JPS6146065A - Charge coupled device - Google Patents

Charge coupled device

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Publication number
JPS6146065A
JPS6146065A JP59167490A JP16749084A JPS6146065A JP S6146065 A JPS6146065 A JP S6146065A JP 59167490 A JP59167490 A JP 59167490A JP 16749084 A JP16749084 A JP 16749084A JP S6146065 A JPS6146065 A JP S6146065A
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JP
Japan
Prior art keywords
output
signal
gate electrode
signals
electrode
Prior art date
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Pending
Application number
JP59167490A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hidehiko Inoue
英彦 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPS6146065A publication Critical patent/JPS6146065A/en
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/762Charge transfer devices
    • H01L29/765Charge-coupled devices
    • H01L29/768Charge-coupled devices with field effect produced by an insulated gate
    • H01L29/76816Output structures

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

PURPOSE:To divide signals into signals at some fixed level or lower and signals at some fixed level or higher and output them by constituting an output section by two or more of output sections and dividing signal charges transmitted at every one clock into the output sections and outputting them. CONSTITUTION:A first output section is constituted by a first gate electrode 9 and a drain electrode 10, and a second output section is constituted by a second gate electrode 11, a floating diffusion layer 12, a reset transistor 14 and an output amplifier 13. In such an area CCD solid-state image pickup element, incident- beam signals converted into signal charges by a photoelectric conversion section are outputted as signals, from which signals at some fixed level or higher are not outputted, white-clipped signals, when they are outputted outside the area solid-state image pickup element as signal output voltage. Accordingly, voltage applied to the first gate electrode 9 is set properly, thus avoiding a phenomenon in which the amplifier is saturated, then preventing the deformation of signal waveforms.

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は電荷結合素子に関する0 (゛従来技術) 従来のこの種の電荷結合素子(以後CODと云う)にお
いては、電荷転送部によって転送された信号電荷をCO
Dの外部に出力信号電流または出力信号電圧として取り
出す構成として、第4図(al第4図(b)に示すよう
に、2つが知られている(C、H。
Detailed Description of the Invention (Technical Field) The present invention relates to a charge-coupled device. CO
As shown in FIG. 4 (al) and FIG. 4(b), there are two known configurations for extracting the output signal current or voltage to the outside of D (C, H).

5EQUIN andM、F、TOMPSETT; C
HARGETRANSFERDEVICES;P53)
。第4図(a)は、初期のCODで用いられていた構成
で、光電変換部及び垂直転送レジスタ7の下の電極Φ1
.Φ2 で構成される電荷転送部6によって転送された
信号電荷を出力ゲート電極1を通して直接電流としてド
レイン電極10に取り出す構成である。出力ゲート電極
1は、電荷転送部6の最終電極となっている電極Φ2に
隣接して1個設けられておシ、電荷転送部6からの信号
電荷は全て、出力ゲート電極1を通ってドレイン電極1
0に出力される。
5EQUIN and M, F, TOMPSETT; C
HARGETRANS FER DEVICE; P53)
. FIG. 4(a) shows the configuration used in the early COD, with the electrode Φ1 below the photoelectric conversion unit and the vertical transfer register 7.
.. The structure is such that the signal charge transferred by the charge transfer section 6 composed of Φ2 is taken out directly to the drain electrode 10 as a current through the output gate electrode 1. One output gate electrode 1 is provided adjacent to the electrode Φ2 which is the final electrode of the charge transfer section 6, and all signal charges from the charge transfer section 6 pass through the output gate electrode 1 and drain. Electrode 1
Output to 0.

次に第4図(blは、現在量も一般的に用いられている
構成で、出力部は出力ゲート電極1.フローティング拡
散層2.リセツ)−ゲート電極3.リセット・ドレイン
電極4.出力増幅器5より構成されている。電荷転送部
6からの信号電荷は、出力ケート電極1を通って全てフ
ローティング拡散層2に注入される。このフローティン
グ拡散層2は、信号電荷が注入される直前にリセット・
ゲート電極3に印加されたリセット・パルスによ)、あ
る電圧(リセット・ドレイン電極4に印加された電圧、
及びリセット・ゲート電極3と70−ティング拡散層2
の間の浮遊容量、及び70−ティング拡散層2の容量と
によって決まる電圧)にリセットされる。この電圧と7
0−ティング拡散層2の容量とによって決まる電荷が出
力ゲート電極1t−通って70−ティング拡散層2に注
入された信号電荷によって放電され、その放電分が信号
電圧として出力増幅器5を介して出力される。このよう
に電荷転送部6からの信号電荷は全てゲート電極1を通
って出力される。
Next, in FIG. 4 (bl is a configuration that is also commonly used at present, and the output section is output gate electrode 1. floating diffusion layer 2. reset) - gate electrode 3. Reset drain electrode 4. It is composed of an output amplifier 5. All signal charges from the charge transfer section 6 are injected into the floating diffusion layer 2 through the output gate electrode 1. This floating diffusion layer 2 is reset and reset immediately before signal charges are injected.
by the reset pulse applied to the gate electrode 3), a certain voltage (by the voltage applied to the reset drain electrode 4,
and reset gate electrode 3 and 70-ting diffusion layer 2
(voltage determined by the stray capacitance between 70 and the capacitance of the diffusion layer 2). This voltage and 7
The charge determined by the capacitance of the 0-Ting diffusion layer 2 is discharged by the signal charge injected into the 70-Ting diffusion layer 2 through the output gate electrode 1t, and the discharged amount is output as a signal voltage via the output amplifier 5. be done. In this way, all signal charges from the charge transfer section 6 are outputted through the gate electrode 1.

この様に、従来のCODでは、電荷転送部6からの信号
電荷は全て出力信号電流または出力信号電圧としてとフ
出されるために、CODの出力信号を用いて信号処理す
る場合にCODからの過大な出力信号に対して増幅器が
飽和して出力信号波形が変形するといった欠点があった
In this way, in the conventional COD, all signal charges from the charge transfer section 6 are outputted as output signal current or output signal voltage, so when signal processing is performed using the output signal of the COD, excessive The disadvantage is that the amplifier saturates for a large output signal and the output signal waveform is distorted.

(発明の目的) 本発明の目的は、前記従来技術の欠点が除去され、信号
処理の容易な電荷結合素子を提供することにある。
(Object of the Invention) An object of the present invention is to provide a charge-coupled device that eliminates the drawbacks of the prior art and facilitates signal processing.

(発明の構成) 本発明の構成は、信号電荷を転送するだめの電荷転送部
とこの電荷転送部によって転送された信号電荷を外部に
とシ出せるように前記電荷転送部の片@に設けられた出
力部とを備えた電荷結合素子において、前記出力部が2
つ以上の出力部分からなシ、前記電荷転送部から1クロ
ックごとに送られた信号電荷が前記出力部分に分割して
出力される構成となっていることを特徴とする。
(Structure of the Invention) The structure of the present invention includes a charge transfer section for transferring signal charges, and a charge transfer section provided on one side of the charge transfer section so as to output the signal charges transferred by the charge transfer section to the outside. In the charge-coupled device comprising an output section, the output section has two output sections.
The present invention is characterized in that the signal charge sent from the charge transfer section every clock is divided and outputted from the output portions through two or more output portions.

(実施例) 次に本発明の実施例について図面を参照して詳細に説明
する。
(Example) Next, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例の電荷結合素子を示すブロッ
ク図でおる。同図において、本実施例は、2次元のCO
D固体撮像素子に実施したものである。本素子は、光電
変換部及び垂直転送レジスタ7と、垂直転送Vジスタフ
より1水平走査期間ごと転送された信号電荷を水平方向
に転送するための2相クロックパルスで動作する電荷結
合素子で構成される電荷転送部8と、第1のゲート電極
9と、ドレイン電極10と、第2のゲート電極11と、
フローティング拡散層12と、出力増幅器13と、フロ
ーティング拡散層12にソース電極が接続されたリセッ
ト・トランジスタ14とを含み、構成される。ここで、
第1のゲート電極9とドレイン電極10とで第1の出力
部を構成し、第2のゲート電極11と、フローティング
拡散層12とリセットトランジスタ14と出力増幅器1
3とで第2の出力部を構成する。この第2の出力部は、
従来技術で説明したのと同じ構成でもよく、同じように
動作する。
FIG. 1 is a block diagram showing a charge coupled device according to an embodiment of the present invention. In the figure, this example shows a two-dimensional CO
This was implemented on a D solid-state image sensor. This device is composed of a photoelectric conversion section, a vertical transfer register 7, and a charge-coupled device that operates with two-phase clock pulses to horizontally transfer signal charges transferred from the vertical transfer V distaff for each horizontal scanning period. a charge transfer section 8, a first gate electrode 9, a drain electrode 10, a second gate electrode 11,
It is configured to include a floating diffusion layer 12, an output amplifier 13, and a reset transistor 14 whose source electrode is connected to the floating diffusion layer 12. here,
The first gate electrode 9 and the drain electrode 10 constitute a first output section, and the second gate electrode 11, the floating diffusion layer 12, the reset transistor 14, and the output amplifier 1
3 constitutes the second output section. This second output is
It may have the same configuration as described in the prior art and will operate in the same way.

本実施例の動作について、第2図及び第3図を用いて説
明する。第2図は第1図の本実施例の2次元COD固体
撮像素子に印加する電圧波形を示すもので、波形aは電
荷転送部8の電極Φlに印加するクロックパルスで、波
形すは電極Φ2に印加するクロックパルスで、波形Cは
第2のゲート電極11に印加する直流電圧で、波形dは
第1のゲート電極9に印加するゲートパルスである。電
荷転送素子8に印加される2種のクロックパルス(a、
b)は互いに極性の反転したコンプリメンタリの波形を
してお夛、信号電荷の転送動作としては電極Φ1が立下
るときに電極Φ2が立上シ、電極Φ1の直下に蓄積され
ていた信号電荷は電極Φ2の直下に転送され蓄積される
。この信号電荷は、電極Φ2が立下り、電極Φ2が立上
ると、電極Φ、の直下に転送され蓄積される。このよう
にして順次転送された信号電荷は、第1の出力部及び第
2の出力部に送られることになる。
The operation of this embodiment will be explained using FIGS. 2 and 3. FIG. 2 shows the voltage waveforms applied to the two-dimensional COD solid-state image sensing device of this embodiment shown in FIG. Waveform C is a DC voltage applied to the second gate electrode 11, and waveform d is a gate pulse applied to the first gate electrode 9. Two types of clock pulses (a,
b) has complementary waveforms with opposite polarities, and the signal charge transfer operation is such that when electrode Φ1 falls, electrode Φ2 rises, and the signal charge accumulated directly under electrode Φ1 is It is transferred and accumulated directly under the electrode Φ2. When the electrode Φ2 falls and the electrode Φ2 rises, this signal charge is transferred and accumulated directly under the electrode Φ. The signal charges sequentially transferred in this manner are sent to the first output section and the second output section.

次に、この第1及び第2の出力部を電荷転送部の最も出
力部に近い部分での動作を説明する。第1のゲート電極
9にはゲートパルスdが印加されるが、このゲートパル
スは電極Φlに印加されるクロックパルスの立下シの直
前で立上っであるー定電圧El■になシ、立下シ期間が
終ってから立上るまでの間にE3V(E+ > E3 
)となるパルスである。また、第2のゲート電極11に
印加される直a電圧EzV ハ、El>El >E3 
O関係を持つ電圧である。即ち第1及びM2のゲート電
極11直下のポテンシャルレベルは、第1のゲート電極
9にE、Vが印加された時が最も浅く、次がE2Vが常
に印加されている第2のゲート電極11直下のポテンシ
ャルレベルで、最も深いポテンシャルレベルは第1のゲ
ート電極9にEIVが印加された時である。
Next, the operation of the first and second output sections at the portions of the charge transfer section closest to the output section will be described. A gate pulse d is applied to the first gate electrode 9, and this gate pulse rises immediately before the fall of the clock pulse applied to the electrode Φl. From the end of the falling period until the rising, E3V (E+ > E3
) is the pulse. In addition, the direct a voltage EzV applied to the second gate electrode 11, El>El>E3
It is a voltage having an O relationship. That is, the potential level directly below the first and M2 gate electrodes 11 is shallowest when E and V are applied to the first gate electrode 9, and the next level is immediately below the second gate electrode 11 to which E2V is always applied. The deepest potential level is when EIV is applied to the first gate electrode 9.

そこで、第2図のTI乃至T4までの各時刻における信
号電荷の読出しについて、第3図を用いて説明する。時
刻T、では電極Φlに電圧が印加されているので電極Φ
lの直下に信号が蓄えられている。この信号電荷は時刻
T、では、電極Φlに印加されていた電圧が減少し、電
極Φ2に印加されていた電圧が増加するので、電極Φ2
の直下にポテンシャル井戸が形成されてくるとともに、
電極Φ1の直下に蓄えられていた信号電荷が電極Φ2の
直下のポテンシャル井戸に流れ込んでくる。
Therefore, readout of signal charges at each time from TI to T4 in FIG. 2 will be explained using FIG. 3. At time T, voltage is applied to electrode Φl, so electrode Φ
The signal is stored directly below l. At time T, the voltage applied to the electrode Φl decreases and the voltage applied to the electrode Φ2 increases, so that the signal charge is generated at the electrode Φ2.
As a potential well is formed directly under the
The signal charge stored directly under the electrode Φ1 flows into the potential well directly under the electrode Φ2.

この時第1のゲート電極9直下のポテンシャルレベルが
第2のゲート電極直下のボテンシャルレノベルよシも深
くなっているので、出力部に最も近いΦl電極Φ!L 
直下に蓄えられていた信号電荷の一部は第1のゲート電
極9t”通って、ドレイン電極10に吸い取られる。従
って、出力部に最も近い電極φ2し直下に蓄えられる信
号電荷の最大蓄積量QIIIAIは、第1のゲート電極
9にEIVが印加された時のポテンシャルレベルと電極
ψ2の直下のポテンシャル井戸の底のポテンシャルレベ
ルとの差によって決まる。即ち時刻T3ではQMA1以
上の信号電荷がφIL電極直下からφ21 電極直下に
転送されても、この余分な信号電荷は第1ゲート電極9
直下を通って、ドレイン電極10に吸い取られφ2..
電極直下にはQMAX以下の信号電荷しか蓄えられない
。時刻T4では第2のゲート電極11直下のポテンシャ
ルレベルが第1のゲ−)ti9のポテンシャルレベルよ
り低くなっているので、φzb N極直下に蓄えられて
いた信号電荷は第2のゲート電極11t−通って、70
−ティング拡散層12に注入され、出力増幅器13を通
って信号電圧として出力される。即ち、この二次元CC
D固体撮像素子においては、光電変換部で信号電荷に変
換された入射光信号は、信号出力電圧として二次元固体
撮像素子の外に出力される時に、ある一定レベル以上の
信号が出力されない、いわゆる白クリップされた信号と
して出力されるQ従って、この白クリップレベル即ち第
1ゲート電極9に印加するEIVの電圧を適当に設定す
ることによシ、この出力信号を信号処理する信号処理回
路において、増幅器が飽和するという現象を回避でき、
信号波形が変形しないようにすることができるという効
果がある。
At this time, the potential level directly below the first gate electrode 9 is deeper than the potential level directly below the second gate electrode, so the Φl electrode Φ! which is closest to the output section! L
A part of the signal charge stored directly below passes through the first gate electrode 9t'' and is absorbed by the drain electrode 10. Therefore, the maximum amount of signal charge stored directly below the electrode φ2 closest to the output section QIIIAI is determined by the difference between the potential level when EIV is applied to the first gate electrode 9 and the potential level at the bottom of the potential well directly below the electrode ψ2.In other words, at time T3, the signal charge of QMA1 or more is directly below the φIL electrode. Even if the excess signal charge is transferred from the φ21 electrode directly below the first gate electrode 9
The φ2. ..
Only signal charges below QMAX can be stored directly under the electrode. At time T4, the potential level directly below the second gate electrode 11 is lower than the potential level of the first gate electrode ti9, so the signal charge stored directly below the N pole of φzb is transferred to the second gate electrode 11t. Through, 70
- is injected into the diffusion layer 12, passes through the output amplifier 13, and is output as a signal voltage. That is, this two-dimensional CC
In a D solid-state image sensor, an incident optical signal converted into a signal charge in a photoelectric conversion section is output as a signal output voltage to the outside of the two-dimensional solid-state image sensor, so that a signal exceeding a certain level is not output. Therefore, by appropriately setting this white clipping level, that is, the voltage of EIV applied to the first gate electrode 9, the signal processing circuit that processes this output signal, The phenomenon of amplifier saturation can be avoided,
This has the effect of preventing the signal waveform from being deformed.

以上のように、本発明の実施例について、二次元COD
固体撮像素子を用いて説明したが、これは電荷転送素子
を用いた一次元COD固体撮像素子でも、またCPDの
ような水平の電荷転送部がCODで構成された二次元固
体撮像素子にも適用できることは明白でちる。
As described above, regarding the embodiments of the present invention, two-dimensional COD
Although the explanation has been made using a solid-state image sensor, this can also be applied to a one-dimensional COD solid-state image sensor using a charge transfer element, as well as a two-dimensional solid-state image sensor such as a CPD in which the horizontal charge transfer section is composed of COD. It's obvious what you can do.

(発明の効果) 本発明によれば、以上説明したように、信号電荷を転送
する電荷転送部の片端に2つの出力部を設け、1クロッ
クごとに送られてきた信号電荷をこの2つの出力部に分
割して出力することによシ、1クロックごとにある一部
レベル以下の信号とある一部レベル以上の信号とに分割
して出力でき、更に一部レベル以下だけの信号を用いて
信号処理をする場合には、波形歪の生じない信号処理回
路を実現出来るという効果が得られる。
(Effects of the Invention) According to the present invention, as explained above, two output sections are provided at one end of the charge transfer section that transfers signal charges, and the signal charges sent every clock are output from these two output sections. By dividing the signal into parts and outputting it, it is possible to divide and output the signal for each clock into a part of the signal below the level and a part of the signal above the level. When performing signal processing, it is possible to realize a signal processing circuit that does not cause waveform distortion.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例の電荷結合素子金量すブロッ
ク図、第2図は第1図に示した実施例の一部の電極に印
加する電圧波形図、第3囚は第1図の動作を示す説明図
、第4図(a)、第4図(blは従来の電荷結合素子を
それぞれ示すブロック図である。面図において、1.9
.11・・・ゲート電極、2゜12・・・70−ティン
グ拡散層、3・・・リセットゲート電極、4・・・リセ
ット・ドレイン電極、 5,13・・・出力増幅器、6
,8・・・電荷転送部、1oパドレイン電極、7・・・
光電変換部及び垂直転送レジスタ。
Fig. 1 is a block diagram of a charge coupled device according to an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a voltage waveform diagram applied to some electrodes of the embodiment shown in Fig. 4(a) and 4(bl) are block diagrams showing the conventional charge-coupled device, respectively.In the top view, 1.9
.. 11... Gate electrode, 2°12... 70-ting diffusion layer, 3... Reset gate electrode, 4... Reset drain electrode, 5, 13... Output amplifier, 6
, 8... Charge transfer section, 1o pad drain electrode, 7...
Photoelectric conversion unit and vertical transfer register.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 信号電荷を転送するための電荷転送部とこの電荷転送部
によって転送された信号電荷を外部に取り出せるように
前記電荷転送部の片端に設けられた出力部とを備えた電
荷結合素子において、前記出力部が少なくとも第1、第
2の2つの出力部分からなり、前記電荷転送部から1ク
ロックごとに送られた信号電荷が少なくとも前記第1、
第2の出力部分に分割して出力される構成となっている
ことを特徴とする電荷結合素子。
A charge-coupled device comprising a charge transfer section for transferring signal charges and an output section provided at one end of the charge transfer section so as to take out the signal charges transferred by the charge transfer section to the outside. The section includes at least two output sections, a first and a second output section, and the signal charge sent from the charge transfer section every clock is transmitted to at least the first and second output sections.
A charge-coupled device characterized by having a configuration in which the output is divided into a second output portion.
JP59167490A 1984-08-10 1984-08-10 Charge coupled device Pending JPS6146065A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5526306A (en) * 1994-02-10 1996-06-11 Mega Chips Corporation Semiconductor memory device and method of fabricating the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5526306A (en) * 1994-02-10 1996-06-11 Mega Chips Corporation Semiconductor memory device and method of fabricating the same

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