JPS6129070B2 - - Google Patents

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JPS6129070B2
JPS6129070B2 JP56205120A JP20512081A JPS6129070B2 JP S6129070 B2 JPS6129070 B2 JP S6129070B2 JP 56205120 A JP56205120 A JP 56205120A JP 20512081 A JP20512081 A JP 20512081A JP S6129070 B2 JPS6129070 B2 JP S6129070B2
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JP
Japan
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circuit
memory cell
voltage
correction
bit line
Prior art date
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Application number
JP56205120A
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Japanese (ja)
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JPS58108090A (en
Inventor
Takeshi Takeya
Hirotoshi Sawada
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication of JPS58108090A publication Critical patent/JPS58108090A/en
Publication of JPS6129070B2 publication Critical patent/JPS6129070B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/06Sense amplifiers; Associated circuits, e.g. timing or triggering circuits

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は単一基板中に多数形成されたメモリセ
ル毎に情報を記憶させる高密度メモリ回路に関す
るものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a high-density memory circuit that stores information in each memory cell formed in large numbers on a single substrate.

従来、この種の記憶回路は第1図にその構成を
示す回路群(以後行回路と呼ぶことにする)を多
数具備し、各々の行回路に含まれるメモリセルを
選択するための機構、選択されたメモリセルのデ
ータを外部と入力及び出力するための機構、及び
上記行回路と上記機構を制御するための機構等を
具備している。行回路は第1図に示すように、N
個(Nは1以上の偶数であるとする。)のメモリ
セルMC1,MC2,……MC〓,MC〓+1,MCN
2個のプリチヤージ回路PC1,PC2、センス増幅
回路SA、データ入出力回路DIO、2本のビツト
線BL1,BL2、2個のダミーセル回路DC1,DC2
り構成されており、プリチヤージ回路PC1、ダミ
ーセル回路DC1、メモリセルMC1,MC2,……
MC〓はビツト線BL1に、プリチヤージ回路PC2
ダミーセル回路DC2、メモリセルMC〓+1
MC〓+2,……MCN、データ出力回路DIOはビツ
ト線BL2にそれぞれ接続されており、センス増幅
回路SAはビツト線BL1,BL2の両方に接続されて
いる。メモリセルMC1,MC2,……MCNは第2
図に示すように電界効果トランジスタQMとコン
デンサCMによつて構成されており、電界効果ト
ランジスタQMのドレインはビツト線Bに接続さ
れており、電界効果トランジスタQMのソースは
コンデンサCMの第1の端子に接続されており、
コンデンサCMの第2の端子には直流電圧VDD
供給されており、電界効果トランジスタQMのゲ
ートはワード線に接続されている。以下、電界効
果トランジスタQMのソースとコンデンサCMの第
1の端子の接続点を節点NMと呼ぶ。ダミーセル
DC1,DC2は第3図に示すように電界効果トラン
ジスタQD1,QD2とコンデンサCDによつて構成
されており、QD1のドレインはビツト線に接続さ
れており、電界効果トランジスタQD1のソース、
電界効果トランジスタQD2のドレイン及びコンデ
ンサCDの第1の端子が互に接続されており、電
界効果トランジスタQD1のゲートはダミーワード
線DWに接続されており、コンデンサCDの第2
の端子には直流電圧VDDが供給されており、電界
効果トランジスタQD2のソースには直流電圧VSS
が供給されており、トランジスタQD2のゲートに
はクロツク信号φRが供給されている。以下電界
効果トランジスタQD1のソース、電界効果トラン
ジスタQD2のドレイン及びコンデンサCDの第1
の端子の接続点を節点NDと呼ぶ。センス増幅回
路SAは第4図に示すように電界効果トランジス
タQS1,QS2により構成されており、電界効果ト
ランジスタQS1のドレインとQS2のゲートがビツ
ト線BL1に接続されており、電界効果トランジス
タQS2のドレインと電界効果トランジスタQS1
ゲートがビツト線BL2に接続されており、電界効
果トランジスタQS1のソースと電界効果トランジ
スタQS2のソースにはクロツク信号φDが供給給
されている。
Conventionally, this type of memory circuit has a large number of circuit groups (hereinafter referred to as row circuits) whose configuration is shown in FIG. The memory cell includes a mechanism for inputting and outputting data from the memory cells to the outside, and a mechanism for controlling the row circuit and the mechanism. The row circuit is N
(N is an even number of 1 or more) memory cells MC 1 , MC 2 , ... MC〓, MC〓 +1 , MC N ,
It is composed of two precharge circuits PC 1 and PC 2 , a sense amplifier circuit SA, a data input/output circuit DIO, two bit lines BL 1 and BL 2 , and two dummy cell circuits DC 1 and DC 2 . Circuit PC 1 , dummy cell circuit DC 1 , memory cell MC 1 , MC 2 ,...
MC = bit line BL 1 , precharge circuit PC 2 ,
Dummy cell circuit DC 2 , memory cell MC +1 ,
MC〓 +2 , . . . MC N and the data output circuit DIO are connected to the bit line BL 2 , respectively, and the sense amplifier circuit SA is connected to both the bit lines BL 1 and BL 2 . Memory cells MC 1 , MC 2 , ... MC N are the second
As shown in the figure, it is composed of a field effect transistor Q M and a capacitor CM . The drain of the field effect transistor Q M is connected to the bit line B, and the source of the field effect transistor Q M is connected to the capacitor CM. is connected to the first terminal of
The second terminal of the capacitor C M is supplied with a DC voltage V DD and the gate of the field effect transistor Q M is connected to the word line. Hereinafter, the connection point between the source of the field effect transistor Q M and the first terminal of the capacitor CM will be referred to as a node NM . dummy cell
As shown in Figure 3, DC 1 and DC 2 are composed of field effect transistors Q D1 and Q D2 and a capacitor C D. The drain of Q D1 is connected to the bit line, and the field effect transistor Q D1 source,
The drain of the field effect transistor Q D2 and the first terminal of the capacitor C D are connected to each other, the gate of the field effect transistor Q D1 is connected to the dummy word line DW, and the second terminal of the capacitor C D is connected to each other.
A DC voltage V DD is supplied to the terminal of the field effect transistor Q D2, and a DC voltage V SS is supplied to the source of the field effect transistor Q D2 .
is supplied, and a clock signal φ R is supplied to the gate of transistor Q D2 . Hereinafter, the source of the field effect transistor Q D1 , the drain of the field effect transistor Q D2 , and the first of the capacitor C D
The connection point of the terminals is called the node N D. As shown in Fig. 4, the sense amplifier circuit SA is composed of field effect transistors Q S1 and Q S2 , and the drain of the field effect transistor Q S1 and the gate of Q S2 are connected to the bit line BL 1 , and the electric field The drain of the effect transistor Q S2 and the gate of the field effect transistor Q S1 are connected to the bit line BL 2 , and a clock signal φ D is supplied to the source of the field effect transistor Q S1 and the source of the field effect transistor Q S2 . ing.

この従来の記憶回路の動作を以下に説明するに
あたつて、直流電圧VSSを基準電圧とし、それに
対してVDDを高電圧であるとし、電界効果トラン
ジスタQM,QD1,QD2,QS1,QS2はいずれもN
チヤンネル形でノーマリオフ形の電界効果トラン
ジスタであるとする。本記憶回路において、記憶
情報は各々のメモリセルに1ビツトずつ記憶さ
れ、該記憶情報はメモリセルの中では節点NM
電圧の高低に対応づけられている。メモリセルか
ら記憶情報を読出すためには、行回路に含される
メモリセルのうち1個を選択し、選択されたメモ
リセルによつてビツト線に伝えられた信号をセン
ス増幅器SAで増幅して、データ入出力回路DIO
を通して記憶回路の外部に該信号を出力する。上
記、メモリセルの選択はそのメモリセルに接続さ
れているワード線を高電位にすることによつて行
なわれ、選択されるメモリセルがビツト線BL1
接続されている場合はダミーセル回路DC2が選択
され(ダミーセルの選択はそのダミーセルに接続
されているダミーワード線を高電位にすることに
よつて行なわれる。)、選択されるメモリセルがビ
ツト線BL2に接続されている場合はダミーセル回
路DC1が選択される。以下の説明において、ビツ
ト線BL1の寄生容量の値をCB1とし、ビツト線
BL2の寄生容量の値をCB2とし、コンデンサCM
の容量の値をCCMとし、コンデンサCDの容量の
値をCCDとする。メモリセルMCNが選択される
場合について以下詳しい動作の説明を行なう。読
出し動作が行なわれる前に、プリチヤージ回路
PC1,PC2によつてビツト線BL1,BL2は高電圧V
DDに設定され、ダミーセル回路DC1,DC2に供給
されているクロツク信号φRを一度高電位にして
再び低電位にすることによつてダミーセル回路
DC1,DC2の接続点NDをVSS電圧すなわち、基
準電圧に設定する。この時、センス増幅器SAに
供給されるクロツク信号φDは高電圧に設定され
ており、電界効果トランジスタQS1,QS2は非導
通状態である。次にメモリセルMCNとダミーセ
ル回路DC1が選択されるとメモリセルMCNのトラ
ンジスタQMとダミーセル回路DC1の電界効果ト
ランジスタQD1がともに導通状態になる。ダミー
セル回路DC1の節点NDは基準電圧(0V)に設定
されていたので、電界効果トランジスタQD1が導
通状態になると、ビツト線BL1の電荷はダミーセ
ル回路DC1のコンデンサCDとビツト線BL1の寄生
容量の間で分配され、ビツト線BL1の電圧はVDD
からCB1/CB1+CCD・VDDに変化する。もし、
メモリ セルMCNの節点NMが電圧VDDであればメモリセ
ルMCNが選択されてもビツト線BL2の電圧はVDD
に保たれたままである。逆にメモリセルMCN
節点NMが0〔V〕でつたとすれば、メモリセル
MCNが選択されメモリセルMCNの電界効果トラ
ンジスタQMが導通状態とあると、ビツト線BL2
の電圧はVDDからCB2/CB2+CCM・VDDに変化
する。
In explaining the operation of this conventional memory circuit below, it is assumed that the DC voltage V SS is a reference voltage, V DD is a high voltage, and the field effect transistors Q M , Q D1 , Q D2 , Q S1 and Q S2 are both N
Assume that it is a channel type normally-off type field effect transistor. In this memory circuit, one bit of memory information is stored in each memory cell, and the memory information is associated with the level of voltage at node N M in the memory cell. In order to read stored information from a memory cell, one of the memory cells included in the row circuit is selected, and the signal transmitted to the bit line by the selected memory cell is amplified by a sense amplifier SA. data input/output circuit DIO
The signal is output to the outside of the storage circuit through. As mentioned above, selection of a memory cell is performed by setting the word line connected to the memory cell to a high potential, and if the memory cell to be selected is connected to the bit line BL1 , the dummy cell circuit DC2 is selected (selection of a dummy cell is performed by setting the dummy word line connected to the dummy cell to a high potential), and if the selected memory cell is connected to bit line BL2 , the dummy cell is selected. Circuit DC 1 is selected. In the following explanation, the value of the parasitic capacitance of the bit line BL1 is set as C B1 , and the bit line
Let the value of the parasitic capacitance of BL 2 be C B2 , and the capacitor C M
Let the value of the capacitance of the capacitor C CM be C CM and the value of the capacitance of the capacitor C D be C CD . A detailed explanation of the operation when memory cell MC N is selected will be given below. Before a read operation is performed, the precharge circuit
Bit lines BL 1 and BL 2 are set to high voltage V by PC 1 and PC 2 .
The clock signal φR , which is set to DD and is supplied to the dummy cell circuits DC 1 and DC 2 , is set to a high potential and then brought to a low potential again.
The connection point N D between DC 1 and DC 2 is set to the V SS voltage, that is, the reference voltage. At this time, the clock signal φ D supplied to the sense amplifier SA is set to a high voltage, and the field effect transistors Q S1 and Q S2 are non-conductive. Next, when memory cell MC N and dummy cell circuit DC 1 are selected, transistor Q M of memory cell MC N and field effect transistor Q D1 of dummy cell circuit DC 1 are both rendered conductive. Since the node N D of the dummy cell circuit DC 1 was set to the reference voltage (0 V), when the field effect transistor Q D1 becomes conductive, the charge on the bit line BL 1 is transferred to the capacitor C D of the dummy cell circuit DC 1 and the bit line. divided between the parasitic capacitances of BL 1 , the voltage on bit line BL 1 is V DD
It changes from C B1 /C B1 +C CD ·V DD . if,
If the voltage at node N M of memory cell MC N is V DD , even if memory cell MC N is selected, the voltage on bit line BL 2 will be V DD .
remains. Conversely, if the node N M of the memory cell MC N is 0 [V], the memory cell
When MC N is selected and field effect transistor Q M of memory cell MC N is in a conductive state, bit line BL 2
The voltage changes from V DD to C B2 /C B2 +C CM ·V DD .

通常、ビツト線の寄生容量CB1とCB2は等しくな
るように設計され、VDDとCB2/CB2+CCM・V
DDの中 間の電位がCB1/CB1+CCD・VDDになるように
コンデ ンサの容量値CCD設計される。メモリセルの面積
を小さくし、高密度な記憶回路を実現するために
は、コンデンサCMの容量値CCMを大きくするこ
とができず、容量値CCM,CCDは寄生容量CB1
B2に比較して非常に小さいので、CB2/CB2+C
CM・ VDD,CB1/CR1+CCD・VDDはVDDに非常に近
い電位 であり、その電位差は通常数百mV以下である。
この微少なビツト線BL1,BL2の電位差を増幅す
るのがセンス増幅器SAである。
Normally, the bit line parasitic capacitances C B1 and C B2 are designed to be equal, and V DD and C B2 /C B2 +C CM・V
The capacitance value C CD of the capacitor is designed so that the intermediate potential of DD becomes C B1 /C B1 +C CD ·V DD . In order to reduce the area of the memory cell and realize a high-density memory circuit, the capacitance value C CM of the capacitor CM cannot be increased, and the capacitance values C CM , C CD are replaced by parasitic capacitances CB1 ,
Since it is very small compared to C B2 , C B2 /C B2 +C
CM ·V DD , C B1 /C R1 +C CD ·V DD is a potential very close to V DD , and the potential difference therebetween is usually several hundred mV or less.
The sense amplifier SA amplifies this minute potential difference between the bit lines BL 1 and BL 2 .

上記のように、ビツト線BL1,BL2にメモリセ
ルとダミーセルにより微少電位差が与えられ後、
クロツク信号φDは低電位に設定され、ビツト線
BL1とBL2のうちその電圧がより低い方の電圧が
ますます低電位になるように電界効果トランジス
タQS1又はQS2の一方を通して電荷が放電され、
ビツト線BL1,BL2の微少電位差は拡大し、大振
幅信号となる。メモリセルMCNが選択され、メ
モリセルMCNの節点NMが高電圧を記憶していた
場合、ビツト線BL1はCB1/CB1+CCD・VDD
、ビツト 線BL2はVDDに設定されるのでセンス増幅器SA
によつてビツト線BL1は0〔V〕に設定され、ビ
ツト線BL2はVDDのままに保たれる。メモリセル
MCNが選択され、メモリセルMCNの節点NMが低
電圧を記憶していた場合、ビツト線BL1
B1/CB1+CCD・VDDに、ビツト線BL2はC
/CB2+CMD・ VDDに設定されるのでセンス増幅器SAによつて
ビツト線BL1はCB1・VDD/CB1+CCDのまま
に保たれ、ビツト 線BL2は0〔V〕に設定される。このようにし
て、選択されたメモリセルの内容がビツト線上に
大振幅の信号として取り出され、データ入出力回
路DIOを通して出力される。
As mentioned above, after a slight potential difference is applied to the bit lines BL 1 and BL 2 by the memory cell and the dummy cell,
The clock signal φD is set to a low potential and the bit line
Charge is discharged through one of the field effect transistors Q S1 or Q S2 such that the voltage of BL 1 and BL 2 , whichever is lower, becomes an increasingly lower potential;
The minute potential difference between the bit lines BL 1 and BL 2 expands, resulting in a large amplitude signal. When memory cell MC N is selected and node N M of memory cell MC N stores a high voltage, bit line BL 1 becomes C B1 /C B1 + C CD · V DD , and bit line BL 2 becomes V DD. Since the sense amplifier SA is set to
bit line BL1 is set to 0 [V] and bit line BL2 is kept at VDD . memory cell
When MC N is selected and node N M of memory cell MC N stores a low voltage, bit line BL 1 becomes C B1 /C B1 + C CD V DD and bit line BL 2 becomes C B
2
/C B2 +C MD・V DD , so the bit line BL 1 is kept at C B1・V DD /C B1 +C CD by the sense amplifier SA, and the bit line BL 2 is kept at 0 [V]. is set to In this way, the contents of the selected memory cell are taken out as a large amplitude signal on the bit line and output through the data input/output circuit DIO.

上記説明のように、メモリセルからビツト線に
伝えられた微少信号をセンス増幅器SAで増幅し
て大振幅信号にするわけであるが、センス増幅器
SAを構成する電界効果トランジスタQS1・QS2
の閾値電圧が同一で、電界効果トランジスタQS
,QS2の利得定数が同一で、ビツト線BL1
BL2の寄生容量CB1,CB2が同一であれば、原理
的にはどんな小さな信号でも正しく増幅される。
しかし、通常上記の回路定数を全く同一にするこ
とは困難であり、いくらかの不一致がある。した
がつて、ビツト線に伝える微少信号はある一定限
度の振幅が必要であり、そのためには、CCMをあ
る限度以上の大きさにする必要があり、これがこ
の種の記憶回路の高密度化を制している大きな要
因となつている。
As explained above, the sense amplifier SA amplifies the minute signal transmitted from the memory cell to the bit line into a large amplitude signal.
Field effect transistors Q S1 and Q S2 that constitute SA
have the same threshold voltage, and the field effect transistor Q S
1 , the gain constants of Q S2 are the same, and the bit lines BL 1 ,
If the parasitic capacitances C B1 and C B2 of BL 2 are the same, in principle any small signal can be amplified correctly.
However, it is usually difficult to make the above circuit constants exactly the same, and there are some discrepancies. Therefore, the minute signal transmitted to the bit line needs to have an amplitude within a certain limit, and for that purpose, it is necessary to make C CM larger than a certain limit. This is a major factor controlling the

本発明は上記従来のメモリ回路の欠点を除去す
るため、センス増幅回路及びビツト線の非対称性
の補正を行なう機構を付加したことを特徴とする
ものであり、以下実施例について詳細に説明す
る。
The present invention is characterized by the addition of a sense amplifier circuit and a mechanism for correcting bit line asymmetry in order to eliminate the drawbacks of the conventional memory circuit, and embodiments thereof will be described in detail below.

本発明の第1の実施例のメモリ回路の行回路
は、第5図に示すように、第1図に示した従来の
メモリ回路のBL1に補正回路CL1が接続され、
BL2に補正回路CL2が接続された以外は第1図の
ものと全く同じ構成である。補正回路CL1
(CL2)は信号発生回路G1(G2)及び補正用メモリ
セルM1(M2)より構成されており、補正用メモリ
セルM1(M2)により信号発生回路G1(G2)が制御
される構成になつている。
In the row circuit of the memory circuit according to the first embodiment of the present invention, as shown in FIG. 5, a correction circuit CL 1 is connected to BL 1 of the conventional memory circuit shown in FIG.
The configuration is exactly the same as that of FIG. 1 except that the correction circuit CL 2 is connected to BL 2 . Correction circuit CL 1
(CL 2 ) is composed of a signal generation circuit G 1 ( G 2 ) and a correction memory cell M 1 ( M 2 ) . ) is controlled.

以下の説明において、上記従来のメモリ回路の
動作説明と様、直流電圧VSSは基準電圧であり、
0ボルトであるとし、それに対してVDDを高電圧
であるとし、電界効果トランジスタは特に記述し
なり限り、Nチヤンネル形でノーマルリオフ形で
あるとする。本実施例のメモリ回路の動作期間
は、補正期間、読出し期間、書込み期間及び待機
期間に分けられる。このうち、読出し期間はすで
に記憶されている情報を外部に出力するための期
間であり、従来のメモリ回路について説明したと
同様、メモリセルからビツト線に出力された微少
な電気信号が検出される。書込み期間における動
作は、選択された行回路のビツト線BL2にデータ
入出力回路DIOより、メモリセルから出力される
電気信号に比較して大きい電気信号が与えられる
以外は読出し期間の動作と同じである。待機期間
においては、ワード線及びダミーワード線は低電
位に設定され、ビツト線は高電圧VDDに設定され
て、各々のメモリセルに記憶された情報を保持し
つつ、次に続く読出し期間又は書込み期間にそな
えている。読出し期間、書込み期間及び待機期間
は従来のメモリ回路にも設けられているが、補正
期間は本発明に特有なものであり、電源投入直
後、書込み期間や読出し期間に先立つて設けられ
る。補正期間においては各々の行回路のセンス増
幅回路とビツト線の非対称性が検査され、その検
査結果が補正用メモリセルM1及びM2に記憶され
る。読出し期間及び書込み期間において、センス
増幅回路の動作に先だち、信号発生回路G1及び
G2がそれぞれ補正用メモリセルM1及びM2の記憶
内容に応じてビツト線BL1及びBL2の電圧を調節
し、センス増幅回路とビツト線の非対称性を打消
すように動作する。センス増幅回路又はビツト線
に非対称性がある場合、ビツト線BL1の電圧がビ
ツト線BL2の電圧より一定電圧以上高い時ビツト
線BL1を高電圧と検出し、上記以外の時ビツト線
BL2を高電圧と検出する。上記一定電圧をこのセ
ンス増幅回路のオフセツト電圧と呼ぶことにす
る。オフセツト電圧が正であれば、ビツト線BL1
が低電圧に検出されやすい傾向を持ち、オフセツ
ト電圧が負であればBL1が高電圧に検出されやす
い傾向を持つている。オフセツト電圧は製造時に
不確定要素により変動する値であり、各々の行回
路によつても違う値である。また、補正用メモリ
セルM1(M2)に記憶されている情報が「0」の場
合、信号発生回路G1(G2)はビツト線BL1
(BL2)の電圧に影響を与えない。補正期間の動作
を次にに説明する。
In the following explanation, as in the explanation of the operation of the conventional memory circuit, the DC voltage V SS is a reference voltage,
0 volt, whereas V DD is assumed to be a high voltage, and the field effect transistor is assumed to be of N-channel type and normally reoff type unless otherwise specified. The operation period of the memory circuit of this embodiment is divided into a correction period, a read period, a write period, and a standby period. Among these, the read period is a period for outputting already stored information to the outside, and as described for conventional memory circuits, minute electrical signals output from memory cells to bit lines are detected. . The operation during the write period is the same as the operation during the read period, except that an electric signal larger than the electric signal output from the memory cell is applied from the data input/output circuit DIO to the bit line BL 2 of the selected row circuit. It is. During the standby period, the word line and dummy word line are set to a low potential, and the bit line is set to a high voltage V DD to maintain the information stored in each memory cell while waiting for the next reading period or Ready for the writing period. Although a read period, a write period, and a standby period are provided in conventional memory circuits, the correction period is unique to the present invention and is provided immediately after power-on and prior to the write period and the read period. During the correction period, the asymmetry between the sense amplifier circuit and the bit line of each row circuit is tested, and the test results are stored in the correction memory cells M1 and M2 . During the read period and write period, prior to the operation of the sense amplifier circuit, the signal generation circuits G1 and
G2 adjusts the voltages of bit lines BL1 and BL2 according to the stored contents of correction memory cells M1 and M2, respectively, and operates to cancel the asymmetry between the sense amplifier circuit and the bit lines. If there is asymmetry in the sense amplifier circuit or bit line, when the voltage on bit line BL 1 is higher than the voltage on bit line BL 2 by a certain voltage or more, bit line BL 1 is detected as a high voltage, and in other cases, the bit line is detected as high voltage.
BL 2 is detected as high voltage. The above-mentioned constant voltage will be referred to as the offset voltage of this sense amplifier circuit. If the offset voltage is positive, the bit line BL 1
has a tendency to be easily detected at a low voltage, and if the offset voltage is negative, BL1 has a tendency to be easily detected at a high voltage. The offset voltage is a value that fluctuates due to uncertain factors during manufacturing, and also varies depending on each row circuit. Further, when the information stored in the correction memory cell M 1 (M 2 ) is "0", the signal generation circuit G 1 (G 2 ) outputs the bit line BL 1
(BL 2 ) voltage is not affected. The operation during the correction period will be explained next.

まず、補正用メモリセルM1及びM2に情報
「0」を記憶させ、次に、書込み期間と同様の動
作により、各々の行回路のメモリセルMC1及び
MCNの節点NMが0ボルトに設定される。次にビ
ツト線BL1及びBL2を高電圧VDDに設定し、ダミ
ーセル回路DC1,DC2の節点NDをクロツク信号
φRによつて0ボルトに設定する。次にメモリセ
ルMC1及びダミーセル回路DC2を選択して、ビツ
ト線BL1がCB1/CR1+CCM・VDDに、ビツト線B
L2が CB2/CR2+CCD・VDDに設定される。CB1
B1+CCM・VDD とCB2/CB2+CCD・VDDの差はセンス増幅回路
SAに与 えられる信号量でありこれをVSと呼ぶことにす
る。(VSは正であるとする。)上記のようにし
て、ビツト線BL1をビツト線BL2より信号量VS
け低い電圧に設定した後、センス増幅回路SAを
動作させる。もし、オフセツト電圧が−VSより
小さい値であれば、ビツト線BL1が高電圧、ビツ
ト線BL2が低電圧と検出され、オフセツト電圧が
−VSより大きい値であれば、ビツト線BL1が低
電圧、ビツト線BL2が高電圧と検出される。次
に、ビツト線BL1に上記動作によつて与えられた
大振幅信号に従つて、補正用メモリセルM1に情
報が入力され、もし、ビツト線BL1が高電圧すな
わち、オフセツト電圧が−VSより小さい場合は
補正用メモリセルM1に情報「1」が記憶され、
それ以外の場合は補正用メモリセルM1に情報
「0」が記憶される。次に上記と同様にメモリセ
ルMCN及びダミーセルDC1を選択して、ビツト線
BL2をビツト線BL1よりVSだけ低い電圧に設定し
た後、センス増幅回路SAを動作させ、その結果
ビツト線BL2に得られた大振幅信号に従つて、補
正用メモリセルM2に情報が記憶される。このよ
うにして、補正期間の終りには、オフセツト電圧
が−VSより小さい場合は補正用メモリセルM1
情報「1」が補正用メモリセルM2には情報
「0」がそれぞれ記憶され、オフセツト電圧がVS
より大きい場合は補正用メモリセルM1に情報
「0」が補正用メモリセルM2に情報「1」がそれ
ぞれ記憶される。補正用メモリセルM1(M2)に情
報「1」が記憶されている場合、信号発生回路
G1(G2)はセンス増幅回路SA動作の前に、ビツ
ト線BL1(BL2)の電圧を2VS引き下げるよう、信
号発生回路G1(G2)が設計されている。したがつ
て、読出し期間及び書き込み期間において、オフ
セツト電圧が−VSより小さい場合はあたかもオ
フセツト電圧が2VSだけ増えたかのようにセンス
増幅回路SAが動作し、オフセツト電圧がVSより
大きい場合はあたかもオフセツト電圧が2VSだけ
減つたかのようにセンス増幅回路SAが動作す
る。したがつて、オフセツト電圧の確率的な分布
が−3VSから3VSまでの範囲であつても、実効的
なオフセツト電圧は−VSからVSまで分布してい
るかのように動作する。したがつて、オフセツト
電圧の分布を一定と考えれば、このような補正手
段を用いることにより、メモリセルからの信号電
圧VSを約1/3に減ずることができ、メモリセルの
縮小が可能になる。
First, information "0" is stored in the correction memory cells M1 and M2 , and then, by the same operation as in the write period, the memory cells MC1 and M2 of each row circuit are stored.
Node N M of MC N is set to 0 volts. Next, the bit lines BL 1 and BL 2 are set to a high voltage V DD , and the nodes ND of the dummy cell circuits DC 1 and DC 2 are set to 0 volts by the clock signal φ R. Next, select the memory cell MC 1 and the dummy cell circuit DC 2 , change the bit line BL 1 to C B1 /C R1 + C CM · V DD , and connect the bit line B
L 2 is set to C B2 /C R2 +C CD ·V DD . C B1 /
The difference between C B1 +C CM・V DD and C B2 /C B2 +C CD・V DD is the sense amplifier circuit.
This is the amount of signal given to SA and will be called VS. (It is assumed that V S is positive.) After setting the bit line BL 1 to a voltage lower than the bit line BL 2 by the signal amount V S as described above, the sense amplifier circuit SA is operated. If the offset voltage is smaller than -V S , bit line BL1 is detected as high voltage and bit line BL2 is detected as low voltage, and if the offset voltage is larger than -V S , bit line BL is detected as high voltage. 1 is detected as low voltage and bit line BL2 is detected as high voltage. Next, information is input to the correction memory cell M1 according to the large amplitude signal given to the bit line BL1 by the above operation, and if the bit line BL1 is at a high voltage, that is, the offset voltage is - If it is smaller than V S , information "1" is stored in the correction memory cell M1 ,
In other cases, information "0" is stored in the correction memory cell M1 . Next, select memory cell MC N and dummy cell DC 1 in the same way as above, and connect the bit line.
After setting BL 2 to a voltage lower than bit line BL 1 by V S , the sense amplifier circuit SA is operated, and according to the large amplitude signal obtained on bit line BL 2 , a signal is applied to correction memory cell M 2 . Information is stored. In this way, at the end of the correction period, if the offset voltage is smaller than -V S , information "1" is stored in the correction memory cell M1 and information "0" is stored in the correction memory cell M2 . , the offset voltage is V S
If it is larger, information "0" is stored in the correction memory cell M1 and information "1" is stored in the correction memory cell M2 . When information “1” is stored in the correction memory cell M 1 (M 2 ), the signal generation circuit
The signal generating circuit G 1 (G 2 ) is designed to lower the voltage of the bit line BL 1 (BL 2 ) by 2V S before the sense amplifier circuit SA operates. Therefore, in the read period and write period, when the offset voltage is smaller than -V S , the sense amplifier circuit SA operates as if the offset voltage had increased by 2V S , and when the offset voltage is larger than V S, the sense amplifier circuit SA operates as if the offset voltage had increased by 2V S. The sense amplifier circuit SA operates as if the offset voltage had been reduced by 2V S. Therefore, even if the stochastic distribution of the offset voltage ranges from -3V S to 3V S , the effective offset voltage operates as if it were distributed from -V S to V S. Therefore, assuming that the offset voltage distribution is constant, by using such a correction means, the signal voltage V S from the memory cell can be reduced to about 1/3, making it possible to downsize the memory cell. Become.

第6図は補正回路の具体例を示すもので、補正
用メモリセルMは電界効果トランジスタQC5,Q
C6と負荷抵抗R1,R2からなるフリツプフロツプ
回路と、そのフリツプフロツプ回路に補正期間に
クロツク信号φCにより補正情報を書き込むため
のゲート用の電界効果トランジスタQC4とにより
構成されている。また、信号発生回路Gは、電界
効果トランジスタQC1,QC2,QC3およびコンデ
ンサC1が図のように接続され、クロツク信号φR
により節点NC1を一定の電位とした後、読出し期
間にクロツク信号φNによりトランジスタQC3
導通させたとき、補正用メモリセルの内容即ち節
点NC2、の電位に応じて、節点NC1とビツト線
BLとの電気的接続が制御される。トランジスタ
C2が導通に制御された場合にはコンデンサC1
容量で決まる補正用の電圧をビツト線BLに与え
ることができる。
FIG. 6 shows a specific example of the correction circuit, in which the correction memory cells M are field effect transistors Q C5 , Q
It consists of a flip-flop circuit consisting of C6 and load resistors R 1 and R 2 , and a gate field effect transistor Q C4 for writing correction information into the flip-flop circuit using a clock signal φ C during the correction period. Further, in the signal generating circuit G, field effect transistors Q C1 , Q C2 , Q C3 and a capacitor C 1 are connected as shown in the figure, and the clock signal φ R
After setting the node N C1 to a constant potential by bit line
Electrical connection with BL is controlled. When the transistor Q C2 is controlled to be conductive, a correction voltage determined by the capacitance of the capacitor C 1 can be applied to the bit line BL.

第7図は補正回路の他の具体例を示すもので、
補正用メモリセルMは電界効果トランジスタQC1
〜QC13からなるフリツプフロツプにより構成さ
れ、信号発生回路はビツト線に補正用の容量を与
えるよう、電界効果トランジスタQC7とコンデン
サC2とを用いた構成となつている。
FIG. 7 shows another specific example of the correction circuit.
The correction memory cell M is a field effect transistor Q C1
The signal generation circuit is constructed using a field effect transistor QC7 and a capacitor C2 to provide a correction capacitance to the bit line.

上記第1の実施例において、2個の補正回路
CL1及びCL2を使用したが、第8図にその構成を
示す第2の実施例は4個の補正回路CL1,CL2
CL3,CL4を具備しており、補正回路CL1,CL3
BL1に、補正回路CL2,CL4はビツト線BL2にそれ
ぞれ接続されている。補正回路CL1,CL2と全く
同様に補正回路CL3,(CL4)は信号発生回路G3
(G4)及び補正用メモリセルM3(M4)により構成
されており、補正用メモリM3(M4)により信号発
生回路G3(G4)が制御される構成になつている。
第2の実施例にも、補正期間が設けられている。
補正期間の前半において第1の実施例と全く同じ
操作で補正回路CL1,CL2にオフセツト電圧に関
する情報を記憶させ、実効的なオフセツト電圧の
分布の幅を4VSだけ減少させる。補正期間の後半
において、補正回路CL1及びCL2により補正を行
ないつつ、第1の実施例と全く同じ操作で補正回
路CL3,CL4に補正回路CL1及びCL2により補正さ
れた実効的なオフセツト電圧に関する情報を記憶
させる。このように4つの補正回路を使うことに
より、オフセツト電圧の分布の幅を実効的に8VS
減少させることができる。
In the first embodiment, two correction circuits
CL 1 and CL 2 were used, but the second embodiment, the configuration of which is shown in FIG. 8, uses four correction circuits CL 1 , CL 2 ,
It is equipped with CL 3 and CL 4 , and the correction circuits CL 1 and CL 3 are
BL1 , correction circuits CL2 and CL4 are connected to the bit line BL2 , respectively. Just like the correction circuits CL 1 and CL 2 , the correction circuits CL 3 and (CL 4 ) are signal generation circuits G 3
(G 4 ) and a correction memory cell M 3 (M 4 ), and the signal generation circuit G 3 (G 4 ) is controlled by the correction memory M 3 (M 4 ).
A correction period is also provided in the second embodiment.
In the first half of the correction period, information regarding the offset voltage is stored in the correction circuits CL 1 and CL 2 by the same operation as in the first embodiment, and the width of the effective offset voltage distribution is reduced by 4V S. In the second half of the correction period, while correction is performed by correction circuits CL 1 and CL 2 , correction circuits CL 3 and CL 4 are provided with the effective value corrected by correction circuits CL 1 and CL 2 in exactly the same manner as in the first embodiment. information regarding the offset voltage. By using four correction circuits in this way, the width of the offset voltage distribution can be effectively reduced to 8V S.
can be reduced.

補正回路の数をさらに増加することにより、オ
フセツト電圧の分布の幅をさらに実効的に減少さ
せることも可能である。
By further increasing the number of correction circuits, it is also possible to further effectively reduce the width of the offset voltage distribution.

上記実施例において、信号発生回路G1,G2
ビツト線BL1,BL2の電圧を一定量だけ引き下げ
る機能を有しているとしたが、信号発生回路
G1,G2はビツト線BL1,BL2の寄生容量CB1,CB
を増加させる機能を有していてもよい。
In the above embodiment, the signal generation circuits G 1 and G 2 have the function of lowering the voltage of the bit lines BL 1 and BL 2 by a certain amount.
G 1 and G 2 are the parasitic capacitances C B1 and C B of the bit lines BL 1 and BL 2
It may have a function of increasing the number by 2 .

上記実施例において、補正用メモリセルM1
M2はいわゆるスタテイツク形メモリセルであつ
たが、ダイナミツク形メモリセル又はプログラマ
ブルROMでもよい。ダイナミツク形メモリセル
の場合は電源投入後も定期的に補正期間を設ける
必要があり、プログラマブルROMの場合は製造
後補正期間を1回設けるだけでもよい。
In the above embodiment, the correction memory cells M 1 ,
Although M2 is a so-called static type memory cell, it may also be a dynamic type memory cell or a programmable ROM. In the case of a dynamic memory cell, it is necessary to provide a periodic correction period even after the power is turned on, and in the case of a programmable ROM, it is sufficient to provide a correction period only once after manufacture.

上記第1の実施例において、補正期間の最初に
おいてメモリセルMC1及びMCNの節点NMが0ボ
ルトに設定され、次に補正用データを得るために
センス増幅回路SAを動作させる直前には2つの
ビツト線の電圧差がVSに設定された。したがつ
て、オフセツト電圧の補正は、オフセツト電圧の
絶対値がVS以上の場合だけについて行なわれ、
オフセツト電圧の絶対値がVSより少し小さい場
合には補正が行なわれない。しかし、メモリセル
からビツト線に出力される信号にも確率的なばら
つきがあり、補正回路内の製造ばらつきがあるこ
とも考えられるので、オフセツト電圧の絶対値が
Sより少し小さい場合も補正が行なわれる方が
本発明の目的をより確実に達成することができ
る。
In the first embodiment, the node N M of the memory cells M C1 and M CN is set to 0 volts at the beginning of the correction period, and then immediately before operating the sense amplifier circuit SA to obtain correction data, The voltage difference between the two bit lines was set to V S . Therefore, the offset voltage is corrected only when the absolute value of the offset voltage is greater than or equal to VS.
No correction is made if the absolute value of the offset voltage is slightly smaller than V S . However, there are stochastic variations in the signals output from the memory cells to the bit lines, and there may also be manufacturing variations in the correction circuit, so even if the absolute value of the offset voltage is slightly smaller than V S , the correction may not be possible. If this is done, the object of the present invention can be achieved more reliably.

第9図にこの点を改良した第3の実施例の行回
路を示す。第3の実施例の行回路は第5図の第1
の実施例の行回路に電界効果トランジスタQ1
付けて構成されており、電界効果トランジスタ
Q1のソース及びドレインはビツト線BL1及びBL2
にそれぞれ接続されており、トランジスタQ1
ゲートにはクロツク信号φが供給されている。
第3の実施例の補正期間の最初において、まず、
ビツト線BL1,BL2がプリチヤージ回路PC1,PC2
により高電圧に設定され、次にクロツク信号φ
が高電圧に設定される。次にセンス増幅回路SA
に供給されるクロツク信号φDが高電圧から低電
圧に設定される。この時、クロツク信号φが高
電圧にされているのでビツト線BL1とBL2は電気
的に接続された状態であり、クロツク信号φD
低電圧にされても通常の検出増幅動作が行なわれ
ず、ビツト線BL1とBL2はともにクロツク信号φD
の電圧に電界効果トランジスタの閾値電圧を加え
た電圧に設定される。クロツク信号φDの低電圧
は0ボルトであるとすればビツト線BL1とBL2
閾値電圧に設定されることになる。この時、メモ
リセルMC1とMCNに接続されているワールド線
が高電圧に保たれておれば、メモリセルMC1
MCNの節点NMは上記閾値電圧に設定される。こ
の後、クロツク信号φは低電圧に再び設定さ
れ、第1の実施例と全く同様にビツト線BL1
BL2を高電圧VDDに設定した後、メモリセルMC1
とダミーセル回路DC2を選択するとビツト線BL1
とBL2の電圧差はV1より小さい値(この値をV′1
と呼ぶ)に設定される。一方、信号発生回路G1
及びG2による補正量も2V′1に設定しておくことに
より、オフセツト電圧の絶対値がVSより小さい
場合でも補正を行なうことができる。
FIG. 9 shows a row circuit of a third embodiment that is improved in this respect. The row circuit of the third embodiment is shown in FIG.
It is constructed by adding a field effect transistor Q1 to the row circuit of the embodiment, and the field effect transistor
The source and drain of Q 1 are bit lines BL 1 and BL 2
A clock signal φ1 is supplied to the gate of the transistor Q1 .
At the beginning of the correction period of the third embodiment, first,
Bit lines BL 1 and BL 2 are precharge circuits PC 1 and PC 2
The clock signal φ 1 is then set to a high voltage by
is set to high voltage. Next, sense amplifier circuit SA
The clock signal φ D supplied to the circuit is set from a high voltage to a low voltage. At this time, since the clock signal φ 1 is set to a high voltage, the bit lines BL 1 and BL 2 are electrically connected, and even if the clock signal φ D is set to a low voltage, the normal detection amplification operation will not occur. Bit lines BL 1 and BL 2 are both connected to the clock signal φ D
The voltage is set to the voltage obtained by adding the threshold voltage of the field effect transistor to the voltage of . Assuming that the low voltage of clock signal φ D is 0 volts, bit lines BL 1 and BL 2 will be set to a threshold voltage. At this time, if the world line connected to memory cells MC 1 and MC N is kept at high voltage, memory cells MC 1 and MC N
Node N M of MC N is set to the above threshold voltage. After this, the clock signal φ 1 is again set to a low voltage and the bit line BL 1 and
After setting BL 2 to high voltage V DD , memory cell MC 1
and select dummy cell circuit DC 2 , bit line BL 1
The voltage difference between and BL 2 is smaller than V 1 (this value is called V′ 1
). On the other hand, signal generation circuit G 1
By also setting the amount of correction by G2 to 2V'1 , correction can be performed even when the absolute value of the offset voltage is smaller than Vs.

上記、第3の実施例においては、補正期間に検
査のためにセンス増幅回路を動かす場合だけ、メ
モリセルからの信号の電圧を通常の読出し期間に
比較して小さくするために、ビツト線電圧を電界
効果トランジスタの閾値電圧に等しく設定した。
しかし、要はビツト線電圧を通常の書込み期間で
のメモリセルへの書込み電圧(すなわち実施例で
は0ボルトとVDD)よりその中間の電圧VDD/2
に近づけた値に設定し、その電圧にメモリセルの
節点NMを設定することにより、上記読出し期間
に比較して小さい信号電圧を得ることができる。
In the third embodiment described above, only when operating the sense amplifier circuit for inspection during the correction period, the bit line voltage is changed in order to reduce the voltage of the signal from the memory cell compared to the normal read period. It was set equal to the threshold voltage of the field effect transistor.
However, the point is that the bit line voltage is lower than the write voltage to the memory cell during the normal write period (i.e., 0 volts and V DD in the embodiment) and the intermediate voltage V DD /2.
By setting the voltage to a value close to , and setting the node N M of the memory cell to this voltage, it is possible to obtain a smaller signal voltage than in the read period.

上記、第3の実施例はビツト線電圧を書込み期
間と変えて設定することにより、メモリセルの節
点NMの電圧を設定し、通常より小さい信号量を
補正期間において得た。補正期間におけるメモリ
セルへの上記書込み電圧は通常の書込み電圧に等
しくし、本メモリ回路のリフレツシユ期間又はそ
れ以上の時間が経過した後、メモリセルを選択し
て通常より微少な電気信号をビツト線上に得て、
センス増幅回路を検査のため動かすようにしても
よい。また、この場合、多数のメモリセルを次々
に選択して、最も信号電圧量の小さいメモリセル
からの電気信号に基づいて、上記センス増幅回路
の検査を行なつてもよい。
In the third embodiment described above, by setting the bit line voltage differently from the write period, the voltage at the node N M of the memory cell was set, and a smaller signal amount than usual was obtained during the correction period. The write voltage to the memory cell during the correction period is made equal to the normal write voltage, and after the refresh period of this memory circuit or a longer period of time has elapsed, the memory cell is selected and a smaller electrical signal than usual is applied to the bit line. obtained,
The sense amplifier circuit may be operated for testing purposes. Further, in this case, a large number of memory cells may be selected one after another, and the sense amplifier circuit may be tested based on the electrical signal from the memory cell having the smallest signal voltage amount.

以上説明したように、本発明によればセンス増
幅回路のオフセツト電圧の分布の幅を実効的に小
さくすることができ、メモリセルからビツト線に
出力する信号電圧を小さくすることができ、メモ
リセルの小形化ができる。このため、本発明によ
れば、記憶回路の高密度化ができる。
As explained above, according to the present invention, the width of the offset voltage distribution of the sense amplifier circuit can be effectively reduced, the signal voltage output from the memory cell to the bit line can be reduced, and the width of the offset voltage distribution of the sense amplifier circuit can be reduced. can be made smaller. Therefore, according to the present invention, it is possible to increase the density of the memory circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来のメモリ回路の行回路の構成図、
第2図はメモリセルの回路図、第3図はダミーセ
ル回路の回路図、第4図はセンス増幅回路の回路
図、第5図は本発明の第1の実施例の行回路の構
成図、第6図および第7図は補正回路の具体例を
示す回路図、第8図は本発明の第2の実施例の行
回路の構成図、第9図は本発明の第3の実施例の
行回路の構成図である。 MC1,MC2,…,MC〓,MC〓+1,…MCN
…メモリセル、DC1,DC2……ダミーセル回路、
SA……センス増幅回路、PC1,PC2……プリチヤ
ージ回路、DIO……データ入出力回路、BL1
BL2……ビツト線、CM,CD……コンデンサ、N
M,ND……節点、VDD,VSS……直流電圧、φ
R,φD,φ……クロツク信号、QM,QD1,QS
,QS2,Q1……電界効果トランジスタ、CL1
CL2,CL3,CL4……補正回路、G1,G2,G3,G4
……信号発生回路、M1,M2,M3,M4……補正用
メモリセル。
Figure 1 is a configuration diagram of a row circuit of a conventional memory circuit.
2 is a circuit diagram of a memory cell, FIG. 3 is a circuit diagram of a dummy cell circuit, FIG. 4 is a circuit diagram of a sense amplifier circuit, and FIG. 5 is a configuration diagram of a row circuit according to the first embodiment of the present invention. 6 and 7 are circuit diagrams showing specific examples of the correction circuit, FIG. 8 is a configuration diagram of the row circuit of the second embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a circuit diagram of the third embodiment of the present invention. FIG. 3 is a configuration diagram of a row circuit. MC 1 , MC 2 ,…, MC〓, MC〓 +1 ,…MC N
...Memory cell, DC 1 , DC 2 ...Dummy cell circuit,
SA...Sense amplifier circuit, PC 1 , PC 2 ...Precharge circuit, DIO...Data input/output circuit, BL 1 ,
BL 2 ...Bit line, C M , C D ...Capacitor, N
M , N D ... Node, V DD , V SS ... DC voltage, φ
R , φ D , φ 1 ...Clock signal, Q M , Q D1 , Q S
1 , Q S2 , Q 1 ... field effect transistor, CL 1 ,
CL 2 , CL 3 , CL 4 ... Correction circuit, G 1 , G 2 , G 3 , G 4
... Signal generation circuit, M 1 , M 2 , M 3 , M 4 ... Correction memory cell.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 外部から入力される情報を記憶するための多
数のメモリセル(主メモリセルと称す)を具備
し、上記主メモリセルから出力される電気信号を
検出するためのセンス増幅回路を具備するメモリ
回路において、 上記センス増幅回路を補正するための情報を記
憶する上記以外のメモリセル(補正用メモリと称
す)と、 補正用メモリセルに記憶された情報に基づいて
該センス増幅回路のオフセツト電圧の絶対値を小
さくするように補正するための手段と、 外部から入力される情報を主メモリセルに入力
する時に2つの論理値に対応して主メモリセルの
記憶節点に与えられる2種の電圧の一方より低く
他方より高い電圧を主メモリセルの記憶節点に生
じさせて、該主メモリセルからセンス増幅回路へ
電気信号を出力することにより、補正用メモリセ
ルに記憶される情報を得る手段と を設けたことを特徴とするメモリ回路。
[Claims] 1. A sense amplifier comprising a large number of memory cells (referred to as main memory cells) for storing information input from the outside and detecting electrical signals output from the main memory cells. A memory circuit including a memory cell other than the above (referred to as a correction memory) that stores information for correcting the sense amplification circuit, and a memory cell that stores information for correcting the sense amplification circuit, and the sense amplification circuit based on the information stored in the correction memory cell. A means for correcting to reduce the absolute value of the offset voltage of the circuit, and a means for correcting to reduce the absolute value of the offset voltage of the circuit, and a means for applying information to the storage node of the main memory cell corresponding to two logical values when inputting information input from the outside to the main memory cell. Information is stored in the correction memory cell by generating a voltage lower than one of the two voltages and higher than the other at the storage node of the main memory cell, and outputting an electrical signal from the main memory cell to the sense amplifier circuit. A memory circuit characterized in that it is provided with means for obtaining.
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