JPS6147010A - Coated transparent conductive panel - Google Patents

Coated transparent conductive panel

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Publication number
JPS6147010A
JPS6147010A JP16792184A JP16792184A JPS6147010A JP S6147010 A JPS6147010 A JP S6147010A JP 16792184 A JP16792184 A JP 16792184A JP 16792184 A JP16792184 A JP 16792184A JP S6147010 A JPS6147010 A JP S6147010A
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JP
Japan
Prior art keywords
meth
transparent conductive
acrylate
film
coating
Prior art date
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Pending
Application number
JP16792184A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
青柳 六夫
実生 治郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
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Publication of JPS6147010A publication Critical patent/JPS6147010A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は画像認識と耐久性にすぐれた入力装置などに有
用な透明でかつ導電性を有するガラス基□ 板パネルに
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a transparent and electrically conductive glass substrate panel useful for image recognition and input devices with excellent durability.

C従来の技術〕 ディスプレイの表示面上にその指示2図形に従って入力
を行なうことは他のキーボードなどの画面と離れた位置
での入力に比較して簡便で誤動作が少ない。さらに入力
ボードを一定化し、その下の入力指示をテーブルなどの
差しかえによって多種の入力を可能ならしめることが考
えられる。この際前記の表示画面、可変テーブルを見な
がらその面上で入力させるだめの透明でかつ入力位置が
検出される入力装置が必要であシ、光センサを用いるも
の、ストレインゲージを用いるもの、透明電極の接触に
より入力するものなど各種の方式が提案されている。本
発明は透明電極としての透明導電膜上に誘電体を被覆し
これを指またはその他の物体で接触し、静電容量変化か
ら入力位置を検出する方式において表示面に重ねるべき
被覆透明導電パネルに関するものである。ここで透明導
電膜を被覆するに要する被膜としては所定の範囲内の静
電容量を有する誘電体を用いれば良いのであるが、耐久
性とくに透明性の維持および絶縁膜の保護の観点からは
硬質の被膜が好ましい。かかる硬質の被膜を基材上に形
成する一般的な方法としては蒸着、スパッタリングによ
る無機薄膜の形成が以前から知られておシ、また液相か
ら形成するものとしてプラスチックレンズなどに用いら
れた有機ケイ素系高硬度被膜(例えば特公昭51−23
43、特開昭52−119618)、多官能不飽和化合
物による表面高硬度化(例えば特公昭49−22951
 )がある。
C. Prior Art] Inputting information on the screen of a display according to the instruction 2 figures is easier and less likely to cause malfunctions than inputting at a location away from the screen using other keyboards. Furthermore, it is conceivable to make the input board constant and to enable a variety of inputs by replacing the input instructions under it with a table or the like. In this case, an input device is required that is transparent so that input can be made on the screen while viewing the variable table, and the input position can be detected. Various methods have been proposed, including methods in which input is made by contacting electrodes. The present invention relates to a coated transparent conductive panel to be overlapped on a display surface in a method in which a dielectric is coated on a transparent conductive film serving as a transparent electrode, and the input position is detected from a change in capacitance by touching the dielectric with a finger or other object. It is something. Here, a dielectric material having a capacitance within a predetermined range may be used as the film required to cover the transparent conductive film, but from the viewpoint of durability, especially maintaining transparency and protecting the insulating film, a hard material is preferable. The coating is preferred. Formation of inorganic thin films by vapor deposition and sputtering has long been known as a general method for forming such hard films on substrates, and organic thin films formed from a liquid phase, which are used for plastic lenses, etc. Silicon-based high hardness coating (e.g. Japanese Patent Publication No. 51-23
43, Japanese Patent Publication No. 52-119618), hardening of the surface by polyfunctional unsaturated compounds (e.g. Japanese Patent Publication No. 49-22951)
).

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

透明導電パネル上の誘電体被膜は一般に傷がつき易く、
耐久性に乏しかった。
Dielectric coatings on transparent conductive panels are generally easily scratched;
It lacked durability.

硬質被膜としての無機薄膜は硬度、付着性などに有効で
ある半面、薄膜形成の能率が低いこと。
Although inorganic thin films as hard coatings are effective in terms of hardness and adhesion, they have low efficiency in forming thin films.

膜厚制御の困難さ、とくに1μm前後以上の膜における
耐熱性の低さが問題になる。一方2通常の有機系被膜は
とくにウェットコートの場合には被膜形成の能率、膜厚
制御は比較的容易であるが被膜の耐久性とくにその硬度
が低いためすシ傷などの欠陥が生じ易く十分なものが得
られていなかった。かつ熱硬化性硬質被膜においては膜
厚があまシ大きくするとクラックを生じるなど、静電容
量特性を広範に選択することが困難であった。
Difficulty in controlling film thickness, especially low heat resistance in films with a thickness of around 1 μm or more, becomes a problem. On the other hand, 2. With ordinary organic coatings, especially in the case of wet coating, it is relatively easy to control the film formation efficiency and film thickness, but the durability of the coating is low, especially its hardness, so defects such as scratches easily occur. I wasn't getting anything. In addition, in the case of thermosetting hard coatings, cracks occur when the film thickness becomes too large, making it difficult to select a wide range of capacitance characteristics.

〔問題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明はかかる問題点を一挙に解決するもので特許請求
の範囲に記載の多官能不飽和化合物がら得られる被膜を
有する透明導電パネルがその製造も簡便で有効であるこ
とを見出したものである。
The present invention solves these problems at once, and it has been discovered that a transparent conductive panel having a film obtained from the polyfunctional unsaturated compound described in the claims is easy to manufacture and effective. .

本発明はガラス基板上の全面もしくはその一部に透明導
電性を有する層を設けかつその上から誘電体被膜を設け
てなる透明導電層を中間に有するパネルに関するもので
あって、誘電体被膜が1分子中に少なくとも2個の重合
性炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を活性エネルギ
ー線の照射によシ架橋硬化せしめることによって得られ
る被膜からなるものである。
The present invention relates to a panel having a transparent conductive layer in the middle, which is formed by disposing a transparent conductive layer on the entire surface or a part of the glass substrate and disposing a dielectric coating thereon, wherein the dielectric coating is It consists of a film obtained by crosslinking and curing a compound having at least two polymerizable carbon-carbon unsaturated bonds in one molecule by irradiation with active energy rays.

本発明に用いられるガラス基板は透明なものであれば特
に限定されない。ここで透明であるとは本発明の目的に
必要な程度に、透明導電板の後方にある各種表示が十分
に識別できれば良く、必ずしも無色あるいはクリアであ
る必要はない。画像のコントラストを上げたり、ちらつ
きをなくするために着色した基板を用いた91画像の認
識を妨げない程度の微小凹凸をつけることも可能である
The glass substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it is transparent. Here, the term "transparent" means that various displays behind the transparent conductive plate can be sufficiently identified to the extent necessary for the purpose of the present invention, and it does not necessarily have to be colorless or clear. In order to increase the contrast of the image or eliminate flickering, it is also possible to use a colored substrate and provide minute irregularities to the extent that it does not interfere with the recognition of the 91 image.

また使用される基板の形状は必ずしも平板である必要は
なく2例えばCRTのような曲面の表示装置に装着され
る場合はこれに適合する曲面の基板を使用するのが好ま
しい場合もある。
Further, the shape of the substrate used does not necessarily have to be a flat plate; for example, when the display device is mounted on a curved display device such as a CRT, it may be preferable to use a substrate with a curved surface that matches the display device.

このガラス基板上に適用される透明導電膜はこれまでそ
の名の下に知られている各種材料、すなわち金、銀、パ
ラジウムなどの金属薄膜、導電性を有する無機酸化物薄
膜などを用いることができるが、とくに酸化インジウム
/酸化錫系薄膜(工Toと略称する)が有用である。こ
れらの薄膜は要求される入力機構によって異なるが該当
するガラス基板の全面もしくは入力位置がブロック化さ
れているパターン状に形成される。薄膜の厚さは要求さ
れる導電性および透明性によって選択されるが好ましく
は10nm〜300 nmである。
The transparent conductive film applied on the glass substrate can be made of various materials known under these names, such as metal thin films such as gold, silver, and palladium, and conductive inorganic oxide thin films. However, an indium oxide/tin oxide thin film (abbreviated as To) is particularly useful. These thin films are formed on the entire surface of the relevant glass substrate or in a pattern in which the input position is blocked, although this varies depending on the required input mechanism. The thickness of the thin film is selected depending on the required conductivity and transparency, but is preferably 10 nm to 300 nm.

かかる薄膜の形成にあたっては真空蒸着法、スパッタリ
ング法、その他の物理的気相法、や該当する金属のハロ
ゲン化物、有機系誘導体の化学的気相法や場合によシ液
相からの薄膜形成法が適宜用いられる。かかる薄膜形成
にあたっての各種化学的・物理的なガラス表面の処理、
ガラスの表面改質は必要に応じて行なうことができる。
Such thin films can be formed by vacuum evaporation, sputtering, other physical vapor phase methods, chemical vapor phase methods using metal halides or organic derivatives, or, in some cases, thin film forming methods from liquid phase. is used as appropriate. Various chemical and physical treatments of the glass surface for forming such a thin film,
Surface modification of glass can be performed as necessary.

透明導電膜をその表面に形成したガラス基板の上に形成
するべき誘電体被膜として、は1分子中に少なくとも2
個の重合性炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を活性
エネルギー線の照射、にょシ架橋硬化せしめることによ
って得られる被膜を適用するが、かかる化合物としては
これまで提案されている各種のモノマ、オリゴマ、ポリ
マが使用可能である。重合性炭素−炭素不飽和結合とは
ビニル基、アルケニル基、ビニリデン基などが用いられ
るが、とくに本発明で用いられる活性エネルギー綜に対
して有効なものとしてはアクリル基H3 がある。
As a dielectric coating to be formed on a glass substrate with a transparent conductive film formed on its surface, at least two
A film obtained by cross-linking and curing a compound having a number of polymerizable carbon-carbon unsaturated bonds by irradiation with active energy rays is applied. , polymers are available. Examples of the polymerizable carbon-carbon unsaturated bond include a vinyl group, an alkenyl group, and a vinylidene group, but an acrylic group H3 is particularly effective for the active energy helix used in the present invention.

これらを1分子中に2個以上含む化合物の例としては多
官能アルコールの(メタ)アクリレート。
An example of a compound containing two or more of these in one molecule is (meth)acrylate of polyfunctional alcohol.

多官能フェノールの(メタ)アクリレート、多官能エポ
キシと(メタ)アクリル酸の反応生成物。
(Meth)acrylate of polyfunctional phenol, reaction product of polyfunctional epoxy and (meth)acrylic acid.

ポリイソシアネートとヒドロキシアルキル(メタ)アク
リレートの反応生成物、ヒドロキシアルキルリン酸の2
〜3(メタ)アクリル酸エステルメチレンジ(メタ)ア
クリルアミド、各種アミン樹脂ないしはオルガノポリシ
ロキサンの(メタ)アクリルオキシ置換体を挙げること
ができる。
Reaction product of polyisocyanate and hydroxyalkyl (meth)acrylate, 2 of hydroxyalkyl phosphoric acid
-3 (Meth)acrylic acid ester Methylene di(meth)acrylamide, various amine resins, or (meth)acryloxy substituted products of organopolysiloxane can be mentioned.

これらのさらに具体的な例としては炭素数1〜8のポg
−7−#−キレンジ(メタ)アクリレート、炭素数1〜
12の脂肪族ないしは脂環式ポリオキシアルキレングリ
コールジ(メタ)アクリレート。
More specific examples of these include pog having 1 to 8 carbon atoms.
-7-#-Kylene di(meth)acrylate, carbon number 1~
12 aliphatic or alicyclic polyoxyalkylene glycol di(meth)acrylates.

グリセロールないしはジグリセロールのポリ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールないしはそのオリゴ
マのポリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジ(メタ)アクリレート。
Poly(meth)acrylate of glycerol or diglycerol, poly(meth)acrylate of pentaerythritol or its oligomer, neopentyl glycol di(meth)acrylate.

ポリエステルポリオールのポリ(メタ)アクリレート、
ポリウレタンポリオールのポリ(メタ)アクリレート、
ンルビトールのポリ(メタ)アクリレート、ヒドロキシ
エチルビスフェノール−Aジ(メタ)アクリレート、ジ
ヒドロキシエチルフタレート、イソフタレートないしテ
レフタレートのジ(メタ)アクリレート、ビスフェノー
ル−Aジ(メタ)アクリレート、レゾルジ(メタ)アク
リレート、フェノール樹脂オリゴマのポリ(メタ)アク
リレート、脂肪族ないしは芳香族エポキシ樹脂と(メタ
)アクリル酸のポリ付加物、エポキシ基含有アクリル樹
脂と(メタ)アクリル酸のポリ付加物、トリメチロール
プロパンないしはトリメチロールエタンとトリレンジイ
ンシアネート、ヘキサメチレンジインシアネート、イソ
ホロン、ジイソシアネートないしはリジンジインシアネ
ートから得られるトリインシアネート付加物とヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレートポリ付加物、トリレンジ
イソシアネートないしはへキサメチレンジインシアネー
トの6量体とヒドロキシエチル(メタ)アクリレートポ
リ付加物、リジントリインシアネートのヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレートポリ付加物、ポリエステルウレ
タンないしはポリエーテルウレタンの末端ポリインシア
ネートとヒドロキシエチル(メタ)アクリレートポリ付
加物、トリ(メタ)アクリル・オキシエチルホスフェー
ト、メトキシメチルメラミンとヒドロキシエチル(メタ
)アクリレートのポリ縮合1.ハイドロオルガノポリシ
ロキサンとアリル(メタ)アクリレートのポリ付加物、
(メタ)アクリルオキシグロビルトリアルコキシシラン
の加水分解縮合物または(メタ)アクリルオキシプロピ
ルメチルジアルコキシシランの加水分解縮合物などを挙
げることができる。これらの化合物は単独または複数種
用いることができる。またこれらの化合物のうち分子量
500につき少なくとも1個の重合性炭素−炭素不飽和
結合を有する化合物がとくに好ましい結果を与える。
Poly(meth)acrylate of polyester polyol,
polyurethane polyol poly(meth)acrylate,
poly(meth)acrylate of nrubitol, hydroxyethyl bisphenol-A di(meth)acrylate, dihydroxyethyl phthalate, di(meth)acrylate of isophthalate or terephthalate, bisphenol-A di(meth)acrylate, resol di(meth)acrylate, phenol Resin oligomer poly(meth)acrylate, polyadduct of aliphatic or aromatic epoxy resin and (meth)acrylic acid, polyadduct of epoxy group-containing acrylic resin and (meth)acrylic acid, trimethylolpropane or trimethylolethane and tolylene diisocyanate, hexamethylene diincyanate, isophorone, diisocyanate or lysine diincyanate, and a hydroxyethyl (meth)acrylate polyadduct, a hexamer of tolylene diisocyanate or hexamethylene diincyanate. and hydroxyethyl (meth)acrylate polyadducts, hydroxyethyl (meth)acrylate polyadducts of lysine triincyanate, hydroxyethyl (meth)acrylate polyadducts of polyester urethane or polyether urethane, and hydroxyethyl (meth)acrylate polyadducts of polyester urethane or polyether urethane. ) Polycondensation of acrylic oxyethyl phosphate, methoxymethyl melamine and hydroxyethyl (meth)acrylate 1. Polyadduct of hydroorganopolysiloxane and allyl (meth)acrylate,
Examples include hydrolyzed condensates of (meth)acryloxyglobyl trialkoxysilanes and hydrolyzed condensates of (meth)acryloxypropylmethyldialkoxysilanes. These compounds can be used alone or in combination. Further, among these compounds, a compound having at least one polymerizable carbon-carbon unsaturated bond per molecular weight of 500 gives particularly favorable results.

これらの化合物はそのまま適用することができるが被膜
形成のために要求される各種作業特性。
Although these compounds can be applied as is, various working properties are required for film formation.

被膜として要求される各種物性からその他の各種物質を
併用することができる。
Various other substances can be used in combination depending on the various physical properties required for the film.

これらの化合物から被膜を形成させるにはこれらの化合
物を含有する組成物を塗布後、必要に応じ加熱などによ
シ溶剤を揮発除去した後活性エネルギー線を照射する。
In order to form a film from these compounds, a composition containing these compounds is applied, the solvent is evaporated off by heating as necessary, and then active energy rays are irradiated.

ここで活性エネルギー線とは活性光線および電離性放射
線を指す。活性光線とは赤外線、可視光線、あるいは紫
外線をさし、とくに本発明においては波長が500μm
以下の光線さらに効果的には紫外線を含む光線が好まし
い。活性光線を発生する光源としては各種のものが使用
可能であるが。
Here, active energy rays refer to active light rays and ionizing radiation. Actinic rays refer to infrared rays, visible rays, or ultraviolet rays, and in particular, in the present invention, rays with a wavelength of 500 μm are used.
The following light rays are preferred, and more effectively, light rays containing ultraviolet rays. Various types of light sources can be used to generate actinic rays.

処理効率などの点から低圧、高圧、超高圧水銀灯。Low-pressure, high-pressure, and ultra-high-pressure mercury lamps in terms of processing efficiency, etc.

キセノン放電灯、アーク灯などが好ましく用いられる。Xenon discharge lamps, arc lamps, etc. are preferably used.

また電離放射線とは、コバルト60からでるガンマ線、
あるいは電子線加速器で発生した電子線さらにはX線装
置で発生したX線や原子炉で発生した中性子線などを用
いることもできるが。
Also, ionizing radiation refers to gamma rays emitted from cobalt-60,
Alternatively, electron beams generated by an electron beam accelerator, X-rays generated by an X-ray device, neutron beams generated by a nuclear reactor, etc. can also be used.

その取り扱いやすさ、得られやすさなどからとくに電子
線が好ましい。
Electron beams are particularly preferred because they are easy to handle and obtain.

具体的に電子線とは加速エネルギーが0.3〜3MeV
でバンプグラ7型、コツククロフト型、コツククロフト
ワルトン型、鉄芯絶縁コア型、ダイナミドロン型、共振
変圧器型、直線型などの各種電子線加速器から放射され
るものを指す。照射量は0・1〜10 M radの範
囲が適当である。
Specifically, an electron beam has an acceleration energy of 0.3 to 3 MeV.
It refers to the radiation emitted from various electron beam accelerators such as Bumpgra 7 type, Kotsukucroft type, Kotskucroft-Walton type, iron core insulated core type, Dynamidron type, resonant transformer type, and linear type. The appropriate irradiation dose is in the range of 0.1 to 10 M rad.

かかる照射は室温、空気中で行なうこともてきるし、必
要に応じ加熱およびまたは減圧、窒素などの非酸素性の
雰囲気を併用することができる。
Such irradiation can be carried out at room temperature in air, and if necessary, heating and/or reduced pressure, and a non-oxygen atmosphere such as nitrogen can be used in combination.

照射条件は本発明の目的を達成するよう実験的に定めな
ければならない。
Irradiation conditions must be determined experimentally to achieve the objectives of the present invention.

塗布法は公知の各種方式たとえば浸漬コート。Application methods include various known methods, such as dip coating.

スプレーコート、スピンコード、カーテンフローコート
などが適用できる。
Spray coating, spin cord, curtain flow coating, etc. can be applied.

被膜形成組成物中には前記溶媒の他に物性改良の目的で
各種の物質が混入可能である。
In addition to the solvent described above, various substances can be mixed into the film-forming composition for the purpose of improving physical properties.

これらの中には硬化触媒、希釈モノマ、変性用樹脂など
が好ましく用いられる。硬化触媒としてはラジカル開始
剤、光開始剤、光増成剤としてこれまで知られている各
種の化合物が適宜1通常は塗膜形成成分の10重量%以
下の量で使用される。
Among these, curing catalysts, diluent monomers, modifying resins, etc. are preferably used. As the curing catalyst, various compounds hitherto known as radical initiators, photoinitiators, and photointensifiers are used as appropriate, usually in an amount of 10% by weight or less of the coating film-forming components.

これらの例としてはベンゾイルパーオキシド、クミルパ
ーオキシド、アルキルパーオキシベンゾエート、イング
ロビルパーオキシカーポネートなどの各種過酸化物、ア
ゾビスイソプチロニトル、アゾビスシクロヘキサノニト
リルなどの各種アソ系化合物、ビアセチル、ベンゾフェ
ノン、ミヒラケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾイ
ンブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、テトラ
メチルチウラムスレフィト、1−ヒドロキシシクロへキ
シルフェニルケトン、α−ヒドロキシインプチルフエ・
ノンなどの光開始剤があシ9上記のラジカル開始剤や光
開始剤と併用して効果のあるn −ブチルアミン、ジエ
チルアミンエチルメタアクリレートなどのアミン、尿素
類、チオ尿素類、ナトリウムジエチルジチオフォスフェ
ート、芳香族スルフィン酸などのイオウ化合物、トリー
11−ブチルホスフィン、ナトリウムジエチルチオホス
フェートなどのリン化合物、四塩化炭素、ヘキサクロロ
エタンなどの塩素化合物、N−ニトロンヒドロキシルア
ミン誘導体ないしは、オキサゾリン化合物などの光増成
剤がある。これらは単独ないしは複数種併用される。
Examples of these include various peroxides such as benzoyl peroxide, cumyl peroxide, alkyl peroxybenzoates, and inglovir peroxy carbonate; various aso-based compounds such as azobisisoputilonitrile and azobiscyclohexanonitrile; Biacetyl, benzophenone, mihiraketone, benzyl, benzoin, benzoin butyl ether, benzyl dimethyl ketal, tetramethylthiuramthrefite, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, α-hydroxyimptylphe
Photoinitiators such as non-silica 9 are effective when used in combination with the above radical initiators and photoinitiators; amines such as n-butylamine, diethylamine ethyl methacrylate, ureas, thioureas, and sodium diethyldithiophosphate. , sulfur compounds such as aromatic sulfinic acids, phosphorus compounds such as tri-11-butylphosphine and sodium diethylthiophosphate, chlorine compounds such as carbon tetrachloride and hexachloroethane, N-nitrone hydroxylamine derivatives, and oxazoline compounds. There is a compounding agent. These may be used alone or in combination.

希釈モノマとしては上記炭素−炭素不飽和結合と共重合
可能な不飽和基を有するものであれば何でも良いがとく
に(メタ)アクリル酸エステル類。
Any diluent monomer may be used as long as it has an unsaturated group copolymerizable with the above-mentioned carbon-carbon unsaturated bond, but (meth)acrylic acid esters are particularly suitable.

アク、リロニトリル、塩化ビニル、酢酸エチル、無水マ
レイン酸、などが好ましく用いられる。これらは本発明
の目的である表面硬度の向上を維持するだめには塗膜形
成成分の20重量%以下にすることが好ましい。
Acrylic acid, rylonitrile, vinyl chloride, ethyl acetate, maleic anhydride, and the like are preferably used. In order to maintain the improvement in surface hardness, which is the objective of the present invention, it is preferable that the amount of these components is 20% by weight or less of the coating film forming components.

変性用樹脂としては形成される被膜の透明性をそこなわ
ない程度の相溶性を有するものであれば何でも良いがと
くにアクリル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエ
ーテル、酢酸ビニル樹脂。
The modifying resin may be any resin as long as it has compatibility to the extent that it does not impair the transparency of the film formed, but acrylic resins, polyvinyl butyral resins, polyethers, and vinyl acetate resins are particularly suitable.

繊維素系樹脂、ポリエステル系樹脂などが好ましい。Cellulose resins, polyester resins, and the like are preferred.

これらの配合物の使用によって被膜は所望の硬度、耐久
性の他に耐汚染性、耐深層性の向上が見られ、さらに帯
電防止性、防曇性、印刷性などを付与することができる
By using these compounds, the coating has not only the desired hardness and durability but also has improved stain resistance and deep layer resistance, and can also be provided with antistatic properties, antifogging properties, printability, and the like.

これらの配合物は多くとも塗膜形成成分中の50重量%
以下の量にすることが好ましい。これより多いと本発明
の目的である表面硬度の発現が困難となる。
These formulations may contain at most 50% by weight of the film-forming ingredients.
It is preferable to use the following amount. If the amount is more than this, it becomes difficult to achieve the surface hardness that is the objective of the present invention.

またその他の添加剤としては塗布段階での塗膜の流動性
を調節して表面平滑性を増し、かつ表面の摩擦係数を減
少するために各種の界面活性剤が有効である。さらに紫
外線吸収剤、抗酸化剤2発泡防止剤、粘度調節剤などが
随時使用できる。
As other additives, various surfactants are effective in controlling the fluidity of the coating film at the coating stage, increasing surface smoothness, and reducing the coefficient of friction of the surface. Furthermore, ultraviolet absorbers, antioxidants, anti-foaming agents, viscosity modifiers, etc. can be used as needed.

得られた被膜の誘電率は入力装置として使用される場合
の方式、検出感度、精度などによっても異なりかつ所要
とされる膜厚によっても異なるが2−Q50好ましくは
2〜15のものが使用される。
The dielectric constant of the obtained film varies depending on the method used as an input device, detection sensitivity, accuracy, etc., and also depends on the required film thickness, but 2-Q50, preferably 2 to 15 is used. Ru.

〔実施例〕〔Example〕

以下実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。 The present invention will be explained in more detail below with reference to Examples.

実施例1 (1)  被覆組成物の調製 ジペンタエリスリトールへキサアクリレート(日本化薬
@製品)40g、ベンジルジメチルケタール(゛イルガ
キュア651″チバガイギー■製品)1.2g、酢酸ブ
チル60gを混合し被覆組成物を得た。
Example 1 (1) Preparation of coating composition 40 g of dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku @ product), 1.2 g of benzyl dimethyl ketal (Irgacure 651" Ciba Geigy product), and 60 g of butyl acetate were mixed to prepare a coating composition. I got something.

(2)塗布およびUV照射 工TO膜を付けた透明導電性ガラス基板に前項被覆組成
物を浸漬法(引き上げ速度20 =n 7分)で塗布し
、110℃の熱風乾燥機で3分間加熱した後基板を耐真
空容器に入れ、真空下3 kwの超高圧水銀灯(オーク
製作所■製)で0.5 mの距離から180秒露光した
(2) Coating and UV irradiation The coating composition described above was applied to the transparent conductive glass substrate with the TO film by the dipping method (pulling speed 20 = n 7 minutes) and heated in a hot air dryer at 110°C for 3 minutes. The substrate was placed in a vacuum-resistant container and exposed under vacuum for 180 seconds from a distance of 0.5 m using a 3 kW ultra-high pressure mercury lamp (manufactured by Oak Seisakusho ■).

(3)試験結果 得られた被覆透明導電性パネルの性能を試験のために次
のテストを行なった。
(3) Test Results The following tests were conducted to test the performance of the coated transparent conductive panels obtained.

(a)  スチールウール硬度 ≠0000のスチールウールで塗面をこすり傷のつき具
合を目視によシ以下の3段階に分けて判定した。
(a) Steel wool The coated surface was rubbed with steel wool having a hardness of ≠0000, and the extent of scratches was visually judged and evaluated in three grades:

A・・・まったく傷がつかない。A: It won't hurt at all.

B・・・わずかに傷あとがみられる。B: Slight scars are visible.

C・・・通常の有機プラスチックと同程度の全面すシ傷
あとがつく。
C: Leaves scratches on the entire surface to the same extent as ordinary organic plastics.

(b)  透明性 工TO蒸着部の全光線透過率(%)を測定した。試験結
果を第1表に示す。
(b) Transparency The total light transmittance (%) of the TO vapor deposited area was measured. The test results are shown in Table 1.

実施例2 ジペンタエリスリトールへキサアクリレート32g、ポ
リエステルウレタンアクリレート(ヘキサメチレンジイ
ソシアネート/アジピン酸とエチレングリコールかもの
ポリエステルポリオール/α−ヒドロキシエチルメタク
リレートから得られる分子量1.900のオリゴマ)1
1.4g、ベンジルジメチルケタール1.2 g 、酢
酸ブチル56.6gを混合し被覆組成物を得た。
Example 2 32 g of dipentaerythritol hexaacrylate, polyester urethane acrylate (oligomer with a molecular weight of 1.900 obtained from hexamethylene diisocyanate/adipic acid and ethylene glycol-based polyester polyol/α-hydroxyethyl methacrylate) 1
A coating composition was obtained by mixing 1.4 g of benzyl dimethyl ketal, 1.2 g of benzyl dimethyl ketal, and 56.6 g of butyl acetate.

塗布およびUV照射は実施例1と同様に行なった。Coating and UV irradiation were performed in the same manner as in Example 1.

試験結果を第1表に示す。The test results are shown in Table 1.

第1表 〔発明の効果〕 実施例の結果2本発明の被膜を有する透明導電パネルが
十分な耐すシ傷性と透明性を兼備していることかわかる
。本発明によシ得られた透明導電パネルはその製造が簡
便でアりかつ膜厚、すなわち静電容量が均一でその入力
位置の検出が容易である。
Table 1 [Effects of the Invention] Results of Example 2 It can be seen that the transparent conductive panel having the coating of the present invention has both sufficient scratch resistance and transparency. The transparent conductive panel obtained according to the present invention is easy to manufacture, has a uniform film thickness, that is, a uniform capacitance, and can easily detect the input position.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] ガラス基板上の全面もしくはその一部に透明導電性を有
する層を設けかつその上に1分子中に少なくとも2個の
重合性炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を活性エネ
ルギー線の照射により架橋硬化せしめることによつて得
られた被膜を設けてなる被覆透明導電パネル。
A transparent conductive layer is provided on the entire surface or a part of the glass substrate, and a compound having at least two polymerizable carbon-carbon unsaturated bonds in one molecule is cross-linked and cured by irradiation with active energy rays. A coated transparent conductive panel provided with a film obtained by applying a coating.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02153613A (en) * 1989-03-22 1990-06-13 Toshiba Corp Manufacture of surface acoustic wave resonator
US6965190B2 (en) 2001-09-12 2005-11-15 Sanyo Electric Co., Ltd. Surface acoustic wave device
WO2007077898A1 (en) * 2005-12-28 2007-07-12 Fujifilm Corporation Conductive film and method for producing same, electromagnetic shielding film and method for producing same, and plasma display panel

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02153613A (en) * 1989-03-22 1990-06-13 Toshiba Corp Manufacture of surface acoustic wave resonator
US6965190B2 (en) 2001-09-12 2005-11-15 Sanyo Electric Co., Ltd. Surface acoustic wave device
WO2007077898A1 (en) * 2005-12-28 2007-07-12 Fujifilm Corporation Conductive film and method for producing same, electromagnetic shielding film and method for producing same, and plasma display panel

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