JPS61275759A - Developing solution for photosensitive lithographic printing plate without requiring damping water - Google Patents

Developing solution for photosensitive lithographic printing plate without requiring damping water

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Publication number
JPS61275759A
JPS61275759A JP27999585A JP27999585A JPS61275759A JP S61275759 A JPS61275759 A JP S61275759A JP 27999585 A JP27999585 A JP 27999585A JP 27999585 A JP27999585 A JP 27999585A JP S61275759 A JPS61275759 A JP S61275759A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicone rubber
weight
water
lithographic printing
rubber layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP27999585A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yukihisa Narutomi
成冨 恭久
Hiroshi Takahashi
弘 高橋
Keisuke Shiba
柴 恵輔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Publication of JPS61275759A publication Critical patent/JPS61275759A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322Aqueous alkaline compositions

Abstract

PURPOSE:To eliminate the scratching of a silicone rubber layer in a non-image part and to decrease the danger of firing by constituting a developing soln. of a prescribed org. solvent, activator and >=30wt% water. CONSTITUTION:The developing soln. constituted of the org. solvent for dissolving or swelling a photosetting type photosensitive layer, the org. solvent for swelling silicone rubber, activator and >=30wt% water is used for the developing soln. of the photosensitive lithographic printing plate without requiring damping water formed by laminating the photosensitive layer and silicone rubber layer on a substrate. Such developing soln. contains the prescribed ratio of water and therefore said soln. obviates the scratching of the silicone rubber layer in the non-image part during development. Since the soln. contains the water, the soln. has a high flash point and contributes to a decrease in the danger of ignition.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はシリコーンゴム層をインキ反撥層とするシリコ
ーンゴム上層型湿し水不要感光性平版印刷版用現像液に
関するものであり、特に30重量%以上の水を含むこと
を特徴とするものである。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a developer for a silicone rubber upper layer type photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and has a silicone rubber layer as an ink repellent layer, and particularly relates to a developer for a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and has a silicone rubber layer as an ink repellent layer. % or more of water.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

シリコーンゴム層をインキ反撥層とする湿し水不要感光
性平版印刷版については既に種々のものが提案されて居
る。中でも特公昭54−26923号、特公昭55−2
2781号および特公昭56−23150号公報などに
提示された湿し水不要感光性平版印刷版は、基板上に光
硬化性感光層とシリコーンゴム層とが順次積層されたも
ので、これより得られる刷版を用いて湿し水を用いるこ
となくして数万枚の印刷が可能である。
Various types of photosensitive lithographic printing plates that do not require dampening water have already been proposed using a silicone rubber layer as an ink repellent layer. Among them, Special Publication No. 54-26923, Special Publication No. 55-2
No. 2781 and Japanese Patent Publication No. 56-23150, photosensitive lithographic printing plates that do not require dampening water are those in which a photocurable photosensitive layer and a silicone rubber layer are sequentially laminated on a substrate. It is possible to print tens of thousands of sheets without using dampening water using a printing plate made with this technology.

上記湿し水不要感光性平版印刷版は通常以下に示すよう
な露光、現像工程を経て製版される。
The above-mentioned photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water is usually plate-made through the following exposure and development steps.

まず湿し水不要感光性平版印刷版は真空密着されたオリ
ジナルフィルムを通して活性光線に露光される。露光の
終わった印刷原版はパラフィン系炭化水素あるいはそれ
を主成分とする現像液に浸漬される。その結果未露光部
のシリコーンゴム層は現像液によって激しく膨潤し、未
露光部のシリコーンゴム層のみあるいは未露光部感光層
の溶出をともなって除去される。このシリコーンゴム層
の除かれた部分が画線部となる。他方、露光部のシリコ
ーンゴム層は現像液;こより若干膨潤されるものの、光
硬化した感光層に強く接着しているため、現像パッドで
強くこすっても浸されず版面に残り、この部分がインキ
反撥性非画線部を形成することにより、湿し水不要平版
印刷版が製版される。
First, the dampening water-less photosensitive lithographic printing plate is exposed to actinic light through a vacuum-sealed original film. After exposure, the printing original plate is immersed in a developer containing paraffin hydrocarbon or paraffin hydrocarbon as its main component. As a result, the silicone rubber layer in the unexposed areas is violently swollen by the developer and removed with the elution of only the silicone rubber layer in the unexposed areas or the photosensitive layer in the unexposed areas. The portion from which the silicone rubber layer is removed becomes the image area. On the other hand, although the silicone rubber layer in the exposed area is slightly swollen by the developer, it is strongly adhered to the photocured photosensitive layer, so it remains on the plate surface without being soaked even when rubbed strongly with a developing pad, and this area is exposed to ink. By forming the repellent non-image area, a lithographic printing plate that does not require dampening water can be made.

一般にシリコーンゴム層をインキ反撥層とする湿し水不
要感光性平版印刷版用現像液の必須成分としては、シリ
コーンゴム層を膨潤させる成分く以下「シリコーンゴム
膨潤剤」という)及びシリコーンゴム層下の感光層を膨
潤あるいは溶解させる成分(以下「現像促進剤」という
)が考えられる。シリコーンゴム膨潤剤としては、パラ
フィン系炭化水素即ちペンタン、ヘキサン、ヘプタン、
オクタン、ノナン、デカンといった単一溶媒あるいはそ
れ等異性体等の混合物、あるいはそれ等混合物に相当す
る石油の分留製品、例えばアイソパーG、アイソパーH
(エクソン化学株式会社製)等が有用な溶媒として使用
される。また現像促進剤としてアルコール類、エステル
類、ケトン類、エーテル類、芳香族炭化水素類、ハロゲ
ン化炭化水素類、カルボン酸類等が有効である。
In general, the essential components of a developer for a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and uses a silicone rubber layer as an ink-repellent layer include a component that swells the silicone rubber layer (hereinafter referred to as a "silicone rubber swelling agent") and a component under the silicone rubber layer. A component that swells or dissolves the photosensitive layer (hereinafter referred to as "development accelerator") can be considered. Silicone rubber swelling agents include paraffinic hydrocarbons, such as pentane, hexane, heptane,
Single solvents such as octane, nonane, decane, mixtures of isomers, etc., or petroleum fractionation products corresponding to mixtures thereof, such as Isopar G, Isopar H
(manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) and the like are used as useful solvents. In addition, alcohols, esters, ketones, ethers, aromatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, carboxylic acids, and the like are effective as development accelerators.

〔発明が解決しようとする問題点〕 ところで、従来のシリコーンゴム上層型湿し水不要感光
性平版印刷版用現像液では、シリコーンゴム膨潤剤を現
像液のベースとし、これに現像促進剤を含有させたため
、シリコーンゴム層を膨潤させるに必要な歯辺上のシリ
コーンゴム膨潤剤が使われることとなり、現像時に非画
像部のシリコーンゴム層にスクラッチが生じやすくなる
。また、このシリコーンゴム膨潤剤はパラフィン系炭化
水素でありなんらかの理由で着火した場合非常に危険で
あり、時に自動現像処理をする場合、防爆上良く考慮さ
れた自動現像機を使用する必要がある。
[Problems to be Solved by the Invention] By the way, in the conventional silicone rubber-layered developer for photosensitive lithographic printing plates that does not require dampening water, the developer is based on a silicone rubber swelling agent and contains a development accelerator. As a result, a silicone rubber swelling agent on the tooth edges necessary to swell the silicone rubber layer is used, and scratches are likely to occur in the silicone rubber layer in non-image areas during development. In addition, this silicone rubber swelling agent is a paraffinic hydrocarbon and is extremely dangerous if it ignites for some reason, and when automatic processing is sometimes carried out, it is necessary to use an automatic processing machine that is carefully considered for explosion protection.

このような自動現像機は通常の水をベースとする現像液
で処理できる感光性平版印刷版(コンベンショナルPS
版)用自動現像機に比較すると非常に高価なものとなり
経済的にも不利である。
Such automatic processors can produce photosensitive lithographic printing plates (conventional PS) that can be processed with conventional water-based developers.
Compared to automatic developing machines for printing plates, it is very expensive and economically disadvantageous.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明者等はこの点に着目し、最低必要量のシリコーン
ゴム膨潤剤および現像促進剤を単独あるいは界面活性剤
、第三極性物質の添加により水と均一に混合することを
鋭意検討し、30重世%以上の水を含むシリコーンゴム
上層型湿し水不要感光性平版印刷版用現像液により上記
問題点を解決することができることを見出し、本発明を
完成するに至った。即ち本発明は基板上に光硬化型感光
層とシリコーンゴム層とをこの順に積層してなる湿し水
不要感光性平版印刷版の現像液に関し、該現像液が、感
光層を溶解あるいは膨潤させる有機溶剤、シリコーンゴ
ム層を膨潤させる有機溶剤、活性剤および30重量%以
上の水よりなることを特徴とするも、のである。
The present inventors have focused on this point, and have made extensive studies to uniformly mix the minimum required amount of silicone rubber swelling agent and development accelerator with water, either alone or by adding a surfactant or a third polar substance. The present inventors have discovered that the above-mentioned problems can be solved by a silicone rubber-layered developer for photosensitive lithographic printing plates that does not require dampening water and contains 30 weight percent or more of water, and has completed the present invention. That is, the present invention relates to a developer for a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and is formed by laminating a photocurable photosensitive layer and a silicone rubber layer in this order on a substrate, and the developer dissolves or swells the photosensitive layer. It is characterized by comprising an organic solvent, an organic solvent for swelling the silicone rubber layer, an activator, and 30% by weight or more of water.

以下本発明の内容を詳細に説明する。The contents of the present invention will be explained in detail below.

く感光層〉 本発明に使用される感光層は、露光の前後で現像液に対
する溶解性が低下するものであれば、いかなるものであ
ってもよい。
Photosensitive layer> The photosensitive layer used in the present invention may be any layer as long as its solubility in a developer decreases before and after exposure.

このような感光層を構成する化合物又は組成物には、次
のものが含まれる。
Compounds or compositions constituting such a photosensitive layer include the following.

(1)沸点100℃以上で、室温で不揮発性の不飽和モ
ノマーあるいはそれらのオリゴマーと光増感剤、熱重合
禁止剤と、必要ならば室温での形態保持性を与えるため
の充填材および若干の添加物を含む組成物。
(1) An unsaturated monomer or oligomer thereof with a boiling point of 100°C or higher and nonvolatile at room temperature, a photosensitizer, a thermal polymerization inhibitor, and if necessary, a filler to provide shape retention at room temperature and some A composition containing an additive.

不飽和モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ
)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリシジル
(メタ)アクリレート、1−クロロ−2−ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メ
タ)アクリレートなどの一連のアクリル酸エステル、メ
タアクリル酸エステル順、エチレンビスアクリルアミド
、N−メチロールアクリルアミド、メトキシメチルアク
リルアミドなどのアクリルアミド誘導体、トリアリルシ
アヌレート、トリアリルフォスフェート、ジアリルフタ
レート、ジアリルマレートなどのアリルアルコールのエ
ステル、その他スチレン誘導体、ケイ皮酸誘導体などを
使用することができる。
Examples of unsaturated monomers include ethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, hydroxyethyl(meth)acrylate,
A series of acrylic esters such as hydroxypropyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, 1-chloro-2-hydroxyethyl (meth)acrylate, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, methacrylic ester order, ethylene bisacrylamide , acrylamide derivatives such as N-methylol acrylamide and methoxymethyl acrylamide, esters of allyl alcohol such as triallyl cyanurate, triallyl phosphate, diallyl phthalate and diallyl maleate, other styrene derivatives, cinnamic acid derivatives, etc. I can do it.

光増感剤としては、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾイン
誘導体、アントラキノン誘導体イアルデヒド、ケトン、
イオウ化合物、ハロゲン化合物、あるいはメチレンブル
ー、リボフラビンなどの染料が使用できる。
Examples of photosensitizers include benzophenone derivatives, benzoin derivatives, anthraquinone derivatives, aldehydes, ketones,
Sulfur compounds, halogen compounds, or dyes such as methylene blue and riboflavin can be used.

熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン誘導体、フェノ
ール誘導体、ニトロ置換ベンゼン、第3級アミン、フェ
ノチアジン誘導体が用いられる。
As the thermal polymerization inhibitor, hydroquinone derivatives, phenol derivatives, nitro-substituted benzenes, tertiary amines, and phenothiazine derivatives are used.

充填剤あるいは添加剤としては、コロイダルシリカ、炭
酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化鉄などの無機物
の微細な粉末、ポリ酢酸ビニル、ポリ(メタ)アクリル
酸エステル、分子量数千のポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル
ポリマー、硬化前のレゾールフェノール系、尿素系、メ
ラミン系、エポキシ系、不飽和ポリエステル系樹脂など
があげられる。
Fillers or additives include colloidal silica, calcium carbonate, magnesium carbonate, fine powder of inorganic substances such as iron oxide, polyvinyl acetate, poly(meth)acrylate, polyethylene, polypropylene, and polyvinyl chloride with a molecular weight of several thousand. Examples include vinyl polymers such as polyvinylidene chloride, resol phenol resins before curing, urea resins, melamine resins, epoxy resins, and unsaturated polyester resins.

(2)重合体の主鎖又は側鎖に R1およびR2は炭素数1〜10のアルキル基を示す)
を含む高分子化合物からなる組成物。
(2) R1 and R2 represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms in the main chain or side chain of the polymer)
A composition consisting of a polymer compound containing.

重合体の主鎖又は側鎖に感光性基としてル類、ポリアミ
ド類、ポリカーボネート頚のような感光性重合体を主成
分とするもの(例えば米国特許第3.030.208号
、同第3.707.373号及び同第3、453.23
7号の各明細書に記載されているような化合物);シン
ナミIJデンマロン酸等の(2−プロピリデン)マロン
酸化合物及び二官能性グリコール類から誘導される感光
性ポリエステル類を主成分としたもの(例えば米国特許
第2.956.878号及び同第3.173.787号
の各明細書に記載されているような感光性重合体);ポ
リビニールアルコール、澱粉、セルロース及びその類似
物のような水酸基含有重合体のケイ皮酸エステル類(例
えば米国特許第2.690.966号、同第2.752
.372号、同第2、732.301号等の各明細書に
記載されているような感光性重合体)、更に特開昭58
−25302号、同59−17550号公報に記載され
ている重合体等が包含される。
Polymers containing photosensitive groups as main components or side chains of photosensitive polymers such as polymers, polyamides, and polycarbonate necks (for example, U.S. Pat. No. 3,030,208, U.S. Pat. No. 707.373 and No. 3, 453.23
Compounds such as those described in the specifications of No. 7); those whose main components are photosensitive polyesters derived from (2-propylidene) malonic acid compounds such as Cinnami IJ denmalonic acid and difunctional glycols. (e.g., photopolymers such as those described in U.S. Pat. No. 2,956,878 and U.S. Pat. No. 3,173,787); cinnamate esters of hydroxyl group-containing polymers (e.g., U.S. Pat. No. 2.690.966, U.S. Pat. No. 2.752)
.. 372, No. 2, 732.301, etc.), as well as JP-A-58
The polymers described in Japanese Patent No. 25302 and No. 59-17550 are included.

(3)感光性ジアゾ樹脂あるいはアジド樹脂と必要なら
ば光増感剤と若干の充填材添加物。
(3) Photosensitive diazo resin or azide resin and if necessary a photosensitizer and some filler additives.

感光性ジアゾ樹脂としては、パラジアゾジフェニルアミ
ン、パラジアゾモノエチルアニリン、パラジアゾベンジ
ルエチルアニリンなどのジアゾ系アミンとホルムアルデ
ヒドとの縮合物の塩化亜鉛複塩をあげることができる。
Examples of the photosensitive diazo resin include zinc chloride double salts of condensates of formaldehyde and diazo amines such as paradiazodiphenylamine, paradiazomonoethylaniline, and paradiazobenzylethylaniline.

感光性アジド樹脂としては、ポリビニルアルコールのア
ジドフタル酸エステノペあるいはアジド安息昏酸エステ
ル、スチレン−無水マレイン酸共重合体と、芳香族アジ
ド系アルコール、例えばβ−(4−アジドフェノール)
エタノールのエステルなどがあげられる。
Examples of the photosensitive azide resin include azidophthalate ester or azide benzoate of polyvinyl alcohol, styrene-maleic anhydride copolymer, and aromatic azido alcohol such as β-(4-azidophenol).
Examples include esters of ethanol.

光増感剤、充填材、添加物としては(1)の例であげた
ものを使用できる。
As the photosensitizer, filler, and additives, those listed in the example (1) can be used.

これらのうち、特に好ましいものは、(2)の光二量化
型のものである。
Among these, particularly preferred is the photodimerization type (2).

以上説明したような感光層の厚さは、像露光後の現像工
程で画線部の感光層およびシリコーンゴム層を除くこと
ができる限りにおいて、可能な限り薄いことが好ましい
が、一般的な目安としては、1μ以下、特に0.1〜0
.5μの範囲から選ばれることが望ましく、且つ好まし
い。
The thickness of the photosensitive layer as explained above is preferably as thin as possible as long as the photosensitive layer and silicone rubber layer in the image area can be removed in the development process after image exposure, but as a general guideline: 1 μ or less, especially 0.1 to 0
.. It is desirable and preferable that the thickness be selected from the range of 5μ.

くシリコーンゴム層〉 本発明に用いるシリコーンゴム層は、次のようなくり返
し単位を有する分子量数千〜数十万の線状有機ポリシロ
キサンを主成分とする。
Silicone Rubber Layer> The silicone rubber layer used in the present invention is mainly composed of a linear organic polysiloxane having a molecular weight of several thousand to several hundred thousand and having the following repeating units.

ここでR3は炭素数1〜10のアルキル基あるいはフェ
ニル基であるが、R3の60%以上がメチル基であるも
のが好ましい。このような線状有機ポリシロキサンは、
反応性の架橋剤を添加して架橋シリコーンゴムとするの
が一般的である。いわゆる室温(低温)硬化型シリコー
ンゴムに使われる架橋剤としては、珪素原子に結合した
一価の有機基を有するかまたは有しないアセトキシシラ
ン、ケトオキシムシラン、了ミノシラン、アミドシラン
、アルコキシシラン、ヒドロキシシラン等のシランや、
これ等の低重合度縮合物であるシロキサン類、オルガノ
−ハイドロジエンポリシロキサン等がある。また感光層
/シリコーンゴム層の接着力を向上させ、長期間経時後
も層間接着力の低下を防ぐべくアリルイソシアヌレート
基を有する反応性シラン化合物、アミノアルキル基を有
する反応性シラン化合物、等をシリコーンゴム組成物中
に添加する場合もある。
Here, R3 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a phenyl group, but preferably 60% or more of R3 is a methyl group. Such linear organopolysiloxane is
It is common to add a reactive crosslinking agent to form a crosslinked silicone rubber. Crosslinking agents used in so-called room temperature (low temperature) curing silicone rubbers include acetoxysilanes, ketoximesilanes, minosilanes, amidosilanes, alkoxysilanes, and hydroxysilanes with or without monovalent organic groups bonded to silicon atoms. Silane such as
There are siloxanes, organo-hydrodiene polysiloxanes, etc. which are condensates of these with a low degree of polymerization. In addition, in order to improve the adhesive strength of the photosensitive layer/silicone rubber layer and prevent the interlayer adhesive strength from decreasing even after a long period of time, reactive silane compounds having an allyl isocyanurate group, reactive silane compounds having an aminoalkyl group, etc. are used. It may also be added to silicone rubber compositions.

シリコーンゴム層中に含まれる上記反応性架橋剤および
/または反応性シラン化合物の添加量は、好ましくは0
.05〜10重量%、より好ましくは031〜5重指%
が選ばれる。またこれ等接着成分同志を混合して用いる
ことも出来る。
The amount of the reactive crosslinking agent and/or reactive silane compound contained in the silicone rubber layer is preferably 0.
.. 05-10% by weight, more preferably 031-5% by weight
is selected. It is also possible to use a mixture of these adhesive components.

またシリコーンゴム層には、更に触媒として少蚤の有機
スズ化合物等が添加されるのが一般的である。
Furthermore, a small amount of an organic tin compound or the like is generally added as a catalyst to the silicone rubber layer.

シリコーンゴム層の厚さは調子再現性の点からはできる
限り薄い方がよくまた耐刷性、印刷汚れの点からはある
程度の厚さを必要とするので通常0.5〜10μ程度が
適当であり、1.0〜3.0μが望ましい。
The thickness of the silicone rubber layer should be as thin as possible from the point of view of tone reproducibility, and a certain degree of thickness is required from the point of view of printing durability and printing smudges, so the appropriate thickness is usually about 0.5 to 10μ. Yes, 1.0 to 3.0μ is desirable.

くシリコーンゴム膨潤剤〉 本発明に使用されるシリコーンゴム膨潤剤としては、パ
ラフィン系炭化水素たとえばペンタン、ヘキサン、ヘプ
タン、オクタン、ノナン、デカン;シクロパラフィン系
炭化水素、tことえばシクロペンクン、シクロヘキサン
、シクロへブタン、シクロオクタン、シクロノナン、シ
クロデカン;等の単一溶媒あるいはそれ等異性体の混合
物に相当する石油の分留製品、例えばアイソパーG1ア
、イソパーH1エクソルD100、エクソルD110(
エクソン化学株式会社製)等が有用な溶媒として使用出
来る。さらにパラフィン系炭化水素以外でもシリコーン
ゴム層を膨潤する能力のあるものならばいずれでもよい
。例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソ
ブチルケトン等の脂肪族ケトン類、エチレングリコール
ジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテ
ル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ヘキシル、酪酸メチ
ル、酪酸エチル、酪酸プロピル等の脂肪族カルボン酸の
アルキルエステル類等もシリコーンゴム膨潤剤として適
している。これらの芳香族炭化水素類、脂肪族ケトン頌
、グリコールエーテル類、脂肪族カルボン酸のアルキル
エステル類は現像促進剤としても使用することができる
。本発明においてシリコーンゴム膨潤剤の使用量は1〜
65重量%、好ましくは2〜50重量%が適当である。
Silicone rubber swelling agents> The silicone rubber swelling agents used in the present invention include paraffinic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane, octane, nonane, and decane; cycloparaffinic hydrocarbons such as cyclopenkune, cyclohexane, and cyclo Petroleum fractionation products corresponding to single solvents such as hebutane, cyclooctane, cyclononane, cyclodecane, etc. or mixtures of their isomers, such as Isopar G1A, Isopar H1 Exol D100, Exol D110 (
(manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) etc. can be used as useful solvents. Furthermore, any material other than paraffinic hydrocarbons may be used as long as it has the ability to swell the silicone rubber layer. For example, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene,
Aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, glycol ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, ethyl acetate, propyl acetate Also suitable as silicone rubber swelling agents are alkyl esters of aliphatic carboxylic acids such as butyl acetate, amyl acetate, hexyl acetate, methyl butyrate, ethyl butyrate, propyl butyrate, and the like. These aromatic hydrocarbons, aliphatic ketones, glycol ethers, and alkyl esters of aliphatic carboxylic acids can also be used as development accelerators. In the present invention, the amount of silicone rubber swelling agent used is 1 to 1.
65% by weight, preferably 2-50% by weight is suitable.

く現像促進剤〉 現像促進剤としては感光層を膨潤あるいは溶解する有機
溶剤例えばアルコール類、エステル類、ケトン類、エー
テル類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、カ
ルボン酸類などが考えられるが、水への溶解性が20%
以下の溶剤、例えばベンジルアルコール、エチレングリ
コールモノフェニルエーテル、エチレングリコールジエ
チルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、
ジエチレングリコールジブチルエーテル、1−ブトキシ
−2−プロパツール、フェニルメチルエーテル、シクロ
ヘキサノール、シクロヘキサン、安息香酸ベンジル、シ
ュウ酸ジブチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジブチル
、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル等が本発明
に特に適して居る。
Development accelerator> Examples of development accelerators include organic solvents that swell or dissolve the photosensitive layer, such as alcohols, esters, ketones, ethers, aromatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, and carboxylic acids. However, the solubility in water is 20%
The following solvents, such as benzyl alcohol, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether,
Diethylene glycol dibutyl ether, 1-butoxy-2-propatol, phenylmethyl ether, cyclohexanol, cyclohexane, benzyl benzoate, dibutyl oxalate, diethyl malonate, dibutyl malonate, diethyl maleate, dibutyl maleate, etc. are used in the present invention. Especially suitable.

本発明において現像促進剤の使用量は1〜65重量%、
好ましくは2〜50重量%が適当である。
In the present invention, the amount of development accelerator used is 1 to 65% by weight,
Preferably, 2 to 50% by weight is appropriate.

く界面活性剤〉 一ヒ記シリコーン膨潤剤、現像促進剤、水を均一に混合
させるため界面活性剤が使用される。
Surfactant> A surfactant is used to uniformly mix the silicone swelling agent, development accelerator, and water.

界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル
、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪
酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エス
テル、グリセリン脂U5 酸エステル、オキシエチレン
オキシプロピレンブロックポリマー等のノニオン界面活
性剤、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩
、ジアルキルスルホコハク酸エステル塩、アルキルリン
酸エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物
、ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩等のアニ
オン界面活性剤、アルキルアミン塩、第4級アンモニウ
ム塩、ポリオキシエチレンアルキルアミン等のカチオン
界面活性剤、アルキルベタイン等の両性イオン界面活性
剤等があるが、中でもアニオン界面活性剤が適している
Examples of surfactants include nonions such as polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenol ether, polyoxyethylene fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, glycerol U5 acid ester, and oxyethylene oxypropylene block polymer. Surfactants, fatty acid salts, alkyl sulfate ester salts, alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, dialkyl sulfosuccinate ester salts, alkyl phosphate ester salts, naphthalene sulfonic acid formalin condensates, polyoxyethylene alkyl sulfate ester salts, etc. There are anionic surfactants such as alkylamine salts, quaternary ammonium salts, cationic surfactants such as polyoxyethylene alkylamine, and amphoteric ionic surfactants such as alkyl betaines, among others, anionic surfactants are suitable. There is.

これらの界面活性剤は単独でも、また2種類以上を組合
せて使用することもできる。本発明における界面活性剤
の使用量は0.5〜60重量%、好ましくは1〜50重
量%が適当である。
These surfactants can be used alone or in combination of two or more. The appropriate amount of surfactant used in the present invention is 0.5 to 60% by weight, preferably 1 to 50% by weight.

又シリコーン膨潤剤、現像促進剤、水、界面活性剤の混
合物を安定化するために、極性第三物質をさらに加える
ことができる。極性第三物質としては、ヘプチルアルコ
ール、オクチルアルコール、ノニルアルコール、デシル
アルコールなどの高級アルコール類のほかに、乳酸エス
テル類、酢酸エステル頚、醋酸エステル類、安息香酸エ
ステル頚、フタル酸エステル類などがあるが、これらの
うちでオクチルアルコール、ノニルアルコール、デシル
アルコールなどの高級アルコール類が最′、有用である
。本発明における極性第三物質の使用量は0.1〜40
重量%、好ましくは0゜5〜30重量%が適当である。
Additionally, a polar third material can be added to stabilize the mixture of silicone swelling agent, development accelerator, water, and surfactant. Polar third substances include higher alcohols such as heptyl alcohol, octyl alcohol, nonyl alcohol, and decyl alcohol, as well as lactic acid esters, acetate esters, acetic esters, benzoate esters, and phthalate esters. However, among these, higher alcohols such as octyl alcohol, nonyl alcohol, and decyl alcohol are the most useful. The amount of the polar third substance used in the present invention is 0.1 to 40
Weight %, preferably 0.5 to 30 weight %, is suitable.

本発明の現像液に含有される水の含有量は30重量%以
上であり、30重量%未満の場合現像液中のシリコーン
ゴム膨潤剤あるいは現像促進剤の含有量がそれぞれの役
割を果たす必要量よりも多くなる。そのため現像時に非
画像部のシリコーンゴム層がスクラッチを生じやすくな
るばかりでなく、なんらかの理由で着火した場合非常に
危険であり、また経済的にも不利である。一方、水の含
有量が95重量%を越えると、現像速度が、次第に低下
し、あるいは現像が不可能となるので、水の含有量は9
5重量%以下にすることが望ましい。
The content of water contained in the developer of the present invention is 30% by weight or more, and if it is less than 30% by weight, the content of the silicone rubber swelling agent or development accelerator in the developer is the necessary amount to play each role. becomes more than Therefore, not only is the silicone rubber layer in the non-image area susceptible to scratches during development, but it is also extremely dangerous and economically disadvantageous if it ignites for some reason. On the other hand, if the water content exceeds 95% by weight, the development speed will gradually decrease or development will become impossible.
It is desirable that the content be 5% by weight or less.

〔実施例〕〔Example〕

以下本発明を実施例により更に詳しく説明する。 The present invention will be explained in more detail below with reference to Examples.

実施例1 通常の方法で脱脂したスムースアルミニウム板上に乾燥
重量で0.5 g / m’になるよう下記プライマ一
層用組成物を塗布し、乾燥し′二。
Example 1 The following primer layer composition was applied to a smooth aluminum plate degreased in a conventional manner to a dry weight of 0.5 g/m' and dried.

p−フェニレンジアクリル酸エステ ルと1,4−ジヒドロキシエチル オキシシクロヘキサンとの1=1 (モル比)重縮合による感光性不 飽和ポリエステル        10重量部1−メチ
ル−2−ベンゾイルメチレ ン−β−ナフトチアゾリン   0.6重量部KBM−
603(信越化学社製シラ ンカップリング剤、N−β−(ア ミノエチル)−γ−アミノプロピ ルトリメトキシシラン)0.5重量部 メチルセロソルブアセテート150重量部トルエン  
          150重量部メチルセロソルブ 
       150重量部次に上記組成物を塗布した
アルミニウム板をヌアーク社製ET26V  UDNS
  ULTRΔ−PLUS  FLIP−TOP  P
LATEMAKERにより30カウント曝光した。この
ようにして得られたブライマ一層を塗設したアルミニウ
ム板は現像液あるいは感光層塗布用混合溶剤(メチルセ
ロソルブアセテート/トルエン/メチルセロソルブ=4
/3/2重量部比混合物)に浸漬しても溶解することは
無かった。上記ブライマ一層を塗設したアルミニウム板
上に下記感光性組成物を乾燥重量で0.25g/m’に
なるよう塗布し、乾燥した。
Photosensitive unsaturated polyester obtained by polycondensation of p-phenylene diacrylic acid ester and 1,4-dihydroxyethyloxycyclohexane at a 1=1 (molar ratio) 10 parts by weight 1-Methyl-2-benzoylmethylene-β-naphthothiazoline 0 .6 parts by weight KBM-
603 (silane coupling agent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane) 0.5 parts by weight Methyl cellosolve acetate 150 parts by weight Toluene
150 parts by weight methyl cellosolve
Next, the aluminum plate coated with 150 parts by weight of the above composition was coated with Nuark's ET26V UDNS.
ULTRΔ-PLUS FLIP-TOP P
It was exposed to light for 30 counts using LATEMAKER. The thus obtained aluminum plate coated with a single layer of brimmer is coated with a developer or a mixed solvent for coating the photosensitive layer (methyl cellosolve acetate/toluene/methyl cellosolve = 4
/3/2 weight part ratio mixture), there was no dissolution. The following photosensitive composition was coated on the aluminum plate coated with one layer of the above-mentioned brimer so as to have a dry weight of 0.25 g/m', and then dried.

p−フ二二レンジアクリル酸エステ ルと1.4−ジヒドロキシエチル オキシシクロヘキサンとの1=1 (モル比)重縮合による感光性下 飽和ポリエステル        10重量部1−メチ
ル−2−ベンゾイルメチレ ン−β−ナフトチアゾリン   0.6重量部スミトー
ンシアニンブルーV H514(住友化学社製フタロシ
アニンブ ルー顔料)           2重量部メチルセロ
ソルブアセテ−1−400重fliRトルエン    
        300重量部メチルセロソルブ   
     200重量部次に上記感光層上に下記シリコ
ーンゴム組成物を乾燥重量で2.0g/m″になるよう
に塗布し、乾燥しシリコーンゴム硬化層を得た。
Photosensitive lower saturated polyester obtained by polycondensation of p-phinidia diacrylic acid ester and 1,4-dihydroxyethyloxycyclohexane (1=1 (mole ratio)) 10 parts by weight 1-methyl-2-benzoylmethylene-β-naphtho Thiazoline 0.6 parts by weight Sumitone Cyanine Blue V H514 (phthalocyanine blue pigment manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 2 parts by weight Methyl cellosolve acetate-1-400 heavy fliR toluene
300 parts by weight methyl cellosolve
200 parts by weight Next, the following silicone rubber composition was coated on the photosensitive layer at a dry weight of 2.0 g/m'' and dried to obtain a cured silicone rubber layer.

信越シリコーンKS−709()ル エン30重量%溶液>      30.0重量部信越
シリコーン硬化用触媒CAT−PS  o、3重量部信
越シリコーン触媒CA’r−FD  1.5重量部アイ
ソパーG(エクソン化学株式 %式% 上記のようにして得られた湿し水不要平版印刷版上にポ
ジフィルムを密着させ、前記ヌアーク社製PLATBM
AKERにより30カウント露光したのち、下記現像液
組成物を現像パッドに含ませて約1分間擦ったところ、
未露光部分の感光層およびシリコーンゴム層が除去され
た。
Shin-Etsu Silicone KS-709 () 30% by weight solution of luene > 30.0 parts by weight Shin-Etsu silicone curing catalyst CAT-PS o, 3 parts by weight Shin-Etsu silicone catalyst CA'r-FD 1.5 parts by weight Isopar G (Exxon Chemical Co., Ltd.) % Formula % A positive film was brought into close contact with the dampening water-free lithographic printing plate obtained as above, and the PLATBM manufactured by Nuark Co., Ltd.
After 30 counts of exposure with AKER, the developer pad was soaked with the following developer composition and rubbed for about 1 minute.
The photosensitive layer and silicone rubber layer in the unexposed areas were removed.

酢酸イソブチル          50重量部ベンジ
ルアルコール        10重世iペレックスN
BL (花王アトラス社 製アニオン活性剤38%水溶液)94重量部水    
            50重量部この湿し水不要平
版印刷版を湿し水供給装置をはずした印刷機に取りつけ
て印刷を行ったところ、地汚れのないきれいな印刷物が
得られた。なお、本現像液に含まれる水の量は約53%
であった。
Isobutyl acetate 50 parts by weight Benzyl alcohol 10 times i Perex N
BL (38% aqueous solution of anion activator manufactured by Kao Atlas Co., Ltd.) 94 parts by weight water
50 parts by weight When this lithographic printing plate that did not require dampening water was attached to a printing machine with the dampening water supply device removed and printing was carried out, clean printed matter without background stains was obtained. The amount of water contained in this developer is approximately 53%.
Met.

実施例2 実施例1で作成した湿し水不要感光性平版印刷版にポジ
フィルムを密着させてアイグラフィックス社製アイロー
タリープリンターRP311を用いて300カウント露
光したのち、下記現像液組成物を現像パッドに含ませて
約1分間擦ったところ、未露光部分の感光層およびシリ
コーンゴム層が除去された。
Example 2 A positive film was brought into close contact with the photosensitive lithographic printing plate that did not require dampening water, prepared in Example 1, and exposed for 300 counts using an Eye Rotary Printer RP311 manufactured by Eye Graphics, followed by development with the following developer composition. When the pad was soaked with the powder and rubbed for about 1 minute, the photosensitive layer and silicone rubber layer in the unexposed areas were removed.

カプリル酸メチル         70重量部ベンジ
ルアルコール        20ffiilペレツク
スNBL (花王アトラス社 製アニオン活性剤38%水溶液)200重量部ノイゲン
ES−169(第−工業製 薬製 ノニオン活性剤)20重量部 水               100重量部この湿
し水不要平版印刷版を実施例1と同様にして印刷を行っ
たところ、地汚れのないきれいな印刷物が得られた。な
お本現像液に含まれる水の量は55重量%で本現像液の
引火点を吉田科学機械株式会社製クリーブランド開放式
引火点試験機で引火点を測定したところ91℃であった
Methyl caprylate 70 parts by weight Benzyl alcohol 20 parts by weight Perex NBL (38% aqueous solution of anionic activator manufactured by Kao Atlas Co., Ltd.) 200 parts by weight Neugen ES-169 (nonionic activator manufactured by Dai-Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) 20 parts by weight Water 100 parts by weight When printing was carried out using the water-free lithographic printing plate in the same manner as in Example 1, a clean printed matter without background stains was obtained. The amount of water contained in this developer was 55% by weight, and the flash point of the developer was measured using a Cleveland open flash point tester manufactured by Yoshida Scientific Machinery Co., Ltd., and found to be 91°C.

実施例3 実施例2と同様な方法で露光した湿し水不要感光性平版
印刷版を、下記現像液組成物を現像パッドに含ませて約
1分間擦ったところ、未露光部分の感光層およびシリコ
ーンゴム層が除去された。
Example 3 A photosensitive lithographic printing plate that did not require dampening water and had been exposed in the same manner as in Example 2 was rubbed for about 1 minute with the developer composition shown below impregnated on a developing pad. The silicone rubber layer was removed.

アイソパーG(エクソン化学株式会 社製)30重量部 安息香酸ベンジル         30重堡部n−オ
クチルアルコール      11重1部ペレックスN
BL (花王アトラス社 製了ニオン活性剤38%水溶液)100重量部この湿し
水不要平版印刷版を実施例1記載と同様な方法で印刷を
行ったところ地汚れのないきれいな印刷物が得られた。
Isopar G (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) 30 parts by weight Benzyl benzoate 30 parts by weight n-octyl alcohol 11 parts by weight 1 part Perex N
100 parts by weight of BL (38% aqueous solution of anionic activator manufactured by Kao Atlas Co., Ltd.) When this lithographic printing plate that did not require dampening water was printed in the same manner as described in Example 1, a clean printed matter with no scumming was obtained. .

なお、本現像液に含まれる水の量は36重量%である。Note that the amount of water contained in this developer was 36% by weight.

本現像液の引火点を実施例2記載と同様な方法で測定し
たところ51℃であり、同様の方法で測定したアイソパ
ーGの引火点44℃に比較し約7℃上昇させることが出
来た。
The flash point of this developer was measured in the same manner as described in Example 2 and found to be 51°C, which was an increase of approximately 7°C compared to the flash point of Isopar G, which was measured in the same manner as 44°C.

実施例4 実施例2と同様な方法で露光した湿し水不要感光性平版
印刷版を、下記現像液組成物を現像パッドに含ませて約
1分間擦ったところ、未露光部分のシリコーンゴム層が
除去された。この時未露光部分の感光層はほとんど溶解
することなく未露光部に残ったままであった。
Example 4 A photosensitive lithographic printing plate that did not require dampening water and had been exposed in the same manner as in Example 2 was rubbed with the following developer composition on a developing pad for about 1 minute, and the silicone rubber layer in the unexposed areas was rubbed. has been removed. At this time, the photosensitive layer in the unexposed areas remained in the unexposed areas without being substantially dissolved.

アイソパーG(エクソン化学株式会 社製)30重量部 ベンジルアルコール        30重lRn−オ
クチルアルコール      12重量部ペレックスN
BL (花王アトラス社 製アニオン活性剤38%水溶液)100重蛍部この湿し
水不要平版印刷版を実施例1と同様な方法で印刷を行っ
たところ地汚れのな)きれいな印刷物が得られた。なお
、本現像液に含まれる水の量は36重世%である。本現
像液の引火点は実施例2に記載と同様な方法で測定した
ところ48℃で、連続して燃焼することはなかった。
Isopar G (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) 30 parts by weight Benzyl alcohol 30 parts by weight Rn-octyl alcohol 12 parts by weight Perex N
BL (38% aqueous solution of anionic activator manufactured by Kao Atlas Co., Ltd.) 100 double fluorescent parts When this lithographic printing plate, which does not require dampening water, was printed in the same manner as in Example 1, a clean print with no background stains was obtained. . Note that the amount of water contained in this developer was 36% by weight. The flash point of this developer was 48° C. when measured in the same manner as described in Example 2, and no continuous combustion occurred.

実施例5 次の組成の現像液を用いたほかは、実施例4と同様の操
作を行った。
Example 5 The same operation as in Example 4 was performed except that a developer having the following composition was used.

エクソル0100(エクソン化学株 式会社製)30重量部 フタル酸ジメチル         25重量部オレイ
ルアルコール        、u重11tBペレック
スNBL (花王アトラス社 製アニオン界面活性剤38% 水溶液)100重量部 この湿し水不要平版印刷版を用いて実施例1と同様に印
刷を行ったところ、地汚れのないきれいな印刷物が得ら
れた。この現像液に含まれる水の量は32重量%である
。この現像液は引火点をもっていなかった。
Exol 0100 (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) 30 parts by weight Dimethyl phthalate 25 parts by weight Oleyl alcohol, u weight 11 tB Perex NBL (Kao Atlas Co., Ltd., anionic surfactant 38% aqueous solution) 100 parts by weight This lithographic printing plate that does not require dampening water When printing was carried out in the same manner as in Example 1, a clean printed matter without background stains was obtained. The amount of water contained in this developer was 32% by weight. This developer had no flash point.

実施例6〜8、比較例1および8 実施例2と同様な方法で露光した湿し水不要感光性平版
印刷版を、下表に示す現像液組成物を現像パッドに含ま
せて約1分間擦ったところ、実施例6〜8では、未露光
部分の感光層およびシリコーンゴム層が除去され、これ
を用いて実施例1記載の方法で印刷を行ったところ地汚
れのないきれいな印刷物が得られた。一方、比較例1で
は、未露光部分の感光層およびシリコーンゴム層が除去
されたが、現像中に、露光部分すなわち非画像部のシリ
コーンゴム層にスクラッチを生じた。これは、現像液中
の水の含有量が低いためである。また、比較例2では、
水の含有量が高すぎて、きれいには現像できなかった。
Examples 6 to 8, Comparative Examples 1 and 8 A dampening water-less photosensitive lithographic printing plate exposed in the same manner as in Example 2 was soaked in a developing pad with the developer composition shown in the table below for about 1 minute. When rubbed, in Examples 6 to 8, the photosensitive layer and silicone rubber layer in the unexposed areas were removed, and when this was used for printing by the method described in Example 1, clean prints without background smear were obtained. Ta. On the other hand, in Comparative Example 1, the photosensitive layer and the silicone rubber layer in the unexposed areas were removed, but scratches were generated in the silicone rubber layer in the exposed areas, that is, the non-image areas during development. This is because the content of water in the developer is low. In addition, in Comparative Example 2,
The water content was too high, so it was not possible to develop it properly.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の現像液は所定量の水を含んでいるため、現像時
に非画像部のシリコーンゴム層にスクラッチを生じるこ
とがない。また水を含まない従来の現像液あるいは水の
含有量の低い現像液より引火点が高く、また安全性も高
いため、自動現像機は防曝上の設計に関して有利となり
、安価なものですませることができる。
Since the developer of the present invention contains a predetermined amount of water, the silicone rubber layer in the non-image area is not scratched during development. In addition, automatic developing machines have a higher flash point and are safer than conventional developers that do not contain water or developers that have a low water content, so automatic developing machines are advantageous in terms of design for protection against exposure and can be inexpensive. I can do it.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 感光層を溶解あるいは膨潤させる有機溶剤、シリコーン
ゴム層を膨潤させる有機溶剤、界面活性剤および30重
量%以上の水よりなるシリコーンゴム上層型湿し水不要
感光性平版印刷版用現像液。
A developer for a silicone rubber-layered photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and comprises an organic solvent that dissolves or swells a photosensitive layer, an organic solvent that swells a silicone rubber layer, a surfactant, and 30% by weight or more of water.
JP27999585A 1984-12-12 1985-12-12 Developing solution for photosensitive lithographic printing plate without requiring damping water Pending JPS61275759A (en)

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JP59-262410 1984-12-12
JP26241084 1984-12-12

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