JPS6130612B2 - - Google Patents

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JPS6130612B2
JPS6130612B2 JP25031383A JP25031383A JPS6130612B2 JP S6130612 B2 JPS6130612 B2 JP S6130612B2 JP 25031383 A JP25031383 A JP 25031383A JP 25031383 A JP25031383 A JP 25031383A JP S6130612 B2 JPS6130612 B2 JP S6130612B2
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JP
Japan
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gas
separation
piping
product
cascade
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JP25031383A
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Japanese (ja)
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JPS60137423A (en
Inventor
Yoshio Araki
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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  • Separation Of Gases By Adsorption (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は重成分ガスと軽成分ガスの混合ガスを
重成分ガスと軽成分ガスに分離するガス分離装置
に係り、特に製・廃品ガスの濃度を制御すること
のできるようにしたガス分離装置に関する。
Detailed Description of the Invention [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a gas separation device for separating a mixed gas of a heavy component gas and a light component gas into a heavy component gas and a light component gas. The present invention relates to a gas separation device that can control.

[発明の技術的背景] 従来、ガス分離装置は第1図aに示すごとく、
ガス分離器を複数台並列接続した分離要素段を複
数段直列に接続したガス分離カスケード1と、図
示していない原料供給系とガス分離カスケード1
の間を繋ぐフイード配管2と、図示していない製
品捕集系とガス分離カスケード1の間を繋ぐプロ
ダクト配管3と、図示していない廃品捕集系とガ
ス分離カスケード1の間を繋ぐテイル配管4と、
フイード配管2の途中に設けられたフイード調節
弁5と、プロダクト配管3の途中に設けられたプ
ロダクト調節弁6と、テイル配管4の途中に設け
られたテイル調節弁7とから構成されている。
[Technical Background of the Invention] Conventionally, a gas separation device is as shown in FIG.
A gas separation cascade 1 in which a plurality of separation element stages each having a plurality of gas separators connected in parallel are connected in series, a raw material supply system (not shown), and a gas separation cascade 1
a product piping 3 that connects between a product collection system (not shown) and the gas separation cascade 1; and a tail piping that connects the waste collection system (not shown) and the gas separation cascade 1. 4 and
It is composed of a feed control valve 5 provided in the middle of the feed pipe 2, a product control valve 6 provided in the middle of the product pipe 3, and a tail control valve 7 provided in the middle of the tail pipe 4.

このガス分離装置において、被分離ガスである
軽成分ガスと重成分ガスの混合ガスが原料供給系
から供給されフイード配管2を通つてガス分離カ
スケード1へ導入される。
In this gas separation apparatus, a mixed gas of a light component gas and a heavy component gas, which is a gas to be separated, is supplied from a raw material supply system and introduced into a gas separation cascade 1 through a feed pipe 2.

被分離ガスは第1図bに示したように、ガス分
離カスケード1内の分離要素段8で順々に分離さ
れて、軽成分ガスの温度が高まつたガスは製品ガ
スとしてプロダクト配管3,3aを通つて製品捕
集系へ捕集され、軽成分ガスの濃度の低下したガ
スは廃品ガスとしてテイル配管4を通つて廃品捕
集系へ捕集される。
As shown in FIG. 1b, the gas to be separated is successively separated in the separation element stages 8 in the gas separation cascade 1, and the light component gas, whose temperature has been increased, is sent as a product gas to the product piping 3, 3a to the product collection system, and the gas with a reduced concentration of light component gas is collected as waste gas through the tail pipe 4 to the waste collection system.

ガス分離装置において、製品ガスと廃品ガスの
軽成分ガスの濃度を変える場合には、フイード配
管2、プロダクト配管3、テイル配管4に設置さ
れた流量調節弁5,6,7により被分離ガス量お
よび製品ガス、廃品ガス流量を調節することで製
品ガスの軽成分ガスの濃度と廃品ガスの軽成分ガ
スの濃度を制御していた。第1図bはガス分離カ
スケード1内の任意の分離要素段8,8aの配管
接続状態を示している。
In a gas separation device, when changing the concentration of light component gases in product gas and waste gas, the amount of gas to be separated can be adjusted using flow control valves 5, 6, and 7 installed in feed piping 2, product piping 3, and tail piping 4. By adjusting the product gas and waste gas flow rates, the concentration of light component gas in the product gas and the concentration of light component gas in the waste gas were controlled. FIG. 1b shows the piping connection of an optional separation element stage 8, 8a in the gas separation cascade 1. FIG.

すなわち、符号8aで示す分離要素段はボトム
段であつて、任意の分離要素段8とボトム段8a
にはフイード配管2a、プロダクト配管3a、テ
イル配管4aが接続されており、順々に分離され
たガスは製品捕集系および廃品捕集系へ捕集さ
れ、ボトム段8aは第1図aにおけるテイル配管
4に接続される。
That is, the separation element stage indicated by the reference numeral 8a is a bottom stage, and any separation element stage 8 and bottom stage 8a
A feed pipe 2a, a product pipe 3a, and a tail pipe 4a are connected to the bottom stage 8a, and the separated gas is collected in the product collection system and waste product collection system in order. It is connected to the tail pipe 4.

[背景技術の問題点] 上記装置において、ガス分離カスケード1へ供
給される被分離ガス流量をF、被分離ガス中の軽
成分ガスの濃度をXF、ガス分離カスケード1で
濃縮分離された製品ガスの流量をP、製品ガス中
の軽成分ガスの濃度をXP、ガス分離カスケード
減損分離された廃品ガスの流量をT、廃品ガス中
の軽成分ガスの濃度をXTとすると、ガス分離カ
スケード1へ出入する軽成分ガス量のバランスに
より第(1)式が得られる。
[Problems in the Background Art] In the above device, the flow rate of the gas to be separated supplied to the gas separation cascade 1 is F, the concentration of light component gas in the gas to be separated is X F , and the product concentrated and separated in the gas separation cascade 1 is If the gas flow rate is P , the concentration of light component gas in the product gas is Equation (1) is obtained by balancing the amount of light component gas entering and exiting the cascade 1.

F・XF=P・XP+T・XT …(1) 第(1)式を変形すると第(2)式と第(3)式が得られ
る。
F·X F =P·X P +T·X T (1) Equations (2) and (3) are obtained by transforming equation (1).

P=(F・XF−T・XT)/P …(2) XT=(F・XF−P・XP)/T …(3) テイル調節弁7を調節して製品ガスの流量Pを
変える場合について考えてみると、製品ガスの流
量Pを増加させると第(2)式の分母が大きくなるた
め製品ガス中の軽成分ガスの濃度XPは小さくな
り、逆に製品ガスの流量Pを減少させると第(2)式
の分母が小さくなるため製品ガス中の軽成分ガス
の濃度XPは大きくなる。流量調節弁を調節して
廃品ガスの流量Tを変える場合についても同様
に、廃品ガスの流量Tを変化させると第(3)式に従
い廃品ガス中の軽成分ガスの濃度が変化する。
X P = (F・X F −T・X T ) / P…(2) Considering the case of changing the flow rate P of the product gas, if the flow rate P of the product gas is increased, the denominator of equation ( 2 ) increases, so the concentration of light component gas in the product gas When the gas flow rate P is decreased, the denominator of equation (2) becomes smaller, so the concentration X P of light component gas in the product gas becomes larger. Similarly, when the flow rate T of the waste gas is changed by adjusting the flow rate control valve, when the flow rate T of the waste gas is changed, the concentration of light component gas in the waste gas changes according to equation (3).

ところで、ガス分離カスケード1へ出入するガ
スのバランスにより第(4)式が得られるが、第(1)式
と第(4)式との関係から第(5)式が得られる。
By the way, Equation (4) can be obtained from the balance of gas flowing in and out of the gas separation cascade 1, and Equation (5) can be obtained from the relationship between Equation (1) and Equation (4).

F=P+T …(4) T/P=(XP−XF)/(XF−XT) …(5) 例えば第(5)式のT/Pの値が10程度のガス分離
カスケードである場合、すなわち、廃品ガス流量
Tは製品ガス流量Pの10倍の値である。従つて、
廃品ガス流量と製品ガス流量を同一流量だけ変化
させた場合を比べると、第(3)式から得られる廃品
ガス中の軽成分ガスの濃度変化分は第(2)式から得
られる製品ガス中の軽成分ガスの濃度の変化分の
1/10の値である。製品ガス流量と廃品ガス流量を
余り大きく変化させるとガス分離カスケード1内
でのガス流量分布が崩れ分離損失が大きくなる。
製品ガス流量と廃品ガス流量を変更できる量には
限界があり、一般に廃品ガス中の軽成分ガスの濃
度の制御範囲は製品ガス中の軽成分ガスの濃度の
制御範囲より狭い。
F=P+T …(4) T/P=(X P −X F )/(X F −X T ) …(5) For example, in a gas separation cascade where the value of T/P in equation (5) is about 10 In one case, the waste gas flow rate T is 10 times the product gas flow rate P. Therefore,
Comparing the case where the waste gas flow rate and the product gas flow rate are changed by the same flow rate, the change in the concentration of light component gas in the waste gas obtained from equation (3) is equal to the change in the concentration of light component gas in the product gas obtained from equation (2). of the change in the concentration of light component gases
The value is 1/10. If the product gas flow rate and the waste gas flow rate are changed too much, the gas flow rate distribution within the gas separation cascade 1 will collapse and separation loss will increase.
There is a limit to the amount by which the product gas flow rate and waste gas flow rate can be changed, and the control range for the concentration of light component gas in the waste gas is generally narrower than the control range for the concentration of light component gas in the product gas.

[発明の目的] 本発明は上記背景技術の問題点を解決するため
になされたもので、ガス分離カスケードの濃度制
御範囲を大きくとれるようにして生産のフレキシ
ビリテイを高め、もつて廃品濃度を最適値に制御
して経済的運転を行なうことができるガス分離装
置を提供することにある。
[Object of the Invention] The present invention has been made to solve the problems of the background art described above, and it is possible to increase the flexibility of production by widening the concentration control range of the gas separation cascade, thereby reducing the concentration of waste products. An object of the present invention is to provide a gas separation device that can be controlled to an optimum value and economically operated.

[発明の概要] すなわち本発明は、複数のガス分離器を並列に
接続して形成された分離要素段を複数段に直列接
続したガス分離カスケードと、このガス分離カス
ケードへ被分離ガスを供給するフイード配管と、
該ガス分離カスケードで濃縮分離された製品ガス
を捕集するプロダクト配管と、該ガス分離カスケ
ードで減損分離された廃品ガスを捕集するテイル
配管と、このテイル配管と該ガス分離カスケード
内の任意の分離要素段を形成する3本または2本
の分離要素ヘツダ配管のいずれか1ヘツダ配管と
の間を接続するバイパス配管と、バイパス配管を
流れるガス量を調整する流量調節弁とから構成さ
れたガス分離装置である。また、上記分離装置に
おいて、複数のガス分離器を並列接続しかつ該
各々のガス分離カスケードのフイード配管へ被分
離ガスを供給する統合フイールド配管と、前記複
数のガス分離カスケードのプロダクト配管を通り
濃縮分離された製品ガスを一括捕集する統合プロ
ダクト配管と、前記複数のガス分離カスケードの
テイル配管を通つた減損分離された廃品ガスを一
括捕集する統合テイル配管と、前記複数のガス分
離カスケード内の任意の分離要素段を形成する3
本または2本の分離要素ヘツダ配管のいずれか1
ヘツダ配管から導出されるバイパス配管を集合し
て統合テイル配管に接続する統合バイパス配管
と、この統合バイパス配管に流量調節弁を設けた
ことを特徴とするガス分離装置である。
[Summary of the Invention] That is, the present invention provides a gas separation cascade in which a plurality of separation element stages formed by connecting a plurality of gas separators in parallel are connected in series, and a gas to be separated is supplied to the gas separation cascade. feed piping and
A product pipe that collects the product gas that has been concentrated and separated in the gas separation cascade, a tail pipe that collects the waste gas that has been depleted and separated in the gas separation cascade, and a product pipe that collects the product gas that has been separated and concentrated in the gas separation cascade; A gas consisting of a bypass pipe that connects any one of the three or two separation element header pipes forming a separation element stage, and a flow rate control valve that adjusts the amount of gas flowing through the bypass pipe. It is a separation device. Further, in the above separation device, a plurality of gas separators are connected in parallel and the gas to be separated is passed through an integrated field pipe that supplies the gas to be separated to the feed pipe of each of the gas separation cascades, and a product pipe of the plurality of gas separation cascades for concentration. integrated product piping that collectively collects the separated product gas; integrated tail piping that collectively collects the depleted and separated waste gas that passes through the tail piping of the plurality of gas separation cascades; 3 forming any separation element stage of
Either 1 or 2 separation element header piping
This gas separation device is characterized by having an integrated bypass pipe that collects bypass pipes led out from header pipes and connects them to an integrated tail pipe, and a flow rate control valve provided on the integrated bypass pipe.

[発明の実施例] 以下第2図および第3図を参照して本発明に係
るガス分離装置の実施例を説明する。
[Embodiments of the Invention] Examples of the gas separation apparatus according to the present invention will be described below with reference to FIGS. 2 and 3.

第2図は本発明の第1の実施例を示したもので
ある。
FIG. 2 shows a first embodiment of the invention.

すなわち、第2図aにおいて、ガス分離カスケ
ード1は第1図aに示した分離装置と同様にフイ
ード配管2を介して図示していない原料供給系と
接続され、プロダクト配管3を介して図示してい
ない製品捕集系と接続され、テイル配管4を介し
て図示していない廃品捕集系と接続されている。
また、フイード配管2の途中にはフイード調節弁
5が設置され、プロダクト配管3の途中にはプロ
ダクト調節弁6が設置され、テイル配管4の途中
にはテイル調節弁7が設置されている。
That is, in FIG. 2a, the gas separation cascade 1 is connected to a raw material supply system (not shown) via a feed pipe 2, similar to the separation device shown in FIG. It is connected to a product collection system (not shown), and is connected via a tail pipe 4 to a waste collection system (not shown).
Further, a feed control valve 5 is installed in the middle of the feed pipe 2, a product control valve 6 is installed in the middle of the product pipe 3, and a tail control valve 7 is installed in the middle of the tail pipe 4.

ここで本発明では、特に第2図bで示したよう
に、ガス分離カスケード1内の任意の分離要素段
8の3本または2本の分離要素ヘツダ配管11の
中の1本とテイル配管4の間がバイパス配管9で
接続され、バイパス配管9の途中にはバイパス調
節弁10が設置されている。
Here, in the present invention, one of the three or two separation element header pipes 11 of any separation element stage 8 in the gas separation cascade 1 and the tail pipe 4, as shown in FIG. A bypass pipe 9 connects between the two, and a bypass control valve 10 is installed in the middle of the bypass pipe 9.

第2図bはバイパス配管9付近の詳細を示した
もので、ボトム段8a、分離要素段8とを接続す
る分離要素ヘツダ配管11中からバイパス配管9
の一端が接続され、バイパス配管9の他端はテイ
ル配管4に接続されている。
FIG. 2b shows the details of the vicinity of the bypass piping 9.
One end of the bypass pipe 9 is connected, and the other end of the bypass pipe 9 is connected to the tail pipe 4.

次にこのガス分離装置の作用について説明す
る。
Next, the operation of this gas separation device will be explained.

原料供給系から供給される被分離ガスはフイー
ド配管2を通つてガス分離カスケード1へ導入さ
れる。被分離ガスはガス分離カスケード1内の各
分離要素段8で順々に分離されて、濃縮分離され
た製品ガスと減損分離された廃品ガスとしてガス
分離カスケード1から排出される。製品ガスはプ
ロダクト配管3を通つて製品捕集系へ捕集され、
廃品ガスはテイル配管4を通つて廃品捕集系へ捕
集される。バイパス調節弁10を閉じているとき
にはバイパス配管9にガスが流れないので、第1
図に示した従来のガス分離装置と同じ運転状態と
なる。
Gas to be separated supplied from the raw material supply system is introduced into the gas separation cascade 1 through the feed pipe 2. The gas to be separated is sequentially separated in each separation element stage 8 in the gas separation cascade 1, and is discharged from the gas separation cascade 1 as a concentrated and separated product gas and a depleted and separated waste gas. Product gas is collected into the product collection system through product piping 3,
The waste gas is collected through the tail pipe 4 into the waste collection system. When the bypass control valve 10 is closed, gas does not flow into the bypass pipe 9, so the first
The operating state is the same as that of the conventional gas separation device shown in the figure.

すなわち、フイード調節弁5、プロダクト調節
弁6、テイル調節弁7を調節して製品ガス中の軽
成分ガスの濃度と廃品ガス中の軽成分ガスの濃度
を制御するよう運転する。
That is, the feed control valve 5, product control valve 6, and tail control valve 7 are adjusted to control the concentration of light component gas in the product gas and the concentration of light component gas in the waste gas.

本発明では廃品ガス中の軽成ガスの濃度の最適
値が前述の3つの調節弁の調節で制御可能な範囲
を越えているとき、バイパス調節弁10を開き、
このバイパス調節弁10を調節することでガス分
離カスケード1内の分離要素段8の分離要素ヘツ
ダ配管11を流れる軽成分ガスの濃度の高いガス
がバイパス配管9を通つてテイル配管4に流れ込
み、廃品ガスの軽成分ガスの濃度を高めることが
できる。バイパス調節弁10を調節しバイパス配
管9を流れるガスの流量を調整すれば、廃品ガス
の軽い成分ガスの濃度を連続的に変えことができ
る。
In the present invention, when the optimum concentration of light gas in the waste gas exceeds the range that can be controlled by adjusting the three control valves described above, the bypass control valve 10 is opened;
By adjusting this bypass control valve 10, gas with a high concentration of light component gas flowing through the separation element header piping 11 of the separation element stage 8 in the gas separation cascade 1 flows into the tail piping 4 through the bypass piping 9. The concentration of light component gases in the gas can be increased. By adjusting the bypass control valve 10 to adjust the flow rate of the gas flowing through the bypass pipe 9, the concentration of the light component gas of the waste gas can be continuously changed.

例えば前述の3つの調節弁を駆使して得られる
廃品ガス中の軽成分ガスの濃度の上限をXt2
し、ガス分離カスケード1内の分離要素段8の分
離要素ヘツダ配管11を流れるガスの軽成分ガス
中の濃度をXbとし、バイパス配管9を流れるガ
スの流量をQbとし、バイパス配管9を流れるガ
ス流と合流する前のテイル配管4を流れるガスの
流量をQtとすると、軽成分ガスの濃度Xt2のガス
と軽成分ガスの濃度Xbのガスがテイル配管4内
で合流して得られるガスの軽成分ガスの濃度X′t2
は式(6)で与えられる。
For example, if the upper limit of the concentration of light component gas in the waste gas obtained by making full use of the three control valves described above is set to Xt 2 , then If the concentration in the component gas is Xb, the flow rate of the gas flowing through the bypass pipe 9 is Qb, and the flow rate of the gas flowing through the tail pipe 4 before merging with the gas flow flowing through the bypass pipe 9 is Qt, then the light component gas The concentration of light component gas in the gas obtained by combining the gas with concentration Xt 2 and the gas with light component gas concentration Xb in the tail pipe 4
is given by equation (6).

X′t2=(Xt2・Qt+Xb・Qb) /(Qt+Qb) …(6) Xb>Xt2であるから、X′t2>Xt2である。 X′t 2 = (Xt 2・Qt+Xb・Qb) / (Qt+Qb) …(6) Since Xb>Xt 2 , X′t 2 >Xt 2 .

従つて、従来の3つの調節弁で制御する装置と
比較して制御可能な廃品ガスの軽成分ガスの濃度
の上限がX′t2へ上昇する。X′t2はXbの値によつて
変るとともにバイパス配管9のガス流量Qbによ
つても変る。よつてバイパス調節弁10を調節し
てQbを変えてやればX′t2を連続的に変えること
ができ、廃品ガス中の軽成分ガスの濃度の制御範
囲が拡大される。
Therefore, the upper limit of the concentration of light component gases in the waste gas that can be controlled increases to X′t 2 compared to the conventional device controlled by three regulating valves. X′t 2 changes depending on the value of Xb and also changes depending on the gas flow rate Qb of the bypass pipe 9. Therefore, by adjusting the bypass control valve 10 to change Qb, X't 2 can be changed continuously, and the control range of the concentration of light component gas in the waste gas is expanded.

第3図は本発明の第2の実施例を示す流れ線図
である。
FIG. 3 is a flow diagram showing a second embodiment of the present invention.

第3図の実施例では複数のガス分離カスケード
1(図では3組であるが、特に限定されるもので
はない)を並列接続とし、被分離ガスを供給する
統合フイード配管12に各ガス分離カスケード1
のフイード配管2が接続されている。また、各ガ
ス分離カスケード1のプロダクト配管3は統合プ
ロダクト配管13に接続され、各ガス分離カスケ
ード1のテイル配管4は統合テイル配管14に接
続されている。
In the embodiment shown in FIG. 3, a plurality of gas separation cascades 1 (three sets in the figure, but not limited to this) are connected in parallel, and each gas separation cascade is connected to the integrated feed pipe 12 that supplies the gas to be separated. 1
A feed pipe 2 is connected to the feed pipe 2. Further, the product pipe 3 of each gas separation cascade 1 is connected to an integrated product pipe 13, and the tail pipe 4 of each gas separation cascade 1 is connected to an integrated tail pipe 14.

前記第1の実施例で示した各ガス分離カスケー
ド1のバイパス配管9は各ガス分離カスケード1
のテイル配管4と接続せず統合バイパス配管15
の一端に接続され、統合バイパス配管15の他端
は統合テイル配管14に接続されている。さらに
統合フイード配管12、統合プロダクト配管1
3、統合テイル配管14、統合バイパス配管15
の途中にそれぞれフイード調節弁5、プロダクト
調節弁6、テイル調節弁7、バイパス調整弁10
が接続されている。単一のカスケードの場合だけ
でなく、このように複数のガス分離カスケードを
並列接続した場合にも廃品ガス中の軽成分ガスの
濃度の制御範囲が拡大される。
The bypass piping 9 of each gas separation cascade 1 shown in the first embodiment is connected to each gas separation cascade 1.
Integrated bypass piping 15 without connecting to the tail piping 4 of
The other end of the integrated bypass pipe 15 is connected to the integrated tail pipe 14. In addition, integrated feed piping 12, integrated product piping 1
3. Integrated tail piping 14, integrated bypass piping 15
A feed control valve 5, a product control valve 6, a tail control valve 7, and a bypass control valve 10 are installed in the middle of the
is connected. The control range of the concentration of light component gases in the waste gas is expanded not only in the case of a single cascade but also in the case where a plurality of gas separation cascades are connected in parallel in this way.

[発明の効果] 以上説明したように本発明は分離要素段うちボ
トム段のフイード配管とウエスト配管との間にバ
イパス調節弁を有するバイパス配管を設けたガス
分離装置である。従つて、通常のカスケード制御
では対応できる濃度範囲ではバイパス調節弁を全
閉にしておき、その制御に対応できないような高
い廃品濃度で運転する必要が生じた場合、つまり
テイル調節弁を全開にしても目標とする廃品濃度
に制御できない場合、バイパス調節弁を調節する
ことによつて種々の状況の変化による最適な製品
ガスの濃度と廃品ガスの濃度の変化に対応するこ
とができる。
[Effects of the Invention] As explained above, the present invention is a gas separation device in which a bypass pipe having a bypass control valve is provided between the feed pipe and the waist pipe in the bottom stage of the separation element stages. Therefore, the bypass control valve is kept fully closed in the concentration range that can be handled by normal cascade control, but when it becomes necessary to operate at a high waste concentration that cannot be handled by normal cascade control, in other words, the tail control valve is left fully open. If the waste gas concentration cannot be controlled to the target waste gas concentration, the bypass control valve can be adjusted to accommodate changes in the optimal product gas concentration and waste gas concentration due to various changes in the situation.

よつて、廃品ガスの軽成分ガスの濃度の制御可
能範囲が拡大し、常に適切な状態でガス分離装置
を運転することができる。
Therefore, the controllable range of the concentration of light component gases in the waste gas is expanded, and the gas separation device can always be operated in an appropriate state.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図aは従来のガス分離装置を示す流れ線
図、第1図bは第1図aの分離要素段の流れ線
図、第2図aは本発明の第1の実施例を示す流れ
線図、第2図bは第2図aの分離要素段の流れ線
図、第3図は本発明の第2の実施例を示す流れ線
図である。 1……ガス分離カスケード、2……フイード配
管、3……プロダクト配管、4……テイル配管、
5……フイード調節弁、6……プロダクト調節
弁、7……テイル調節弁、8……分離要素段、9
……バイパス配管、10……バイパス調節弁、1
1……分離要素ヘツダ配管、12……統合フイー
ド配管、13……統合プロダクト配管、14……
統合テイル配管、15……統合バイパス配管。
Fig. 1a is a flow diagram showing a conventional gas separation device, Fig. 1b is a flow diagram of the separation element stage of Fig. 1a, and Fig. 2a is a flow diagram showing a first embodiment of the present invention. FIG. 2b is a flow diagram of the separating element stage of FIG. 2a, and FIG. 3 is a flow diagram showing a second embodiment of the invention. 1... Gas separation cascade, 2... Feed piping, 3... Product piping, 4... Tail piping,
5...Feed control valve, 6...Product control valve, 7...Tail control valve, 8...Separation element stage, 9
...Bypass piping, 10...Bypass control valve, 1
1...Separation element header piping, 12...Integrated feed piping, 13...Integrated product piping, 14...
Integrated tail piping, 15...Integrated bypass piping.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 複数のガス分離器を並列に接続して形成され
る分離要素段を複数段に直列接続したガス分離カ
スケードと、このガス分離カスケードへ被分離ガ
スを供給するフイード配管と、該ガス分離カスケ
ードで濃縮分離された製品ガスを捕集するプロダ
クト配管と、該ガス分離カスケードで減損分離さ
れた廃品ガスを捕集するテイル配管と、このテイ
ル配管と該ガス分離カスケード内の任意の分離要
素段を形成する3本または2本の分離要素ヘツダ
配管のいずれか1ヘツダ配管との間を接続するバ
イパス配管と、バイパス配管を流れるガス量を調
整する流量調節弁とを具備したことを特徴とする
ガス分離装置。 2 複数のガス分離器を並列接続して形成される
分離要素段を直列接続した複数のガス分離カスケ
ードと、この複数のガス分離カスケードを並列接
続し、かつガス分離カスケードのフイード配管へ
被分離ガスを供給する統合フイールド配管と、前
記複数のガス分離カスケードのプロダクト配管を
通り濃縮分離された製品ガスを一括捕集する統合
プロダクト配管と、前記複数のガス分離カスケー
ドのテイル配管を通つた減損分離された廃品ガス
を一括捕集する統合テイル配管と、前記複数のガ
ス分離カスケード内の任意の分離要素段を形成す
る3本または2本の分離要素ヘツダ配管のいずれ
か1ヘツダ配管より導出されるバイパス配管を集
合して統合テイル配管に接続する統合バイパス配
管と、この統合バイパス配管に設けられた流量調
節弁とを具備したことを特徴とするガス分離装
置。
[Claims] 1. A gas separation cascade in which a plurality of separation element stages formed by connecting a plurality of gas separators in parallel are connected in series, and a feed pipe that supplies gas to be separated to the gas separation cascade. , a product piping that collects the product gas concentrated and separated in the gas separation cascade, a tail piping that collects the waste gas depleted and separated in the gas separation cascade, and this tail piping and any part of the gas separation cascade. A bypass pipe that connects to any one of the three or two separation element header pipes forming the separation element stage, and a flow rate control valve that adjusts the amount of gas flowing through the bypass pipe. A gas separation device featuring: 2 A plurality of gas separation cascades in which separation element stages formed by connecting a plurality of gas separators in parallel are connected in parallel, and a plurality of gas separation cascades are connected in parallel, and the gas to be separated is connected to the feed piping of the gas separation cascade. integrated field piping that supplies gas, integrated product piping that collectively collects the concentrated and separated product gas that passes through the product piping of the plurality of gas separation cascades, and depleted and separated product gas that passes through the tail piping of the plurality of gas separation cascades. integrated tail piping that collectively collects waste product gas; and a bypass led out from one of the three or two separation element header pipings forming any separation element stage in the plurality of gas separation cascades. A gas separation device comprising: an integrated bypass pipe that collects pipes and connects them to an integrated tail pipe; and a flow rate control valve provided on the integrated bypass pipe.
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