JPS6132787B2 - - Google Patents
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- JPS6132787B2 JPS6132787B2 JP53084919A JP8491978A JPS6132787B2 JP S6132787 B2 JPS6132787 B2 JP S6132787B2 JP 53084919 A JP53084919 A JP 53084919A JP 8491978 A JP8491978 A JP 8491978A JP S6132787 B2 JPS6132787 B2 JP S6132787B2
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
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- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/02—Induction heating
- H05B6/36—Coil arrangements
- H05B6/362—Coil arrangements with flat coil conductors
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-
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は真空管発振による高周波誘導加熱装
置、特に高電圧高周波電源を複数巻数の加熱コイ
ルに接続した真空管発振による改良された高周波
誘導加熱装置に関するものである。
置、特に高電圧高周波電源を複数巻数の加熱コイ
ルに接続した真空管発振による改良された高周波
誘導加熱装置に関するものである。
10キロヘルツ以上の高周波電力による誘導加熱
装置が種々の分野に応用されており、特に連続的
に供給される被加熱物の均一な大幅加熱に好適で
あり、例えば瓶容器の金属キヤツプに密閉用樹脂
シートを接着する際のキヤツプ底部加熱等に用い
られる。すなわち、金属キヤツプの瓶口に装着し
て瓶の密封を行う場合、キヤツプ内底面には鉛化
ビニール、ポリエチレンあるいはポリプロピレン
などの熱可塑性樹脂シート（ライナー）が接着さ
れ、この樹脂シートをパツキング材として瓶口の
密閉が行われる。前述した樹脂シートをキヤツプ
内底面に接着固定するため、キヤツプ内底面には
エキポキシ系などの接着性プライマーが塗布さ
れ、このプライマーが加熱溶融された状態で樹脂
シートが接着固定される。通常の場合、接着性プ
ライマーはキヤツプ底面と約100〜200℃に加熱し
た際樹脂シートとキヤツプ底面とを確実に接着
し、この加熱工程に前述した高周波誘導加熱が用
いられる。これらの瓶口密閉用キヤツプとして
は、ネジ付キヤツプ、王冠キヤツプあるいはピル
フアープルーフキヤツプなどがあるが、いずれの
キヤツプ形状においてもほとんどの場合その内底
面には樹脂シートがパツキング材としてプライマ
ーを介して接着される。
装置が種々の分野に応用されており、特に連続的
に供給される被加熱物の均一な大幅加熱に好適で
あり、例えば瓶容器の金属キヤツプに密閉用樹脂
シートを接着する際のキヤツプ底部加熱等に用い
られる。すなわち、金属キヤツプの瓶口に装着し
て瓶の密封を行う場合、キヤツプ内底面には鉛化
ビニール、ポリエチレンあるいはポリプロピレン
などの熱可塑性樹脂シート（ライナー）が接着さ
れ、この樹脂シートをパツキング材として瓶口の
密閉が行われる。前述した樹脂シートをキヤツプ
内底面に接着固定するため、キヤツプ内底面には
エキポキシ系などの接着性プライマーが塗布さ
れ、このプライマーが加熱溶融された状態で樹脂
シートが接着固定される。通常の場合、接着性プ
ライマーはキヤツプ底面と約100〜200℃に加熱し
た際樹脂シートとキヤツプ底面とを確実に接着
し、この加熱工程に前述した高周波誘導加熱が用
いられる。これらの瓶口密閉用キヤツプとして
は、ネジ付キヤツプ、王冠キヤツプあるいはピル
フアープルーフキヤツプなどがあるが、いずれの
キヤツプ形状においてもほとんどの場合その内底
面には樹脂シートがパツキング材としてプライマ
ーを介して接着される。
従来の金属キヤツプ材としては、一般にブリキ
あるいはテインフリースチールなどの強磁性材が
用いられ、このようなキヤツプの連続加工装置と
して従来より高周波誘導加熱装置が利用されてい
た。しかしながら、近年、キヤツプ材としてアル
ミニウム、アルミニウム合金等のようなアルミニ
ウム非磁性材が広く用いられるようになつてき
た。このようなアルミニウム非磁性材にあつて
は、従来の高周波誘導加熱装置では加熱効率が著
しく低下し、樹脂シートの接着に十分に温度を得
ることができないという欠点があつた。
あるいはテインフリースチールなどの強磁性材が
用いられ、このようなキヤツプの連続加工装置と
して従来より高周波誘導加熱装置が利用されてい
た。しかしながら、近年、キヤツプ材としてアル
ミニウム、アルミニウム合金等のようなアルミニ
ウム非磁性材が広く用いられるようになつてき
た。このようなアルミニウム非磁性材にあつて
は、従来の高周波誘導加熱装置では加熱効率が著
しく低下し、樹脂シートの接着に十分に温度を得
ることができないという欠点があつた。
このために、従来より、真空管式高周波電力発
生回路のタンクコイルをそのまま加熱コイルと
し、被加熱物である金属キヤツプとの間隙を減少
させるという提案が個々に行われていたが、この
ような従来装置では、加熱コイルと被加熱物との
間あるいは加熱コイル相互間に絶縁破壊が生じて
しまうという欠点があり、実用化することができ
なかつた。
生回路のタンクコイルをそのまま加熱コイルと
し、被加熱物である金属キヤツプとの間隙を減少
させるという提案が個々に行われていたが、この
ような従来装置では、加熱コイルと被加熱物との
間あるいは加熱コイル相互間に絶縁破壊が生じて
しまうという欠点があり、実用化することができ
なかつた。
特に、真空管を用いた発振器によれば10キロボ
ルト程度の高電圧を加熱コイルに直接加えるの
で、極めて容易に絶縁破壊事故が発生してしまう
という重大な欠点があり、このような真空管発振
による高周波誘導加熱装置では小型でかつ効率の
良い装置を得ることができなかつた。
ルト程度の高電圧を加熱コイルに直接加えるの
で、極めて容易に絶縁破壊事故が発生してしまう
という重大な欠点があり、このような真空管発振
による高周波誘導加熱装置では小型でかつ効率の
良い装置を得ることができなかつた。
以上のようにアルミニウム非磁性材に対しては
従来より高周波誘導加熱を適用することが困難で
あり、また、加熱コイルと被加熱物との間隙を小
さくして両者間の相互誘導係数を増加した場合に
は、前述した絶縁破壊の問題と共に、非磁性材か
らなる被加熱物の底部及びその近傍に誘起された
誘導電流と高周波加熱コイル磁界とによつて形成
される反発力によりキヤツプがコンベアなどの移
送体上を浮上跳躍して実際上の加熱作用を得るこ
とができないという事態が生じていた。
従来より高周波誘導加熱を適用することが困難で
あり、また、加熱コイルと被加熱物との間隙を小
さくして両者間の相互誘導係数を増加した場合に
は、前述した絶縁破壊の問題と共に、非磁性材か
らなる被加熱物の底部及びその近傍に誘起された
誘導電流と高周波加熱コイル磁界とによつて形成
される反発力によりキヤツプがコンベアなどの移
送体上を浮上跳躍して実際上の加熱作用を得るこ
とができないという事態が生じていた。
本発明は上記従来の課題に鑑み為されたもので
あり、その目的は、小型簡単な装置で効率良くア
ルミニウム非磁性材からなる容器用のキヤツプを
加熱することのできる改良された高周波誘導加熱
装置を提供することにある。
あり、その目的は、小型簡単な装置で効率良くア
ルミニウム非磁性材からなる容器用のキヤツプを
加熱することのできる改良された高周波誘導加熱
装置を提供することにある。
本発明の他の目的は加熱コイルと容器用キヤツ
プとの間隙を実質的に減小しても両者間の絶縁破
壊を生じさせることの無い改良された高周波誘導
加熱装置を提供することにある。
プとの間隙を実質的に減小しても両者間の絶縁破
壊を生じさせることの無い改良された高周波誘導
加熱装置を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、誘導加熱コイルに容
器用キヤツプを近接させた時に生じる両者間の反
発力に基づく被加熱物の浮上跳躍を確実に阻止す
ることのできる改良された高周波誘導加熱装置を
提供することにある。
器用キヤツプを近接させた時に生じる両者間の反
発力に基づく被加熱物の浮上跳躍を確実に阻止す
ることのできる改良された高周波誘導加熱装置を
提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明は、加熱コ
イルが設けられた誘導加熱路に沿つてアルミニウ
ム非磁性材からなる容器用のキヤツプを移送させ
該キヤツプを加熱する真空管発振による高周波誘
導加熱装置において、誘導加熱路は、加熱コイル
に対向配置されかつ高周波電流反発作用により浮
上跳躍する容器用キヤツプをその案内面にてに滑
動可能に支承する案内部材を有し、また前記加熱
コイルは、誘導加熱路に沿つて配設された複数組
の往復路高周波電流導体を以て形成され、該加熱
コイルの電流往路を形成する複数の高周波電流導
体は、誘導加熱路の一半分側に沿つて設置され、
電流復路を形成する複数の高周波電流導体は、誘
導加熱路の他半分部側に沿つて配置され、これら
各高周波電流導体は、キヤツプとの間の電位傾度
がそれぞれ一定値以下に抑制されるよう、電圧が
高い導体ほどキヤツプからの距離が大きく設定さ
れ、各高周波電流導体とキヤツプとの間の絶縁破
壊を防止することを特徴とする。
イルが設けられた誘導加熱路に沿つてアルミニウ
ム非磁性材からなる容器用のキヤツプを移送させ
該キヤツプを加熱する真空管発振による高周波誘
導加熱装置において、誘導加熱路は、加熱コイル
に対向配置されかつ高周波電流反発作用により浮
上跳躍する容器用キヤツプをその案内面にてに滑
動可能に支承する案内部材を有し、また前記加熱
コイルは、誘導加熱路に沿つて配設された複数組
の往復路高周波電流導体を以て形成され、該加熱
コイルの電流往路を形成する複数の高周波電流導
体は、誘導加熱路の一半分側に沿つて設置され、
電流復路を形成する複数の高周波電流導体は、誘
導加熱路の他半分部側に沿つて配置され、これら
各高周波電流導体は、キヤツプとの間の電位傾度
がそれぞれ一定値以下に抑制されるよう、電圧が
高い導体ほどキヤツプからの距離が大きく設定さ
れ、各高周波電流導体とキヤツプとの間の絶縁破
壊を防止することを特徴とする。
以下図面に基づいて本発明の好適な実施例を説
明する。
明する。
第１図には被加熱物であるアルミニウムキヤツ
プを連続的に加熱する本発明に係る高周波誘導加
熱装置の好適な実施例が示されている。図示して
いない駆動装置により回転駆動される回転テーブ
ル１０の周縁部には多数の半円形切欠部１２が等
間隔に設けられ、各切欠部１２にはシユート１４
からキヤツプ１６が順次供給される。キヤツプ１
６はその底部が下向きとなるようシユート１４内
にて整列されて１個づつ切欠部１２内に挿入され
る。キヤツプ１６は回転テーブル１０の回転に伴
い矢印Ａ方向に移送され、誘導加熱路１８にて高
周波誘導加熱により所望の温度例えば100〜200℃
と加熱され、その後、後続するパツキング材供給
工程に送られる。
プを連続的に加熱する本発明に係る高周波誘導加
熱装置の好適な実施例が示されている。図示して
いない駆動装置により回転駆動される回転テーブ
ル１０の周縁部には多数の半円形切欠部１２が等
間隔に設けられ、各切欠部１２にはシユート１４
からキヤツプ１６が順次供給される。キヤツプ１
６はその底部が下向きとなるようシユート１４内
にて整列されて１個づつ切欠部１２内に挿入され
る。キヤツプ１６は回転テーブル１０の回転に伴
い矢印Ａ方向に移送され、誘導加熱路１８にて高
周波誘導加熱により所望の温度例えば100〜200℃
と加熱され、その後、後続するパツキング材供給
工程に送られる。
誘導加熱路１８には３巻の加熱コイルが設けら
れ、この加熱コイルが真空管発振回路のタンクコ
イルを形成し、電源２０からの電力を高周波電力
に変換する。加熱路１８の構造が第２図の断面図
に詳細に示されている。
れ、この加熱コイルが真空管発振回路のタンクコ
イルを形成し、電源２０からの電力を高周波電力
に変換する。加熱路１８の構造が第２図の断面図
に詳細に示されている。
第２図において、高周波誘導加熱コイルを形成
する電流導体２２，２４，２６，２８，３０及び
３２は回転テーブル１０の外周面下方に固定され
たシリコン樹脂、テフロン樹脂あるいはベークラ
イトなどからなる弧状のコイル基盤３４に埋設固
定されている。従つて、回転テーブル１０により
移送される各キヤツプ１６は加熱路１８にて誘導
加熱され、この加熱作用時、各キヤツプ１６は回
転テーブル１０の外周近傍に固定された案内壁３
６及び回転テーブル１０の外周近傍上面に固定さ
れた案内板３８により移送路中を案内される。前
述したように、アルミニウム非磁性材からなるキ
ヤツプ１６が高周波電流導体上に送られると、電
流導体とキヤツプとの反発力によりキヤツプは上
方に浮上跳躍するが、第２図から明らかなよう
に、キヤツプ１６の上方には案内板３８が設けら
れているので、キヤツプ１６の開口面は案内板３
８の対向面３８ａと当接し、キヤツプ１６はこの
対向面３８ａを滑動しながら回転テーブル１０に
より移送される。従つて、キヤツプ１６の底部１
６ａは各電流導体２２，２４，２６，２８，３
０，３２から常に予め定められた所定間隙で移動
することとなり、キヤツプ１６の底部１６ａは極
めて均一に誘導加熱される。そして、この結果、
底部１６ａに付着された接着性プライマー４０は
良好な接着作用に適する温度まで加熱される。案
内板３８はその上下固定位置を任意に調節するこ
とができ、供給されるキヤツプ１６の大きさ特に
キヤツプ高さに応じて加熱路１８と対向面３８ａ
との間隙を任意に調節しキヤツプ１６の底部１６
ａを最適の位置に保持することが可能である。案
内板３８には浮上跳躍したキヤツプが衝撃当接す
るので、このような衝撃力により変形または損傷
されないことが必要であり、またその対向面３８
ａはキヤツプ１６の開口面が滑動するために滑ら
かな平面を有すると共にキヤツプ１６との滑動に
より摩耗損傷が起こりにくいという要求を満足し
なければならない。図示した実施例においては、
案内板３８として５〜10ミリメートルの厚さを有
する強化ガラス板が用いられ、この強化ガラスに
よれば、、更に、装置の上方から加熱時のキヤツ
プ１６の送り状態を監視することができるいう利
点をも得ることができる。
する電流導体２２，２４，２６，２８，３０及び
３２は回転テーブル１０の外周面下方に固定され
たシリコン樹脂、テフロン樹脂あるいはベークラ
イトなどからなる弧状のコイル基盤３４に埋設固
定されている。従つて、回転テーブル１０により
移送される各キヤツプ１６は加熱路１８にて誘導
加熱され、この加熱作用時、各キヤツプ１６は回
転テーブル１０の外周近傍に固定された案内壁３
６及び回転テーブル１０の外周近傍上面に固定さ
れた案内板３８により移送路中を案内される。前
述したように、アルミニウム非磁性材からなるキ
ヤツプ１６が高周波電流導体上に送られると、電
流導体とキヤツプとの反発力によりキヤツプは上
方に浮上跳躍するが、第２図から明らかなよう
に、キヤツプ１６の上方には案内板３８が設けら
れているので、キヤツプ１６の開口面は案内板３
８の対向面３８ａと当接し、キヤツプ１６はこの
対向面３８ａを滑動しながら回転テーブル１０に
より移送される。従つて、キヤツプ１６の底部１
６ａは各電流導体２２，２４，２６，２８，３
０，３２から常に予め定められた所定間隙で移動
することとなり、キヤツプ１６の底部１６ａは極
めて均一に誘導加熱される。そして、この結果、
底部１６ａに付着された接着性プライマー４０は
良好な接着作用に適する温度まで加熱される。案
内板３８はその上下固定位置を任意に調節するこ
とができ、供給されるキヤツプ１６の大きさ特に
キヤツプ高さに応じて加熱路１８と対向面３８ａ
との間隙を任意に調節しキヤツプ１６の底部１６
ａを最適の位置に保持することが可能である。案
内板３８には浮上跳躍したキヤツプが衝撃当接す
るので、このような衝撃力により変形または損傷
されないことが必要であり、またその対向面３８
ａはキヤツプ１６の開口面が滑動するために滑ら
かな平面を有すると共にキヤツプ１６との滑動に
より摩耗損傷が起こりにくいという要求を満足し
なければならない。図示した実施例においては、
案内板３８として５〜10ミリメートルの厚さを有
する強化ガラス板が用いられ、この強化ガラスに
よれば、、更に、装置の上方から加熱時のキヤツ
プ１６の送り状態を監視することができるいう利
点をも得ることができる。
非磁性材からなるキヤツプを効果的に加熱する
ために電流導体とキヤツプとの間隙は小さい程良
い。第３図にはキヤツプ底部１６ａと導体３０，
３２の上端部との間隙ｌに対するキヤツプ底部１
６ａの温度上昇率αの特性図が示され、この特性
図から明らかなように、キヤツプ底部１６ａと導
体３０，３２上端部との距離ｌは２ミリメートル
以下、好ましくは1.5〜0.5ミリメートルであるこ
とが必要である。しかしながら、この間隙を減少
すると電流導体とキヤツプとの間に絶縁破壊の危
険が増大するという問題があり、本発明において
は、この問題を各電流導体の配置により解決して
いる。
ために電流導体とキヤツプとの間隙は小さい程良
い。第３図にはキヤツプ底部１６ａと導体３０，
３２の上端部との間隙ｌに対するキヤツプ底部１
６ａの温度上昇率αの特性図が示され、この特性
図から明らかなように、キヤツプ底部１６ａと導
体３０，３２上端部との距離ｌは２ミリメートル
以下、好ましくは1.5〜0.5ミリメートルであるこ
とが必要である。しかしながら、この間隙を減少
すると電流導体とキヤツプとの間に絶縁破壊の危
険が増大するという問題があり、本発明において
は、この問題を各電流導体の配置により解決して
いる。
第４図には本発明に係る電流導体とキヤツプと
の配置構成が詳細に示されている。第４図におい
て、電流往路を形成する３本の高周波電流導体２
２，２６及び３０は誘導加熱路１８の一方の半部
側、すなわち、図の矢印Ｂで示される一半部側に
沿つて設置され、また電流往路を形成する３本の
高周波電流導体２４，２８及び３２は他方の半部
側、すなわち矢印Ｃで示される他半部側に沿つて
設置されている。従つて、図示した実施例におい
ては３巻の高周波加熱コイルを形成することがで
き、前述のように往復路の電流導体をそれぞれ加
熱路１８の各半部側に沿つて設置することによ
り、被加工物の内部には誘起された誘導電流が閉
回路を形成して流れ、ジユール熱による温度上昇
が効率良く行われる。すなわち、周知のように、
各半部に設置された導体は同一方向に流れる電流
束を形成し、効率の良い電磁誘導作用を行うこと
ができる。
の配置構成が詳細に示されている。第４図におい
て、電流往路を形成する３本の高周波電流導体２
２，２６及び３０は誘導加熱路１８の一方の半部
側、すなわち、図の矢印Ｂで示される一半部側に
沿つて設置され、また電流往路を形成する３本の
高周波電流導体２４，２８及び３２は他方の半部
側、すなわち矢印Ｃで示される他半部側に沿つて
設置されている。従つて、図示した実施例におい
ては３巻の高周波加熱コイルを形成することがで
き、前述のように往復路の電流導体をそれぞれ加
熱路１８の各半部側に沿つて設置することによ
り、被加工物の内部には誘起された誘導電流が閉
回路を形成して流れ、ジユール熱による温度上昇
が効率良く行われる。すなわち、周知のように、
各半部に設置された導体は同一方向に流れる電流
束を形成し、効率の良い電磁誘導作用を行うこと
ができる。
真空管発振器を含む高周波電源２０は100キロ
ヘルツ程度の高い周波数を有し、その加熱コイル
であるタンクコイルに発生する電圧実効値はほぼ
10キロボルト程度の高電圧となる。高周波回路２
１の一端は各電流導体に直列接続され、すなわち
導体２２，２４，２６，２８，３０及び３２の順
に接続され、その他端が接地される。本発明にお
いて重要なことは各導体のうち接地側に近く接続
された導体、図示した実施例においては導体３０
（５）及び３２（６）が被加熱物であるキヤツプ
１６の近傍に配置され、順次高電圧側に近く接続
されるに従つて導体がキヤツプ１６から離れて配
置されていることである。すなわち、導体３０
（５），３２（６）に比べて導体２６（３），２８
（４）はキヤツプ１６から若干離れ、更に高電圧
側に近く接続される導体２２（１）及び２４
（２）はキヤツプ１６から著しく離れて配置され
ている。すなわち、通常の場合、被加熱物１６は
接地されており、この接地零電位に対して各導体
の有する電位は第５図に示されるように導体３２
はV6、３０はV5、２８はV4、２６はV3、２４は
V2そしては２２は高電圧側の電位であるV1とな
り、この電位が被加熱物との間に存在することと
なる。本発明では電位差の大きい高電圧側の導体
例ば導体２２（１），２４（２）をキヤツプ１６
から離れて配置することにより両者間の電位傾度
を他の導体とキヤツプとの電位傾度にほぼ等しく
制御することが可能となつた。もちろん被加熱物
から遠く設置された導体は被加熱物内に誘導電流
を誘起させるためにはその寄与率が低下すること
となるが、本発明においては複数巻数のコイルを
用いてその設置側にある導体を従来と比較して著
しく被加熱物に近接配置することができ高電圧側
の導体はその一部を誘導電流を誘起するために用
いているので、全体の効率を従来に比して著しく
向上させることができた。また、従来と異なり、
接地側の導体と被加熱物との間に生じる電位傾度
は著しく小さく制御することができるので、高周
波発生電圧を増加させることが可能となり、この
電圧増加とコイル巻数増加及び導体と被加熱物と
の間隙減少により全体的な誘導電流による加熱効
率を著しく向上させることができた。
ヘルツ程度の高い周波数を有し、その加熱コイル
であるタンクコイルに発生する電圧実効値はほぼ
10キロボルト程度の高電圧となる。高周波回路２
１の一端は各電流導体に直列接続され、すなわち
導体２２，２４，２６，２８，３０及び３２の順
に接続され、その他端が接地される。本発明にお
いて重要なことは各導体のうち接地側に近く接続
された導体、図示した実施例においては導体３０
（５）及び３２（６）が被加熱物であるキヤツプ
１６の近傍に配置され、順次高電圧側に近く接続
されるに従つて導体がキヤツプ１６から離れて配
置されていることである。すなわち、導体３０
（５），３２（６）に比べて導体２６（３），２８
（４）はキヤツプ１６から若干離れ、更に高電圧
側に近く接続される導体２２（１）及び２４
（２）はキヤツプ１６から著しく離れて配置され
ている。すなわち、通常の場合、被加熱物１６は
接地されており、この接地零電位に対して各導体
の有する電位は第５図に示されるように導体３２
はV6、３０はV5、２８はV4、２６はV3、２４は
V2そしては２２は高電圧側の電位であるV1とな
り、この電位が被加熱物との間に存在することと
なる。本発明では電位差の大きい高電圧側の導体
例ば導体２２（１），２４（２）をキヤツプ１６
から離れて配置することにより両者間の電位傾度
を他の導体とキヤツプとの電位傾度にほぼ等しく
制御することが可能となつた。もちろん被加熱物
から遠く設置された導体は被加熱物内に誘導電流
を誘起させるためにはその寄与率が低下すること
となるが、本発明においては複数巻数のコイルを
用いてその設置側にある導体を従来と比較して著
しく被加熱物に近接配置することができ高電圧側
の導体はその一部を誘導電流を誘起するために用
いているので、全体の効率を従来に比して著しく
向上させることができた。また、従来と異なり、
接地側の導体と被加熱物との間に生じる電位傾度
は著しく小さく制御することができるので、高周
波発生電圧を増加させることが可能となり、この
電圧増加とコイル巻数増加及び導体と被加熱物と
の間隙減少により全体的な誘導電流による加熱効
率を著しく向上させることができた。
更に、本発明においては、各導体相互間距離も
各導体間の電位差に応じて選択され、各導体間に
おいてもそれらの電位傾度を一定値に以下に抑制
することにより導体間の絶縁破壊をも防止するこ
とが可能となる。すなわち、一方の半部Ｂにおい
ては導体２２と２６及び２６と３０との間隙は同
一に設定されているが、これらの間隙より導体２
２と３０との間隙は大きく設定され、各導体間の
電位傾度が一定値以下に抑制される。同様に他方
の半部Ｃにおいても導体２４と３２との間隙は他
の導体間間隙より大きく設定され、導体相互間の
電位傾度が一定値以下に抑制される。
各導体間の電位差に応じて選択され、各導体間に
おいてもそれらの電位傾度を一定値に以下に抑制
することにより導体間の絶縁破壊をも防止するこ
とが可能となる。すなわち、一方の半部Ｂにおい
ては導体２２と２６及び２６と３０との間隙は同
一に設定されているが、これらの間隙より導体２
２と３０との間隙は大きく設定され、各導体間の
電位傾度が一定値以下に抑制される。同様に他方
の半部Ｃにおいても導体２４と３２との間隙は他
の導体間間隙より大きく設定され、導体相互間の
電位傾度が一定値以下に抑制される。
以上説明したように、本発明によれば、加熱コ
イルと容器用キヤツプとの間に絶縁破壊を生じさ
せることがないよう、両者の間隔を実質的に減少
させることができ、この結果装置全体を小型化す
ることができる。
イルと容器用キヤツプとの間に絶縁破壊を生じさ
せることがないよう、両者の間隔を実質的に減少
させることができ、この結果装置全体を小型化す
ることができる。
更に、本発明によれば、コイルとキヤツプとの
間隔を小さくし、しかも加熱コイルに印加する高
周波発生電圧の値を増加させることができるた
め、誘導電流による全体的な加熱効率を著しく向
上させることができる。
間隔を小さくし、しかも加熱コイルに印加する高
周波発生電圧の値を増加させることができるた
め、誘導電流による全体的な加熱効率を著しく向
上させることができる。
更に、本発明によれば、加熱コイルにキヤツプ
を近接させる時に生ずる両者の反発力に基づくキ
ヤツプの浮上跳躍を、案内部材により確実に阻止
することができるため、良好な加熱作用を得るこ
とができ、この結果装置全体を更に小型かつ効率
の良いものとすることができる。
を近接させる時に生ずる両者の反発力に基づくキ
ヤツプの浮上跳躍を、案内部材により確実に阻止
することができるため、良好な加熱作用を得るこ
とができ、この結果装置全体を更に小型かつ効率
の良いものとすることができる。
第４図の実施例においては、電源側導体２２，
２４を他の導体に整列させることなく二段構造と
したので、各導体を比較的コンパクトに基板３４
内に埋没することができる利点を有する。しかし
ながら、第６図の他の実施例に示されるように、
全ての導体を一列に整列配置することも可能であ
り、被加熱物の形状に適合させて任意の導体配置
を得ることが可能である。第６図の各構成部材に
は第４図と同一符号を付して説明を省略する。
２４を他の導体に整列させることなく二段構造と
したので、各導体を比較的コンパクトに基板３４
内に埋没することができる利点を有する。しかし
ながら、第６図の他の実施例に示されるように、
全ての導体を一列に整列配置することも可能であ
り、被加熱物の形状に適合させて任意の導体配置
を得ることが可能である。第６図の各構成部材に
は第４図と同一符号を付して説明を省略する。
第４図の二段加熱コイル配置によれば、第６図
の一列配置に比較して高電圧側の電流導体２２，
２４の加熱に対する寄与率が大きいので全体効率
が増大し、実験によればほぼ２倍の効率を得るこ
とができた。
の一列配置に比較して高電圧側の電流導体２２，
２４の加熱に対する寄与率が大きいので全体効率
が増大し、実験によればほぼ２倍の効率を得るこ
とができた。
前述した各実施例においては導体は銅管からな
り、その内部に冷却水が供給され導体自体の抵抗
損失により発熱を防止している。
り、その内部に冷却水が供給され導体自体の抵抗
損失により発熱を防止している。
以上のような導体配置によりキヤツプ１６の底
部１６ａには誘導電流回路が形成させ、そのジユ
ール熱により加熱されるが、通常の場合、底部１
６ａにはほぼ20〜30℃の温度差が生じる。この温
度差を除去するためには、誘導加熱中にキヤツプ
１６を回動させることが好ましい。キヤツプ１６
をの回動は、例えば、回転テーブル１０の切欠部
１２に低摩擦材料（例えばテフロン）のライニン
グを施し、一方案内壁３６のキヤツプ接触面に比
較的摩擦数の高いシリコンラバーのような弾性材
料のライニングを施すことにより行われ、この案
内部構造により、各キヤツプは案内壁３６の摩擦
内面に押圧移送されるので、キヤツプ１６は案内
壁３６との摩擦により適当な回転が与えられ、前
述した温度差の発生を除去することができる。
部１６ａには誘導電流回路が形成させ、そのジユ
ール熱により加熱されるが、通常の場合、底部１
６ａにはほぼ20〜30℃の温度差が生じる。この温
度差を除去するためには、誘導加熱中にキヤツプ
１６を回動させることが好ましい。キヤツプ１６
をの回動は、例えば、回転テーブル１０の切欠部
１２に低摩擦材料（例えばテフロン）のライニン
グを施し、一方案内壁３６のキヤツプ接触面に比
較的摩擦数の高いシリコンラバーのような弾性材
料のライニングを施すことにより行われ、この案
内部構造により、各キヤツプは案内壁３６の摩擦
内面に押圧移送されるので、キヤツプ１６は案内
壁３６との摩擦により適当な回転が与えられ、前
述した温度差の発生を除去することができる。
前述した実施例においては、被加熱物は回転テ
ーブルにより移送され、その浮上跳躍力は案内板
により支承されているが、案内板自体を送りベル
トあるいは回転円板装置で構成することにより同
様の効率を得ることが可能である。
ーブルにより移送され、その浮上跳躍力は案内板
により支承されているが、案内板自体を送りベル
トあるいは回転円板装置で構成することにより同
様の効率を得ることが可能である。
以上説明したように、本発明によれば、電流導
体とキヤツプとを絶縁破壊を生じること無く近接
配置することができ、キヤツプの誘導加熱効率を
著しく向上させることができる。
体とキヤツプとを絶縁破壊を生じること無く近接
配置することができ、キヤツプの誘導加熱効率を
著しく向上させることができる。
また、本発明によれば各導体間の配置も導体間
電位差に応じて設定されているので、導体間絶縁
破壊も確実に防止することが可能となる。
電位差に応じて設定されているので、導体間絶縁
破壊も確実に防止することが可能となる。
更に、本発明によればアルミニウム非磁性材か
ら成る金属キヤツプを極めて確実に加熱すること
のできる小型かつ能率の良い加熱装置を得ること
ができる。
ら成る金属キヤツプを極めて確実に加熱すること
のできる小型かつ能率の良い加熱装置を得ること
ができる。
本発明に掛る加熱装置は、特に連続して大量の
加熱を行うことができる。特に非磁性材キヤツプ
の加熱などに好適である。
加熱を行うことができる。特に非磁性材キヤツプ
の加熱などに好適である。
第１図は本発明に掛る高周波誘導加熱装置の好
適な第１実施例を示す平面図、第２図は第１図の
−断面図であつて、加熱部と金属キヤツプ案
内部との構成を示す断面図、第３図は電流導体と
被加熱物との間隙に対する加熱温度上昇率特性を
示す断面図、第４図は第２図の要部を拡大して各
導体と被加熱物との配置構成を示す概略断面図、
第５図は第４図の導体間の電位差を示す回路図、
第６図は第４図と類似する本発明に係る加熱装置
の好適な第２実施例を示す各導体と被加熱物との
配置構成説明図である。 １６……金属キヤツプ、１６ａ……キヤツプ底
部、１８……誘導加熱路、２０……高周波電源、
２２，２４，２６，２８，３０，３２……電流導
体、３８……案内板。
適な第１実施例を示す平面図、第２図は第１図の
−断面図であつて、加熱部と金属キヤツプ案
内部との構成を示す断面図、第３図は電流導体と
被加熱物との間隙に対する加熱温度上昇率特性を
示す断面図、第４図は第２図の要部を拡大して各
導体と被加熱物との配置構成を示す概略断面図、
第５図は第４図の導体間の電位差を示す回路図、
第６図は第４図と類似する本発明に係る加熱装置
の好適な第２実施例を示す各導体と被加熱物との
配置構成説明図である。 １６……金属キヤツプ、１６ａ……キヤツプ底
部、１８……誘導加熱路、２０……高周波電源、
２２，２４，２６，２８，３０，３２……電流導
体、３８……案内板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 加熱コイルが設けられた誘導加熱路に沿つて
アルミニウム非磁性材からなる容器用のキヤツプ
を移送させ該キヤツプを加熱する真空管発振によ
る高周波誘導加熱装置において、 誘導加熱路は、加熱コイルに対向配置されかつ
高周波電流反発作用により浮上跳躍する容器用キ
ヤツプをその案内面にてに滑動可能に支承する案
内部材を有し、 また前記加熱コイルは、誘導加熱路に沿つて配
設された複数組の往復路高周波電流導体を以て形
成され、 該加熱コイルの電流往路を形成する複数の高周
波電流導体は、誘導加熱路の一半分側に沿つて設
置され、 電流復路を形成する複数の高周波電流導体は、
誘導加熱路の他半分部側に沿つて配置され、 これら各高周波電流導体は、キヤツプとの間の
電位傾度がそれぞれ一定値以下に抑制されるよ
う、電圧が高い導体ほどキヤツプからの距離が大
きく設定され、各高周波電流導体とキヤツプとの
間の絶縁破壊を防止することを特徴とする真空管
発振による高周波誘導加熱装置。 ２ 特許請求の範囲１において、 各導体間の設置間隔を導体間の電位差に対応し
て設定し、導体間の電位傾度を一定値以下に抑制
して導体間の絶縁破壊を防止したことを特徴とす
る真空発振による高周波誘導加熱装置。
Priority Applications (22)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8491978A JPS5512634A (en) | 1978-07-12 | 1978-07-12 | High frequency induction heater by vacuum tube oscillation |
| ES480699A ES480699A1 (es) | 1978-05-26 | 1979-05-18 | Un aparato para fabricar un tapon metalico. |
| AU47217/79A AU510533B1 (en) | 1978-05-26 | 1979-05-21 | Metal cap |
| FR7913012A FR2426507B1 (fr) | 1978-05-26 | 1979-05-22 | Procede et appareil pour fabriquer des capsules metalliques et capsules ainsi produites |
| BE0/195344A BE876490A (fr) | 1978-05-26 | 1979-05-23 | Procede et appareil pour fabriquer des capsules metalliques et perfectionnement a ces dernieres |
| IL57383A IL57383A (en) | 1978-05-26 | 1979-05-23 | Method and apparatus for making metal caps lined with packing material |
| LU81310A LU81310A1 (fr) | 1978-05-26 | 1979-05-23 | Procede et appareil pour fabriquer des capsules metalliques et capsules perfectionnees ainsi produites |
| DE2920982A DE2920982C2 (de) | 1978-05-26 | 1979-05-23 | Vorrichtung zum Einbringen der Dichtung im Metallverschlußkappen |
| SE7904512A SE7904512L (sv) | 1978-05-26 | 1979-05-23 | Metallkapsyl och sett och apparat for framstellning derav |
| NZ190543A NZ190543A (en) | 1978-05-26 | 1979-05-24 | Method and apparatus for lining crown caps |
| GB7918092A GB2025297B (en) | 1978-05-26 | 1979-05-24 | Method and apparatus for making a metal cap and an improved metal cap |
| NLAANVRAGE7904128,A NL182127C (nl) | 1978-05-26 | 1979-05-25 | Inrichting voor het verwarmen van de bodem van metalen hulzen om een dop te maken. |
| NO791733A NO151732C (no) | 1978-05-26 | 1979-05-25 | Anordning til festing av en foring til metallkapsler |
| IT23007/79A IT1120759B (it) | 1978-05-26 | 1979-05-25 | Procedimento ed apparecchiatura per produrre un cappuccio metallico e cappuccio metallico perfezionato |
| CH506179A CH630863A5 (fr) | 1978-05-26 | 1979-05-25 | Procede de fabrication d'une capsule metallique, appareil pour sa mise en oeuvre et capsule obtenue par ce procede. |
| FI791674A FI791674A7 (fi) | 1978-05-26 | 1979-05-25 | Foerfarande och anordning foer framstaellning av en metallkapsell samt foerbaettrad metallkapsel |
| US06/047,647 US4319111A (en) | 1978-07-12 | 1979-06-11 | High frequency induction heating apparatus having a vacuum oscillator means |
| CA000329966A CA1120552A (en) | 1978-07-12 | 1979-06-18 | High frequency induction heating apparatus having a vacuum oscillator means |
| BR7904347A BR7904347A (pt) | 1978-07-12 | 1979-07-09 | Aparelho de aquecimento por inducao de alta frequencia |
| PH22760A PH16453A (en) | 1978-07-12 | 1979-07-09 | High frequency induction heating apparatus having a vaccum oscillator means |
| MX10074779U MX4675E (es) | 1978-07-12 | 1979-07-10 | Mejoras en aparato de calentamiento por induccion de frecuencia elevada que tiene un oscilador de vacio |
| AR277280A AR219400A1 (es) | 1978-07-12 | 1979-07-12 | Mejoras en un aparato para calentamiento de articulos por induccion de una corriente de alta frecuencia |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8491978A JPS5512634A (en) | 1978-07-12 | 1978-07-12 | High frequency induction heater by vacuum tube oscillation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5512634A JPS5512634A (en) | 1980-01-29 |
| JPS6132787B2 true JPS6132787B2 (ja) | 1986-07-29 |
Family
ID=13844111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8491978A Granted JPS5512634A (en) | 1978-05-26 | 1978-07-12 | High frequency induction heater by vacuum tube oscillation |
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|---|---|---|---|---|
| JPS649487U (ja) * | 1987-07-03 | 1989-01-19 | ||
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Also Published As
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| JPS5512634A (en) | 1980-01-29 |
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| CA1120552A (en) | 1982-03-23 |
| US4319111A (en) | 1982-03-09 |
| BR7904347A (pt) | 1980-04-08 |
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