JPS6126181B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6126181B2
JPS6126181B2 JP13508777A JP13508777A JPS6126181B2 JP S6126181 B2 JPS6126181 B2 JP S6126181B2 JP 13508777 A JP13508777 A JP 13508777A JP 13508777 A JP13508777 A JP 13508777A JP S6126181 B2 JPS6126181 B2 JP S6126181B2
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JP
Japan
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electron
electrode
grid
horizontal
deflection
Prior art date
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Application number
JP13508777A
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Japanese (ja)
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JPS5468158A (en
Inventor
Tsunenari Saito
Akio Oogoshi
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPS5468158A publication Critical patent/JPS5468158A/en
Publication of JPS6126181B2 publication Critical patent/JPS6126181B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はカラーテレビジヨン受像管等に適用し
て好適な陰極線管装置に係わる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a cathode ray tube device suitable for application to color television picture tubes and the like.

テレビジヨン受像管において、その画像の鮮鋭
度を改善させるに、受像管の螢光面上における走
査線方向例えば水平方向の電子ビームの走査速度
を変調して螢光面の実質的発光量を変調すること
が行なわれる。このようにビームの走査速度を変
調させるにはその変調信号によつて電子ビームを
例えば水平走査方向に偏向させて実質的にビーム
の走査速度の変調を行なう。
In a television picture tube, in order to improve the sharpness of the image, the scanning speed of the electron beam in the scanning line direction, for example, the horizontal direction, on the fluorescent surface of the picture tube is modulated to modulate the substantial amount of light emitted from the fluorescent surface. What is done is done. In order to modulate the beam scanning speed in this manner, the electron beam is deflected, for example, in the horizontal scanning direction by the modulation signal, thereby substantially modulating the beam scanning speed.

本発明は、このようにビームの走査速度の変調
を行ない得るようにした陰極線管装置特に例えば
赤、緑及び青に対応する3本すなわち複数の電子
ビームを走査線方向にインラインとして、即ち、
例えばその水平走査方向の一直線上に配列してな
る陰極線管に適用してビームの走査速度の変調す
なわち電子ビームの偏向を確実に行なうことがで
きるようにした陰極線管装置を提供せんとするも
のである。
The present invention provides a cathode ray tube device capable of modulating the scanning speed of the beam as described above, in particular, in which three or more electron beams corresponding to red, green, and blue are set in-line in the scanning line direction, that is,
For example, it is an object of the present invention to provide a cathode ray tube device that can be applied to cathode ray tubes arranged in a straight line in the horizontal scanning direction to reliably modulate the scanning speed of the beam, that is, deflect the electron beam. be.

第1図は赤、緑及び青に対応する3本の電子ビ
ーム1R,1G及び1Bがインラインに配列され
た従来の陰極線管装置の電子銃の電極構造の一例
を示すもので、この場合夫々の電子ビーム1R,
1G及び1Bに関して夫々独立の電極が配列され
て3本の電子銃構体GR,GG,GBが構成され、
これらが水平線上に配列されて構成された場合で
ある。各電子銃構体GR,GG及びGBは夫々カソ
ードK、第1グリツドG1、第2グリツドG2、第
3グリツドG3、第4グリツドG4が順次配列され
てなり、電子銃GGを中心に一水平面内において
その両側に対称的にGR及びGBが配列されてな
る。そして、各電子銃GR,GG及びGBにおい
て、第3グリツドG3及び第4グリツドG4によつ
てバイポテンシヤルの主電子レンズが構成される
ようにされている。
Figure 1 shows an example of the electrode structure of an electron gun of a conventional cathode ray tube device in which three electron beams 1R, 1G, and 1B corresponding to red, green, and blue are arranged in-line. electron beam 1R,
Three electron gun structures G R , G G , G B are constructed by arranging independent electrodes for 1G and 1B, respectively;
This is a case where these are arranged on a horizontal line. Each of the electron gun structures G R , G G and G B has a cathode K, a first grid G 1 , a second grid G 2 , a third grid G 3 and a fourth grid G 4 arranged in this order, and the electron gun G G R and G B are arranged symmetrically on both sides of G in a horizontal plane. In each of the electron guns G R , G G , and G B , a bipotential main electron lens is configured by the third grid G 3 and the fourth grid G 4 .

本発明は、このように複数の電子ビームがイン
ラインに配列された電子銃を有する陰極線管装置
において、簡単な構造によつて各電子ビーム1
R,1G及び1Bに関して、夫々その配列方向、
即ち、例えば水平方向に関しての偏向を行なつて
ビーム走査速度の変調を行ない得るようになす。
The present invention provides a cathode ray tube device having an electron gun in which a plurality of electron beams are arranged in-line.
Regarding R, 1G and 1B, the arrangement direction, respectively,
That is, for example, by performing deflection in the horizontal direction, the beam scanning speed can be modulated.

第2図を参照して本発明の一例を詳細に説明す
るに、この例においても、3本の例えば赤、緑及
び青に対応する電子ビーム1R,1G及び1Bが
水平方向に沿う一直線上すなわちインラインに配
列されて得られるようにしたもので、第2図にお
いて第1図と対応する部分には同一符号を付して
重複説明を省略する。本発明においては、各電子
ビーム1R,1G及び1Bに対して、夫々その電
子レンズを形成する第3及び第4グリツドG3
びG4を共通の電極によつて構成する。そして、
特にその電子レンズ作用の効果のない部分におい
てすなわち第3グリツドG3の第4グリツドG4
りある程度離間した位置において、これを電子銃
の軸心方向すなわち中心の電子ビーム1Gを得る
電子銃GGの軸心Oに関して2部分に分割した部
分G3a及びG3bより構成する。第3図はこの第3
グリツドG3の斜視図で、第3グリツドG3は、各
電子銃GR,GG及びGBの夫々の第2グリツドG2
と共通に対向する端面板2aとこれより軸心方向
に延長した各ビーム1R,1G及び1Bを共通に
通ずる例えば扁平筒状部3aとを一体に有する形
式となし得る。また、他方の電極部G3bも電極部
3aと対向する側とは反対側に閉塞端面板3aを
有しこれより軸心Oに沿つて各電子ビーム1R,
1G及び1Bを共通に通じ得る扁平筒状部3bを
有してなる。そして、両電極部G3a及びG3bの各
筒状部3a及び3bの互いに対向する端面4a及
び4bは、軸心Oと斜めに交わり電子ビーム1
R,1G及び1Bの配列面すなわち水平面と直交
する傾斜端面となす。又、両電極部G3a及びG3b
の各端面4a及び4bは、各部一様の間隔を保持
して対向するようになされる。又一方の電極部G
3aの閉塞端面板2aには、夫々の電子ビーム1
R,1G及び1Bを通ずる透孔h3R,h3G,h3
,が穿設され、他方の電極部G3bの端面板3a
には絞り出し等によつて筒状部3b内に突出し電
子ビーム1R,1G及び1Bを夫々通ずる円筒部
5R,5G及び5Bを有してなる。これら各円筒
部5R,5G及び5Bは、夫々その軸長をその直
径φと同等或いはこれより大に選定し得る。
An example of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 2. In this example as well, three electron beams 1R, 1G, and 1B corresponding to red, green, and blue are aligned in a straight line along the horizontal direction, i.e. The parts in FIG. 2 that correspond to those in FIG. 1 are given the same reference numerals, and redundant explanation will be omitted. In the present invention, the third and fourth grids G3 and G4 forming electron lenses for each of the electron beams 1R, 1G and 1B are formed by a common electrode. and,
Particularly in the part where the electron lens action is not effective, that is, at a position a certain distance from the fourth grid G4 of the third grid G3 , this electron gun is connected in the axial direction of the electron gun, that is, to obtain the central electron beam 1G. It is composed of two parts G 3a and G 3b , which are divided into two parts with respect to the axis O. Figure 3 shows this third
In the perspective view of the grid G3 , the third grid G3 is connected to the second grid G2 of each electron gun G R , G G and G B .
The end plate 2a may be integrally formed with a flat cylindrical portion 3a, which commonly communicates with the beams 1R, 1G, and 1B extending from the end plate 2a in the axial direction. The other electrode portion G 3b also has a closed end plate 3a on the opposite side to the side facing the electrode portion G 3a , and each electron beam 1R,
It has a flat cylindrical portion 3b that can commonly communicate with 1G and 1B. The mutually opposing end surfaces 4a and 4b of the respective cylindrical portions 3a and 3b of both electrode portions G3a and G3b obliquely intersect with the axis O, and the electron beam 1
It is an inclined end face perpendicular to the arrangement plane of R, 1G and 1B, that is, the horizontal plane. Also, both electrode parts G 3a and G 3b
The respective end surfaces 4a and 4b are opposed to each other with uniform intervals maintained between each part. Also, one electrode part G
Each electron beam 1 is connected to the closed end plate 2a of 3a .
Through holes passing through R, 1G and 1B h 3R , h 3G , h 3
B , is perforated, and the end plate 3a of the other electrode part G3b
It has cylindrical portions 5R, 5G, and 5B that protrude into the cylindrical portion 3b by squeezing or the like and through which electron beams 1R, 1G, and 1B pass, respectively. The axial length of each of these cylindrical parts 5R, 5G, and 5B can be selected to be equal to or larger than the diameter φ.

一方、各電子ビームに対して例えば共通に設け
られる第4グリツドG4は、各電子ビーム1R,
1G及び1Bを共通に通ずる例えば扁平筒状部6
aと、その第3グリツドG3に対向する側の端部
にこれと一体に設けられた閉塞端面板6bと、こ
れとは反対側に溶接等によつて機械的に取付けら
れた端面板6cとを有してなる。端面板6bに
は、夫々絞り出しによつて第3グリツドG3の電
極部h3bの各円筒部5R,5G,5Bに対応して
これとほぼ同軸線上に同様に絞り出しによつて筒
状部6a内に突出する筒状部7R,7G及び7B
が設けられてなる。又、他方の端面板6cには
夫々電子ビーム1R,1G及び1Bを通ずる透孔
4R,h4G,h4Bが穿設される。
On the other hand, the fourth grid G4 , which is provided in common for each electron beam, for example, is connected to each electron beam 1R,
For example, a flat cylindrical portion 6 that commonly connects 1G and 1B.
a, a closed end plate 6b integrally provided at the end opposite to the third grid G3 , and an end plate 6c mechanically attached to the opposite side by welding or the like. It has the following. The end plate 6b is provided with a cylindrical portion 6a, which is formed on the same axis by squeezing, corresponding to each cylindrical portion 5R, 5G , 5B of the electrode portion h3b of the third grid G3. Cylindrical portions 7R, 7G and 7B protruding inward
will be established. Further, the other end plate 6c is provided with through holes h 4R , h 4G, and h 4B through which the electron beams 1R, 1G , and 1B pass, respectively.

第3グリツドG3の両電極部G3a及びG3bには、
直流的には同一電圧の例えば4〜5kVの低電圧が
与えられ、第4グリツドG4に陽極電圧すなわち
高圧の20〜25kV程度が与えられて電極G3及びG4
によつてバイポテンシヤルの主電子レンズが形成
されるようになされる。そして、第3のグリツド
G3の両電極部G3a及びG3b間には、例えば電子ビ
ームの走査速度変調信号を与える。
Both electrode portions G 3a and G 3b of the third grid G 3 include
In terms of direct current, the same voltage, for example, a low voltage of 4 to 5 kV, is applied to the fourth grid G4 , and an anode voltage, that is, a high voltage of about 20 to 25 kV, is applied to the electrodes G3 and G4.
A bipotential main electron lens is formed by . And the third grid
For example, a scanning speed modulation signal of an electron beam is applied between both electrode portions G 3a and G 3b of G 3 .

このような構成とするとき前述したように、第
3グリツドG3と第4グリツドG4によつて夫々の
電子ビーム1R,1G及び1Bに関して電子レン
ズ作用が生ずるが、第3グリツドG3の電極部G3b
の筒状部5R,5G及び5Bの長さをその直径と
ほぼ同等或いはこれより大に選定するときは、第
4グリツドG4からの高圧の浸透が殆んどこれら
筒状部5R,5G及び5B内においてのみ生じこ
れよりカソード側すなわち両電極部G3a及びG3b
の端面4a及び4b間においては第4グリツド
G4の高圧の浸透が殆んどなく電子レンズ作用の
効果は生じていないので、この両端面板4a及び
4b間には両電極部G3a及びG3b間に印加された
信号電圧に応じた静電界のみが生ずる。そして、
これら電極部G3a及びG3bの各対向端面4a及び
4bは各電子ビーム1R,1G及び1Bの配列方
向すなわち走査方向の配列面に対して直交し且つ
軸心Oと斜めに交わるように選定されているため
に、両端面4a及び4b間に生ずる静電界は各電
子ビームの走査方向すなわち水平方向に関する成
分の静電界が形成されることにより、これによつ
て各ビーム1R,1G及び1Bは水平方向の偏向
を受ける。言い換えれば、両電極部G3a及びG3b
間に印加される変調信号例えば走査速度変調信号
に応じて各ビーム1R,1G及び1Bは水平走査
方向に偏向を受けて図示しないが各ビームの水平
偏向手段による偏向と共にこれに重畳して偏向さ
れるので、結果的に螢光面上における走査速度が
変調される。すなわち走査速度変調が行なわれ
る。
When such a configuration is adopted, as described above, the third grid G 3 and the fourth grid G 4 produce an electron lens effect on the respective electron beams 1R, 1G, and 1B, but the electrodes of the third grid G 3 Part G 3b
When the lengths of the cylindrical parts 5R, 5G, and 5B are selected to be approximately equal to or larger than the diameter, most of the high pressure permeation from the fourth grid G4 occurs in these cylindrical parts 5R, 5G, and 5B. 5B only on the cathode side, that is, both electrode parts G 3a and G 3b
Between the end faces 4a and 4b of the fourth grid
Since there is almost no penetration of the high voltage of G 4 and no effect of electron lens action occurs, static electricity is generated between both end plates 4a and 4b according to the signal voltage applied between both electrode parts G 3a and G 3b . Only an electric field is generated. and,
The opposing end surfaces 4a and 4b of these electrode portions G3a and G3b are selected so as to be perpendicular to the arrangement plane of the electron beams 1R, 1G and 1B in the arrangement direction, that is, the scanning direction, and to intersect obliquely with the axis O. Therefore, the electrostatic field generated between the end surfaces 4a and 4b has a component related to the scanning direction of each electron beam, that is, the horizontal direction, so that each beam 1R, 1G, and 1B is horizontally subject to directional deflection. In other words, both electrode portions G 3a and G 3b
Each of the beams 1R, 1G, and 1B is deflected in the horizontal scanning direction in accordance with a modulation signal applied between them, such as a scanning speed modulation signal, and is deflected in a superimposed manner along with the deflection by the horizontal deflection means of each beam (not shown). As a result, the scanning speed on the fluorescent surface is modulated. That is, scanning speed modulation is performed.

尚第2図及び第3図に説明した例においては、
両電極部G3a及びG3bの対向端面4a及び4bが
水平面と直交し軸Oと斜めに交わる一平面をなす
端面とした場合であるが、第4図に示すように各
端面4a及び4bをジグザグパターンとなして各
ビームに1R,1G及び1Bの通過部分において
水平方向の偏向電界が生ずるようになすときは、
各ビームの通過部分における軸心との交わり角θ
を十分小とすることができ水平方向の偏向電界を
十分大にすることができる。
In the example illustrated in FIGS. 2 and 3,
In this case, the opposing end surfaces 4a and 4b of both electrode portions G3a and G3b form a plane that is orthogonal to the horizontal plane and diagonally intersects with the axis O.As shown in FIG. When forming a zigzag pattern so that a horizontal deflection electric field is generated in each beam at the passing portions of 1R, 1G and 1B,
Intersection angle θ with the axis of each beam passing part
can be made sufficiently small, and the horizontal deflection electric field can be made sufficiently large.

あるいは第5図に示すように、各電子ビーム1
R,1G及び1Bの通過部分において端面板4a
及び4bが電子ビームの進行方向を挾んで対向す
るようになして更に水平方向の変調偏向電界が強
くなるようにすることもできる。
Alternatively, as shown in FIG.
End plate 4a at the passing portion of R, 1G and 1B
It is also possible to make the modulation deflection electric field in the horizontal direction even stronger by making the electron beams 4b and 4b face each other across the traveling direction of the electron beam.

又、第2図ないし第5図に示した例においては
静電変調電界を両電極部G3a及びG3bの対向端面
自体によつて形成するようにした場合であるが、
例えば、第6図に示すように一方の電極部G3a
他方の電極部G3b内に突出する筒状もしくは各ビ
ーム1R,1G及び1Bを挾んで対向するすなわ
ち水平面に沿つて延長する突出平行平板9a1及び
a2を形成し、その先端部を水平面と直交し、軸
心Oと斜めに交わる傾斜面を有するようになし
て、この平板9a1及び9a2の端面と電極部G3b
筒状部3bとの間に生じる静電偏向電界によつて
水平走査方向の偏向電界を形成するようになすこ
ともできる。又この突出板部9a1及び9a2は、第
7図に示すように第4図あるいは第5図に説明し
たと同様のジグザグパターンとすることもでき
る。
Furthermore, in the examples shown in FIGS. 2 to 5, the electrostatic modulation electric field is formed by the opposing end surfaces of the electrode portions G 3a and G 3b themselves.
For example, as shown in FIG. 6, one electrode portion G 3a has a cylindrical shape protruding into the other electrode portion G 3b , or a parallel protrusion extending along a horizontal plane faces the beams 1R, 1G, and 1B across them. Flat plates 9 a1 and 9 a2 are formed, and their tips are perpendicular to the horizontal plane and have inclined surfaces that intersect obliquely with the axis O, so that the end faces of the flat plates 9 a1 and 9 a2 and the electrode part G 3 b It is also possible to form a deflection electric field in the horizontal scanning direction by an electrostatic deflection electric field generated between the cylindrical portion 3b and the cylindrical portion 3b. Further, the protruding plate portions 9 a1 and 9 a2 may have a zigzag pattern similar to that illustrated in FIG. 4 or 5, as shown in FIG. 7.

又、第8図は本発明装置の他の例を示すもの
で、この例においては一方の電極部G3aから他方
の電極部G3bに突出し各電子ビーム1R,1G及
び1Bに夫々対応し、各ビーム通路の一側に対向
するようにビームの走査線方向とほぼ垂直をな
し、ビームの通路に沿うように植立された偏向板
10R,10G及び10Bを設け、一方、各電子
ビーム1R,1G及び1Bの通路を挾んでこれら
偏向板10R,10G及び10Bと対向するよう
に他方の電極部G3b内に垂直偏向板11R,11
G及び11Bを配置して、各偏向板10R,10
G,10B及び11R,11G,11B間に水平
方向の静電偏向電界を形成するようにした場合で
ある。尚、この場合一方の偏向板10R,10G
及び10Bは電極部G3aと電気的及び機械的(特
に電気的)に連結され、他方の偏向板11R,1
1G及び11Bは電極部G3bと電気的及び機械的
(特に電気的)に連結され、両電極部G3a及びG3b
間に与えられる変調信号電圧によつて偏向板10
R,10G,10B及び11R,11G,11B
間に各電子ビーム1R,1G及び1Bに関して水
平方向の静電偏向電界が生ずるようになされる。
尚第4図ないし第8図において第2図及び第3図
と対応する部分には同一符号を付して重複説明を
省略する。
FIG. 8 shows another example of the device of the present invention. In this example, one electrode portion G 3a projects from the other electrode portion G 3b and corresponds to each electron beam 1R, 1G and 1B, respectively. Deflection plates 10R, 10G, and 10B are provided so as to face one side of each beam path, are substantially perpendicular to the scanning line direction of the beam, and are erected along the beam path. Vertical deflection plates 11R, 11 are provided in the other electrode portion G3b so as to sandwich the passages of 1G and 1B and face the deflection plates 10R, 10G and 10B.
G and 11B, each deflection plate 10R, 10
This is a case where a horizontal electrostatic deflection electric field is formed between G, 10B and 11R, 11G, and 11B. In this case, one of the deflection plates 10R, 10G
and 10B are electrically and mechanically (especially electrically) connected to the electrode portion G 3a , and the other deflection plates 11R, 1
1G and 11B are electrically and mechanically (especially electrically) connected to the electrode part G 3b , and both the electrode parts G 3a and G 3b
The deflection plate 10 is
R, 10G, 10B and 11R, 11G, 11B
In between, a horizontal electrostatic deflection electric field is generated for each of the electron beams 1R, 1G, and 1B.
In FIGS. 4 to 8, parts corresponding to those in FIGS. 2 and 3 are designated by the same reference numerals, and redundant explanation will be omitted.

上述した例においては、第1グリツドG1及び
第2グリツドG2を各電子ビーム1R,1G及び
1Bに関して個々に設けた場合であるが、各ビー
ムに関して各電極を夫々共通に設けた複ビーム単
電子銃型構造となすこともできる。
In the above example, the first grid G 1 and the second grid G 2 are individually provided for each electron beam 1R, 1G, and 1B. It can also be made into an electron gun type structure.

又上述した例においては主として電子ビームの
走査速度変調に本発明を適用した場合であるが、
コンバージエンス補正等に用いることもできる。
Furthermore, in the above example, the present invention is mainly applied to scanning velocity modulation of an electron beam.
It can also be used for convergence correction, etc.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来のインライン型の複ビーム複電子
銃型の陰極線管装置の電極配置構造を示す断面
図、第2図は本発明による陰極線管装置の一例の
電子銃の電極配置構造を示す断面図、第3図はそ
の要部の斜視図、第4図、第5図及び第8図は
夫々本発明装置の他の例の電極配置構造を示す断
面図、第6図及び第7図は更に他の例の要部の斜
視図である。 Kはカソード、G1〜G4は第1〜第4グリツ
ド、1R,1G及び1Bは電子ビーム、G3a及び
3bは第3グリツドG3の電極部である。
FIG. 1 is a sectional view showing the electrode arrangement structure of a conventional in-line double beam double electron gun type cathode ray tube device, and FIG. 2 is a sectional view showing the electrode arrangement structure of an electron gun of an example of the cathode ray tube device according to the present invention. 3 is a perspective view of the main part, FIG. 4, FIG. 5, and FIG. 8 are sectional views showing the electrode arrangement structure of other examples of the device of the present invention, and FIG. 6 and FIG. It is a perspective view of the principal part of still another example. K is a cathode, G1 to G4 are first to fourth grids, 1R, 1G and 1B are electron beams, and G3a and G3b are electrodes of the third grid G3 .

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 インライン配列された複数の電子ビームを得
る電子銃を具備する陰極線管装置において、上記
電子銃を構成する電極のうち電子レンズの作用が
殆どない部分を含む電極を上記複数の電子ビーム
に対して共通の電極によつて構成すると共に、該
電極を上記電子銃の軸心方向に関して分割された
第1及び第2の電極部分より構成し、該第1及び
第2の電極部分間に上記電子ビームの配列方向に
関して静電界を生ずる電圧を与えて上記電子ビー
ムを静電偏向するようにした陰極線管装置。
1. In a cathode ray tube device equipped with an electron gun that obtains a plurality of electron beams arranged in-line, an electrode that includes a portion that hardly acts as an electron lens among the electrodes constituting the electron gun is used for the plurality of electron beams. The electrode is composed of a common electrode, and the electrode is composed of first and second electrode parts divided in the axial direction of the electron gun, and the electron beam is separated between the first and second electrode parts. A cathode ray tube device configured to electrostatically deflect the electron beam by applying a voltage that generates an electrostatic field in the direction in which the electron beams are arranged.
JP13508777A 1977-11-10 1977-11-10 Cathode ray tube unit Granted JPS5468158A (en)

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JPS5468158A JPS5468158A (en) 1979-06-01
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JPH07111879B2 (en) * 1986-02-14 1995-11-29 株式会社東芝 Color picture tube device

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Publication number Publication date
JPS5468158A (en) 1979-06-01

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