JPS6139934A - Aluminum substrate for magnetic disk and its production - Google Patents

Aluminum substrate for magnetic disk and its production

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JPS6139934A
JPS6139934A JP16342484A JP16342484A JPS6139934A JP S6139934 A JPS6139934 A JP S6139934A JP 16342484 A JP16342484 A JP 16342484A JP 16342484 A JP16342484 A JP 16342484A JP S6139934 A JPS6139934 A JP S6139934A
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JP
Japan
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film
alumite
aluminum
bath
magnetic disk
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JP16342484A
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Japanese (ja)
Inventor
Makoto Ando
誠 安藤
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Sumitomo Light Metal Industries Ltd
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Sumitomo Light Metal Industries Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain an underlying film which obviates the generation of cracking, etc. as a result of heating in the stage of forming a magnetic layer and permits the easy working to smooth the surface thereof by using an Al blank material which is anodized in a sulfosalicylic acid bath as the substrate for a magnetic disk. CONSTITUTION:The Al blank material consisting of an Al-Mg alloy, etc. is anodized in an electrolyte contg. the sulfosaicylic acid to form an alumite film on the surface. The material formed in such a manner is used as the substrate for the magnetic disk. A sulfuric acid is further incorporated into the electrolytic bath by which the anodizing rate can be increased to about 1.5 times the anodizing rate of the case in which the sulfuric acid is not incorporated into said bath. Even if the alumite film formed in the above-mentioned way is formed to about >=5mu thickness, the generation of cracking, etc. by the heating in the stage of forming the magnetic layer is obviated and the alumite underlying film having excellent heat resistance is formed with easy polishing. For example, an Fe3O4 film is formed on such underlying layer and thereafter the film is converted to a gamma-Fe2O3 film at 300-350 deg.C in atm. air, by which the easy manufacture of the thin film magnetic recording medium at a low cost is made possible.

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、磁気ディズク用アルミニウム基板及びその製
造方法に係り、□特にアルミニウム素材を陽極酸化して
得られる、所謂アルマイト皮膜を有するアルミニウム基
板並びにそのようなアルミニウム基板を有利に製造する
方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field The present invention relates to an aluminum substrate for magnetic disks and a method for manufacturing the same, and particularly an aluminum substrate having a so-called alumite film obtained by anodizing an aluminum material, and such an aluminum substrate. The present invention relates to a method for advantageously manufacturing.

従来技術 従来から、電子計算機の外部記憶装置用磁気ディスクと
して、研磨処理して得られるアルミニラ一基板の表面に
、磁気記録媒体を形成せしめた構造のものが用いられて
いる。そして、この磁気記録媒体としては、これまでア
ルミニウム基板の表面に形成されるr−Fe203微粒
子塗布膜(コーテイング膜)が広く用いられてきたが、
最近になって、このγ−Fe、03微粒子塗布膜に代わ
る高密度磁気記録媒体として、γ−Fe203連続薄膜
媒体が検討されてきている。而して、現在のところ、こ
のγ−Fe203連続薄膜を直接アルミニウム基板上に
形成することできず、そのため一旦アルミニウム基板上
にpeao、膜を形成し、その後大気中で300〜35
0℃の温度で酸化することにより、該Fe3O4膜をr
−Fe203膜に変化せしめて、目的とするγ−Fe2
O3からなる薄膜状磁気記録媒体が形成された磁気ディ
スクを製造している。
BACKGROUND OF THE INVENTION Conventionally, magnetic disks for external storage devices of electronic computers have a structure in which a magnetic recording medium is formed on the surface of an aluminum substrate obtained by polishing. As this magnetic recording medium, an r-Fe203 fine particle coating film (coating film) formed on the surface of an aluminum substrate has been widely used.
Recently, a γ-Fe203 continuous thin film medium has been studied as a high-density magnetic recording medium to replace the γ-Fe,03 fine particle coating film. At present, it is not possible to directly form this γ-Fe203 continuous thin film on an aluminum substrate, so a peao film is first formed on an aluminum substrate, and then 300 to 35
By oxidizing at a temperature of 0°C, the Fe3O4 film is
-Change into Fe203 film and target γ-Fe2
We manufacture magnetic disks on which thin film magnetic recording media made of O3 are formed.

ところで、磁気記録媒体を塗布せしめる従来の塗布型磁
気ディスクの場合にあっては、基板としてアルミニウム
板を研磨したもので充分であったが、厚さが0.3μm
以下となる上述のr−Fe2o3薄膜の場合にあっては
、基板としてのアルミニウム板には、表面粗さ:Rが0
.03μm以下の平滑度をもった表面が要求されること
となる。而して、アルミニウム板の研磨処理だけでは、
そのような高加工精度を得ることができないのである。
By the way, in the case of conventional coated magnetic disks in which a magnetic recording medium is coated, a polished aluminum plate was sufficient as the substrate, but a substrate with a thickness of 0.3 μm
In the case of the r-Fe2o3 thin film described above, the aluminum plate as the substrate has a surface roughness: R of 0.
.. A surface with a smoothness of 0.3 μm or less is required. Therefore, polishing the aluminum plate alone is not enough.
Such high machining accuracy cannot be obtained.

そこで、何等かの下地処理をアルミニウム板の表面に施
すこととなるが、従来のN1−Pメッキでは、上述の如
きr−Fe203膜形成のための300〜350℃の加
熱によって磁性が回復してしまい、到底採用できる手段
ではないのである。
Therefore, some kind of base treatment is applied to the surface of the aluminum plate, but in conventional N1-P plating, the magnetism is recovered by heating at 300 to 350°C to form the r-Fe203 film as described above. Unfortunately, this is not a method that can be adopted at all.

けだし、一般に、磁気ディスク用アルミニウム基板の下
地皮膜には、次のような性能が要求されているからであ
る。
However, the following performance is generally required of the base film of an aluminum substrate for a magnetic disk.

a)非磁性であること、 b)表面が平滑であること、 C)表面が固いこと。a) Be non-magnetic; b) The surface is smooth; C) The surface is hard.

一方、このような下地皮膜としての性能を満足する、ア
ルマイト基板により形成された陽極酸化皮膜(アルマイ
ト皮膜)を有するアルミニウム基板の製造方法が、特公
昭54−26439号公報に明らかされている。この磁
気ディスク用アルミニウム基板の製造手法によれば、ア
ルミニウム板をアルマイト処理して、厚さ3μm以下の
アルマイト皮膜を形成せしめ、そしてこのアルマイト板
に150〜350℃の加熱処理を施した後、研磨処理し
、更にその後、薄膜磁気記録媒体を形成することとされ
ている。
On the other hand, Japanese Patent Publication No. 54-26439 discloses a method for manufacturing an aluminum substrate having an anodic oxide film (alumite film) formed of an alumite substrate that satisfies the performance as a base film. According to this manufacturing method of an aluminum substrate for a magnetic disk, an aluminum plate is alumite-treated to form an alumite film with a thickness of 3 μm or less, and then this alumite plate is heat-treated at 150 to 350°C, and then polished. processing and then further forming a thin film magnetic recording medium.

問題点 しかしながら、このようなアルマイト法によるアルミニ
ウム板に対する下地処理にあっては、アルマイト法とし
て硫酸浴を用いた硫酸アルマイト法が採用されており、
また形成されるアルマイト皮膜の厚さが3μm以下と制
限され、3μmを越えるようなアルマイト皮膜では、前
述したγ−Fe20B膜の生成のための加熱時にクラン
クが発生するとされている。而して、この下地皮膜とし
てのアルマイト皮膜の厚さが薄いことは、磁気ディスク
を製造するために下地処理後に施されるアルマイト基板
に対する研磨加工が困難となることを意味しているので
ある。しかも、上記した従来の磁気ディスク用アルマイ
ト基板の製造法にあっては、研磨処理に先立って加熱処
理(後処理)が必要とされているため、その製造工程が
長くなり、工程が複雑となったり、製造コストを高める
等の問題を内在しているのである。
Problems However, in the surface treatment of aluminum plates using the alumite method, the sulfuric acid alumite method using a sulfuric acid bath is used as the alumite method.
Further, the thickness of the alumite film to be formed is limited to 3 μm or less, and in an alumite film exceeding 3 μm, cranking is said to occur during heating to form the aforementioned γ-Fe20B film. The thin thickness of the alumite film as the base film means that it is difficult to polish the alumite substrate, which is performed after the base treatment in order to manufacture magnetic disks. Moreover, in the conventional manufacturing method of anodized aluminum substrates for magnetic disks described above, heat treatment (post-treatment) is required prior to polishing treatment, which lengthens the manufacturing process and makes the process complicated. However, there are inherent problems such as increasing production costs and increasing production costs.

解決手段 ここにおいて、本発明は、かかる従来、の問題を解決す
るために為されたものであって、その要旨とするところ
は、アルミニウム素材の磁気記録媒体の形成される表面
の下地処理として、該アルミニウム素材をスルホサリチ
ル酸浴中で陽極酸化することにあり、そしてこのような
スルホサリチル酸アルマイト皮膜の形成されたアルミニ
ウム基板にあっては、そのアルマイト皮膜の厚さを5μ
m以上、好ましくは10μm以上としても良好な耐熱性
を示し、高温加熱において何等のクランクも発生せしめ
ない、また下地処理後の研磨加工の容易な磁気ディスク
、用アルミニウム基板と為し得たのである。
Solution The present invention has been made to solve such conventional problems, and its gist is to provide a base treatment for the surface on which a magnetic recording medium made of aluminum material is formed. The aluminum material is anodized in a sulfosalicylic acid bath, and for the aluminum substrate on which such a sulfosalicylic acid alumite film is formed, the thickness of the alumite film is 5 μm.
The aluminum substrate exhibits good heat resistance even when the thickness is 10 μm or more, preferably 10 μm or more, does not cause any cranking when heated at high temperatures, and can be easily polished after surface treatment as an aluminum substrate for magnetic disks. .

ところで、かかる本発明において用いられるアルミニウ
ム素材としては、従来から磁気ディスク用アルミニウム
基板の素材として用いられているアルミニウム基合金か
らなる板状材料が何れも用いられ得るものであって、例
えばAN−Mg系合金板が強度、加工性の点から用いら
れることとなる。そして、このようなアルミニウム素材
には、予め従来と同様な研磨加工が施された後、本発明
に従うスルホサリチル酸浴を用いた陽極酸化処理が実施
されるのである。
By the way, as the aluminum material used in the present invention, any plate material made of an aluminum-based alloy that has been conventionally used as a material for aluminum substrates for magnetic disks can be used, such as AN-Mg. A type alloy plate is used from the viewpoint of strength and workability. Then, such an aluminum material is previously subjected to a polishing process similar to the conventional method, and then anodization treatment using a sulfosalicylic acid bath according to the present invention is performed.

そして、このスルホサリチル酸浴を用いた陽極酸化処理
には、従来から建材用自然発色電解法として知られてい
る手法がそのまま適用されるものであって、それは、ス
ルホサリチル酸: cs H3(OH)(So、H)C
OOHを含む電解浴を用いて、直流にて陽極酸化せしめ
る手法である。
For the anodizing treatment using this sulfosalicylic acid bath, the method known as the natural coloring electrolytic method for building materials is applied as is. So, H)C
This is a method of anodic oxidation using direct current using an electrolytic bath containing OOH.

なお、このような陽極酸化処理の条件は、用いられるア
ルミニウム素材や形成されるアルマイト皮膜の厚さ等に
よって適宜に決定されることとなるが、一般には電解浴
中に100〜150 g/J程度のスルホサリチル酸が
存在せしめられ、そして30〜80V程度の電圧にて、
電流密度が0.1〜4A/drd程度にて直流電解する
手法が採用されることとなる。
The conditions for such anodic oxidation treatment will be determined appropriately depending on the aluminum material used and the thickness of the alumite film to be formed, but generally about 100 to 150 g/J is added to the electrolytic bath. of sulfosalicylic acid is present, and at a voltage of about 30 to 80 V,
A method of direct current electrolysis at a current density of about 0.1 to 4 A/drd will be adopted.

また、この電解時の浴温度としては、一般に、20〜4
0℃程度の温度が好適に採用され、一方あまりにも低い
浴温度は避けることが望ましい。
In addition, the bath temperature during this electrolysis is generally 20 to 4
Temperatures of the order of 0° C. are preferably employed, while bath temperatures that are too low are desirably avoided.

けだし、浴温か20℃よりも低くなると、加熱処理を受
けた時にアルマイト皮膜にクランクが発生し易くなるか
らである。
However, if the bath temperature is lower than 20° C., cranks are likely to occur in the alumite film when subjected to heat treatment.

さらに、かくの如き陽極酸化処理においては、スルホサ
リチル酸浴が硫酸あるいは硫酸アルミニウムを含むよう
にすることが望ましく、そのような硫酸あるいは硫酸ア
ルミニウムの存在によって、アルミニウム素材の表面に
形成されるアルマイト皮膜の生成速度が効果的に高めら
れ、しかも該皮膜により有効な耐熱性を与える等の好結
果をもたらす。なお、電解浴中における硫酸の存在量(
添加量)としては、一般に1〜10 g/42程度が採
用され、また硫酸アルミニウムの存在量としては、一般
に0.5〜5 g / j!程度が採用されることとな
る。
Furthermore, in such anodizing treatment, it is desirable that the sulfosalicylic acid bath contain sulfuric acid or aluminum sulfate, and the presence of such sulfuric acid or aluminum sulfate will reduce the alumite film formed on the surface of the aluminum material. The production rate is effectively increased, and the film has better heat resistance. In addition, the amount of sulfuric acid present in the electrolytic bath (
The amount added is generally about 1 to 10 g/42, and the amount of aluminum sulfate is generally 0.5 to 5 g/j! The degree will be adopted.

そして、このようにして形成されるアルミニウム素材表
面上のスルホサリチル酸アルマイト皮膜は、前述した磁
気ディスクの下地皮膜として要求される特性を何れも具
備するものであって、後の研磨処理の程度に応じて適宜
な厚さにおいて形成されることとなるが、一般に少なく
とも5μmの厚さにおいて、望ましくは10〜40μm
程度の厚さにおいて形成されることとなる。このように
、アルマイト皮膜の厚、さを厚くすれば、後の研磨加工
処理を容易とすることができるのであり、本発明手法で
は、そのような厚いアルマイト皮膜を、クラックの発生
を同等顧慮することなく、有利に形成せしめ得る特徴が
あり、従来法における硫酸アルマイト皮膜では、その膜
厚が3μm以上となるとクランクが発生する問題を内在
しているのである。特に、本発明に従うスルホサリチル
酸アルマイト皮膜では、その厚さを1011mとしても
、350℃×3時間の加熱に耐えられる皮膜とすること
ができる。
The sulfosalicylic acid alumite film formed on the surface of the aluminum material in this way has all the characteristics required as the base film of the magnetic disk described above, and it depends on the degree of the subsequent polishing treatment. Generally, the thickness is at least 5 μm, preferably 10 to 40 μm.
It will be formed to a certain thickness. In this way, by increasing the thickness and thickness of the alumite film, the subsequent polishing process can be made easier, and in the method of the present invention, such a thick alumite film can be processed with equal consideration to the occurrence of cracks. However, the sulfuric acid alumite film in the conventional method has the inherent problem that cranking occurs when the film thickness exceeds 3 μm. In particular, the sulfosalicylic acid alumite film according to the present invention can withstand heating at 350° C. for 3 hours even if the thickness is 1011 m.

また、このようにアルミニウム素材の表面にスルホサリ
チル酸アルマイト皮膜を下地皮膜として形成せしめてな
るアルミニウム基板には、その後、従来の磁気ディスク
の製造手法と同様にして、研磨加工処理、換言すれば機
械的若しくは化学的な表面平滑化処理が施され、そして
その後、その平滑な表面上に薄膜磁気記録媒体が形成さ
れて、目的とする磁気ディスクとされることとなる。
In addition, the aluminum substrate formed by forming the sulfosalicylic acid alumite film as a base film on the surface of the aluminum material is then subjected to a polishing treatment, in other words, mechanical treatment, in the same manner as the conventional magnetic disk manufacturing method. Alternatively, a chemical surface smoothing treatment is performed, and then a thin film magnetic recording medium is formed on the smooth surface to form the intended magnetic disk.

発明の効果 このように、本発明に従えば、アルミニウム素材の磁気
記録媒体の形成される表面に、下地皮膜として耐熱性の
良好な厚膜のスルホサリチル酸アルマイト皮膜が形成さ
れることとなり、これによってその後の研磨加工処理が
容易と為され得たのであり、またアルマイト皮膜の耐熱
性の向上のために、従来法の如き熱処理も全く必要でな
くなり、これによって磁気ディスクアルミニウム基板な
いしは磁気ディスクの製造工程が長くなるようなことも
なく、それ故に生産コストの増大を招く等の問題を生じ
ることもないのである。
Effects of the Invention As described above, according to the present invention, a thick sulfosalicylic acid alumite film with good heat resistance is formed as a base film on the surface of a magnetic recording medium made of aluminum material, and as a result, The subsequent polishing process could be easily carried out, and since the heat resistance of the alumite film was improved, heat treatment as in conventional methods was no longer necessary. Therefore, there is no problem such as an increase in production costs.

しかも、本発明に従ってアルミニウム素材の表面に形成
されるスルホサリチル酸アルマイト皮膜は、従来から建
材用自然発色電解浴として用いられているスルホサリチ
ル酸電解浴を用いる陽極酸化処理にて容易に形成される
ため、かかるアルマイト皮膜の形成においで、特に困難
となる問題を発生せしめることはないのである。
Moreover, the sulfosalicylic acid alumite film formed on the surface of the aluminum material according to the present invention can be easily formed by anodizing using a sulfosalicylic acid electrolytic bath, which has been conventionally used as a naturally coloring electrolytic bath for building materials. In forming such an alumite film, no particular problems arise.

実施例 以下に、幾つかの実施例を示し、本発明を更に具体的に
明らかにするが、本発明がそれらの実施例の記載によっ
て何等の制約をも受けるものではないこと、言うまでも
ないところである。なお、実施例中の百分率は、特に断
りのない限り、重量基準にて示されている。
EXAMPLES Below, some examples will be shown to clarify the present invention in more detail, but it goes without saying that the present invention is not limited in any way by the description of these examples. . Note that the percentages in the examples are expressed on a weight basis unless otherwise specified.

実施例 I Aβ−Mg系合金板、例えばAA5086規格の合金組
成、即ちMg:4.2%、Fe:0.18%、Si:0
.06%、Mn:0.37%、Cr:0.08%、Cu
:0.04%、Ti:0.03%、及びZn:0.01
%以下番含み、残部がAAからなるAA合金板を、10
0g/Aのスルホサリチル酸を含む電解浴中において、
L A/d rrfの電流密度にて、浴温:25℃で6
0分間陽極酸化し、厚さ=10μmのアルマイト皮膜を
、該AJ合金板の表面に形成せしめた。次いで、このア
ルマイト処理A11合金板を350℃×3時間の加熱処
理に付し、その表面上に形成されたアルマイト皮膜の耐
熱性を評価した。
Example I Aβ-Mg alloy plate, for example, alloy composition of AA5086 standard, that is, Mg: 4.2%, Fe: 0.18%, Si: 0
.. 06%, Mn: 0.37%, Cr: 0.08%, Cu
:0.04%, Ti:0.03%, and Zn:0.01
% or less, and the balance is AA, 10
In an electrolytic bath containing 0 g/A of sulfosalicylic acid,
At a current density of L A/d rrf, bath temperature: 6 at 25°C
Anodic oxidation was performed for 0 minutes to form an alumite film with a thickness of 10 μm on the surface of the AJ alloy plate. Next, this alumite-treated A11 alloy plate was subjected to a heat treatment at 350° C. for 3 hours, and the heat resistance of the alumite film formed on its surface was evaluated.

この耐熱性の評価は、硫酸銅析出試験及び光学顕微鏡に
よる表面の観察により行なったが、スルホサリチル酸浴
を用いた陽極酸化により得られるスルホサリチル酸アル
マイト皮膜には、クラックの発生は何等認められず、そ
の耐熱性が優れていることが明らかとなった。
This heat resistance evaluation was performed by copper sulfate precipitation test and surface observation using an optical microscope, but no cracks were observed in the sulfosalicylic acid alumite film obtained by anodizing using a sulfosalicylic acid bath. It has become clear that its heat resistance is excellent.

なお、硫酸銅析出試験は、塩酸酸性にした硫酸銅溶液中
での銅析出を観察することからなる試験である。
Note that the copper sulfate precipitation test is a test consisting of observing copper precipitation in a copper sulfate solution acidified with hydrochloric acid.

比較例 1 実施例1と同様なA4合金板を、150g/A濃度の硫
酸電解浴中において、同様に陽極酸化処理し、厚さ10
μmの硫酸アルマイト皮膜を形成せしめた。
Comparative Example 1 An A4 alloy plate similar to that of Example 1 was anodized in the same manner in a sulfuric acid electrolytic bath with a concentration of 150 g/A, and the plate was made to a thickness of 10
A sulfuric acid alumite film of μm thickness was formed.

次いで、この硫酸アルマイト皮膜を有するA4合金板に
ついて、上記実施例1と同様な加熱試験を行ない、その
耐熱性について評価したところ、加熱処理によって硫酸
アルマイト皮膜にはクランクが発生し、また一部のアル
マイト皮膜が剥離していることが観察された。従って、
この結果、硫酸アルマイト皮膜は、耐熱性にお(1)で
劣るものと判断された。
Next, the A4 alloy plate having the sulfuric acid alumite film was subjected to a heating test similar to that in Example 1, and its heat resistance was evaluated. As a result of the heat treatment, cranks were generated in the sulfuric acid alumite film, and some cracks were observed. It was observed that the alumite film had peeled off. Therefore,
As a result, the sulfuric acid alumite film was judged to be inferior in heat resistance (1).

実施例 2 実施例1において用いられたスルホサIJチル酸電解浴
中に、硫酸を1.8g/gの割合で添加して、実施例1
と同様にして陽極酸化処理を行なったところ、皮膜の生
成速度は無添加の場合の1.5(iとなった。
Example 2 Sulfuric acid was added at a rate of 1.8 g/g to the sulfosa IJ tylic acid electrolytic bath used in Example 1.
When anodizing was carried out in the same manner as above, the film formation rate was 1.5 (i) compared to the case without additives.

そして、この得られたスルホサリチル酸アルマイト皮膜
を有する/1合金板につむ)で、前記と同様な加熱試験
を行なったところ、クラ・ツクの発生は何等認められな
かった。
Then, when a heating test similar to that described above was conducted on the obtained /1 alloy plate having the sulfosalicylic acid alumite film, no cracking was observed.

実施例 3 実施例1で用いられたスルホサリチル気カーに、Ig/
βの硫酸アルミニウムを添加して、実施例1と同様にし
て陽極酸化したところ、アルマイト皮膜の生成速度は無
添加の場合に比して1.5倍となった。また、生成した
アルマイト皮M葵番よ、加熱試験においてもクラ・ツク
を発生すること番よなかった。
Example 3 Ig/
When β aluminum sulfate was added and anodic oxidation was performed in the same manner as in Example 1, the formation rate of the alumite film was 1.5 times that of the case without the addition. In addition, the produced alumite skin M Aoi did not cause any cracks or cracks in the heating test.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)アルミニウム素材の磁気記録媒体の形成される表
面の下地処理として、該アルミニウム素材をスルホサリ
チル酸浴中で陽極酸化することを特徴とする磁気ディス
ク用アルミニウム基板の製造方法。
(1) A method for producing an aluminum substrate for a magnetic disk, which comprises anodizing the aluminum material in a sulfosalicylic acid bath as a surface treatment for the surface on which the magnetic recording medium is formed.
(2)前記スルホサリチル酸浴が、硫酸を含有する特許
請求の範囲第1項記載の製造方法。
(2) The manufacturing method according to claim 1, wherein the sulfosalicylic acid bath contains sulfuric acid.
(3)前記スルホサリチル酸浴が、硫酸アルミニウムを
含有する特許請求の範囲第1項記載の製造方法。
(3) The manufacturing method according to claim 1, wherein the sulfosalicylic acid bath contains aluminum sulfate.
(4)磁気記録媒体の形成されるべき表面に、スルホサ
リチル酸浴にて陽極酸化せしめて得られる下地皮膜を有
する磁気ディスク用アルミニウム基板。
(4) An aluminum substrate for a magnetic disk having a base film obtained by anodizing in a sulfosalicylic acid bath on the surface on which a magnetic recording medium is to be formed.
(5)前記下地皮膜が、少なくとも5μmの厚さにおい
て形成されている特許請求の範囲第4項記載のアルミニ
ウム基板。
(5) The aluminum substrate according to claim 4, wherein the base film is formed to have a thickness of at least 5 μm.
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