してその周囲に沿ってこ
れを囲む内形状の透孔(21m)が穿設され、この第1
の板体(ハ)が透明基板(6)に対してこれに配置され
た結晶薄板(3)の投射画像に応じた電位ノ9ターンを
形成する作動領域以外において当接するようにする。
In FIG. 1, parts corresponding to those in FIG. 5 are given the same reference numerals. In this example, a sealed tube (within one tube, e.g.
A transparent substrate (6) made of aFZ is coated with D in the same manner as described above.
A KDP region or an assembly having a thin crystal plate (3) made of KDP is placed. Although not shown, the transparent conductive film explained in FIG. 5 above is formed on the transparent substrate side of the crystal thin plate (3) or on the crystal thin plate side of the transparent substrate.
Although not shown, the dielectric mirror film explained in FIG. 5 is similarly deposited on the side opposite to the transparent substrate (6) of 3). Then, facing this crystal thin plate (3), a second grid electrode G2 and a first grid electrode G are sequentially arranged, and an electron beam emitting device (not shown in the figure) provided on the neck side of the tube body (1) is provided. A monocrystalline thin plate (3) is arranged to face the source, that is, the cathode.The transparent substrate (6) is
A first plate e1 made of oxygen-free copper is disposed in contact with the opposite side to the side where the crystal thin plate (3) is disposed, that is, the front surface. This first plate (b) K has a thin crystal plate (3
), a through hole (21 m) with an inner shape is bored along the periphery of the effective operating area, and this first
The plate body (c) is brought into contact with the transparent substrate (6) except in the operating region where nine turns of potential are formed in accordance with the projected image of the crystal thin plate (3) disposed on the transparent substrate (6).

そして、この第1の板体e21の、透明基板(6)に当
接される側とは反対側の面に、第2図に示すように、第
1の板体e1の透孔(21m)を中心にその周辺に例え
ば各辺に関して2個づつ計8個のベルチェ効果素子(2
)を配列して、第1段目のペルチェ効果素子群(22A
)を設ける。この素子群(22A)の各ベルチェ効果素
子(財)は、電気的には相互に直列に接続されるも、熱
的には並列に配置され、各冷却(吸熱)側が第1の板体
?9に真空グリースをもって密着させて熱的に密に結合
させる。更にこれら第1段目のペルチェ効果素子群(2
2A)の各ベルチェ効果素子(財)の発熱側に接して同
様に無酸素銅よりなる第2の板体翰を当接する。この場
合においても、この第2の板体(財)の中心部には、結
晶薄板(3)の有効動作領域に対向してこの動作領域の
輪郭に対応する内形状の透孔(23a)が設けられ、第
2の板体(資)が結晶薄板(3)の有効動作領域の周囲
に位置してベルチェ効果素子群(22A)の各素子盤に
当接して配置するようになす。この第2の板体と各ベル
チェ効果素子(イ)との間においても真空グリースが介
在されて両者が熱的に密に結合するようになされる。更
にこの第2の板体四の第1段目のベルチェ効果素子群(
22A)が配置される側とは反対側の面に、第3図に示
すように同様に複数のベルチェ効果素子(財)よりなる
第2段目のベルチェ効果素子群(22B)を配置する。
Then, as shown in FIG. 2, a through hole (21m) of the first plate e1 is formed on the surface of the first plate e21 opposite to the side that comes into contact with the transparent substrate (6). For example, a total of 8 Bertier effect elements (2
) to form the first stage Peltier effect element group (22A
) will be established. The Bertier effect elements of this element group (22A) are electrically connected to each other in series, but thermally arranged in parallel, with each cooling (endothermic) side facing the first plate. 9 with vacuum grease to make a thermally tight bond. Furthermore, these first stage Peltier effect element groups (2
A second plate plate made of oxygen-free copper is similarly brought into contact with the heat generating side of each of the Bertier effect elements in 2A). In this case as well, there is a through hole (23a) in the center of the second plate (good) facing the effective operating area of the crystal thin plate (3) and having an inner shape corresponding to the outline of this operating area. The second plate (material) is located around the effective operating area of the crystal thin plate (3) and is arranged in contact with each element plate of the Bertier effect element group (22A). Vacuum grease is also interposed between the second plate and each of the Bertier effect elements (a), so that the two are tightly coupled thermally. Furthermore, the first stage of the Bertier effect elements of this second plate 4 (
As shown in FIG. 3, a second stage Bertier effect element group (22B) consisting of a plurality of Bertier effect elements (22B) is similarly arranged on the side opposite to the side on which the Bertier effect elements 22A) are arranged.

このベルチェ効果素子群(22B)の各ベルチェ効果素
子に)は、第2の板体に)の透孔(23a)の各短辺に
関して、夫々例えば2WAのベルチェ効果素子に)を配
置し、各長辺に関して夫々3個のベルチェ効果素子(財
)を配列し、更に各辺間の角部に対応して夫々1個のベ
ルチェ効果素子を配列して計14個のベルチェ効果素子
(イ)を配置し得る。この第2段目のベルチェ効果素子
群(22B)においても、各ベルチェ効果素子(イ)は
、電気的に直列に接続され、且つ熱的には相互に並列に
配置されて、各ベルチェ効果素子(イ)の吸熱側が、第
2の板体(イ)に真空グリースをもって熱的に密に密着
されるよう罠なされる。また、これら第1段目及び第2
段目のベルチェ効果素子群(22A)及び(22B)は
、例えば相互に直列に接続されて共通の2つの端子が管
体(1)外に導出される。更に、この第2段目のベルチ
ェ効果素子群(22B)上には、同様に無酸素鋼よりな
る第3の板体(ハ)が配置される。この第3の板体(ハ
)においても、結晶薄板(3)の有効動作領域に対向す
る部分にその輪郭に応じた内形状の透孔(24m)が穿
設される。この第3の板体(ハ)は、第2段目のベルチ
ェ効果素子群(22B)の各ベルチェ効果素子(財)の
発熱側が真空グリースによって熱的に密に結合される。
For each Bertier effect element of this Bertier effect element group (22B), for example, a 2WA Bertier effect element) is arranged on each short side of the through hole (23a) in the second plate, and each Three Bertier effect elements (goods) are arranged for each long side, and one Bertier effect element is arranged corresponding to each corner between each side, resulting in a total of 14 Bertier effect elements (A). can be placed. Also in this second-stage Bertier effect element group (22B), each Bertier effect element (A) is electrically connected in series and thermally arranged in parallel with each other, so that each Bertier effect element The heat-absorbing side of (A) is trapped in such a way that it is tightly thermally adhered to the second plate (A) with vacuum grease. In addition, these first and second stages
The Vertier effect element groups (22A) and (22B) in the tiers are, for example, connected to each other in series, and two common terminals are led out of the tube body (1). Furthermore, a third plate (C) made of oxygen-free steel is arranged on the second-stage Bertier effect element group (22B). In this third plate (c) as well, a through hole (24m) having an inner shape corresponding to the outline of the thin crystal plate (3) is bored in a portion facing the effective operating area of the thin crystal plate (3). In this third plate (c), the heat generating sides of each of the Bertier effect elements of the second-stage Bertier effect element group (22B) are thermally tightly coupled with vacuum grease.

またこの第3の板体(ハ)の第2段目のベルチェ効果素
子群(22B)の配置部とは反対側、即ち前方面に冷却
手段が配置される。この冷却手段は、例えば第3の板体
(財)の透孔(24a)の周辺に冷却水を通ずるC字状
のシェルに)を溶接配置し、このシェル(2)と第3の
板体041との間にC字状の冷却水路(1)を形成して
成る。この冷却水路(イ)の両端には夫々冷却水の供給
管(ロ)と、図示しないが冷却水の取シ出し管(至)と
が管体(1)外に夫々導出される。
Further, a cooling means is disposed on the opposite side of the third plate (c) from where the second-stage Bertier effect element group (22B) is arranged, that is, on the front surface. This cooling means is, for example, by welding a C-shaped shell through which cooling water flows around the through hole (24a) of the third plate body (goods), and connecting this shell (2) and the third plate body. 041, a C-shaped cooling water channel (1) is formed. A cooling water supply pipe (b) and a cooling water outlet pipe (to) (not shown) are led out of the tube body (1) from both ends of the cooling water channel (a), respectively.

言うまでもなくこの冷却水の供給管(社)及び取り出し
管(至)の管体(1)の貫通部は気密的に封止される。
Needless to say, the passages of the cooling water supply pipe (to) and the takeoff pipe (to) through the pipe body (1) are hermetically sealed.

一方、管体(1)の一部には端子導出部−が設けられる
。この端子導出部−は、管体(1)内に連通ずる例えば
ガラス管−を封着し、このガラス管(1)の外端に複数
の端子ピン01)が互いに絶縁して植立貫通して配列さ
れたステム0■が封着されて成る。端子ピン0ρは、例
えば夫々気密封止された金属細管より底り、図示しない
が、これらのうちの選択された2本の端子ピンGカに、
前述したベルチェ効果素子群(22A)及び(22B)
の接続端末が夫々接続される。
On the other hand, a terminal lead-out portion is provided in a part of the tube body (1). This terminal lead-out part is made by sealing a glass tube, for example, which communicates with the tube body (1), and a plurality of terminal pins 01) are insulated from each other and planted at the outer end of the glass tube (1). The stems 0* arranged in the same manner are sealed. For example, the terminal pins 0ρ are lower than each hermetically sealed metal capillary tube, and although not shown, two terminal pins G selected from among these are
The aforementioned Bertier effect element groups (22A) and (22B)
are connected to each other.

また、図示しないが、例えば透明基板(6)Kは温度検
出素子のサーミスタ或いは熱電対が設けられ、その各端
子例えば銅−コンスタンタン(N1−Cu合金)による
熱電対の各金属線の端部が端子導出部一の他の端子ピン
01)によって管体外に導出される。
Although not shown, for example, the transparent substrate (6) K is provided with a thermistor or thermocouple as a temperature detection element, and each terminal thereof, for example, the end of each metal wire of the thermocouple made of copper-constantan (N1-Cu alloy) It is led out of the tube body by another terminal pin 01) of the terminal lead-out section 1.

このような構成において、今ペルチェ効果素子に与える
電流に対する第1段目のベルチェ効果素子群(22A)
のみによる冷却と、第1段目と第2段目のベルチェ効果
素子群(22A)及び(22B)とによる冷却効果につ
いて測定した結果を第4図に示す。
In such a configuration, the first-stage Beltier effect element group (22A) for the current applied to the Peltier effect element
FIG. 4 shows the results of measuring the cooling effect of the cooling effect alone and the cooling effect of the first-stage and second-stage Bertier effect element groups (22A) and (22B).

同図中白線@カはベルチェ効果素子(イ)の印加電圧を
示し、同図中曲線(イ)及び卿は夫々冷却水の水温が2
0℃と1℃の場合の第1段目のベルチェ効果素子群(2
2A)のみによって冷却された結晶薄板の温度を熱電対
によって検出した測定曲線であり、(財)及び(ト)は
夫々同様の冷却水の水温を20℃及び1℃とした場合の
夫々1段目及び2段目のベルチェ効果素子群を用いた場
合の各冷却温度を示したものでこれより明らかなように
一50℃程度の温度を両ペルチェ効果素子群(22A)
及び(22B)によって得られている。
The white line @(a) in the same figure indicates the applied voltage of the Beltier effect element (a), and the curve (a) and (a) in the same figure indicate the cooling water temperature of 2, respectively.
First-stage Bertier effect element group (2
2A) is a measurement curve in which the temperature of a crystal thin plate cooled only by a thermocouple is detected. This figure shows the respective cooling temperatures when using the first and second-stage Bertier effect element groups.As is clear from this, the temperature of about -50°C is lowered to both Peltier effect element groups (22A).
and (22B).

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

上述したように本発明によるときは、ベルチェ効果素子
と無酸素銅の板体との“組合せによってぺルチェ効果素
子群を少なくとも2段設けたことによって効果的に結晶
薄板の冷却を所要の温度例えば−50℃に冷却すること
ができた。
As described above, according to the present invention, by providing at least two stages of Peltier effect elements by combining the Bertier effect element and the oxygen-free copper plate, the thin crystal plate can be effectively cooled to a required temperature, e.g. It was possible to cool down to -50°C.

また、本発明によるときは、管体(1)内の真空度を冷
却手段を設けるにもかかわらす10  Torr程度の
高真空度に保持できた。
Further, according to the present invention, the degree of vacuum inside the tube body (1) could be maintained at a high degree of vacuum of about 10 Torr despite the provision of a cooling means.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明による光変調器の一例の要部の路線的拡
大断面図、第2図はその第1段目のペルチェ効果素子群
の配列状態を示す図、第3図は同様に第2のペルチェ効
果素子群の配列図、第4図は本発明の説明に供する測定
曲線図、第5図は従来の光変調器の一例の構成図、第6
図はその要部の路線的配置図である。 (1)・・・管体、(7)・・・光変調器、G1・・・
第1グリツド゛電極、G2・・・第2グリツle電極、
(3)・・・結晶薄板、(6)・・・透明基板、eル・
・・第1の板体、■・・・第2の板体、(ハ)・・・第
3の板体、(22A)・・・第1段目のペルチェ効果素
子群N  (22B)・・・第2段目のペルチェ効果素
子色(2)・・・ベルチェ効果素子。 第3図 第4図 電:L I(A)
FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view of the essential parts of an example of an optical modulator according to the present invention, FIG. 2 is a diagram showing the arrangement of the first stage of Peltier effect elements, and FIG. FIG. 4 is a measurement curve diagram for explaining the present invention; FIG. 5 is a configuration diagram of an example of a conventional optical modulator; FIG.
The figure shows the route layout of the main parts. (1)... tube body, (7)... optical modulator, G1...
First grid electrode, G2... second grid electrode,
(3)...Crystal thin plate, (6)...Transparent substrate,
...first plate body, ■...second plate body, (c)...third plate body, (22A)...first stage Peltier effect element group N (22B). ...Second stage Peltier effect element color (2)...Bertier effect element. Figure 3 Figure 4 Electrical: L I (A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 動作温度に冷却される電気光学効果を有する結晶薄板を
一の面に保持する透明基板と、該透明基板の他の面に上
記結晶薄板の有効動作領域を除いて当接される無酸素銅
より成る第1の板体と、該第1の板体に当接されて上記
結晶薄板の有効動作領域を囲むように配された複数のペ
ルチエ効果素子と、該各ペルチエ効果素子に当接される
無酸素銅より成る第2の板体と、該第2の板体に当接さ
れて上記結晶薄板の有効動作領域を囲むように配された
複数のペルチエ効果素子と、該各ペルチエ効果素子に当
接される無酸素銅より成る第3の板体とが真空封止管体
内に配され、上記第3の板体は上記管体外から冷却され
るようにした光変調器。
A transparent substrate holding a crystal thin plate having an electro-optic effect that is cooled to an operating temperature on one side, and an oxygen-free copper plate that is in contact with the other side of the transparent substrate except for the effective operating area of the crystal thin plate. a first plate consisting of a plurality of Peltier effect elements that are in contact with the first plate and are arranged so as to surround the effective operating area of the crystal thin plate; and a plurality of Peltier effect elements that are in contact with each of the Peltier effect elements; a second plate made of oxygen-free copper, a plurality of Peltier effect elements arranged in contact with the second plate so as to surround the effective operating area of the thin crystal plate, and each of the Peltier effect elements. A third plate member made of oxygen-free copper that is in contact with the optical modulator is disposed within a vacuum-sealed tube, and the third plate member is cooled from outside the tube body.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2326278A (en) * 1997-06-10 1998-12-16 Smc Corp Thin plate cooling device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2326278A (en) * 1997-06-10 1998-12-16 Smc Corp Thin plate cooling device
GB2326278B (en) * 1997-06-10 1999-08-25 Smc Corp Fast thin-plate cooling apparatus
US5992172A (en) * 1997-06-10 1999-11-30 Smc Corporation Fast thin-plate cooling apparatus

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