JPS61262521A - 輻射加熱装置 - Google Patents
輻射加熱装置Info
- Publication number
- JPS61262521A JPS61262521A JP10404985A JP10404985A JPS61262521A JP S61262521 A JPS61262521 A JP S61262521A JP 10404985 A JP10404985 A JP 10404985A JP 10404985 A JP10404985 A JP 10404985A JP S61262521 A JPS61262521 A JP S61262521A
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- Japan
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- temperature
- heat
- radiant
- heated
- plate
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は輻射熱により加熱する装置にかかり、例えば真
空容器内で被加熱物を均一に加熱するのに好適な、輻射
加熱装置に関するものである。
空容器内で被加熱物を均一に加熱するのに好適な、輻射
加熱装置に関するものである。
従来の輻射加熱装置においては、複数個の加熱ヒーター
をパネルに並べて配設して被加熱物を加熱するようにし
ている。したがってこの加熱ヒーターを配したパネルと
同程度の大きさの被加熱物を加熱する場合は、被加熱物
の両端の温度が中央部に比べて下がってしまうことにな
る。このような現象を防止するため、反射板を設け、そ
れにより被加熱物の加熱が均一に行われるようにしてい
る。
をパネルに並べて配設して被加熱物を加熱するようにし
ている。したがってこの加熱ヒーターを配したパネルと
同程度の大きさの被加熱物を加熱する場合は、被加熱物
の両端の温度が中央部に比べて下がってしまうことにな
る。このような現象を防止するため、反射板を設け、そ
れにより被加熱物の加熱が均一に行われるようにしてい
る。
上記のような反射板を用いる輻射加熱装置においては、
ヒーターの出力や被加熱物の大きさが変化した場合には
、反射板やヒーターの配置を変えることにより加熱の均
一化を行わなければならないという不便がある。
ヒーターの出力や被加熱物の大きさが変化した場合には
、反射板やヒーターの配置を変えることにより加熱の均
一化を行わなければならないという不便がある。
本発明は上記の点に鑑み、被加熱物等の変化によっても
簡単に加熱の均一化が図れる輻射加熱装置を提供しよう
とするものである。
簡単に加熱の均一化が図れる輻射加熱装置を提供しよう
とするものである。
本発明によれば、上記の問題点は、熱的に分割された複
数個の均熱板を、同じく複数個に分割された輻射熱源と
被加熱物との間に介在するよう一列状に並べて配置し、
これら均熱板を各均熱板の温度を検出するそれぞれの温
度検出手段を介して前記複数個の輻射熱源にそれぞれ接
続し、前記各均熱板の設定温度をそれぞれ独立して制御
するようにした輻射加熱装置によって、解決されるもの
である。
数個の均熱板を、同じく複数個に分割された輻射熱源と
被加熱物との間に介在するよう一列状に並べて配置し、
これら均熱板を各均熱板の温度を検出するそれぞれの温
度検出手段を介して前記複数個の輻射熱源にそれぞれ接
続し、前記各均熱板の設定温度をそれぞれ独立して制御
するようにした輻射加熱装置によって、解決されるもの
である。
本発明の実施例について図面を参照して以下に説明する
。
。
第1図は本発明の第1の実施例を示し、同図において、
1,2,3は3つの部分に分割された輻射ヒーターであ
り、これらの輻射ヒーターは多数のランプ10を並べて
配置することにより構成されている。11は前記の分割
された輻射ヒーター1.2,3の数に対応して3つの部
分12 、13 、14に分割された均熱板であって、
これら3つの均熱板12,13,14は、輻射ヒーター
1,2,3に平行に一列に並べて配置され、かつこれら
輻射ヒーター1,2,3と被加熱物17との間に介在す
るように設置されている。各均熱板12 、13 、1
4は銅板15からなるもので、銅板15の外面には赤外
線吸収皮膜16を塗布し、射出率を向上させ低い温度で
も輻射エネルギーの放射、吸収を効率良く行うようにし
ている。この赤外線吸収皮膜16は赤外線吸収セラミッ
クで、被膜の厚さは35〜85μである。また銅板15
の厚さは5寵とする。なお被加熱物17は本実施例では
板状のガラスである。
1,2,3は3つの部分に分割された輻射ヒーターであ
り、これらの輻射ヒーターは多数のランプ10を並べて
配置することにより構成されている。11は前記の分割
された輻射ヒーター1.2,3の数に対応して3つの部
分12 、13 、14に分割された均熱板であって、
これら3つの均熱板12,13,14は、輻射ヒーター
1,2,3に平行に一列に並べて配置され、かつこれら
輻射ヒーター1,2,3と被加熱物17との間に介在す
るように設置されている。各均熱板12 、13 、1
4は銅板15からなるもので、銅板15の外面には赤外
線吸収皮膜16を塗布し、射出率を向上させ低い温度で
も輻射エネルギーの放射、吸収を効率良く行うようにし
ている。この赤外線吸収皮膜16は赤外線吸収セラミッ
クで、被膜の厚さは35〜85μである。また銅板15
の厚さは5寵とする。なお被加熱物17は本実施例では
板状のガラスである。
輻射ヒーター1には温調器4が接続され、温調器4は均
熱板12に取付けた熱電対7に接続し、この熱電対7に
よって測定された均熱板12の温度が一様の設定温度と
なるように、温調器4によって、輻射ヒーター1の出力
が調整されるようになっている。
熱板12に取付けた熱電対7に接続し、この熱電対7に
よって測定された均熱板12の温度が一様の設定温度と
なるように、温調器4によって、輻射ヒーター1の出力
が調整されるようになっている。
同様に、均熱板13には熱電対8が取付けられこれが温
調器5を介して輻射ヒーター2に接続され、また均熱板
14には熱電対9が取付けられこれが温調器6を介して
輻射ヒーター3に接続され、各均熱板13 、14の温
度が同一の均熱板ではそれぞれが一様の設定温度となる
よう、輻射ヒーター2゜3の出力を制御するようになっ
ている。
調器5を介して輻射ヒーター2に接続され、また均熱板
14には熱電対9が取付けられこれが温調器6を介して
輻射ヒーター3に接続され、各均熱板13 、14の温
度が同一の均熱板ではそれぞれが一様の設定温度となる
よう、輻射ヒーター2゜3の出力を制御するようになっ
ている。
そして、第1図から明らかなように、輻射ヒーター1、
温調器4、熱電対7、均熱板12によって1つの輻射加
熱ユニットを形成する。同様に、輻射ヒーター2、温調
器5、熱電対8、均熱板13により他の1つの輻射加熱
ユニットを、また輻射ヒーター3、温調器6、熱電対9
、均熱板14により、さらにもう1つの輻射加熱ユニッ
トを形成し、これら各ユニットはそれぞれが独立して温
度制御がなされるようになっている。
温調器4、熱電対7、均熱板12によって1つの輻射加
熱ユニットを形成する。同様に、輻射ヒーター2、温調
器5、熱電対8、均熱板13により他の1つの輻射加熱
ユニットを、また輻射ヒーター3、温調器6、熱電対9
、均熱板14により、さらにもう1つの輻射加熱ユニッ
トを形成し、これら各ユニットはそれぞれが独立して温
度制御がなされるようになっている。
第1図に示す均熱板11は、輻射ヒーター1゜2.3自
身の持つ輻射エネルギー分布のむら、及び発熱部と発熱
体のない部分とが存在することにより生ずる輻射エネル
ギー分布のむらを、この均熱板の熱伝導効果により緩和
する役目をする。
身の持つ輻射エネルギー分布のむら、及び発熱部と発熱
体のない部分とが存在することにより生ずる輻射エネル
ギー分布のむらを、この均熱板の熱伝導効果により緩和
する役目をする。
この均熱板の作用の一例を第2図及び第3図に示す。第
2図は輻射ヒーター1,2,3、均熱板ll、被加熱物
17の配置状態を示し、第3図は、第2図の配置におい
て、被加熱物17(ガラス)の温度分布に及ぼす均熱板
11の有無の影響を示している。第3図の横軸のガラス
位置は第2図に示すガラス位置−1〜θ〜1に対応する
ものである。
2図は輻射ヒーター1,2,3、均熱板ll、被加熱物
17の配置状態を示し、第3図は、第2図の配置におい
て、被加熱物17(ガラス)の温度分布に及ぼす均熱板
11の有無の影響を示している。第3図の横軸のガラス
位置は第2図に示すガラス位置−1〜θ〜1に対応する
ものである。
第3図から明らかなように、均熱板がない場合にはガラ
スの部位に応じて50℃程度の温度分布の差が生じるが
、均熱板を介在させることによりこの温度分布の差が1
4℃程度にまで減少し、均熱板が均一加熱に有効である
ことが2分かる。
スの部位に応じて50℃程度の温度分布の差が生じるが
、均熱板を介在させることによりこの温度分布の差が1
4℃程度にまで減少し、均熱板が均一加熱に有効である
ことが2分かる。
ところで本実施例においては、第1図に示すように、各
輻射加熱ユニットは独立して各均熱板12゜13 、1
4の温度を制御する機能を持ち、各熱電対7゜8.9に
より測定された均熱板12 、13 、14の温度が各
設定温度になるよう、各輻射加熱ユニットへの供給電力
を調整する。ここで温調器4,5,6の各設定温度は、
被加熱物17の温度が均一かつ目標温度になるように設
定される。
輻射加熱ユニットは独立して各均熱板12゜13 、1
4の温度を制御する機能を持ち、各熱電対7゜8.9に
より測定された均熱板12 、13 、14の温度が各
設定温度になるよう、各輻射加熱ユニットへの供給電力
を調整する。ここで温調器4,5,6の各設定温度は、
被加熱物17の温度が均一かつ目標温度になるように設
定される。
いま、かりに均熱板11全体を一定の温度に制御したと
すると、被加熱物17の両端部は中央部に比べて、均熱
板11から受は取る輻射エネルギーが減少する(不均一
加熱)ため、温度が下がる。
すると、被加熱物17の両端部は中央部に比べて、均熱
板11から受は取る輻射エネルギーが減少する(不均一
加熱)ため、温度が下がる。
これを補うためには、両端の均熱板12,14の温度を
上げ被加熱物17の各点に到達する輻射エネルギーが均
一になる(均一加熱)ように制御することが必要となる
。つまり、温調器4,5.6の制御する設定温度は、被
加熱物17の各点に到達するエネルギーが均一になるよ
うに(均一加熱)設定される。
上げ被加熱物17の各点に到達する輻射エネルギーが均
一になる(均一加熱)ように制御することが必要となる
。つまり、温調器4,5.6の制御する設定温度は、被
加熱物17の各点に到達するエネルギーが均一になるよ
うに(均一加熱)設定される。
この温度制御の効果を第4図、第5図に示す。
第4図は輻射ヒーター1,2,3、均熱板12゜13
、14及び被加熱物17の配置状態を示し、第5図は被
加熱物が均熱板から受ける輻射エネルギー分布を表わし
ている。また第5図の横軸の中心からの距離は、第4図
に示した中心から距離O〜1に対応している。さらに第
5図の上方部分は均熱板の輻射エネルギー分布を、下方
部分は被加熱物17の各点に到達する輻射エネルギー分
布を表わすものである。第5図中点線は両端の均熱板1
2゜14の輻射エネルギーを中央の均熱板13のそれに
等しくした場合の被加熱物17の受けるエネルギー分布
を示し、同じく実線は均熱板12 、14の輻射エネル
ギーを均熱板13の1.3倍にした場合のエネルギー分
布を示す。これら両者の場合の被加熱物(ガラス)17
の受けるエネルギー分布を比較すると、点線で見られる
ガラス17端部(中心からの距離0.7〜0.8)での
輻射エネルギーの落ち込みが、実線では見られなくなり
、各均熱板の独立制御が被加熱物の均一加熱に有効であ
ることが分かる。
、14及び被加熱物17の配置状態を示し、第5図は被
加熱物が均熱板から受ける輻射エネルギー分布を表わし
ている。また第5図の横軸の中心からの距離は、第4図
に示した中心から距離O〜1に対応している。さらに第
5図の上方部分は均熱板の輻射エネルギー分布を、下方
部分は被加熱物17の各点に到達する輻射エネルギー分
布を表わすものである。第5図中点線は両端の均熱板1
2゜14の輻射エネルギーを中央の均熱板13のそれに
等しくした場合の被加熱物17の受けるエネルギー分布
を示し、同じく実線は均熱板12 、14の輻射エネル
ギーを均熱板13の1.3倍にした場合のエネルギー分
布を示す。これら両者の場合の被加熱物(ガラス)17
の受けるエネルギー分布を比較すると、点線で見られる
ガラス17端部(中心からの距離0.7〜0.8)での
輻射エネルギーの落ち込みが、実線では見られなくなり
、各均熱板の独立制御が被加熱物の均一加熱に有効であ
ることが分かる。
本実施例装置は、対流や伝導によらず輻射のみにより被
加熱物を加熱するのに有効であり、したがって真空容器
内での加熱装置に適している。また入射する輻射エネル
ギー分布によって温度分布が決まってしまうような熱伝
導率の悪い材料、例えばガラス等を均一に加熱するのに
有効である。
加熱物を加熱するのに有効であり、したがって真空容器
内での加熱装置に適している。また入射する輻射エネル
ギー分布によって温度分布が決まってしまうような熱伝
導率の悪い材料、例えばガラス等を均一に加熱するのに
有効である。
第6図に本発明の第2の実施例を示す。
本実施例は均熱板及び輻射ヒーターをそれぞれ5つに分
割しているものである。
割しているものである。
輻射加熱源20は5つの分割された輻射ヒーター21,
22,23,24,25からなり、均熱板30もこれに
対応して5つの分割された均熱板31 、32.、33
。
22,23,24,25からなり、均熱板30もこれに
対応して5つの分割された均熱板31 、32.、33
。
34 、35から成り、この均熱板30が輻射加熱源2
0と被加熱物40との間に介在している。各輻射ヒータ
ーと各均熱板とは、それぞれ、温調器51゜52 、5
3 、54 、55及び熱電対61 、62 、63
、64 、65を介して接続されている。
0と被加熱物40との間に介在している。各輻射ヒータ
ーと各均熱板とは、それぞれ、温調器51゜52 、5
3 、54 、55及び熱電対61 、62 、63
、64 、65を介して接続されている。
また本実施例では、各均熱板間は第1実施例のように分
離することなく、熱伝導の低い材料、例えばステンレス
71 、72 、73 、74により均熱板30全体が
一体となるように構成され、しかも各均熱板間は熱的に
分割された構造となっている。
離することなく、熱伝導の低い材料、例えばステンレス
71 、72 、73 、74により均熱板30全体が
一体となるように構成され、しかも各均熱板間は熱的に
分割された構造となっている。
その作用については第1実施例の作用と同じであるので
その説明は省略する。
その説明は省略する。
本発明は以上のような構成を有するものであるから、分
割された複数個の均熱板の温度が同じく分割された複数
の輻射加熱源により独立して制御され、この均熱板によ
り被加熱物を均一に加熱することが可能となる。そのた
め均熱板と被加熱物との距離、被加熱物の面積等が変化
しても設定温度を変えるという簡単な操作のみでこれに
対応することができる。
割された複数個の均熱板の温度が同じく分割された複数
の輻射加熱源により独立して制御され、この均熱板によ
り被加熱物を均一に加熱することが可能となる。そのた
め均熱板と被加熱物との距離、被加熱物の面積等が変化
しても設定温度を変えるという簡単な操作のみでこれに
対応することができる。
第1図は本発明の第1実施例の構成図、第2図は輻射加
熱源、均熱板、及び被加熱物の配置関係を示す説明図、
第3図は第2図の配置による均熱板の効果を示すグラフ
、第4図は第1図における輻射加熱源、均熱板及び被加
熱物の配置関係を略図的に示す説明図、第5図は第4図
の配置による均熱板の温度制御の効果を示すグラフ、第
6図は本発明の第2実施例の構成図である。 1.2,3・・・輻射ヒーター、 4.5,6・・・温調器、 7,8,9・・・熱電対、
11・・・全均熱板、 12 、13 、14・・
・均熱板、15・・・銅板、 16・・・赤外
線吸収材、17・・・被加熱物、 2′0・・・
輻射ヒーター、30・・・全均熱板、 40・・・
被加熱物、51 、52 、53 、54 、55・・
・温調器、61 、62 、63 、64 、65・・
・熱電対、71 、72 、73 、74・・・ステン
レス。
熱源、均熱板、及び被加熱物の配置関係を示す説明図、
第3図は第2図の配置による均熱板の効果を示すグラフ
、第4図は第1図における輻射加熱源、均熱板及び被加
熱物の配置関係を略図的に示す説明図、第5図は第4図
の配置による均熱板の温度制御の効果を示すグラフ、第
6図は本発明の第2実施例の構成図である。 1.2,3・・・輻射ヒーター、 4.5,6・・・温調器、 7,8,9・・・熱電対、
11・・・全均熱板、 12 、13 、14・・
・均熱板、15・・・銅板、 16・・・赤外
線吸収材、17・・・被加熱物、 2′0・・・
輻射ヒーター、30・・・全均熱板、 40・・・
被加熱物、51 、52 、53 、54 、55・・
・温調器、61 、62 、63 、64 、65・・
・熱電対、71 、72 、73 、74・・・ステン
レス。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、熱的に複数個に分割された均熱板を、複数個に分割
された輻射熱源と被加熱物との間に介在するよう一列状
に配置し、前記各均熱板をその温度を検出するそれぞれ
の温度検出手段を介して前記各輻射熱源に接続し、前記
各均熱板の設定温度をそれぞれ独立して制御するように
したことを特徴とする輻射加熱装置。 2、前記均熱板は赤外線吸収材によって被覆されている
特許請求の範囲第1項記載の輻射加熱装置。 3、前記各均熱板相互間を低熱伝導性材料により接続し
て一体構造の均熱板となした特許請求の範囲第1項又は
第2項記載の輻射加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10404985A JPS61262521A (ja) | 1985-05-17 | 1985-05-17 | 輻射加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10404985A JPS61262521A (ja) | 1985-05-17 | 1985-05-17 | 輻射加熱装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61262521A true JPS61262521A (ja) | 1986-11-20 |
Family
ID=14370356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10404985A Pending JPS61262521A (ja) | 1985-05-17 | 1985-05-17 | 輻射加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61262521A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6470146A (en) * | 1987-06-24 | 1989-03-15 | Toyota Motor Corp | Catalyst for purifying exhaust gas |
-
1985
- 1985-05-17 JP JP10404985A patent/JPS61262521A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6470146A (en) * | 1987-06-24 | 1989-03-15 | Toyota Motor Corp | Catalyst for purifying exhaust gas |
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