JPS6143696A - Ｆｃｃ触媒ストリツピング方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は流動接触クラッキング（ＦＣＣ）装置中の触媒
と炭化水素物質を分離するための方法及び装置に関する
。

［従来の技術］ 流動接触クラッキングは触媒技術の進歩のために目覚ま
しい発展ρす改善を受けてきた。ゼオライトクラッキン
グ触媒の出現により、操作技術の新しい分野は高触媒活
性、運択性及び繰作感度の利点を得るために処理操作の
改善の必要性に３！！遇する。

ＦＣＣ装置に通常使用する触媒は流動可能な粒子寸法の
高活性結晶性ゼオライト触媒が好適である。触媒は通常
サスペンジョン相すなわち分散相状態で炭化水素装入原
料と共に炭化水素滞留時間０．５〜１０秒、通常８秒以
下をで１１［１または２個以上のライザー反応器（Ｆ　
ＣＣクラッキング帯域）を通常上方へ移動する。少なく
とも５３８℃（１０００下）またはそれ以上の温度及び
ライザー中での触媒と接触する炭化水素滞留時間０．５
〜４秒で行なわれる高温ライザークラッキングが望まし
い。

ライザー反応器から排出されるクラッキングされた炭化
水素類から触媒を急速に分離することが望ましい、クラ
ッキング中、炭素質沈着物またはコークスは触媒粒子上
に集積し、この触媒粒子はライザー反応器から除去され
るときに炭化水素蒸気を同伴する。触媒に同伴した炭化
水素類は別個の触媒ストリッピング帯域中のａＷ的平手
段び／またはストリッピングガスであることができる分
離装置で触媒から除去される。触媒から分離した炭化水
素転化生成物及び触媒からストリッピングした物質を混
合し、生成物精留装置へ送る０次に、コークスを含有す
る同伴炭化水素がストリッピングされた触媒を触媒再生
装置へ送る。

サイクロンは通常ガス相から触媒粒子を効果的に分離す
るために使用する。サイクロンはしばしば大きな反応容
器内に生成物蒸気を望ましくないほど長い時間滞留させ
る。長い滞留時間は非選択性クラッキングにより４％程
度望ましい生成物の収率を低減させる。この技術におけ
る近年の発達はクラッキングした生成物類からの触媒の
急速分離に関する。

［発明が解決しようとする問題点１ 本明細書第１０図はアンダーソン（Ａ　ｎ　ｄ　ｅ　ｒ
　ｓ　ｏ　＋＋　）　・らの米国特許第４，０４３，８
９９号明細書の第２図を単純化した記載に対応するもの
であり、両図面中同じ部材を説明するために同じ参照番
号が使用されている。アンダーソンらはクラッキングし
た生成物相及び触媒（ライザー反応器２４を出る）から
なる生成物サスペンシコンの全てをライザーからザイク
ロン分離装置？Ｅ４’＼直接排出することによる該生成
物サスペンジョンの急３’ＪＸ分離方法を開示している
。サイクロンはｒｉｌｉ助ストリストリッパ−中水＠萎
気頚から分離した触媒の別のサイクロン分離を含むよう
に改変されている。このサイクロン分離装置は低部サイ
クロン段１習１１よりなる更に下方へ延長した帯域を含
むように改変されている。

サイクロン上部段階で分離された触媒は傾斜した螺旋状
邪魔板に沿って下部サイクロンに滑り落ち、この下部サ
イクロンにはストリッピングスチームが導入されて上部
サイクロンから回収した触媒に同伴された炭化水素生成
物を触媒から更に分離する。スチーム及びストリッピン
グされた炭化水素類を低部サイクロン段階から同心管８
へ通し、スチーム及びストリッピングした炭化水素類を
上部サイクロンで分離された炭化水素蒸気類と混合する
。

分離し、ストリッピングした触媒を収集し、慣用の手段
によりサイクロン分離装置４から浸漬脚２２を通して反
応容器２６の低部の触媒床６０へ送り、触媒取り出し口
４４から取り出す１反応容器２６のこの低部区域はまた
邪魔板３２．３４及び３６を備え且つスチームを触媒床
下部に供給する触媒ストリッピング帯域として作用する
。また、サイクロン４中で分離した蒸気状物質をサイク
ロン５２へ排出し、次に導管５４によりチェンバー４６
へ送り、場合によっては行なうことがある精留のために
チェンバーから導管４８で取り出す。

相当量の触媒ストリッピングが触媒床６０で生ずる。ス
トリッピングされた炭化水素物質が触媒床を上方へ通過
し、サイクロン５２の入口へ移動し、またサイクロン５
２からチェンバー４６へ及び行なわれることがある精留
工程へ移動する時に、該炭化水素物質は付加触媒粒子と
なお接触する。・この増加した炭化水素物質／触媒接触
は炭化水素物質の制御できず且つ所望でないクラッキン
グの原因となる。

第１０図中の邪魔板３２．３４及び３６で示される個々
のストリッパ一段階では、反応容器２６の低部区域で触
媒からストリッピングされた炭化水素類は触媒床の表面
へ該炭化水素類の通路を造りながら更に触媒と接触する
炭化水素担持ガス流が浸漬脚２２を通過して触媒床へ送
られるのを防止するために触媒床は浸漬脚２２の低部封
止として０作用する。充分な封止を提供するために浸漬
脚は触媒床内に深部まで延長していなければならない、
この深さの必要性士多段附ストリッピングの望ましさく
高割合の炭化水素物質を触媒から除去するために）は触
媒床６０中にかなりの体積の触媒を必要とし、このこと
は炭化水素類と触媒の制御できない接触を増大する。

非選択性クラッキングを可能な限り減少するために炭化
水素物質類と触媒の間の全接触時間を低減することがま
だ必要である。

［問題点を解決するための手段］ 従って、本発明はライザー反応器中で炭化水素装入原料
と慣用のＦＣ’Ｃ触媒を接触させて消耗したＦＣＣ触媒
と同伴するクラッキングした炭化水素類及びクラッキン
グした蒸気相炭化水素流よりなるライザー流出流を製造
することからなる流動接触クラッキング方法において、
分離装置中でライザー流出流をガス状流出流及び触媒へ
分離し、触媒粒子が分離装置を出たらストリッピング装
置中で分離した触媒中の触媒粒子から同伴且つ吸着した
炭化水素類を素早く非サイクロンストリッピングを行な
い、且つストリッピングした炭化水素類をストリッピン
グ装置出口へ送ることを特徴とする流動接触クラッキン
グ方法を提供するにある。

他の実施態様において、本発明はストリッピングした触
媒の１０〜９０％を排出口を通して流すことが可能な寸
法の少なくとも１個の排出口を備えたストリッピングし
た触媒封止ボットを通過させる工程よりなる触媒ストリ
ッパーの触媒出口を封止するための改善した方法を提供
するにある。

他の実施君様において、本発明はライザー反応器中で炭
化水素装入原料を慣用のＦＣＣ触媒と接触させて消耗し
たＦＣＣ触媒と同伴するクラッキングした炭化水素類及
びクラッキングした蒸気相クラッキング炭化水素流から
なるライザー流出流を製造することからなる流動接触ク
ラッキング方法において、分離装置中でライザー流出流
をガス状流出流と触媒へ分離し、分離した触媒を入口、
触媒出口及びストリッピングした炭化水素出口をもつス
トリッピング容器へ送り、分離した触媒を入口からスト
リッピング装置を経て出口へ至る迂回路に通し、ストリ
ッピングガスがストリッピングガス注入位置より上部に
あり且つ該注入位置と炭化水素出口との間に装填した分
離した触媒の区分のみと接触するようにストリッピング
ガスを注入し、ストリッピングガス及び分離した触媒か
らストリッピングした炭化水素類を直接ストリッピング
した炭化水素出口へ通ずことを特徴とする流動接触クラ
ッキング方法を提供するにある。

他の実施態様において、本発明は炭化水素装入。

原料の流動接触クラッキング方法において、炭化水素装
入原料と触媒の混合物をサスペンジョンとして反応容器
内に含まれるライザー転化帯域に通して該ライザー転化
帯域中で炭化水素装入原料をクラッキングし、該混き物
をライザー転化帯域の出口から進路そらし帯域の出口に
向かって物理的に進路をそらす進路そらし帯域へ該混き
物を通し、且つ進路のそれた混合物を進路そらし帯域か
ら分離帯域へ通すことｔｔ特徴とする炭化水素装入原料
の流動接触クラッキング方法を提供するにある。

関連する実施態様において、本発明は上述の方法を達成
するための装置を提供するにある。

本発明は第１図、第２Ａ図及び第２Ｂ図及びに記載する
ように制御できないクラッキングを低減する触媒粒子そ
らせ板を指向するものである。

上述の方法及び装置がそれぞれ別個に、または種々の組
みきせで利用できるものであるために、個々の説明及び
相互作用を以下に説明する。

本発明はまた制御できないクラッキングを低減するため
の方法及び装置としてのストリッピング・装置を指向す
るものであり、種々の実施態様を第１図、第３図、第４
図、第８図及び第９図に示す。

本発明はまた制御できないクラッキングを低減するため
に触媒封止ボットを利用することによる方法及び装置を
指向するものであり、第１図、第６図及び第７図に二見
明する。

添付図面において、同じ番号は個々の図面を通して同じ
部材を示すものである。

第８図において、短接触時間ストリッピング装Ｗ、１１
０（以下にＭｌ　８４■に説明する）はサイクロン分離
装置４の排出バレル４Ｂに隣接して設置されている。こ
の構造は排出バレル４Ｂの壁の延長管がストリッピング
装置１１１１の壁を造るようになっている。しかし、所
望であれば種々の邪魔板及びスチーム注入機構を排出バ
レル自体の延長管に設置することができる０分離装置４
を出る分離した触媒粒子は炭化水素蒸気及び炭化水氷物
質と分離した触媒粒子のイづ加接触時間を最少限にする
ために触媒ストリッピング装置により直ちに処理される
。

第８図は短接触時間ストリッピング装置と説明するもの
である。慣用の触媒ストリッピング装置はまた分離装置
排出口バレル中において、または該排出口バレルに直接
接続させて使用することができ、また使用することがで
きる既知の４段階向流式ストリッピング装置１１２を第
５図に説明する。第９図に記載するように使用するスト
リッピング装置及び分離装置の個々の設計に依存して、
分離装置出口へストリッピング装置を接続するための円
錐状区域１１４または若干の他の設置手段を利用するこ
とができる。第９図はサイクロン分離装置４の排出バレ
ルとストリッピング装置１１０の入口を接続する円錐状
ディフューザーの組み合せを説明するものである。

ストリッピング装置中で放出された炭化水素蒸気がサイ
クロン分離装置ガス排出口（慣用の多段階ストリッピン
グ装置の場合）を出るか、または所定のストリッピング
装置排出口導管（第３図及び第４図に示す短接触時間ス
トリッピング装置の導管１３０．１３２及び１３４）を
通るようにス・ドリッピング装置の低部は下方へのガス
流に対する充分な抵抗力を備える必要がある。しかし、
ストリッピング装置の低部区域に集積する触媒粒子を取
り出して反応器にリサイクルし且つ再使用しなければな
らないから、該低部区域を完全に封止され得ない。

過去において、触媒床６０（第１図）への浸漬側　−２
２の延長はガス流を新型の方向にするために充分な圧力
の差を提供するものであった。しかし、触媒床中に多量
の触媒が存在すること及び触媒ストリ・ンピング装置の
触媒レベルが分離装置出口脚まで延長（第１図に示す）
される必要性は注入したストリッピングガス及び分離し
た炭化水素類が更に触媒と共に通過しなければならない
ことを意味し、このことは触ＩＡ＆粒子と接触している
か、または触媒粒子に同伴する炭化水素について制御で
きないクラッキングが行なわれる滞留時間を更に付与す
るものである。結果として、本発明の他の実施態様にお
いて、第１図及び第６図に示すようにストリッピング装
置の低部区域を触媒封止ボット１４０へ延長する。第１
図及び第６図に示すように、ストリッピング装置中の触
媒レベル１４２（スチーム注入点より上であっても、該
注入点と同じであっても、該注入点より低くてもよい）
は、触媒レベル１４２から封止ボット１４０を経てオー
バーフローと流れるガス流に対する抵抗力が炭化水素担
持スチーム流がそこから流れるのを実質上防止するため
に充分なように維持される。しかし、封止ポット１４０
に含まれる触媒の量は比較的少ないから、封止ポットに
同伴される炭化水素担持スチームは通常の触媒床／浸漬
製封止で予想される長滞留時間をもつものではない。

触媒封止ボット１４０は触媒封止ボットを通過する触媒
の流れの１０〜９０％、好適には３０〜５０％の相当す
る触媒を流がすことができる寸法の１個または２個以上
の排出口１４６を備える。

排出口１４６を流通しない残余の触媒はオーバーフロー
触媒１４４として触媒封止ボットからオーバーフローし
、このオーバーフロー及び排出された触媒は回収され、
再使用される。触媒封止ボッ・トかＡオーバー７０−及
び排出される触媒は反応器の低部内に含有され、該触媒
は第１０図の触媒取り出し口４４に示すものと同様の方
法で反応器触媒取り出し口を通り、再使用される。

第６図は２個の排出口封止ポットを説明するものであり
、また第７ＵＡは１個の排出口封止ボットを示すもので
ある。第７図において、封止ポットの底部は傾斜側Ｗ、
１４８をもち、該傾斜側板１４８は封止ポット内にトラ
ップされる触媒がなく、最後には全ての触媒が封止ポッ
トから排出またはオーバーフローするように作用する。

傾斜側板１４８の角度βは臨界的なものではなく、最適
な角度は６０度であろう。

本発明はまたライザー反応器２４への触媒粒子並びに炭
化水素蒸気移動を助勢するためのライザーそらせ板を提
供する。慣用のライザー排出口配列においては、サイク
ロンｍ出口が第１０図に示すようにライザー転化帯域２
４の頂部に設置され、触媒粒子はライザーの密閉された
頂部に衝突し、ライザー転化帯域に向かって跳ね返る。

従って、跳ね返る触媒粒子の速度は再度上方へ移動し、
最後にサイクロン分離装置べ移動する前に上昇する炭化
水素装入原料の動圧により低減されるに違いない、この
付加滞留時聞くこの間にも触媒が炭化水素蒸気及び炭化
水素物質と緊密に接触する）はオーバークラッキング及
びクラッキングした生成物の正確な制御の衷失の原因と
なる。

触媒粒子の跳ね返りにより生ずる問題を防止するために
、■型または円錐状そらせ板１００が炭化水素装入原料
中に含まれる触媒粒子の上方への速度ベクトルをサイク
ロン分離装置挿入口方向へ変化させる。第２Ａ図及び第
２Ｂ図に示すそらせ仮によれば、粒子軌道は第２Ｂ図に
点線で記載するようになり、触媒粒子の跳ね返りによる
滞留時間が減少する。

そらせ板の１実施悪様において、水平面に対するそらせ
板表面の角度α（垂直型ライザーに関して）は６０〜７
０度であるが、そらせ板に対するサイクロン分離装置挿
入口の設置位置、ライザーの直径、ライザーから分離装
置挿入口までの距離・等に依存して異なる角度が使用で
きる０、第１図に示すように邪魔板型そらせ板１０２及
び／または１０４を付加することによってそらせ板を組
み合せることによって原稿のライザーを改変することが
できる。そらせ板１００の表面は平面である必要はなく
、そらせ仮の低端部からサイクロン分離装置挿入口４の
上端部にかけての滑らかな曲線が移動する触媒の方向変
換及びライザー２４の上端部とサイクロン分離装置４の
間の圧力降下を減少するために有利である。邪魔板型そ
らせ板１０２及び／または１０４はまた触媒／炭化水素
蒸気流を分離装置４へ向けさせるために湾曲することが
できる。サイクロン分離装置について説明したが、そら
せ板は既知の他のタイプの分離装置にも同様に有効であ
ろう。

本発明は制御できないクラッキングを最少限にするため
に探求されたものである。制御できないクラッキングを
最少限にするために、触媒ストリッピング装置を分離装
置の排出口バレルに設置するものである。このストリッ
ピング装置は短接触時間ストリッピング装置が好ましい
。

第３図は同心状ライザー反応器２４に設置することが３
１［合した短接触時間ストリッピング装置１１０の１実
施君様を説明するものである。炭化　　　　　　　　１
水素／触媒装入原料はライザー反応器２４を垂直に昇り
、分離装置を通過し、少旦のクラッキングした炭化水素
類を同伴する触媒流はストリッピング装置１１０の上部
帯域に入る。邪魔板１１６及び１１８は降下する触媒を
穴付邪魔板１２０及び１２２へ向かわせる。スチームは
排出口１２４及び１２６で供給され、流れる触媒１２８
の一部のみを通過する。この一部はスチーム注入レベル
と送付ロートの取り入れ口の間に装填されている触媒で
ある。スチームはロート取り入れ口を設置した位置より
上の触媒中を流れないために、スチームに同伴される炭
化水素類が更に触媒と接触する場所はない、全ての触媒
スチームと接触するが、所定量のスチームはストリッピ
ング装置容器中のロートより上に含まれる全ての触媒と
接触しない。

ストリッピングスチームにより触媒がらストリ・ツピン
グされた炭化水素はスチーム及び同伴する炭化水素類を
更に分離及び／またはストリッピングまたは精留（図示
せず）するための同心管１３０及び１３２へ向かわせる
ための送付ロートとして作用する邪魔板１１６及び１１
８により更に引き続いて生ずる触媒との接触を防止する
。第３図に示す垂直配置において、邪魔板１１６及び１
１８は少なくとも部分的に水平方向に触媒を移動させる
作用をし、また大寸邪魔板１２０及び１２２も同様に作
用する。降下する触媒粒子１２８は多数のスチーム露出
位置すなわち段階を可能にする循環路に従う。

第３図中のストリッピング装置１１０は同心状ライザー
反応器２４と同心に設置されており、またストリッピン
グ装置は第１図に示す排出口バレルのようにライザーと
は別個に設置することもできる。２段階のスチーム注入
を第３図に示すが、。

所望のストリッピング量及び複雑さの所望のレベルに依
存して３段階以上または１段階でスチームを添加するこ
とができる。ストリッピングした炭化水素蒸気は第３図
に示すように別個の導管１３０及び１３２中を移動する
必要はない、第４図に示すように１木の導管１３４を第
３図に記載したような邪魔板１１６及び１１８、及び穴
付邪魔板１２０及び１２２に使用することができる。

第４図はストリッピング装置内に同心状に設置したライ
ザー反応器２４を含むストリッピング装置を説明するも
のであるが、ライザー反応器を同心状に設置しなくても
よく、また第３図のストリッピング装置と同様に第４図
のストリッピング装置を分離装置の排出口バレル中に設
置することができる。第３図中の導管１３０及び１３２
、及び第４図中の導管１３４は増大した滞留時間を回避
するために更に引き続いて生ずる触媒との接触からスト
リッピングした炭化水素類を誘導するものである。

本発明は炭化水素類と触媒とが接触する滞留時間を低減
するためにサイクロンの排出口バレル中のストリッピン
グ装置と短接触時間ストリッピング装置及び／または触
媒そらせ板を組み合せるこ・とができる、好適な実施態
様において、本発明は第１図に示すように触媒そらせ板
１０２及び１０４、サイクロン分離装置のバレル中に設
置した触媒ストリッピング装置、及び小体禎触媒封止ポ
ットで封止した２段階短接触時間ストリッピング装置を
含む１個の流動床接触クラッキング繰作及び装置に使用
することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は邪魔板が触媒粒子を低端部が触媒封止ボットに
より封止される２段階短接触時間触媒ストリッピング装
置に隣接するサイクロン分離装置の入口へ進路そらし区
域を示す部分断面図であり、第２Ａ図は２個のサイクロ
ンの接続を説明するライザー反応器の頂部概要図であり
、第２Ｂ図は第２Ａ図の断面図であり、第３図は短接触
時間触媒ストリッピング装置の１実施悪様の区域を示す
部　０分断面図であり、第４図は短接触時間触媒ストリ
ッピング装置の他の実施態様の区域を示す部分断面図で
あり、第５図は第２Ａ図及び第２Ｂ図に記載したサイク
ロン分離装置の排出口バレルと直接接続することができ
る４段階向流式ストリッピング装置の区域を示す分離断
−図であり、第６図は触媒刺止ポットの他の１実施君様
の区域を示す部分断面図てあり、第７図は触媒封止ボッ
トの他の実施態様の区域を示す部分断面図であり、第８
図はサイクロン分離装置の排出口バレルに隣接して設置
した短接触時間触媒ストリッピング装置の区域を示す部
分断面図であり、第９図は改変したサイクロン分離装置
排出口バレル及び該排出口バレルと短接触時間触媒スト
リッピング装置とが接続する区域を示す部分断面図であ
り、第１０１：ｊｉはアンダーソンらの米国特許第３，
０４３，８９９号明ＭＡ書の第２図に記載したライザー
ストリッピング帯域を含むライザー反応器を示す図であ
る。 図中＝４・・・サイクロン分離装置、８・・・同芯管、
１１・・・低部サイクロン段階、１２・・・螺旋状邪魔
板、２２・・・浸漬脚、２４・・・ライザー反応器、２
６・・・反応容器、３２，３４及び３６・・・邪魔板、
４４・・・触媒取り出し口、４６・・・チェンバー、４
８・・・導管、４９・・・排出口バレル、５２・・・サ
イクロン、５４・・・・導管、６０・・・触媒床、ｌＯ
Ｏ・・・そらせ板、１１０・・・短接触時間ストリッピ
ング装置（ストリッピング装置）、１１２・・・４段階
ストリッピング装置、１１６及び１１８・・・邪魔板、
１２０及び１２２・・・穴付邪魔板、１２４及び１２６
・・・排出口、１２８・・・触媒、１３０及び１３２・
・・導管（同心管）、１３４・・・導管、１４０・・・
触媒封止ボット、１４２・・・触媒レベル、１４４・・
・オーバーフロー触媒、１４６・・・排出口。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ライザー反応器中で炭化水素装入原料と慣用のＦＣ
   Ｃ触媒を接触させて消耗したＦＣＣ触媒と同伴するクラ
   ッキングした炭化水素類及びクラッキングした蒸気相炭
   化水素流よりなるライザー流出流を製造することからな
   る流動接触クラッキング方法において、 分離装置中でライザー流出流をガス状流出流及び触媒へ
   分離し； 触媒粒子が分離装置を出たらストリッピング装置中で分
   離した触媒中の触媒粒子から同伴且つ吸着した炭化水素
   類を素早く非サイクロンストリッピングを行ない；且つ ストリッピングした炭化水素類をストリッピング装置出
   口へ送ることを特徴とする流動接触クラッキング方法。 ２、ストリッピングした触媒をストリッピング装置の浸
   漬脚延長管及びストリッピングした触媒の１０〜９０％
   を排出口を通して流すことが可能な寸法の少なくとも１
   個の排出口を備えたストリッピングした触媒封止ポット
   を通過させる特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３、ストリッピングした触媒をストリッピング装置の浸
   漬脚延長管に通す工程及びストリッピングした触媒の１
   ０〜９０％を排出口を通して流すことが可能な寸法の少
   なくとも１個の排出口を備えたストリッピングした触媒
   封止ポットを通過させる工程よりなる触媒ストリッパー
   の触媒出口を封止するための改善した方法。 ４、触媒の３０〜５０％が排出口を通って流れる特許請
   求の範囲第３項記載の方法。 ５、ライザー反応器中で炭化水素装入原料を慣用のＦＣ
   Ｃ触媒と接触させて消耗したＦＣＣ触媒と同伴するクラ
   ッキングした炭化水素類及びクラッキングした蒸気相ク
   ラッキング炭化水素流からなるライザー流出流を製造す
   ることからなる流動接触クラッキング方法において、 分離装置中でライザー流出流をガス状流出流と触媒へ分
   離し、 分離した触媒を入口、触媒出口及びストリッピングした
   炭化水素出口をもつストリッピング容器へ送り、 分離した触媒を入口からストリッピング装置を経て出口
   へ至る迂回路に通し、ストリッピングガスがストリッピ
   ングガス注入位置より上部にあり且つ該注入位置と炭化
   水素出口との間に装填した分離した触媒の区分のみと接
   触するようにストリッピングガスを注入し、且つ ストリッピングガス及び分離した触媒からストリッピン
   グした炭化水素類を直接ストリッピングした炭化水素出
   口へ通すことを特徴とする流動接触クラッキング方法。 ６、１段階で注入したガスが分離した触媒区分のみに露
   出し、ストリッピングした炭化水素が出口を通過する際
   にストリッピング装置中の他の段階から注入したガスへ
   露出しないように多数の段階でストリッピングガスを注
   入する特許請求の範囲第５項記載の方法。 ７、炭化水素装入原料の流動接触クラッキング方法にお
   いて、 炭化水素装入原料と触媒の混合物をサスペンジョンとし
   て反応容器内に含まれるライザー転化帯域に通して該ラ
   イザー転化帯域中で炭化水素装入原料をクラッキングし
   、 該混合物をライザー転化帯域の出口から進路そらし帯域
   の出口に向かって物理的に進路をそらしす進路そらし帯
   域へ該混合物を通し、且つ進路のそれた混合物を進路そ
   らし帯域から分離帯域へ通すことを特徴とする炭化水素
   装入原料の流動接触クラッキング方法。 ８、通過工程後、分離帯域中で混合物から触媒の少なく
   とも１部分を分離し、分離帯域からのガス状流出流を下
   流の精留装置へ送り、分離した触媒を分離帯域から触媒
   ストリッピング帯域へ送り、該触媒ストリッピング帯域
   でストリッピングガスを使用して分離した触媒に同伴ま
   たは吸着する炭化水素類を除去し、ストリッピングガス
   並びに除去した炭化水素類を下流の精留装置に送り、且
   つ分離した触媒をストリッピング帯域から取り出すこと
   からなる工程を含む特許請求の範囲第７項記載の方法。 ９、ストリッピングガスがスチームである特許請求の範
   囲第１項から第８項までのいずれか１項に記載の方法。 １０、特許請求の範囲第１項から第９項までのいずれか
   １項に記載の装置。