JPS6139293A - Magnetic bubble memory element and its manufacture - Google Patents

Magnetic bubble memory element and its manufacture

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JPS6139293A
JPS6139293A JP15719884A JP15719884A JPS6139293A JP S6139293 A JPS6139293 A JP S6139293A JP 15719884 A JP15719884 A JP 15719884A JP 15719884 A JP15719884 A JP 15719884A JP S6139293 A JPS6139293 A JP S6139293A
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JP
Japan
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soft magnetic
layer
bubble
magnetic material
memory element
Prior art date
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Pending
Application number
JP15719884A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideki Fujiwara
英樹 藤原
Niwaji Majima
庭司 間島
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6139293A publication Critical patent/JPS6139293A/en
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Abstract

PURPOSE:To enhance a driving force of a bubble without decreasing a bubble detecting force of a detector by forming a soft magnetic material pattern with different thickness. CONSTITUTION:A soft magnetic material pattern 8 is formed by the first and second soft magnetic material layers 5 and 7 and its thicknss is thick (3,000Angstrom + 1,000Angstrom =4,000Angstrom and a soft magnetic pattern 9 is formed by the first magnetic material layer 5 only and its thickness is thin (3,000Angstrom ). Consequently, the soft magnetic pattern with different film thickness is formed on the same element, and the thick soft magnetic material is used for a minor part of an information memory and the thin soft magnetic material is used for a detector. Thus, a bubble driving force can be enhanced without decreasing bubble detection.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子計算装置等の記憶装置として用いられる磁
気バブルメモリ素子及びその製造方法に関するものであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a magnetic bubble memory element used as a storage device for electronic computing devices and the like, and a method for manufacturing the same.

磁気バブルを利用した磁気バブルメモリ装置は不揮発性
、高記憶密度、低消費電力等積々の特徴をもち、さらに
機械的要素を全く含まない固体素子であることから非常
Oこ高い信頼性を有し、大容量メモリとして使用されて
いる。
Magnetic bubble memory devices that utilize magnetic bubbles have many features such as non-volatility, high storage density, and low power consumption.Furthermore, because they are solid-state devices that do not contain any mechanical elements, they have extremely high reliability. It is used as large capacity memory.

〔従来の技術および発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by conventional technology and invention]

このような磁気バブルメモリも最近の情報量の増加及び
装置の小型化が要求され、メモリ容量が高密度化される
に従いバブル転送用の軟磁性体パターンのサイズが小さ
くなり、バブルの駆動力が弱まるという問題がある。こ
の対策として軟磁性体パターンの膜厚を厚くするという
方法と、駆動力の弱い部分のみスペーサ(結晶表面と軟
磁性体パターンとの間隔)を薄くするというデュアルス
ペーサ方式とがある。ところが前者の膜厚を厚くする方
法は磁気抵抗効果1利用してバブルひ検出するディテク
タの抵抗値が低くなりバブル検出出力が小さくなるとい
う欠点があり、後者のデュアルスペーサ方式はその製作
プルセスが難かしいという欠点がある。
Such magnetic bubble memory is also required to have an increased amount of information and miniaturization of devices, and as the memory capacity becomes higher density, the size of the soft magnetic material pattern for bubble transfer becomes smaller, and the driving force of the bubble becomes smaller. There is a problem with weakening. As a countermeasure for this, there is a method of increasing the film thickness of the soft magnetic material pattern, and a dual spacer method of reducing the spacer (the distance between the crystal surface and the soft magnetic material pattern) only in the portion where the driving force is weak. However, the former method of increasing the film thickness has the disadvantage that the resistance value of the detector that detects bubbles using the magnetoresistive effect 1 becomes low and the bubble detection output becomes small, and the latter dual spacer method is difficult to manufacture. It has the disadvantage of being ugly.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、上記問題点を解消した磁気バブルメモリ素子
およびその作製方法を提供するもので、その手段は、バ
ブル用結晶の上に軟磁性体パターンによるバブル転送路
が設けられた磁気バブルメモリ素子において、前記軟磁
性体パターンは膜厚の異なる複数種類のパターンが設け
られていることを特徴とする磁気バブルメモリ素子によ
ってなされる。
The present invention provides a magnetic bubble memory element that solves the above-mentioned problems and a method for manufacturing the same. The soft magnetic material pattern is formed by a magnetic bubble memory element characterized in that a plurality of types of patterns having different film thicknesses are provided.

またバブル用結晶の上にスペーサを介して第1の軟磁性
体層を形成し、続いて非磁性層を形成し、その上に第2
の軟磁性体層を形成した後、第2の軟磁性体層の一部ひ
エツチングして除去し、その後全体の軟磁性体パターン
を形成することを特徴とする磁気バブルメモリ素子の作
製方法によってなされる。
In addition, a first soft magnetic layer is formed on the bubble crystal via a spacer, followed by a nonmagnetic layer, and a second soft magnetic layer is formed on top of the nonmagnetic layer.
By a method of manufacturing a magnetic bubble memory element, the second soft magnetic layer is partially etched and removed after forming a second soft magnetic layer, and then the entire soft magnetic material pattern is formed. It will be done.

〔作用〕[Effect]

上記磁気バブルメモリ素子およびその作製方法は、非磁
性体層を介して2つの軟磁性体層を形成しておき、ディ
テクタとなる領域のみ上層の軟磁性体層をエツチング除
去し、しかる後全体の軟磁性体パターンを形成して異な
る膜厚の軟磁性体パターンを得ることにより、バブル検
出力を小さくすることなくバブル駆動力を高め、高密度
容量のバブルメモリ素子を実現することができる。
The magnetic bubble memory element and its manufacturing method include forming two soft magnetic layers with a non-magnetic layer in between, etching away the upper soft magnetic layer only in the area that will become the detector, and then etching the entire soft magnetic layer. By forming soft magnetic patterns to obtain soft magnetic patterns with different thicknesses, it is possible to increase the bubble driving force without reducing the bubble detection ability and realize a bubble memory element with high density capacity.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面を参照して本考案の実施例を詳細に説明する
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は本発明による磁気バブルメモリ素子およびその
作製方法を説明するための図であり、α〜fはその作製
工程を示した断面図である。同図において、1はバブル
用結晶、2はスペーサ、3はコンダクタパターン、4は
POIIS(ポリラダーオルガノシロキサン)樹脂層、
5は第1の軟磁性体層、6は8102層、7は第2の軟
磁性体層、8.9は軟磁性体パターン、10はパ、シペ
ーシ、ン膜ごそれぞれ示す。
FIG. 1 is a diagram for explaining the magnetic bubble memory element and its manufacturing method according to the present invention, and alpha to f are cross-sectional views showing the manufacturing process. In the figure, 1 is a bubble crystal, 2 is a spacer, 3 is a conductor pattern, 4 is a POIIS (polyladder organosiloxane) resin layer,
Reference numeral 5 indicates a first soft magnetic layer, 6 indicates an 8102 layer, 7 indicates a second soft magnetic layer, 8.9 indicates a soft magnetic material pattern, and 10 indicates a film, a film, and a film, respectively.

本実施例を図により説明すると、先ずα図の如くバブル
用結晶1の上に5102をスパッタしてスペーサ2(厚
さ500A)を形成し、その上にTaMo/Au/Ta
Mo (厚さ150A/3300A/1ook)を電子
ビーム蒸着した後パターニングしてコンダクタパターン
3を形成する。次にh図の如< si系POLSを塗布
し、350Cで熱硬化させPoll5樹脂層4(厚さ2
50OA)を形成する。次に0図の如く第1の軟磁体層
5(厚さ3000 X )トLテハーマoイ(Ni −
Fe )ヲに子線蒸着し、続いて51o2 I僻6(厚
さ300A)と第2の軟S性体層7(厚さ1[+00A
)としてのパーマロイを順次電子線蒸着する。次にd図
の如くホトレジストでマスクし、ディテクタ部のみ第2
の軟磁性体層をエツチングする。この場合エツチング液
にHIJO3−?eOLJのエツチング液を用いれば8
102層6はエツチングされずに残るので第」の軟磁性
体Jf15は無事である。次に#図の如くホトレジスト
(Al−マイクロポジット、厚さ約7oooK)を塗布
し、露光現像後、イオンミリングにより軟磁性体パター
ン8,9を形成する。
To explain this example with the drawings, first, as shown in the figure α, 5102 is sputtered on the bubble crystal 1 to form the spacer 2 (thickness 500A), and then TaMo/Au/Ta
Mo (thickness 150A/3300A/1ook) is electron beam deposited and then patterned to form a conductor pattern 3. Next, as shown in figure h, apply Si-based POLS and heat cure it at 350C to form the Poll5 resin layer 4 (thickness 2
50OA). Next, as shown in FIG.
Then, 51o2I layer 6 (thickness 300A) and second soft S material layer 7 (thickness 1[+00A
) is sequentially electron-beam evaporated. Next, mask with photoresist as shown in figure d, and only the detector part is exposed to the second mask.
etching the soft magnetic layer. In this case, use the etching solution as HIJO3-? If you use eOLJ etching solution, 8
Since the 102nd layer 6 remains without being etched, the soft magnetic material Jf15 is intact. Next, as shown in figure #, a photoresist (Al-microposit, thickness about 700K) is applied, and after exposure and development, soft magnetic patterns 8 and 9 are formed by ion milling.

この場合は5102層6はエツチングされる。次いで1
図の如(POLS樹脂を塗布・硬化させてパ、シベーシ
、ン膜10(厚さ1μm)  を形成し、本発明の磁気
バブルメモリ素子が得られる。
In this case, the 5102 layer 6 is etched. then 1
As shown in the figure, a magnetic bubble memory element of the present invention is obtained by applying and curing POLS resin to form a permeable film 10 (thickness: 1 μm).

本実施例によれば、第1図fに示すように軟磁性体パタ
ーン8は第1及び第2の軟磁性体層5゜7より形成され
たもので、その厚さは厚く(goooL+−1oooX
=4oooX)、軟磁体パターン9は第1の軟磁性一体
層5のみから形成されたものでその厚さは薄<(30D
OA)なっている。従って同一素子上に膜厚の異なる軟
磁性体パターンが形成されたことになり、この厚い方を
情報記憶のマイナ一部に用い、薄い方をディテクタに用
いればバブル検出力を下げることなくバブル駆動力を高
めることができ゛る。
According to this embodiment, as shown in FIG.
=4oooX), the soft magnetic pattern 9 is formed only from the first soft magnetic integral layer 5, and its thickness is thin <(30D
OA). Therefore, soft magnetic patterns with different film thicknesses are formed on the same element, and if the thicker one is used for the minor part of information storage and the thinner one is used for the detector, it is possible to drive bubbles without reducing the bubble detection ability. You can increase your power.

上記実施例は2つの軟磁性体層5,7の間に中間層6r
t設けたものであるが、この中間層を設けずとも異なる
厚さの軟磁性体パターンを有する磁気バブルメモリ素子
を作製することができる。第2図はその作製方法を説明
するための図である。
The above embodiment has an intermediate layer 6r between the two soft magnetic layers 5 and 7.
However, magnetic bubble memory elements having soft magnetic material patterns of different thicknesses can be manufactured without providing this intermediate layer. FIG. 2 is a diagram for explaining the manufacturing method.

同図において第1図と同一部分は同一符号を付して示し
た。
In this figure, the same parts as in FIG. 1 are designated by the same reference numerals.

本実施例が前実施例と異なるところは0及びD図に示し
た工程が異なるのみにて他は同様であり、0図に示した
工程は軟磁性体層5′としてパーマロイ(xl−pe 
)を厚さ40[110A  に電子線蒸着し、次にd図
に示す如くホトレジストでマスクし、ディテクタ部のみ
軟磁性体層5′を100OAだけイオンミリングで除去
するのである。以下−及び1図に示した工程を行ない厚
さの異なる軟磁性体パターン8,9を有する磁気バブル
メモリ素子が得られる。なお本実施例の効果は前実施例
と同様である。
The difference between this example and the previous example is that the steps shown in Figures 0 and D are different, and the rest are the same.
) is electron beam evaporated to a thickness of 40 [110 Å], then masked with photoresist as shown in Figure d, and only the detector portion of the soft magnetic layer 5' is removed by ion milling to a thickness of 100 Å. By carrying out the steps shown below and in FIG. 1, a magnetic bubble memory element having soft magnetic patterns 8 and 9 of different thicknesses is obtained. Note that the effects of this embodiment are similar to those of the previous embodiment.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明によれば、厚さの異なる軟磁
性体パターンを形成することによりディテクタのバブル
検出力を低下させることなくバブルの駆動力を高めるこ
とができる。また本発明によれば前記の磁気バブルメモ
リ素子ご容易に作製することができる。
As described above, according to the present invention, by forming soft magnetic patterns having different thicknesses, the bubble driving force can be increased without reducing the bubble detection ability of the detector. Further, according to the present invention, the above-described magnetic bubble memory element can be easily manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の磁気バブルメモリ素子およびその作製
方法の一実施例を説明するための図、第2図は本発明の
他の実施例を説明するための図である0 図中、1はバブル用結晶、2はスペーサ、3はコンダク
タパターン、4はPox、s@脂層、5は第1の軟磁性
体層、6は51o2層、7は第2の軟磁性体層、8.9
は快磁性体パターン、10はパッジベージ、ン膜をそれ
ぞれ示す。 第1図゛ 第2図
FIG. 1 is a diagram for explaining one embodiment of the magnetic bubble memory element of the present invention and its manufacturing method, and FIG. 2 is a diagram for explaining another embodiment of the present invention. 2 is a bubble crystal, 2 is a spacer, 3 is a conductor pattern, 4 is Pox, s@ fat layer, 5 is a first soft magnetic layer, 6 is a 51o2 layer, 7 is a second soft magnetic layer, 8. 9
10 indicates a magnetic free material pattern, and 10 indicates a paddock film. Figure 1 - Figure 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、バブル用結晶の上に軟磁性体パターンによるバブル
転送路が設けられた磁気バブルメモリ素子において、前
記軟磁性体パターンは膜厚の異なる複数種類のパターン
が設けられていることを特徴とする磁気バブルメモリ素
子。 2、前記軟磁性体パターンは、第1の軟磁性体層から形
成されたパターンと、第1の軟磁性体層の上にSiO_
2、CrO_3等の非磁性層を介して形成された第2の
軟磁性体層から形成されたパターンとを有することを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気バブルメモリ
素子。 3、バブル用結晶の上にスペーサを介して第1の軟磁性
体層を形成し、続いて非磁性層を形成し、その上に第2
の軟磁性体層を形成した後、第2の軟磁性体層の一部を
エッチングし、その後全体の軟磁性体パターンを形成す
ることを特徴とする磁気バブルメモリ素子の作製方法。
[Claims] 1. In a magnetic bubble memory element in which a bubble transfer path is provided with a soft magnetic material pattern on a bubble crystal, the soft magnetic material pattern is provided with a plurality of types of patterns having different film thicknesses. A magnetic bubble memory element characterized by: 2. The soft magnetic material pattern includes a pattern formed from the first soft magnetic material layer and a SiO material layer formed on the first soft magnetic material layer.
2. The magnetic bubble memory element according to claim 1, wherein the magnetic bubble memory element has a pattern formed from a second soft magnetic layer formed through a nonmagnetic layer such as CrO_3. 3. Form a first soft magnetic layer on the bubble crystal via a spacer, then form a nonmagnetic layer, and then form a second soft magnetic layer on top of the nonmagnetic layer.
1. A method for manufacturing a magnetic bubble memory element, comprising: forming a second soft magnetic layer, etching a part of the second soft magnetic layer, and then forming an entire soft magnetic pattern.
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