JPS63168679A - Projection type display device using electrode plate - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、貫通電極を有する電極板を用いた投射形ディ
スプレイ装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a projection display device using an electrode plate having through electrodes.
(従来の技術)
光源から一定強度で放射された光線束を、入力信号に応
じて部分的に反射または透過することにより投射画像を
得るデバイスをライトバルブという。(Prior Art) A device that obtains a projected image by partially reflecting or transmitting a bundle of light rays emitted with a constant intensity from a light source depending on an input signal is called a light valve.
このようなライトパルプは投射形ディスプレイ装置に利
用されている。Such light pulp is used in projection display devices.
ブラウン管の真空容器内の螢光面に相当する位置に電気
光学結晶板(例えばL iN b O3単結晶板)を配
置し、電子源により電気光学結晶板に発生させられた変
化を、外部に配置された偏向板を用い光により読み出し
投影する投射形ディスプレイ装置が知られている。An electro-optic crystal plate (for example, a LiN b O3 single crystal plate) is placed at a position corresponding to the fluorescent surface inside the vacuum chamber of the cathode ray tube, and the changes caused in the electro-optic crystal plate by the electron source are placed outside. A projection type display device is known that uses a polarized plate to perform reading and projection using light.
(発明が解決しようとする問題点)
前述した投射形ディスプレイ装置において、電子ビーム
による書込み部を真空中に設けなくてはならない。(Problems to be Solved by the Invention) In the projection display device described above, the writing section using an electron beam must be provided in a vacuum.
そのため書込まれる誘電体(前記の例ではLiNbO3
結晶)は真空中に設置されることになる。Therefore, the dielectric to be written (in the above example LiNbO3
crystal) will be placed in a vacuum.
誘電体素材、接着材等は自体がガスを発生するものが多
い。Many dielectric materials, adhesives, etc. themselves generate gas.
また前記誘電体素材、接着材等の内、事前にガス出しを
することができ難いものも多い。Further, among the dielectric materials, adhesives, etc., many of them are difficult to vent out gas in advance.
そのため真空中で使用できる材料の選択は著しく制限さ
れる。This severely limits the selection of materials that can be used in vacuum.
誘電体としてガス放出の比較的少ない油等を真空内に設
置した場合でも、動作時には常時真空排気を行わなけれ
ば、希望する真空度を維持できない。Even if oil or the like, which releases relatively little gas, is installed as a dielectric in a vacuum, the desired degree of vacuum cannot be maintained unless the vacuum is constantly evacuated during operation.
本発明の目的は、投射形ディスプレイ装置に用いられる
真空容器の内部の真空度を低下させることのない電極板
を用いた投射形ディスプレイ装置を提供することにある
。An object of the present invention is to provide a projection display device using an electrode plate that does not reduce the degree of vacuum inside a vacuum container used in the projection display device.
(問題点を解決するための手段)
前記目的を達成するために、電子源と、前記電子源から
放出された電子の密度分布に対応する光学的変化を受け
る誘電体と、前記誘電体の光学的な変化を光により読み
出す電極板を用いた投射形ディスプレイ装置において、
絶縁板内に前記絶縁板の板厚方向に多数の貫通電極を配
置した電極板を一面が前記電子源から放出された電子に
照射され、他面が前記誘電体に対面させられるように容
器の気密を保つように配置して構成されている。(Means for solving the problem) In order to achieve the above object, an electron source, a dielectric material that undergoes an optical change corresponding to the density distribution of electrons emitted from the electron source, and an optical In a projection display device that uses an electrode plate that reads out changes in color using light,
An electrode plate having a large number of through electrodes arranged in the thickness direction of the insulating plate is placed in a container so that one side is irradiated with electrons emitted from the electron source and the other side faces the dielectric. It is arranged and configured to maintain airtightness.
(実施例)
以下、図面等を参照して本発明をさらに詳しく説明する
。(Example) Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings and the like.
第1図は、本発明による投射形ディスプレイ装置の実施
例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of a projection display device according to the present invention.
投射形ディスプレイ装置のライトパルプの気密容器4に
は書込み用の電子銃lが設けられている。An airtight container 4 for light pulp of a projection display device is provided with an electron gun 1 for writing.
この電子銃1からの電子は偏向コイル2と、集束コイル
3により、導電板10の一面を走査する。Electrons from the electron gun 1 are scanned over one surface of the conductive plate 10 by a deflection coil 2 and a focusing coil 3.
第2図は、前記投射形ディスプレイ装置の主要な構成部
分である導電板の第1の実施例を示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing a first embodiment of a conductive plate which is a main component of the projection display device.
この導電板10Aは、絶縁体11に多数の貫通電極を配
置したものであり、容器の真空壁の一部を形成している
。This conductive plate 10A has a large number of through electrodes arranged on an insulator 11, and forms part of the vacuum wall of the container.
この導電板10Aの一面に電気光学結晶等の誘電体5が
密着して配置されている。そして誘電体5の他面には透
明電極6が設けられている。A dielectric material 5 such as an electro-optic crystal is disposed in close contact with one surface of the conductive plate 10A. A transparent electrode 6 is provided on the other surface of the dielectric 5.
なお透明電極6の表面には、透明保護板7が設けられて
いる。Note that a transparent protection plate 7 is provided on the surface of the transparent electrode 6.
導電板10Aの各貫通電極12と誘電体の当該貫通型8
i12に対応する部分と透明電極の部分は、格別にコン
デンサを形成していると考えることができる。Each through electrode 12 of the conductive plate 10A and the through type 8 of the dielectric
The portion corresponding to i12 and the transparent electrode portion can be considered to form a special capacitor.
貫通電極12が保持する電荷により、この貫通電極12
の端面と透明電極6の間の誘電体の当該貫通電極12に
対応する部分の電界が変わる。この電界により誘電体の
光学的な特性(例えば屈折率)が変化する。Due to the charge held by the through electrode 12, the through electrode 12
The electric field in the portion of the dielectric between the end face of the transparent electrode 6 and the through electrode 6 corresponding to the through electrode 12 changes. This electric field changes the optical properties (eg, refractive index) of the dielectric.
貫通電極12が保持する電荷により与えられる誘電体5
内の光学的な特性の変化の分布は、ハーフミラ−8を介
して入射させられる読み出し光により読み出されてスク
リーン(図示せず)上に投影される。Dielectric material 5 given by the charge held by through electrode 12
The distribution of changes in the optical characteristics within is read out by the readout light incident through the half mirror 8 and projected onto a screen (not shown).
次に前記導電板10Aの製造方法を第3図を参照して説
明する。Next, a method for manufacturing the conductive plate 10A will be explained with reference to FIG.
まず数10μm径のタングステン細線50をその周囲を
密着性の良いガラス(例えばパイレックスガラス)で被
覆し、ガラス被覆タングステン線54 (タングステン
線を芯とするガラスファイバ)を作る。First, a thin tungsten wire 50 with a diameter of several tens of micrometers is coated around the tungsten wire 50 with a glass having good adhesion (for example, Pyrex glass) to produce a glass-covered tungsten wire 54 (a glass fiber having a tungsten wire as a core).
第3図に示すように漏斗状の容器51のまわりにガラス
熔融ヒータ53を配置して熔融ガラス52を作り中心に
タングステン細線50を垂下して同軸になるようタング
ステン線50を熔融ガラス52とともにノズルを通して
引き出す。As shown in FIG. 3, a glass melting heater 53 is arranged around a funnel-shaped container 51 to produce molten glass 52, a thin tungsten wire 50 is suspended from the center, and the tungsten wire 50 is coaxially inserted with the molten glass 52 into a nozzle. Pull it out through.
それらのタングステン線を芯材とするガラスファイバを
幾何学的に規則正しく束ね、互いに被覆ガラスを利用し
て空間が生じないよう押し固め一本の棒状に固着する。These glass fibers with tungsten wire as a core material are bundled geometrically and regularly, and are then pressed together using a covering glass to form a single rod shape without leaving any spaces.
固着された棒状タングステン細線束をファイバの長さ方
向に対し、直角に切断(板状にスライス)することによ
り第2図に示すような導電板が得られる。A conductive plate as shown in FIG. 2 is obtained by cutting the fixed rod-shaped tungsten thin wire bundle at right angles to the longitudinal direction of the fiber (slicing it into plate shapes).
なお前記実施例では貫通電極12の材料としてタングス
テン綱線50を用いる例を示した。Incidentally, in the embodiment described above, an example is shown in which the tungsten wire 50 is used as the material of the through electrode 12.
前記タングステン細線50に変えてコバール線。Kovar wire is used instead of the tungsten thin wire 50.
モリブデン線等その他の導体細線を用いても同様のこと
が可能である。The same thing can be done using other thin conductor wires such as molybdenum wires.
導電板10Aは、前述した方法とは全く異なる製造方法
によっても製造することができる。The conductive plate 10A can also be manufactured by a manufacturing method completely different from the method described above.
電子を増倍する装置としてマイクロチャンネルプレート
が知られている。A microchannel plate is known as a device that multiplies electrons.
このマイクロチャンネルプレートは多数のガラスファイ
バを結束して、多数のチャンネル部分を形成し、このチ
ャンネルに2次電子増倍機能を持たせたものである。This microchannel plate has a large number of glass fibers tied together to form a large number of channel portions, and these channels are provided with a secondary electron multiplication function.
このチャンネルプレートのチャンネル部分へ熱熔融した
インジュウム(In)を圧力をかけ流入させる。Hot molten indium (In) is forced to flow into the channel portion of the channel plate under pressure.
またはインジュウム(In)の溶融液中へ浸漬し徐々に
引き上げればよい。Alternatively, it may be immersed in a melt of indium (In) and gradually pulled up.
これにより、チャンネル部分には固化したインジュウム
(In)が充填され、貫通電極が形成される。As a result, the channel portion is filled with solidified indium (In), and a through electrode is formed.
以上の2つの方法の例によって得られたウェハー状の導
電板は両面を平坦かつ平温に研磨して、ライトバルブへ
組み込まれ、ライトバルブの真空隔壁の一部を形成する
。The wafer-shaped conductive plate obtained by the above two methods is polished on both sides to be flat and at a constant temperature, and is incorporated into a light valve to form a part of the vacuum partition of the light valve.
これにより、誘電体5は真空中に直接さらされないので
、従来は使用できなかったガス放出の太きな材質の誘電
体や接着材、液状の素材まで使用可能となる。 −
また、熱的に弱い素材であっても外部より水冷等の冷却
手段も併用可能である。As a result, the dielectric 5 is not directly exposed to vacuum, so that it becomes possible to use dielectrics made of thick materials that emit gas, adhesives, and liquid materials that could not be used in the past. - Also, even if the material is thermally weak, external cooling means such as water cooling can also be used.
その他、L i N b 03結晶等にも見られること
であるが、強い読出し光に晒されたり、急激な温度変化
があったとき、光学的損傷を受けたりクランクを生じた
りする。In addition, as is also seen in L i N b 03 crystals, when exposed to strong read light or when there is a sudden temperature change, optical damage or cranking occurs.
そのような場合にも本案を採用した場合、真空部分とは
隔絶されているため、容易に正常な新しい他の結晶と取
替え得る。If the present invention is adopted in such a case, the crystal can be easily replaced with a new normal crystal because it is isolated from the vacuum part.
以上述べたように、電子銃によるスイッチング動作と、
電子ビーム電荷量の変化による書込みを誘電体物質に行
い、外部からレーザ光等の参照先によりその書き込まれ
た詳報を読出しディスプレイできるライトバルブに本案
の導電板が使用でき、隔絶効果により書き込まれる物質
の素材選択範囲が大幅に拡大できることになる。As mentioned above, the switching operation by the electron gun,
The conductive plate of this invention can be used in a light valve that can write on a dielectric material by changing the amount of charge of an electron beam, and then read and display the written detailed information from an external reference source such as a laser beam. This means that the range of material selection can be greatly expanded.
前述したようなライトバルブにおいて、導電板10Aの
各貫通電極12は独立しているので互いに電極間に電気
的導通はない。In the light valve as described above, each through electrode 12 of the conductive plate 10A is independent, so there is no electrical continuity between the electrodes.
このような構造は各貫通電極に、電荷を保存するために
は、便利であるが、再度の書込みのために電荷を消去す
るのには、必ずしも便利ではない。Although such a structure is convenient for storing charge in each through electrode, it is not necessarily convenient for erasing the charge for rewriting.
第4図は、前記投射形ディスプレイ装置の主要な構成部
分である導電板の第2の実施例(光導型彫消去機能付き
)を示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing a second embodiment (with a light guide engraving and erasing function) of a conductive plate which is a main component of the projection display device.
導電板10Bの絶縁基板11には多数の貫通電極12が
設けられている点は、前述した構造と同じである。The structure is the same as that described above in that a large number of through electrodes 12 are provided on the insulating substrate 11 of the conductive plate 10B.
前述した実施例と同様な製造工程で製造することができ
る。It can be manufactured using the same manufacturing process as in the embodiment described above.
真空容器4の内面側に硫化カドミウム(CdS)の焼結
体により、短絡用の光導電体13を形成しである。A short-circuiting photoconductor 13 is formed on the inner surface of the vacuum container 4 using a sintered body of cadmium sulfide (CdS).
そしてこの短絡用の光導電体13と透明電極6をホトダ
イオード17で接続する。The photoconductor 13 for shorting and the transparent electrode 6 are then connected by a photodiode 17.
短絡用の光導電体13とホトダイオード17を消去用の
光で同時に照射すると各貫通電極12の真空容器4内の
面は低い抵抗値で接続される。When the shorting photoconductor 13 and the photodiode 17 are simultaneously irradiated with erasing light, the surfaces of the through electrodes 12 inside the vacuum container 4 are connected with a low resistance value.
そしてこの短絡用の光導電体13と透明電極6はホトダ
イオード17の動作により、略同−電位にされ、電荷は
消去される。The photoconductor 13 for shorting and the transparent electrode 6 are brought to approximately the same potential by the operation of the photodiode 17, and the charges are erased.
次の書込み時には、硫化カドミウムを暗中に保ち抵抗を
大きくし、書込みを行い消去光照射サイクルを選択する
。前記のような動作を繰り返すことにより、連続して動
画やビデオ画面をディスプレイすることができる。During the next writing, the cadmium sulfide is kept in the dark, the resistance is increased, writing is performed, and an erasing light irradiation cycle is selected. By repeating the above operations, moving images or video screens can be displayed continuously.
第5図は、前記投射形ディスプレイ装置の主要な構成部
分である導電板(接合形消去機能付き)の第3の実施例
を示す図であって、同図Aは平面図、同図Bは断面図を
示している。FIG. 5 is a diagram showing a third embodiment of a conductive plate (with a bonding type erasing function) which is a main component of the projection display device, in which FIG. 5A is a plan view and FIG. A cross-sectional view is shown.
導電板の絶縁基板11の真空容器側の面には、N形層:
J14.18と、P形層16が設けられている。On the vacuum vessel side surface of the insulating substrate 11 of the conductive plate, an N-type layer:
J14.18 and a P-type layer 16 are provided.
導電rgJ15は前記N形層14とオーミックに接触し
、導電板の貫通電極12とN形層14を接続する。The conductive rgJ15 is in ohmic contact with the N-type layer 14, and connects the through electrode 12 of the conductive plate and the N-type layer 14.
これにより隣接する貫通電極12の間は、NPN構造(
貫通電極12−N形層14−P形1’1t16−N形層
14−貫通電極12)となる。As a result, between adjacent through electrodes 12, an NPN structure (
Through electrode 12-N type layer 14-P type 1'1t16-N type layer 14-through electrode 12).
導電板の絶縁基板11の他面には誘電体5.透明電極6
が配置される。A dielectric material 5. is provided on the other surface of the insulating substrate 11 of the conductive plate. transparent electrode 6
is placed.
前記NPN構造の接合部を照射すると各電極間は極めて
低い抵抗で接続されることになる。When the junction of the NPN structure is irradiated, each electrode is connected with extremely low resistance.
この方式の消去時間は短かく、従来の例えばLiNbO
3を使用した場合の消去法のように2次電子放出による
電荷中和法をとる方式とは比較にならない程遠やかに完
了する。これは、短絡放電方式によるためである。The erasing time of this method is short, and compared to conventional methods such as LiNbO
The process is completed far more quickly than in the case of the erasure method in which the electron beam 3 is used, which uses a charge neutralization method by emitting secondary electrons. This is due to the short circuit discharge method.
なお、消去用に設けた、光導電体または接合は電子ビー
ムにあたらないよう適当な材料でカバーするか、電子ビ
ームをとびとびに走査する方法をとる。Note that the photoconductor or junction provided for erasing may be covered with a suitable material so as not to be hit by the electron beam, or a method may be used in which the electron beam is scanned intermittently.
(発明の効果)
以上詳しく説明したように、本発明による投射形ディス
プレイ装置は、電子源と、前記電子源から放出された電
子の密度分布に対応する光学的変化を受ける誘電体と、
前記誘電体の光学的な変化を光により読み出す電極板を
用いた投射形ディスプレイ装置において、絶縁板内に前
記絶縁板の板厚方向に多数の貫通電極を配置した電極板
を一面が前記電子源から放出された電子に照射され、他
面が前記誘電体に対面させられるように容器の気密を保
つように配置して構成されている。(Effects of the Invention) As described in detail above, the projection display device according to the present invention includes: an electron source; a dielectric material that undergoes an optical change corresponding to the density distribution of electrons emitted from the electron source;
In a projection display device using an electrode plate that reads optical changes in the dielectric with light, one side of the electrode plate has a plurality of through electrodes arranged in the thickness direction of the insulating plate, and one side of the electrode plate is connected to the electron source. The container is irradiated with electrons emitted from the container, and the container is arranged so as to keep the container airtight so that the other surface faces the dielectric material.
以上により、電子ビームによる書込み方法でありながら
書き込まれる物質が真空中の設置に不適当な物質でも制
限なく使用できるようになり、動画、ビデオ信号による
画像等の従来にない投射形ディスプレイ装置が得られる
。As a result of the above, even though the writing method uses an electron beam, it can be used without any restrictions even if the material to be written is unsuitable for installation in a vacuum, and an unprecedented projection display device such as moving images and images using video signals can be obtained. It will be done.
なお、現状技術で電極開田は50μm程度まで可能であ
る。Note that with the current technology, electrode openings can be made up to about 50 μm.
これらの間隔は耐電圧と解像度、および使用される誘電
体の材質による有効面積等で適当な値が選択されるが大
面積化が望ましい。Appropriate values for these intervals are selected depending on the withstand voltage, resolution, and effective area depending on the dielectric material used, but it is desirable to have a large area.
第1図は、本発明による投射形ディスプレイ装置の実施
例を示す図である。
第2図は、前記投射形ディスプレイ装置の主要な構成部
分である導電板の第1の実施例を示す断面図である。
第3図は、前記導電板の基礎材料となるガラス被覆タン
グステン線の製造方法を説明するための略図である。
第4図は、前記投射形ディスプレイ装置の主要な構成部
分である導電板(消去機能付き)の第2の実施例を示す
断面図である。
第5図は、前記投射形ディスプレイ装置の主要な構成部
分である導電板(接合形消去機能付き)の第3の実施例
を示す図であって、同図Aは平面図、同図Bは断面図で
ある。
1・・・電子銃
2・・・偏向コイル
3・・・集束コイル
4・・・投射形ディスプレイ装置の気密容器5・・・誘
電体
6・・・透明電極
7・・・透明保護板
8・・・ハーフミラ−
10(IOA、IOB、l0C)・・・導電板11・・
・導電板の絶縁基板
12・・・導電板の貫通電極
13・・・短絡用の光導電体
14・・・N形層
15・・・導電層(14とオーミック接触)16・・・
P形層
17・・・短絡用のホトダイオード
18・・・N形層
50・・・タングステン細線
51・・・漏斗状の容器
52・・・溶融ガラス
53・・・ガラス熔融ヒータFIG. 1 is a diagram showing an embodiment of a projection display device according to the present invention. FIG. 2 is a sectional view showing a first embodiment of a conductive plate which is a main component of the projection display device. FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing a glass-coated tungsten wire, which is the basic material of the conductive plate. FIG. 4 is a sectional view showing a second embodiment of a conductive plate (with an erasing function) which is a main component of the projection display device. FIG. 5 is a diagram showing a third embodiment of a conductive plate (with a bonding type erasing function) which is a main component of the projection display device, in which FIG. 5A is a plan view and FIG. FIG. 1... Electron gun 2... Deflection coil 3... Focusing coil 4... Airtight container of projection display device 5... Dielectric material 6... Transparent electrode 7... Transparent protection plate 8. ... Half mirror 10 (IOA, IOB, l0C) ... Conductive plate 11 ...
- Insulating substrate 12 of the conductive plate...Through electrode 13 of the conductive plate...Photoconductor 14 for shorting...N type layer 15...Conductive layer (ohmic contact with 14) 16...
P-type layer 17... short-circuiting photodiode 18... N-type layer 50... tungsten thin wire 51... funnel-shaped container 52... molten glass 53... glass melting heater
Claims (1)
対応する光学的変化を受ける誘電体と、前記誘電体の光
学的な変化を光により読み出す電極板を用いた投射形デ
ィスプレイ装置において、絶縁板内に前記絶縁板の板厚
方向に多数の貫通電極を配置した電極板を一面が前記電
子源から放出された電子に照射され、他面が前記誘電体
に対面させられるように容器の気密を保つように配置し
て構成したことを特徴とする電極板を用いた投射形ディ
スプレイ装置。In a projection display device using an electron source, a dielectric material that undergoes an optical change corresponding to the density distribution of electrons emitted from the electron source, and an electrode plate that reads out the optical change of the dielectric material with light, An electrode plate having a large number of through electrodes arranged in the thickness direction of the insulating plate is placed in a container so that one side is irradiated with electrons emitted from the electron source and the other side faces the dielectric. A projection display device using electrode plates, characterized in that the electrode plates are arranged and configured to maintain airtightness.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP79287A JPS63168679A (en) | 1987-01-06 | 1987-01-06 | Projection type display device using electrode plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP79287A JPS63168679A (en) | 1987-01-06 | 1987-01-06 | Projection type display device using electrode plate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63168679A true JPS63168679A (en) | 1988-07-12 |
Family
ID=11483535
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP79287A Pending JPS63168679A (en) | 1987-01-06 | 1987-01-06 | Projection type display device using electrode plate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63168679A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5758836A (en) * | 1992-06-03 | 1998-06-02 | Verbatim Corporation | Tape cartridge and method of making the same |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4810911U (en) * | 1971-06-21 | 1973-02-07 | ||
JPS54139569A (en) * | 1978-04-20 | 1979-10-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Light bulb type projector |
-
1987
- 1987-01-06 JP JP79287A patent/JPS63168679A/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4810911U (en) * | 1971-06-21 | 1973-02-07 | ||
JPS54139569A (en) * | 1978-04-20 | 1979-10-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Light bulb type projector |
Cited By (1)
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