JPS6144692A - Laser beam recording member - Google Patents

Laser beam recording member

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JPS6144692A
JPS6144692A JP59167033A JP16703384A JPS6144692A JP S6144692 A JPS6144692 A JP S6144692A JP 59167033 A JP59167033 A JP 59167033A JP 16703384 A JP16703384 A JP 16703384A JP S6144692 A JPS6144692 A JP S6144692A
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JP
Japan
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recording
layer
laser beam
layers
medium
Prior art date
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Pending
Application number
JP59167033A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Asano
浅野 義曠
Hironori Yamazaki
裕基 山崎
Susumu Fujimori
進 藤森
Reiichi Chiba
玲一 千葉
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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Publication of JPS6144692A publication Critical patent/JPS6144692A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a laser beam recording member which makes repeated recording and erasion possible, prepared by forming on a base sheet a plurality of Te layers each sandwitched between dielectric layers and arranged alternately. CONSTITUTION:A recording member is prepared by laminating at least two layers 2, 4, 6 of dielectric substance (e.g. SiO2) and at least two layers 3, 5 alternately to form a sandwitch structure.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はレーザビーム記録部材に関する。更に詳しくい
えば、本発明はレーザビームを照射して、該照射部に光
学的変化を起こさせて、情報を記録するのに適したレー
ザビーム記録部材に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to laser beam recording members. More specifically, the present invention relates to a laser beam recording member suitable for recording information by irradiating a laser beam to cause an optical change in the irradiated portion.

従来の技術 近年、レーザに係る技術のめざましい進歩により、コヒ
ーレント光を用いた様々の応用の可能性の追求がなされ
てきており、その結果、光通信、光記録・再生、光計測
、各種物品の加工への応用、医療への応用、化学反応へ
の応用等各種の広範な分野において有用な技術として期
待され、急速な開発・研究がなされ、一部では既に実用
化が図られている。
Background of the Invention In recent years, with the remarkable progress in laser technology, the possibility of various applications using coherent light has been pursued. It is expected to be a useful technology in a wide variety of fields, including processing, medical, and chemical reaction applications, and has been rapidly developed and researched, with some already putting it into practical use.

中でも、最近特にレーザ光の集束性の良さを利用する光
記録媒体、例えばレーザディスク等が、高密度情報記録
用の媒体として注目されている。
Among these, recently, optical recording media that utilize the good focusing properties of laser light, such as laser discs, have been attracting attention as media for high-density information recording.

このような光記録材料は、大きく分けて同一材料に何度
でも異った情報を書込むことのできる書替え可能な材料
と情報の書込みが一度しかできない固定記録材料とに分
類され、夫々前者では光磁気材料、ホトクロミック材料
、非晶質材料、サーモプラスチック材料、電気光学結晶
等が、また後者ではアブラティブ材料、ホトポリマー材
料、銀塩材料、ホトレジスト材料等が知られている。
Such optical recording materials can be broadly divided into rewritable materials that allow different information to be written on the same material as many times as possible, and fixed recording materials that can only be written once. Magneto-optic materials, photochromic materials, amorphous materials, thermoplastic materials, electro-optic crystals, etc. are known, and among the latter, ablative materials, photopolymer materials, silver salt materials, photoresist materials, etc. are known.

これら材料に情報を記録する態様としては、従来金属膜
、色素膜などに局部的に孔を形成するとか、変形を起こ
させることによって実現するものが知られている。しか
しながら、この態様では一旦記録した情報の消去は不可
能であり、いわゆる追記型光記録媒体として使用されて
いる。
Conventionally known methods of recording information on these materials include forming holes locally in metal films, pigment films, etc., or causing deformation. However, in this embodiment, once recorded information cannot be erased, it is used as a so-called write-once optical recording medium.

一方、書替型光記録媒体としては、非晶質−結晶間の相
変化(相転移)を利用したTe系カルコゲナイドガラス
を、用いたもの、金属−半導体の相転移を利用する■0
2、SmS等が知られている。この中で、Te系カルコ
ゲナイドガラスを用いた光記録媒体としては、基板上に
40nm以上の膜厚のカル防止するための誘電体層を設
けたものが知られている。
On the other hand, rewritable optical recording media include those that use Te-based chalcogenide glass that utilizes a phase change between amorphous and crystalline materials, and those that utilize a metal-semiconductor phase transition.
2, SmS, etc. are known. Among these optical recording media using Te-based chalcogenide glass, one is known in which a dielectric layer with a thickness of 40 nm or more for preventing curling is provided on a substrate.

しかしながら、この光記録媒体では、多数回の繰返し記
録・消去を行なうと、即ち結晶−非晶質転移を繰返すと
、カルコゲナイドガラスが相分離を生じ、書替性が損わ
れることが知られている。
However, it is known that when this optical recording medium is repeatedly recorded and erased many times, that is, when the crystal-amorphous transition is repeated, phase separation occurs in the chalcogenide glass, impairing the rewritability. .

尚、この相分離はカルコゲナイドガラス中のドープ量を
減らし、Te量を増大させることにより回避することが
できるが、ドープ量を減らした場合には、非晶質寿命が
短くなり、室温で短時間のうちに非晶質から結晶質に転
移してしまうという問題を生ずる。
This phase separation can be avoided by reducing the amount of doping and increasing the amount of Te in the chalcogenide glass, but if the amount of doping is reduced, the amorphous lifetime will be shortened and A problem arises in that the amorphous state transitions to crystalline state over time.

また、■0□、SmSを使用した光記録媒体では、転移
に伴なう体積変化が太き(、膜に変形や亀裂が生じ易い
ことおよび熱によるヒステリシス効果を利用して記録・
消去を繰返しているため、光記録媒体を室温以下に冷却
するなどの熱バイアスを加えなければならないという欠
点を有していた。
In addition, in optical recording media using ■0□, SmS, the volume change due to transition is large (the film is easily deformed and cracked, and recording and
Since erasing is repeated, a disadvantage is that a thermal bias must be applied, such as cooling the optical recording medium below room temperature.

発明が解決しようとする問題点 上記の如く、最近のレーザに関するめざましい技術開発
に伴って、光記録材料も新たな局面を向えつつある。し
かしながら、従来の光記録材料では一旦記録された情報
の消去が不可能(固定記録型材料)であったり、また書
替え可能材料であっても繰返し情報の記録・消去を行な
うと相分離を生じてしまったり、余分な操作(例えば冷
却処理)が必要であるなど様々な改良すべき問題が残さ
れていた。
Problems to be Solved by the Invention As mentioned above, along with the recent remarkable technological developments regarding lasers, optical recording materials are also facing a new phase. However, with conventional optical recording materials, it is impossible to erase information once recorded (fixed recording type materials), and even with rewritable materials, phase separation occurs when information is repeatedly recorded and erased. Various problems remain that need to be improved, such as storage problems and the need for extra operations (for example, cooling treatment).

そこで、本発明の目的は上記の如き従来の光記録材料の
有する死点を示さない、繰返し記録・消去が可能な光記
録媒体を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide an optical recording medium that does not have the dead center of conventional optical recording materials as described above and can be repeatedly recorded and erased.

問題点を解決するための手段 本発明者等はレーザビーム記録部材の上記のような現状
に鑑みて、従来製品の呈する各種欠点を示さず、繰返し
記録・消去が可能な光記録媒体を得るべく種々検討、研
究した結果、前記目的を達成するためには比較的薄いT
e層を2層以上設けることが極めて有利であることを見
出し、本発明を完成した。
Means for Solving the Problems In view of the above-mentioned current state of laser beam recording members, the present inventors aimed to obtain an optical recording medium that does not exhibit the various drawbacks of conventional products and is capable of repeated recording and erasing. As a result of various studies and studies, we found that in order to achieve the above purpose, a relatively thin T
The present invention was completed based on the discovery that it is extremely advantageous to provide two or more e-layers.

即ち、本発明のレーザビーム記録部材は基板と、該基板
上に設けられた少なくとも2層の誘電体層および少なく
とも2層のTe層とを有し、該Te層の各々が該誘電体
層ではさまれ、該基板上で該誘電体層と交互に配置され
た構成を有することを特徴とする。
That is, the laser beam recording member of the present invention has a substrate, at least two dielectric layers and at least two Te layers provided on the substrate, and each of the Te layers has a It is characterized by having a structure in which the dielectric layers are sandwiched between the dielectric layers and the dielectric layers are alternately arranged on the substrate.

ここで、基板としてはポリカーボネート、アクリル樹脂
などのプラスチック、AIなどの金属、あるいはガラス
などを使用することができる。しかし、これらに制限さ
れるものではなく、公知の材料をすべて使用できる。
Here, as the substrate, plastics such as polycarbonate and acrylic resin, metals such as AI, glass, etc. can be used. However, the material is not limited to these, and all known materials can be used.

また、誘電体層(絶縁体層)としてはSiO□、5iO
1八1203、 Y2O3、WO3、TazOs、Cr
2Q3、CeO2、TeO2、MoO2、In、O,、
GeCL、TiO2などの無機酸化物材料、Mg F 
2、PbFz、Ce F sなどの金属フッ化物、Al
N5SisN4などの無機窒化物、ZnSなどの金属硫
化物あるいはまた、(A)  ポリエチレン、ポリフッ
化ビニリデン、ポリフェニレンスルフィドなどの高分子
材料、Cuフタロシアニン、フルオレセインなどの低分
子材料、(B)ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ
化ビニリチン、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド
などを使用することができ、これらは蒸着法、スパッタ
法等により基板上、もしくはTe層上に適用することが
できる。尚、上記(A)群の有機物は蒸着法により、ま
たCB)群はスパッタ法で適用される。
In addition, as a dielectric layer (insulator layer), SiO□, 5iO
181203, Y2O3, WO3, TazOs, Cr
2Q3, CeO2, TeO2, MoO2, In, O,,
Inorganic oxide materials such as GeCL, TiO2, MgF
2. Metal fluorides such as PbFz and CeFs, Al
Inorganic nitrides such as N5SisN4, metal sulfides such as ZnS, or (A) polymer materials such as polyethylene, polyvinylidene fluoride, polyphenylene sulfide, low molecular materials such as Cu phthalocyanine and fluorescein, (B) polytetrafluoroethylene. , polyvinyritine fluoride, polyimide, polyphenylene sulfide, etc., can be used, and these can be applied on the substrate or on the Te layer by vapor deposition, sputtering, etc. Note that the organic substances of group (A) are applied by a vapor deposition method, and the organic substances of group CB) are applied by a sputtering method.

更に誘電体層としてはプラズマ重合膜を使用することも
でき、エチレン等のオレフィン系化合物、スチレンなど
の芳香族化合物、6フツ化プロピレンなどの含フツ氷化
合物、アクリロニトリルなどの含窒−素化合物、ヘキサ
メチルジシロキサンなどのSi含有化合物、テトラメチ
ルスズなどの有機金属化合物等の各種有機化合物から得
られる重合膜を使用できる。
Furthermore, a plasma polymerized film may be used as the dielectric layer, and may be made of olefinic compounds such as ethylene, aromatic compounds such as styrene, ice-containing compounds such as propylene hexafluoride, nitrogen-containing compounds such as acrylonitrile, Polymerized films obtained from various organic compounds such as Si-containing compounds such as hexamethyldisiloxane and organometallic compounds such as tetramethyltin can be used.

Te層はTeの他、Teを90原子%以上含有するカル
コゲナイドガラスを使用することができ、これらは蒸着
あるいはスパッタ法等により形成することができる。
In addition to Te, chalcogenide glass containing 90 atomic % or more of Te can be used for the Te layer, and these can be formed by vapor deposition, sputtering, or the like.

が有利であることがわかった。即ち、結晶化温度はTe
膜々厚を薄くする程高くなり、従ってTe膜厚を薄くす
る程、Teの非晶質状態の室温での寿命は長くなる。一
方、結晶化による記録・消去の感度はTe膜々厚が薄く
なる程低くなる。結局、室温での非晶質寿命を十分に長
くし、しかも配録・消去の感度を十分な値に維持するた
めには、Te層を上記範囲内の厚さとすることが好まし
い。
was found to be advantageous. That is, the crystallization temperature is Te
The thinner the film thickness is, the higher it becomes. Therefore, the thinner the Te film thickness is, the longer the lifetime of Te in the amorphous state at room temperature becomes. On the other hand, the recording/erasing sensitivity due to crystallization decreases as the Te film becomes thinner. After all, in order to make the amorphous life at room temperature sufficiently long and to maintain the writing/erasing sensitivity at a sufficient value, it is preferable that the Te layer has a thickness within the above range.

また、Teの代りにカルコゲナイドガラスを用いる場合
には、もともと結晶化温度がTe単体よりも高いので、
30nm以下の膜厚にすることにより十分長い非晶質寿
命を得ることができ、更に記録・消去の感度を考慮すれ
ば、膜厚としては5〜30nmの範囲内とすることが好
ましい。
In addition, when chalcogenide glass is used instead of Te, the crystallization temperature is originally higher than that of Te alone, so
By setting the film thickness to 30 nm or less, a sufficiently long amorphous life can be obtained, and further, considering the sensitivity of recording and erasing, the film thickness is preferably within the range of 5 to 30 nm.

Te単体の代りに使用されるカルコゲナイドガラスとし
ては相分離を起こさないような組成、即ちTe90原子
%以上とすることが好ましく、Te以外の成分としては
S b SAs SSe N Ge % B r SS
 ISSなどの元素が使用され、これらは単独でもしく
は2種以上の組合せとして10原子%以下の量でTe中
にドープされる。
It is preferable that the chalcogenide glass used instead of pure Te has a composition that does not cause phase separation, that is, 90 atomic % or more of Te, and components other than Te include S b SAs SSe N Ge % B r SS
Elements such as ISS are used and are doped into the Te in amounts up to 10 atomic percent, either alone or in combination of two or more.

罫月 以下、添付図面を参照しつつ本発明のレーザビーム記録
部材を更に詳しく説明する。
Hereinafter, the laser beam recording member of the present invention will be explained in more detail with reference to the accompanying drawings.

第1図および第2図に、本発明のレーザビーム記録部材
の2つの異る態様を模式的に断面図で示した。第1図の
態様では基板1と、その上に順次交互に設けられた誘電
体層2.4.6およびTe層またはTe系カルコゲナイ
ドガラス層3.4とから構成されるレーザビーム記録媒
体を示した。
FIGS. 1 and 2 schematically show in cross-section two different embodiments of the laser beam recording member of the present invention. The embodiment shown in FIG. 1 shows a laser beam recording medium composed of a substrate 1 and dielectric layers 2.4.6 and Te layers or Te-based chalcogenide glass layers 3.4, which are sequentially and alternately provided on the substrate 1. Ta.

本発明に従って、Te層もしくはカルコゲナイドガラス
層を基板上に2層以上積層し、多層化したことに基き、
TeあるいはTe系カルコゲナイドガラス層の膜厚を薄
くして、非晶質状態の寿命を長くすると共に、膜厚を薄
くしたことに基いて生ずるコントラストの低下を防止で
きる。即ち、20nmのTe膜単層の場合には、室温で
の非晶質寿命が数秒であるのに対して、5層mのTe膜
の場合には40℃で1ケ月以上非晶質状態を安定に維持
することができる。また、5層mのTe膜単層の場合に
は、結晶−非晶質転移に伴って反射率が15%から10
%に変化するのに対して、5層mのTe層を2層設ける
ことにより反射率は25%から15%と大きな変化を示
すようになる。従って、Te層を多層化することにより
、非晶質状態が安定化され、しかもコントラストが高め
られることになる。
According to the present invention, two or more Te layers or chalcogenide glass layers are laminated on a substrate to form a multilayer structure,
By reducing the thickness of the Te or Te-based chalcogenide glass layer, it is possible to prolong the lifetime of the amorphous state and to prevent a decrease in contrast caused by reducing the thickness. That is, in the case of a 20 nm single-layer Te film, the amorphous lifetime at room temperature is several seconds, whereas in the case of a 5-layer Te film, the amorphous state remains for more than a month at 40°C. Can be maintained stably. In addition, in the case of a single Te film of 5 layers, the reflectance decreases from 15% to 10% due to the crystal-amorphous transition.
%, but by providing two Te layers of 5 m, the reflectance shows a large change from 25% to 15%. Therefore, by forming multiple Te layers, the amorphous state is stabilized and the contrast is enhanced.

Te層は誘電体層と交互にサンドイッチ型にはさむよう
に設けられるが、基板と接する誘電体層は基板への熱流
出を防止し、断熱層としての機能を果す(この場合膜厚
を約50nm以上とする)。また、最上層の誘電体層は
媒体の変化を抑制するために約50nm以上とすること
が有利である。これら以外の誘電体層は各Te層もしく
はTe系カルコゲナイド層を分離できればよく、従って
約5nm程度もしくはそれ以上の膜厚であればよい。
The Te layer is alternately sandwiched with dielectric layers, and the dielectric layer in contact with the substrate prevents heat from flowing to the substrate and functions as a heat insulating layer (in this case, the film thickness is approximately 50 nm). above). Further, it is advantageous that the uppermost dielectric layer has a thickness of approximately 50 nm or more in order to suppress changes in the medium. The dielectric layers other than these need only be able to separate each Te layer or Te-based chalcogenide layer, and therefore need only have a thickness of about 5 nm or more.

誘電体層は上記のTe層等の分離を達成する機能の他に
、Te層等の変形を防止する機能をも併せ持ち、その結
果、記録・消去サイクルの多数回に亘る繰返し中に生じ
る可能性のある、記録媒体粒子間の凝集・融合等を防止
し寸、該粒子の粒径を微細な状態に維持する。
In addition to the function of achieving separation of the Te layer, etc., the dielectric layer also has the function of preventing deformation of the Te layer, etc., which may occur during many repetitions of recording/erasing cycles. This prevents agglomeration, fusion, etc. between recording medium particles, and maintains the particle size of the particles in a fine state.

また、第2図をみると、ここには誘電体層上に光反射層
を設けた態様が示されている。光反射層7以外は第1図
に示した例と同じであり、従って参照番号も同じにしで
ある。
Further, looking at FIG. 2, there is shown an embodiment in which a light reflecting layer is provided on the dielectric layer. Components other than the light-reflecting layer 7 are the same as the example shown in FIG. 1, so the reference numbers are also the same.

この態様によれば、最上層の誘電体層6上に光反射層7
を設け、また記録波長での反射光強度を最小とするよう
に誘電体層の膜厚を制御することにより、記録レーザ光
の吸収効率を高めると共に、感度を向上させることがで
きる。この場合、光反射層としてはAI、AnSAgな
どの金属膜の他、Te膜自体を光反射層として用いるこ
ともできる。また、一般に以上述べた例では記録は基板
側からのレーザ照射により行われるが、基板1と誘電体
層2との間に光反射層を設けて、媒体側からレーザ光の
照射を行なうようにすることもできる。
According to this embodiment, the light reflecting layer 7 is provided on the uppermost dielectric layer 6.
By providing a dielectric layer and controlling the thickness of the dielectric layer so as to minimize the intensity of reflected light at the recording wavelength, it is possible to increase the absorption efficiency of the recording laser beam and improve the sensitivity. In this case, in addition to a metal film such as AI or AnSAg, a Te film itself can be used as the light reflection layer. Furthermore, in the example described above, recording is generally performed by laser irradiation from the substrate side, but it is also possible to provide a light reflective layer between the substrate 1 and the dielectric layer 2 and irradiate the laser beam from the medium side. You can also.

以下、このような媒体へのレーザ記録・消去の方法につ
いて詳しく説明する。まず、Te層は一般に付着後は結
晶状態にある。これにパルス巾の短い強いレーザ光を照
射することにより、Teの融点以上に加熱し、次いで急
冷することによりTeは結晶質から非晶質に相転移を起
こす。この非晶質化により光学的反射率の減少および透
過率の増加を生ずるので、このような非晶質化により情
報の記録を行うことが可能となる。
Hereinafter, a method of laser recording and erasing on such a medium will be explained in detail. First, the Te layer is generally in a crystalline state after deposition. By irradiating this with a strong laser beam having a short pulse width, it is heated above the melting point of Te, and then rapidly cooled to cause a phase transition of Te from crystalline to amorphous. This amorphization causes a decrease in optical reflectance and an increase in transmittance, so that information can be recorded by such amorphization.

一方、このようにして強力なレーザの照射による結晶質
Teの非晶質化により記録された情報は、非晶質化を起
こさない程度に弱いレーザ光を照射し、その反射光強度
あるいは透過光強度を検出することにより取り出し、再
生することができる。
On the other hand, the information recorded by amorphizing crystalline Te through irradiation with a powerful laser can be recorded by irradiating a weak laser beam that does not cause amorphization, and using the intensity of the reflected light or the transmitted light. It can be extracted and regenerated by detecting its intensity.

また、一旦記録した情報の消去は、前記の非晶質化した
部分に、情報の記録に用いたレーザ光よりも弱く、かつ
再生光よりも強力なパワーのレーザ光を比較的長時間照
射することにより、非晶質から結晶質に相転移を起こさ
せることにより行われる。
In addition, to erase the information once recorded, the amorphous portion is irradiated with a laser beam of a power weaker than the laser beam used to record the information but more powerful than the reproduction beam for a relatively long period of time. This is done by causing a phase transition from amorphous to crystalline.

一方、記録媒体層としてTe系カルコゲナイドガラス層
を用いた場合には、該層の付着後は非晶質状態にあり、
従って結晶化によって情報を記録し、非晶質化によって
消去するか、あるいは予め熱処理などにより結晶化させ
ておき、これを非晶質化することによって情報を記録し
、結晶化によって消去するともできる。
On the other hand, when a Te-based chalcogenide glass layer is used as the recording medium layer, the layer is in an amorphous state after being attached.
Therefore, it is possible to record information by crystallization and erase it by making it amorphous, or to crystallize it in advance by heat treatment, record information by making it amorphous, and erase it by crystallization. .

実施例 以下、実施例に従って本発明のレーザビーム記録部材を
更に具体的に説明する。ただし、本発明の範囲は以下の
実施例により何隻制限されない。
EXAMPLES Hereinafter, the laser beam recording member of the present invention will be explained in more detail according to examples. However, the scope of the present invention is not limited by the following examples.

実施例1 基板としてはポリメチルメタクリレートを用い、この上
にS 102を電子ビーム蒸着により膜厚20nmで誘
電体層を、またTeを抵抗加熱蒸着により膜厚5nmで
記録媒体層を順次積層し、更にこれらの操作を繰返して
Te層を4層含む媒体を作製した。ここで最上層のSi
O□の膜厚は1100nとした。
Example 1 Polymethyl methacrylate was used as the substrate, on which a dielectric layer of S102 was deposited to a thickness of 20 nm by electron beam evaporation, and a recording medium layer of Te was deposited to a thickness of 5 nm by resistance heating evaporation. These operations were further repeated to produce a medium containing four Te layers. Here, the top layer of Si
The film thickness of O□ was 1100n.

このようにして作製した媒体について、波長850nm
の半導体レーザを用いて記録・消去実験を行なった。即
ち、レーザビーム径1.6μmで基板を通してレーザ照
射を行なうと、媒体上でのレーザパワー3mW、パルス
巾100nsでは非晶゛質化が生じ、レーザパワー5m
W、パルス巾5QOnsでは結晶化が生じた。かくして
記録された情報を、レーザパワー1mW、パルス巾50
0nsで再生したところ、記録状態に変化はみられなか
った。上記の本発明に従って得た記録媒体はこのように
して、104回以上の記録・再生実験を繰返した後にお
いても、初期値と同じ信号出力を維持していることがわ
かった。また、非晶質化したTeは40℃で1ケ月以上
保存しても結晶化を起こすことなく、非晶質状態が安定
に維持されることがわかった。
For the medium produced in this way, the wavelength was 850 nm.
Recording and erasing experiments were conducted using a semiconductor laser. That is, when laser irradiation is performed through a substrate with a laser beam diameter of 1.6 μm, amorphization occurs at a laser power of 3 mW and a pulse width of 100 ns on the medium;
Crystallization occurred at W and a pulse width of 5 QOns. The information recorded in this way is processed using a laser power of 1 mW and a pulse width of 50 mW.
When the data was reproduced at 0 ns, no change was observed in the recording state. It has been found that the recording medium obtained according to the present invention described above maintains the same signal output as the initial value even after repeating the recording/reproducing experiment 104 times or more. Further, it was found that the amorphous Te does not crystallize even when stored at 40° C. for one month or more, and the amorphous state is stably maintained.

実施例2 実施例1の操作を繰返した。ただし、SiO□の電子ビ
ーム蒸着膜の代わりにY2O3、Ta、05、八120
0.5iO1CeF、およびCr2O5の電子ビーム蒸
着膜を用いた記録媒体を夫々作製したところ、いずれも
記録・消去特性としては実施例1と同様の値を示した。
Example 2 The procedure of Example 1 was repeated. However, instead of the electron beam evaporated film of SiO□, Y2O3, Ta, 05, 8120
When recording media were prepared using electron beam evaporated films of 0.5iO1CeF and Cr2O5, both exhibited recording/erasing characteristics similar to those of Example 1.

また、5in2の代わりに夫々Pb F 2、GaO2
、MOO3、MgF2およびTeO7の抵抗加熱蒸着膜
を用いて作製した記録媒体についても、同様に優れた結
果が得られた。
Also, instead of 5in2, Pb F 2 and GaO2
, MOO3, MgF2, and TeO7 were similarly produced with respect to recording media produced using resistance-heated vapor-deposited films.

実施例3 SiO□の電子ビーム蒸着膜の代わりに、テトラメチル
スズのプラズマ重合膜を用いた以外は実施例1と同様に
操作して記録媒体を作製した。また、この場合の最上層
の重合膜厚は200nmとした。この媒体ではレーザパ
ワー8mW、パルス巾60nsで非晶質化が生じ、し′
−ザパヮー3mW、パルス巾500nsで結晶化が生じ
た。かくして情報を記録した媒体につき、レーザパワー
1mW、パルス巾500n’sで再生を行なったが、記
録状態に変化はみられなかった。また、104回以上の
記録・再生実験後も初期値と同じ信号出力を維持してい
ることがわかった。
Example 3 A recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that a plasma polymerized film of tetramethyltin was used instead of the electron beam evaporated film of SiO□. Moreover, the polymer film thickness of the top layer in this case was 200 nm. In this medium, amorphization occurs at a laser power of 8 mW and a pulse width of 60 ns, and
- Crystallization occurred at power of 3 mW and pulse width of 500 ns. The medium on which information was thus recorded was reproduced with a laser power of 1 mW and a pulse width of 500 n's, but no change was observed in the recorded state. It was also found that the same signal output as the initial value was maintained even after 104 or more recording/reproducing experiments.

実施例4 実施例3のテトラメチルスズ・プラズマ重合膜の代わり
に、アセチレン・プラズマ重合膜、スチレン・プラズマ
重合膜、ヘキサメチルジシロキサン・プラズマ重合膜お
よび6フツ化プロピレン・プラズマ重合膜を夫々用い、
実施例3と同様に操作して媒体を作製した。これら媒体
の記録・消去特性は実施例3のものと同様であった。た
だし、アセチレン・プラズマ重合膜および6フツ化プロ
ピレン・プラズマ重合膜を用いた場合には、103回の
記録・再生実験後、媒体に不可逆的変化が生じた。
Example 4 Instead of the tetramethyltin plasma polymerized membrane of Example 3, an acetylene plasma polymerized membrane, a styrene plasma polymerized membrane, a hexamethyldisiloxane plasma polymerized membrane, and a hexafluoropropylene plasma polymerized membrane were used, respectively. ,
A medium was prepared in the same manner as in Example 3. The recording/erasing characteristics of these media were similar to those of Example 3. However, when an acetylene plasma-polymerized film and a propylene hexafluoride plasma-polymerized film were used, irreversible changes occurred in the medium after 103 recording/reproducing experiments.

実施例5 実施例3のテトラメチルスズ・プラズマ重合膜の代わり
に、ポリイミド・スパッタ膜およヒCU −フタロシア
ニン蒸着膜を夫々用い、同様に操作して媒体を作製した
。このようにして作製した媒体の記録・消去特性は実施
例3のものと同様であったが、103回の記録・消去実
験後、媒体には不可逆的変化が生じた。
Example 5 In place of the tetramethyltin plasma-polymerized film of Example 3, a polyimide sputtered film and a CU-phthalocyanine vapor-deposited film were used, respectively, and media were prepared in the same manner. The recording/erasing characteristics of the medium thus produced were similar to those of Example 3, but irreversible changes occurred in the medium after 103 recording/erasing experiments.

実施例6 実施例1のTe膜の代わりに、10nmのTe5sSe
sの蒸着膜を用い、このTe5sSes蒸着膜を3層設
けた媒体を実施例1と同様な操作に従って作製した。
Example 6 Instead of the Te film of Example 1, 10 nm of Te5sSe
A medium having three layers of this Te5sSes vapor-deposited film was prepared in the same manner as in Example 1 using the Te5sSes vapor-deposited film.

得られた製品の記録・消去特性は実施例1の場合と同様
であった。尚、この媒体は105回以上の記録・消去実
験後においても初期値と同じ信号出力を維持していた。
The recording/erasing characteristics of the obtained product were similar to those of Example 1. Note that this medium maintained the same signal output as the initial value even after more than 105 recording/erasing experiments.

実施例7 実施例6のTe5sSesの蒸着膜の代わりに、夫々T
e5oASsGes、Te5s’Ass、Te5sSt
lsの蒸着膜を用いた場合にも、実施例6と同様の特性
を示す媒体が得られた。
Example 7 Instead of the deposited film of Te5sSes in Example 6, T
e5oASsGes, Te5s'Ass, Te5sSt
A medium exhibiting the same characteristics as in Example 6 was also obtained when the ls vapor-deposited film was used.

実施例8 実施例1に従ってTe層を2層含む媒体を作製し、また
最上層の5i02膜の膜厚を150nmとし、この上に
50nmのAI蒸着膜(光反射層)を設けた。この媒体
ではレーザパワー8mW、パルス巾70nsで非晶質化
が生じ、レーザパワー4+y+I8、パルス巾500n
sで結晶化が生じた。この媒体も、同様な記録・消去特
性を有していた。
Example 8 A medium containing two Te layers was prepared according to Example 1, and the thickness of the top layer 5i02 film was 150 nm, and a 50 nm AI vapor deposited film (light reflective layer) was provided thereon. In this medium, amorphization occurs at a laser power of 8 mW and a pulse width of 70 ns, and a laser power of 4 + y + I8 and a pulse width of 500 nm.
Crystallization occurred at s. This medium also had similar recording and erasing characteristics.

発明の効果 以上詳しく述べたように、本発明のレーザビーム記録部
材によれば、Te層またはTe系カルコゲナイドガラス
層を少なくとも2層有し、誘電体層と交互に配置された
積層構造としたこと、並びに、該Te層またはTe系カ
ルコゲナイドガラス層の膜厚を制御したことに基き、記
録媒体の各種特性を大巾に改善できる。即ち、本発明の
記録媒体は繰返し記録・消去を行なった後も相分離を起
こすことがなく、非晶質状態の寿命が長い。また誘電体
層により記録媒体の変形が防止され、更にTeおよびT
e系カルコゲナイドガラス粒子の粒径が微細のまま維持
されるので、繰返し記録・消去を行なうことのできるレ
ーザビーム記録部材として極めて優れたものである。
Effects of the Invention As described in detail above, the laser beam recording member of the present invention has a laminated structure having at least two Te layers or Te-based chalcogenide glass layers, which are alternately arranged with dielectric layers. , and by controlling the thickness of the Te layer or the Te-based chalcogenide glass layer, various characteristics of the recording medium can be greatly improved. That is, the recording medium of the present invention does not undergo phase separation even after repeated recording and erasing, and has a long life in the amorphous state. In addition, the dielectric layer prevents deformation of the recording medium, and furthermore, the dielectric layer prevents deformation of the recording medium.
Since the particle size of the e-type chalcogenide glass particles remains fine, it is extremely excellent as a laser beam recording member that can perform repeated recording and erasing.

また、本発明の記録媒体は、TeもしくはTeを90重
量%以上含むTe系カルコゲナイドガラスを用いるため
、感度が高く、コントラストにおいても優れている。
Further, since the recording medium of the present invention uses Te or Te-based chalcogenide glass containing 90% by weight or more of Te, it has high sensitivity and excellent contrast.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の記録媒体の模式的な断面図であり、 第2図は本発明の別の記録媒体の構造を示す模式的な断
面図である。 (主な参照番号〉 1 基板、 2.4.6・・誘電体層、3゛、5”・T
eあるいはTeを90原子%以上含むTe系カルコゲナ
イド層、 7 °光反射層。 特許出願人  日本電信電話公社 代 理 人  弁理士 新居正彦 1   :墓販
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a recording medium of the present invention, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the structure of another recording medium of the present invention. (Main reference numbers) 1 Substrate, 2.4.6...Dielectric layer, 3゛, 5"・T
Te-based chalcogenide layer containing e or Te at 90 atomic % or more, 7° light reflection layer. Patent Applicant: Nippon Telegraph and Telephone Public Corporation Agent: Patent Attorney: Masahiko Arai 1: Grave Sale

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板と、該基板上に設けられた少なくとも2層の
誘電体層および記録媒体としてのTe層とを有し、該T
e層の各々が該誘電体層にはさまれ、該基板上で該誘電
体層と交互に設けられた構成とされていることを特徴と
するレーザビーム記録部材。
(1) It has a substrate, at least two dielectric layers provided on the substrate, and a Te layer as a recording medium, and the T
A laser beam recording member characterized in that each of the e-layers is sandwiched between the dielectric layers and alternately provided with the dielectric layers on the substrate.
(2)前記Te層の代りに、Teを90原子%以上含有
するTe系カルコゲナイドガラス層を用いることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載のレーザビーム記録部
材。
(2) The laser beam recording member according to claim 1, characterized in that a Te-based chalcogenide glass layer containing 90 atomic % or more of Te is used in place of the Te layer.
(3)前記記録媒体上または前記基板と記録媒体との界
面に光反射層を設けたことを特徴とする特許請求の範囲
第1項、または第2項記載のレーザビーム記録部材。
(3) The laser beam recording member according to claim 1 or 2, further comprising a light reflecting layer provided on the recording medium or at the interface between the substrate and the recording medium.
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