JPS6132816A - Rubbing treatment device for liquid-crystal display element substrate - Google Patents
Rubbing treatment device for liquid-crystal display element substrateInfo
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- JPS6132816A JPS6132816A JP15465184A JP15465184A JPS6132816A JP S6132816 A JPS6132816 A JP S6132816A JP 15465184 A JP15465184 A JP 15465184A JP 15465184 A JP15465184 A JP 15465184A JP S6132816 A JPS6132816 A JP S6132816A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は液晶表示素子基板のラビング処理装置に関する
ものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a rubbing treatment apparatus for liquid crystal display element substrates.
液晶表示は電卓、デジタルウォッチから最近ではテレビ
、OA機器のディスプレイ等利用分野は広がっている。The field of use of liquid crystal displays has expanded from calculators and digital watches to TVs and office equipment displays.
液晶表示において、すぐれた表示特性を得るため、ラビ
ング圧力を一定に制御することにより配向を一様にする
こ゛とが要望されている。In liquid crystal displays, in order to obtain excellent display characteristics, it is desired to uniformize the alignment by controlling the rubbing pressure to a constant level.
ツィステッドネマティック液晶表示パネルにおいて、液
晶分子はその長軸が基板面に水平でかつ一方の基板から
他方の基板へ行く間に長軸方向が90℃ずれるように配
列されている。In a twisted nematic liquid crystal display panel, liquid crystal molecules are arranged so that their long axes are parallel to the substrate surfaces and that their long axes are shifted by 90 degrees while passing from one substrate to the other.
液晶分子をこのように配列させる方法としては基板にポ
リイミド、ポリビニルアルコール、5i02、Cen2
. シランカップリング剤等の薄膜(配向Ml)を形
成し、この表面を布などで一方向にこする工程(ラビン
グ)を行うのが一般的である。一様な表示品質の液晶表
示パネルを製造するにはこのラビングする時の圧力を一
定にしなければならない。A method for arranging liquid crystal molecules in this way is to use polyimide, polyvinyl alcohol, 5i02, Cen2 as a substrate.
.. It is common to form a thin film (oriented Ml) of a silane coupling agent or the like, and then perform a step (rubbing) of rubbing the surface in one direction with a cloth or the like. In order to manufacture a liquid crystal display panel with uniform display quality, the pressure during this rubbing must be constant.
このような従来技術とは、まずラビングロールと定盤と
の距離を目視により測定する方法、定盤に半導体圧力セ
ンサーを圧力測定面の高さが基板の高さと等しくなるよ
うセットし定盤を移動して圧力センサーの中心がラビン
グロールの真下にくるようにして、ラビングロールを回
転させた状態でラビング圧力を測定しラビング圧力が所
定の値となるようにラビングロール3又は定盤の高さを
調節する方法である。These conventional techniques include a method in which the distance between the rubbing roll and the surface plate is visually measured, and a semiconductor pressure sensor is set on the surface plate so that the height of the pressure measurement surface is equal to the height of the substrate. Move so that the center of the pressure sensor is directly below the rubbing roll, measure the rubbing pressure with the rubbing roll rotating, and adjust the height of the rubbing roll 3 or the surface plate so that the rubbing pressure reaches a predetermined value. This is a method of adjusting the
従来は一様な表示品質の液晶表示パネルを得るために目
視によるラビングロールと定盤の距離の測定、半導体圧
力センサーによるラビングロール。Conventionally, in order to obtain a liquid crystal display panel with uniform display quality, the distance between the rubbing roll and the surface plate was measured visually, and the rubbing roll was measured using a semiconductor pressure sensor.
定盤の高さの調節によって圧力の一定化を実現しようと
していた。しかし前者の目視による場合は誤差が大き過
ぎ再現性が乏しいためしばしば配向不良の原因となる。The idea was to stabilize the pressure by adjusting the height of the surface plate. However, in the former case of visual inspection, the error is too large and the reproducibility is poor, which often causes poor alignment.
後者の圧力センサーの場合は、ラビングロールの圧力は
非静水圧的であり定室的でないので圧力を正確に測定す
ることは困難である。In the case of the latter pressure sensor, since the pressure of the rubbing roll is non-hydrostatic and not constant, it is difficult to accurately measure the pressure.
前記問題点を解決するには定盤上にセットされた液晶表
示素子基板表面の配向膜をラビングロールによりラビン
グ処理する装置において、前記定盤上に少なくとも前記
液晶表示素子基板と超音波探触子を設け、該超音波探触
子が該液晶表示素子基板の前記配向膜をラビングする際
、同時にラビング圧力を検知し、常に該ラビング圧力を
一定に制御するよう機能させることを特徴とした液晶表
示素子基板のラビング処加装置を提供する。To solve the above-mentioned problem, in an apparatus for rubbing an alignment film on the surface of a liquid crystal display element substrate set on a surface plate using a rubbing roll, at least the liquid crystal display element substrate and an ultrasonic probe are placed on the surface plate. A liquid crystal display characterized in that when the ultrasonic probe rubs the alignment film of the liquid crystal display element substrate, the rubbing pressure is detected at the same time, and the rubbing pressure is always controlled to be constant. An apparatus for rubbing an element substrate is provided.
定盤上に設けられた超音波探触子に配向膜をラビングす
る際の圧力がかけられることにより、該超音波探触子が
ラビング圧力を検知するものである。The ultrasonic probe provided on the surface plate detects the rubbing pressure by applying pressure when rubbing the alignment film.
以下本発明の実施例を図によって説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第1図は本発明の液晶表示素子基板のラビング処理装置
を示したものである。図において、1はその表面に有機
或は無機質の配向膜が被着されたガラス等からなる液晶
表示素子基板、2は上下動可能な定盤、3は定盤2の表
面に沿って移動可能なラビングロール、4は超音波探触
子、5は定盤2に固定した軸5′を上下動させる電磁弁
等よりなる駆動源、6は超音波探触子4の出力に応じて
駆動源5を制御し、定盤2の高さを調整するラビング圧
力制御回路である。FIG. 1 shows an apparatus for rubbing a liquid crystal display element substrate according to the present invention. In the figure, 1 is a liquid crystal display element substrate made of glass or the like with an organic or inorganic alignment film adhered to its surface, 2 is a surface plate that can be moved up and down, and 3 is movable along the surface of surface plate 2. 4 is an ultrasonic probe; 5 is a driving source such as a solenoid valve that moves up and down a shaft 5' fixed to the surface plate 2; 6 is a driving source according to the output of the ultrasonic probe 4. This is a rubbing pressure control circuit that controls 5 and adjusts the height of the surface plate 2.
超音波探触子4を説明する図が第2図である。FIG. 2 is a diagram illustrating the ultrasonic probe 4.
図において、7はセラミック等からなる表面絶縁基板、
8は検知窓、9はタンタル酸リチウムやニオブ酸リチウ
ム等からなる圧電素子、10はリード線、11はリード
端子、12は絶縁部材、13は金属ケースである。 −
図示の通り本ラビング処理装置は定盤2上に配向膜を上
方にして液晶表示素子基板1が取付けられ、且つ超音波
探触子4が圧電素子9の表面を上記配向膜表面と同じ高
さ位置にして取付けられておりラビングロール3が液晶
表示素子基板1の配向膜をラビングすると共に、超音波
探触子4上を通過する構成になっている。そしてこの通
過時に該ラビングロール3の突出毛が検知窓8より入り
圧電素子9の表面を叩く。すると圧電素子9は圧電作用
によりその打撃に応じた電圧を発生し、該誘起電圧がリ
ード線10から外部リード端子11を介してラビング圧
力制御回路6へ入力される。In the figure, 7 is a surface insulating substrate made of ceramic or the like;
8 is a detection window, 9 is a piezoelectric element made of lithium tantalate, lithium niobate, etc., 10 is a lead wire, 11 is a lead terminal, 12 is an insulating member, and 13 is a metal case. - As shown in the figure, in this rubbing processing apparatus, a liquid crystal display element substrate 1 is mounted on a surface plate 2 with the alignment film facing upward, and an ultrasonic probe 4 is used to place the surface of a piezoelectric element 9 at the same height as the surface of the alignment film. The rubbing roll 3 rubs the alignment film of the liquid crystal display element substrate 1 and passes over the ultrasonic probe 4. During this passage, the protruding bristles of the rubbing roll 3 enter through the detection window 8 and hit the surface of the piezoelectric element 9. Then, the piezoelectric element 9 generates a voltage corresponding to the impact due to piezoelectric action, and the induced voltage is inputted from the lead wire 10 to the rubbing pressure control circuit 6 via the external lead terminal 11.
これによりラビング圧力制御回路6はその入力電圧から
定盤2の適正高さ位置を算出すると共に駆動源5を制御
して定盤2を上下動させラビング圧力を調整する。Thereby, the rubbing pressure control circuit 6 calculates the appropriate height position of the surface plate 2 from the input voltage, and controls the drive source 5 to move the surface plate 2 up and down to adjust the rubbing pressure.
前記のように作動する超音波探触子4(例えば日本電波
工業製超音波探触子rlON13361J)を第1図の
如くセットし、ラビングロール3と該超音波探触子4と
の距離が=l mの時、゛即ち該ラビングロール3が該
超音波探触子4の測定面;(圧電素子9の表面)に接触
して変形している状態の時の出力波形を測定した。その
結果を第3図に示しである。The ultrasonic probe 4 that operates as described above (for example, ultrasonic probe rlON13361J manufactured by Nippon Denpa Kogyo) is set as shown in Fig. 1, and the distance between the rubbing roll 3 and the ultrasonic probe 4 is = The output waveform was measured when the rubbing roll 3 was in contact with the measurement surface of the ultrasonic probe 4 (the surface of the piezoelectric element 9) and was deformed. The results are shown in FIG.
またラビングロール3の種類(硬さ)、超音波探触子4
との距離を変化させた時の出力変化を第4図に示しであ
る。ラビングロール3の硬さはAが最もやわらかく、C
が最も硬い。Also, the type (hardness) of the rubbing roll 3, the ultrasonic probe 4
FIG. 4 shows the change in output when the distance between the two points is changed. The hardness of the rubbing roll 3 is A is the softest, and C is the softest.
is the hardest.
結果を見ると最も硬いCのラビングロールを用い′ると
超音波探触子に軽く接触するだけで高い出力電圧が出て
、やわらかいAのラビングロールの場合は超音波探触子
との距離が短くなっても低い出力電圧しかでない。この
ことから明らかなように圧力センサとして超音波探触子
を用いるとラビング圧力を再現衾性良く測定することが
できる。Looking at the results, when using the hardest rubbing roll C, a high output voltage is produced by just lightly touching the ultrasonic probe, while when using the softer rubbing roll A, the distance to the ultrasonic probe increases. Even if the length is shortened, the output voltage will only be low. As is clear from this, when an ultrasonic probe is used as a pressure sensor, the rubbing pressure can be measured with good reproducibility.
本発明によればラビング圧力のセンサとして超音波探触
子を用いることによりラビング圧力を一定化することが
できるため、液晶分子の配向の一様性を改善し表示ムラ
のないようにする液晶表示素子基板のラビング処理装置
を提供することができる。According to the present invention, since the rubbing pressure can be made constant by using an ultrasonic probe as a rubbing pressure sensor, the uniformity of the alignment of liquid crystal molecules is improved and the liquid crystal display is prevented from display unevenness. An apparatus for rubbing an element substrate can be provided.
第1図は本発明のラビング処理装置を説明する図、第2
図は第1図の超音波探触子を説明するための図、第3図
は本発明による超音波探触子の出力波形、第4図はラビ
ングロールの種類(硬さ)とロールとセンサとの距離を
変えた時の出力電圧の変化を示す本発明に係る図である
。
〔符号の説明〕
1−−−−−−一液晶表示素子基板
2−−−−、、−−−一定盤
3−−− =−ラビングロール
4−−−−−−−−超音波探触子
5 −−−−一駆動源
6 −−−−−−−−−ラビング圧力制御回路8−−−
−一一−−−検知窓
9 −−−−−−−一圧電素子
ラヒ゛ンク゛゛ロール
第 1 罰
第 2 口
第 3 図
(mm)
z4目FIG. 1 is a diagram explaining the rubbing processing apparatus of the present invention, and FIG.
The figure is a diagram for explaining the ultrasonic probe of Fig. 1, Fig. 3 is the output waveform of the ultrasonic probe according to the present invention, and Fig. 4 is the type (hardness) of the rubbing roll, the roll and the sensor. FIG. 3 is a diagram according to the present invention showing changes in output voltage when the distance from the device to the device is changed. [Explanation of symbols] 1---------1 liquid crystal display element substrate 2-----,, --- Fixed plate 3--- =-Rubbing roll 4-------- Ultrasonic probe child 5 --- one drive source 6 --- rubbing pressure control circuit 8 ---
-11----Detection window 9-----One piezoelectric element Raw index roll 1st penalty 2nd opening 3rd figure (mm) z4th
Claims (1)
ラビングロールによりラビング処理する装置において、
前記定盤上に少なくとも前記液晶表示素子基板と超音波
探触子を設け、該超音波探触子が該液晶表示素子基板の
前記配向膜をラビングする際、同時にラビング圧力を検
知し、常に該ラビング圧力を一定に制御するよう機能さ
せることを特徴とした液晶表示素子基板のラビング処置
装置In an apparatus for rubbing an alignment film on the surface of a liquid crystal display element substrate set on a surface plate using a rubbing roll,
At least the liquid crystal display element substrate and an ultrasonic probe are provided on the surface plate, and when the ultrasonic probe rubs the alignment film of the liquid crystal display element substrate, the rubbing pressure is detected at the same time, and the rubbing pressure is always detected. A device for rubbing a liquid crystal display element substrate, which functions to control the rubbing pressure at a constant level.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15465184A JPS6132816A (en) | 1984-07-25 | 1984-07-25 | Rubbing treatment device for liquid-crystal display element substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15465184A JPS6132816A (en) | 1984-07-25 | 1984-07-25 | Rubbing treatment device for liquid-crystal display element substrate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6132816A true JPS6132816A (en) | 1986-02-15 |
Family
ID=15588890
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15465184A Pending JPS6132816A (en) | 1984-07-25 | 1984-07-25 | Rubbing treatment device for liquid-crystal display element substrate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6132816A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103698941A (en) * | 2013-12-19 | 2014-04-02 | 合肥京东方光电科技有限公司 | Directional liquid transfer method and device |
-
1984
- 1984-07-25 JP JP15465184A patent/JPS6132816A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103698941A (en) * | 2013-12-19 | 2014-04-02 | 合肥京东方光电科技有限公司 | Directional liquid transfer method and device |
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