JPS6129497A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPS6129497A
JPS6129497A JP15019984A JP15019984A JPS6129497A JP S6129497 A JPS6129497 A JP S6129497A JP 15019984 A JP15019984 A JP 15019984A JP 15019984 A JP15019984 A JP 15019984A JP S6129497 A JPS6129497 A JP S6129497A
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Hiroshi Iwahashi
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Abstract

PURPOSE:To prevent malfunction without adversely affecting an action speed by varying a resistance value of a load transistor at the dummy cell memory side in accordance with the potential of a signal input line at the memory cell side of a differential data detecting means. CONSTITUTION:A gate of a load transistor 32 in a comparison potential generator circuit 24 is connected to one signal input line 23 of a differential sensor amplifier 22, and a resistance across a source and drain of an FET32 varies in accordance with the potential of the line 23. When the FET32 is made a P- channel and the potential of the line 23 changes at a high level, the resistance value of the FET32 rises, while the potential of a signal input line 26 drops. On the other hand, when the potential of the line 23 changes at a low level, the potential of the line 26 rises. As a result, a difference between both input potentials of the amplifier 22 is increased, and malfunction due to the fluctuation of a power source can be prevented. Moreover it is unnecessary to increase the amplitude of a potential V1 of the line 23, an acting speed will not speed down.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] この発明は差動型センスアンプを備えたデータ読み出し
専用の半導体記憶装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a data read-only semiconductor memory device equipped with a differential sense amplifier.

[発明の技術的背景コ 一般に差動型センスアンプは、その動作が安定でしかも
極めて微少な電位差を検出できることから半導体記憶装
置(以下メモリと称する)によく用いられている。
[Technical Background of the Invention] In general, differential sense amplifiers are often used in semiconductor storage devices (hereinafter referred to as memories) because their operation is stable and they can detect extremely small potential differences.

ところで、データの読み出しおよび書き込みが可能なR
AM (ランダムアクセス型のメモリ)等では、メモリ
データとして互いに逆レベルの1対のデータが出力され
るようになっている。このため、この1対のデータを差
動型センスアンプの一対の信号入力線に導きデータの検
出を行なうようにしている。ところが、ROM(データ
読み出し専用のメモリ)の場合、メモリセルからは′1
″もしくはOI+のいずれか一方のデータしか出力され
ないので、ROMに用いられるセンスアンプとしてはメ
モリセルと同等のダミーメモリセル用トランジスタを用
いて比較電位を用意しておき、この電位を列線電位とと
もにセンスアンプに供給してデータの検出を行なうよう
にしている。
By the way, R that can read and write data
In an AM (random access type memory) or the like, a pair of data having mutually opposite levels is output as memory data. For this reason, this pair of data is led to a pair of signal input lines of a differential sense amplifier for data detection. However, in the case of ROM (data read-only memory), '1' is sent from the memory cell.
'' or OI+, so a comparison potential is prepared using a dummy memory cell transistor equivalent to the memory cell as a sense amplifier used in the ROM, and this potential is used together with the column line potential. The data is detected by supplying it to a sense amplifier.

M2図は、例えば絶縁ゲート型電界効果トランジスタ(
以下MOSトランジスタと称する)を用いた従来のマス
クROMの構成を示す回路図である。図において、10
はメモリセルアレイ、11はこのメモリセルアレイ10
内に設けられそれぞれしきい値電圧の高低によりデータ
を記憶するtvl OSトランジスタからなるメモリセ
ル、12はそれぞれ列選択用のMOSトランジスタ、1
3は行デコーダ、14は列デコーダ、15はそれぞれ行
線、16はそれぞれ列線、17ないし19は負荷用のM
OS l−ランジスタ、20および21はバイアス電圧
発生用の抵抗である。
The M2 diagram is, for example, an insulated gate field effect transistor (
1 is a circuit diagram showing the configuration of a conventional mask ROM using MOS transistors (hereinafter referred to as MOS transistors). In the figure, 10
is a memory cell array, and 11 is this memory cell array 10.
12 is a MOS transistor for column selection; 1 is a MOS transistor for column selection;
3 is a row decoder, 14 is a column decoder, 15 is a row line, 16 is a column line, and 17 to 19 are M for load.
OS l-transistors 20 and 21 are resistors for generating bias voltage.

上記列線16の電位は上記メモリセルアレイ1o内のメ
モリセル11から読み出されるデータに応じて設定され
、この列線電位がトランジスタ19で電位Vlにレベル
シフトされ、差動型センスアンプ22の一方の信号人力
線23に供給される。
The potential of the column line 16 is set according to the data read from the memory cells 11 in the memory cell array 1o, and this column line potential is level-shifted to the potential Vl by the transistor 19, and one of the differential sense amplifiers 22 It is supplied to the signal power line 23.

24は比較電位発生回路であり、前記メモリセル11と
同等のMOSトランジスタからなるダミーメモリセル2
5を用いて上記センスアンプ22の他方の一信号入力線
26に供給すべき比較電位V2′を発生するものであり
、27.28は前記抵抗20.21と同様のバイアス発
生用の抵抗、29は°°1゛レベルの信号がゲートに供
給され、前記列選択用のMOS I−ランジスタ12と
同等で常時オン状態にされているMOS トランジスタ
、30ないし32は前記負荷用のMOSトランジスタ1
7ないし19と同等のMOSトランジスタ、33.34
は上記ダミーメモリセル25のゲートに“′1°゛レベ
ルと“O++レベルの中間のレベルの一定バイアス電位
を供給するバイアス用抵抗である。
Reference numeral 24 denotes a comparison potential generation circuit, which includes a dummy memory cell 2 made of a MOS transistor similar to the memory cell 11.
5 is used to generate a comparison potential V2' to be supplied to the other one signal input line 26 of the sense amplifier 22, 27.28 is a bias generating resistor similar to the resistor 20.21, and 29 30 to 32 are MOS transistors whose gates are supplied with a °°1 level signal and which are always on, equivalent to the column selection MOS I-transistor 12; 30 to 32 are the load MOS transistors 1;
MOS transistor equivalent to 7 to 19, 33.34
is a bias resistor that supplies the gate of the dummy memory cell 25 with a constant bias potential at an intermediate level between the "'1" level and the "O++ level."

上記センスアンプ22には制御信号GE、CEが供給さ
れており、センスアンプ22におけるデータの検出動作
はこれらの信号によって制御されるようになっている。
The sense amplifier 22 is supplied with control signals GE and CE, and the data detection operation in the sense amplifier 22 is controlled by these signals.

そして、このセンスアンプ22で検出されたデータは出
力バッフ7回路35を介して出力データDとして出力さ
れる。
The data detected by the sense amplifier 22 is output as output data D via the output buffer 7 circuit 35.

なお、上記負荷トランジスタ19.’ 32は共にPチ
ャネルのものであり、トランジスタ19のゲートは上記
一方の信号入力線23に、トランジスタ32のゲートは
上記他方の信号入力線′!6にそれぞれ接続されている
Note that the load transistor 19. ' 32 are both P-channel ones, the gate of the transistor 19 is connected to the one signal input line 23, and the gate of the transistor 32 is connected to the other signal input line '! 6, respectively.

このようなROMでは、比較!位発生回路24内のダミ
ーメモリセル25のゲート電位が抵抗33.34により
一定にされているので、信号入力線26に得られる比較
電位V2′は第3図の波形図に示すように時間経過に対
して一定の固定された電位になっている。従って、メモ
リセル11からのデータ読み出し時に、電位v工が第3
図の実線で示すように電位V2’ を横切るように変化
した際に、センスアンプ22の出力が反転し、出力バッ
ファ回路35の出力信号データDは第3図中破線で示す
ように、電位V1の変化に追随して変化する。ここで例
えば、メモリセルアレイ10において選択されたメモリ
セル11のしきい値電圧が高い場合、そのメモリセルは
選択状態でもオン状態にならず、列線16は電源電位V
ch向に充電された状態になる!このときに、センスア
ンプ22の一方の入力電位■1が他方の入力電位■2′
よりも大きくなり、出力バッファ回路35からは“′1
″レベル記憶データに応じたレベルのデータDが出力さ
れる。他方、選択されたメモリセル11のしきい値電圧
が低い場合、選択状態にされるとそのメモリセルがオン
状態になり、列線16はこのメモリセルを介してアース
電位方向に放電される。このとき、センスアンプ22の
一方入力電位■1が他方入力電位V 2 L よりも小
さくなり、出力バッフ1回路35からは゛O゛ルベル記
憶データに応じたレベルのデータDが出力される。
With ROMs like this, comparison! Since the gate potential of the dummy memory cell 25 in the potential generation circuit 24 is kept constant by the resistors 33 and 34, the comparison potential V2' obtained at the signal input line 26 changes over time as shown in the waveform diagram of FIG. It is at a constant, fixed potential with respect to. Therefore, when reading data from the memory cell 11, the potential v
When the potential V2' is changed to cross the potential V2' as shown by the solid line in the figure, the output of the sense amplifier 22 is inverted, and the output signal data D of the output buffer circuit 35 is changed to the potential V1' as shown by the broken line in FIG. changes according to changes in For example, if the threshold voltage of the memory cell 11 selected in the memory cell array 10 is high, the memory cell will not turn on even in the selected state, and the column line 16 will be at the power supply potential V
It will be charged in the channel direction! At this time, one input potential ■1 of the sense amplifier 22 is set to the other input potential ■2'
, and the output buffer circuit 35 outputs "'1".
``Level data D corresponding to the level storage data is output.On the other hand, if the threshold voltage of the selected memory cell 11 is low, when it is selected, the memory cell is turned on and the column line 16 is discharged toward the ground potential through this memory cell. At this time, one input potential 1 of the sense amplifier 22 becomes smaller than the other input potential V 2 L , and the output buffer 1 circuit 35 outputs an "O" level. Data D at a level corresponding to the stored data is output.

[背景技術の問題点〕 ところで、上記ROMにおいて差動型センスアンプ22
では、電位V1が比較電位V2’ を横切った点で出力
データDのレベルが反転する。そしてこのようなセンス
アンプが用いられているメモリを安定に動作させるため
には、第3図中のv3′で示される、電位■1と比較電
位V2’ との差の電位が大きい方が望ましい。この電
位V31が小さい場合に電源にノイズが混入して電源変
動が生じ、これによって上記電位v1が変動し、この変
動によって電位v1が比較電位V2’ を横切ると出力
データDが誤って反転してしまう。これは誤動作である
。従って、このような誤動作を防止するためには上記電
位V3’ は大きい方が良い。しかしながら、上記電位
Va’ を大きくするために例えば電位■1の振幅を大
きくすると、列線16の充放電に時間がかり、データ読
み出し速度が遅くなってしまうという不都合が生じる。
[Problems with the background art] By the way, in the above ROM, the differential sense amplifier 22
Then, the level of the output data D is inverted at the point where the potential V1 crosses the comparison potential V2'. In order to operate a memory using such a sense amplifier stably, it is desirable that the difference between the potential ■1 and the comparison potential V2', indicated by v3' in FIG. 3, be large. . When this potential V31 is small, noise enters the power supply, causing power supply fluctuations, which causes the above potential v1 to fluctuate, and when the potential v1 crosses the comparison potential V2' due to this fluctuation, the output data D is erroneously inverted. Put it away. This is a malfunction. Therefore, in order to prevent such malfunctions, it is better for the potential V3' to be large. However, if, for example, the amplitude of the potential 1 is increased in order to increase the potential Va', charging and discharging the column line 16 takes time, resulting in a disadvantage that the data read speed becomes slow.

[発明の目的] この発明は上記のような事情を考慮してなされたもので
あり、その目的は動作速度を犠牲にすることなしに誤動
作を防止することができる半導体記憶装置を提供するこ
とにある。
[Object of the Invention] The present invention has been made in consideration of the above-mentioned circumstances, and its purpose is to provide a semiconductor memory device that can prevent malfunctions without sacrificing operating speed. be.

[発明の概要] 上記目的を達成するためこの発明にあっては、メモリセ
ルのデータに対応して設定される差動型センスアンプの
一方の信号入力線の電位に応じて他方の信号入力線に接
続されている負荷トランジスタの抵抗値を変えることに
より、一方の信号入力線の電位変化とは逆方向に他方の
信号入力線の電位を変化させるようにして両電位の差を
大きくするようにしている。
[Summary of the Invention] In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a differential sense amplifier whose potential is set in accordance with the data of a memory cell. By changing the resistance value of the load transistor connected to one signal input line, the potential change of the other signal input line is changed in the opposite direction to the potential change of one signal input line, thereby increasing the difference between the two potentials. ing.

[発明の実施例コ 以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。[Embodiments of the invention] Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図はこの発明に係る半導体記憶装置を、従来と同様
にROMに実施した場合の構成を示す回路図である。こ
の実施例回路が前記第2図に示す従来のものと異なって
いるところは、前記比較電位発生回路24内の前記負荷
トランジスタ32のゲートを前記差動型センスアンプ2
2の他方の信号入力線26に接続する代わりに、メモリ
セル側の一方の信号入力線23に接続するようにしたも
のである。
FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of a semiconductor memory device according to the present invention implemented in a ROM in the same manner as in the prior art. The difference between this embodiment circuit and the conventional circuit shown in FIG. 2 is that the gate of the load transistor 32 in the comparison potential generation circuit 24 is connected to the differential sense amplifier
Instead of being connected to the other signal input line 26 of 2, it is connected to one signal input line 23 on the memory cell side.

このような構成において、比較電位発生回路24内の負
荷トランジスタ32のゲートが差動型センスアンプ22
の一方の信号入力線23に接続されているので、このト
ランジスタ32のソース、トレイン間の抵抗値は信号入
力線23の電位に応じて変化する。
In such a configuration, the gate of the load transistor 32 in the comparison potential generation circuit 24 is connected to the differential sense amplifier 22.
Since the transistor 32 is connected to one signal input line 23, the resistance value between the source and the train of this transistor 32 changes depending on the potential of the signal input line 23.

しかもこのトランジスタ32はPチャネルのものである
ので、上記信号入力線23の電位が高くなる方向に変化
するとこのトランジスタ32の抵抗値は大きくなり、信
号入力線26の電位は低下する。この反対に信号入力線
23の電位が低くなる方向に変化するとこのトランジス
タ32の抵抗値は小さくなり、信号入力!!26の電位
は上昇する。従って、従来、常に一定値にされていた電
位V2′に対応する信号入力線26の電位v2は、第3
図中の一点鎖線で示すように電位Vlの変化に対しその
電位が逆方向に変化するので、両電位の差の電位VBは
従来よりも大きくすることができる。このとき、一方の
信号入力線23の電位V工の振幅は従来と同様にできる
ので、動作速度、特にデータの読み出し動作が遅くなる
という不都合は生じない。
Moreover, since this transistor 32 is of a P channel, when the potential of the signal input line 23 changes in the direction of increasing, the resistance value of this transistor 32 increases and the potential of the signal input line 26 decreases. On the contrary, when the potential of the signal input line 23 changes in the direction of decreasing, the resistance value of this transistor 32 decreases, and the signal input! ! The potential of 26 increases. Therefore, the potential v2 of the signal input line 26, which corresponds to the potential V2' which has conventionally always been kept at a constant value, is
As shown by the dashed line in the figure, the potential changes in the opposite direction to a change in the potential Vl, so the potential VB, which is the difference between the two potentials, can be made larger than in the conventional case. At this time, since the amplitude of the potential V of one signal input line 23 can be kept the same as in the conventional case, there will be no problem that the operating speed, especially the data read operation, will be slow.

このようにこの実施例によれば、センスアンプ22の両
入力電位の差を大きくすることができるので電源変動な
どによる誤動作が防止できる。しかも電位V1の振幅は
大きくする必要がないので、動作速度を犠牲にすること
なしに誤動作の防止が達成される。
As described above, according to this embodiment, the difference between the two input potentials of the sense amplifier 22 can be increased, so that malfunctions due to power supply fluctuations can be prevented. Furthermore, since there is no need to increase the amplitude of the potential V1, malfunctions can be prevented without sacrificing operating speed.

なお、差動型センスアンプ22の他方の信号入力線26
の容量は一方の信号入力線23に比べて十分に小さいの
で、この信号入力線26の電位V2は速い速度で変化さ
せることができる。
Note that the other signal input line 26 of the differential sense amplifier 22
Since the capacitance of the signal input line 26 is sufficiently smaller than that of the signal input line 23, the potential V2 of the signal input line 26 can be changed at a high speed.

なお、この発明は上記実施例に限定されるものではなく
種々の変形が可能であることはいうまでもない、例えば
上記実施例ではこの発明をマスクROMに実施した場合
について説明したが、これはその他にデータ消去が可能
なEPROMなどにによれば、ダミーメモリセル側の負
荷トランジスタの抵抗値を、差動型データ検出手段のメ
モリセル側の信号入力線の電位に応じて変化させるよう
にしたので、動作速度を犠牲にすることなしに誤動作を
防止することができる。
It goes without saying that this invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and that various modifications are possible. For example, in the above-mentioned embodiments, the case where this invention is implemented in a mask ROM has been described, but this In addition, in EPROMs and the like in which data can be erased, the resistance value of the load transistor on the dummy memory cell side is changed in accordance with the potential of the signal input line on the memory cell side of the differential data detection means. Therefore, malfunctions can be prevented without sacrificing operating speed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明に係る半導体記憶装置の一実施例の構
成を示す回路図、第2図は従来のROMの構成を示す回
路図、第3図はこの発明の−実施例の半導体記憶装置お
よび従来のROMの動作を説明するための波形図である
。 10・・・メモリセルアレイ、11・・・メモリセル、
12・・・列選択用のMOSトランジスタ、13・・・
行デコーダ、14・・・列デコーダ、15・・・行線、
16・・・列線、17〜19゜30〜32・・・負荷用
のMOSトランジスタ、20.21゜27、28・・・
バイアス電圧発生用の抵抗、22・・・差動型センスア
ンプ、23.26・・・信号入力線、24・・・比較電
位発生回路、25・・・ダミーメモリセル、33.34
・・・バイアス用抵抗。
FIG. 1 is a circuit diagram showing the structure of an embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram showing the structure of a conventional ROM, and FIG. 3 is a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. and FIG. 9 is a waveform diagram for explaining the operation of a conventional ROM. 10... memory cell array, 11... memory cell,
12... MOS transistor for column selection, 13...
Row decoder, 14... Column decoder, 15... Row line,
16... Column line, 17-19° 30-32... MOS transistor for load, 20.21° 27, 28...
Resistor for bias voltage generation, 22... Differential sense amplifier, 23.26... Signal input line, 24... Comparison potential generation circuit, 25... Dummy memory cell, 33.34
...Bias resistance.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)第1および第2の入力線を有し、両入力線の電位
を比較してデータ検出を行なう差動型のデータ検出手段
と、上記第1、第2の入力線にそれぞれ結合される第1
、第2の負荷トランジスタと、入力アドレス信号に応じ
て選択的に駆動され、予め記憶しているデータに応じて
上記第1の入力線の電位を設定するメモリセルと、上記
第2の入力線の電位を基準電位に設定するダミーメモリ
セルと、上記第2の負荷トランジスタの抵抗値を上記第
1の入力線電位に応じて変化させる手段とを具備したこ
とを特徴とする半導体記憶装置。
(1) A differential data detection means having a first and a second input line and detecting data by comparing the potentials of both input lines; First
, a second load transistor, a memory cell that is selectively driven according to an input address signal and sets the potential of the first input line according to pre-stored data, and the second input line. A semiconductor memory device comprising: a dummy memory cell for setting a potential of the second load transistor to a reference potential; and means for changing the resistance value of the second load transistor in accordance with the first input line potential.
(2)前記第1の負荷トランジスタのゲートが前記第1
の入力線に接続され、かつ前記第1、第2の負荷トラン
ジスタのゲートが共通接続されている特許請求の範囲第
1項に記載の半導体記憶装置。
(2) The gate of the first load transistor is connected to the first load transistor.
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is connected to an input line of the first load transistor, and the gates of the first and second load transistors are connected in common.
JP15019984A 1984-07-19 1984-07-19 Semiconductor memory device Expired - Lifetime JPH0632234B2 (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5293344A (en) * 1990-02-19 1994-03-08 Fujitsu Limited Write circuit for non-volatile memory device

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5293344A (en) * 1990-02-19 1994-03-08 Fujitsu Limited Write circuit for non-volatile memory device

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JPH0632234B2 (en) 1994-04-27

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