JPS61255062A - Optical sensor array - Google Patents

Optical sensor array

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Publication number
JPS61255062A
JPS61255062A JP60097033A JP9703385A JPS61255062A JP S61255062 A JPS61255062 A JP S61255062A JP 60097033 A JP60097033 A JP 60097033A JP 9703385 A JP9703385 A JP 9703385A JP S61255062 A JPS61255062 A JP S61255062A
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JP
Japan
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optical sensor
sensor array
elements
photoelectric transfer
photodiode
Prior art date
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Pending
Application number
JP60097033A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masatoshi Kato
雅敏 加藤
Yoshihiro Nagata
永田 良浩
Koichi Tomura
光一 戸村
Rokuzo Mitsuida
三井田 六蔵
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPS61255062A publication Critical patent/JPS61255062A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14643Photodiode arrays; MOS imagers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Facsimile Heads (AREA)

Abstract

PURPOSE:To make a photoelectric transfer characteristic uniform across an entire copy reading area and thereby to make output signals uniform by a construction wherein semiconductor elements not conducting photoelectric trans fer are disposed at the both ends of an array of optical sensors which conduct the photoelectric transfer. CONSTITUTION:A plurality of photoelectric transfer elements composed of a photodiode 101 and a capacity 102 of the diode 101 are arranged in an optical sensor array, and these elements are connected to a start pulse input terminal 110 through the intermediary of buffer amplifiers 103 and switching elements 105 respectively. Each of these elements is constructed of an amorphous silicon 201, a transparent electrode 202 and metal electrodes 203 and 205 and is ar ranged on a straight line. Moreover, adiode 111 having the same construction of each elements and elements with a capacitor 112 of the diode 111 and conducting no photoelectric transfer are connected to the both ends of the optical sensor array respectively. Thus, the photoelectric transfer characteristic of the optical sensors is made uniform covering an entire copy reading area, and thereby output signals are made uniform.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ファクシミリ等において、原稿にほぼ密着
して読み取りを行う光センサアレイに関するものである
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to an optical sensor array for reading a document in close contact with a document in a facsimile machine or the like.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、ファクシミリの原稿読み取り部、あるいはイメー
ジリーグにおいては、COD (ChargeCoup
led 1)evice−電荷結合デバイス)等のIC
イメージセンサを用いたものが主体であった。この場合
に、200wMを越える幅の原稿を20〜30龍幅のI
Cイメージセンサによって読み取るためには、縮小光学
系が必ず必要となり、このことが、ファクシミリあるい
はイメージリーダなどの装置の小形化を妨げる主因とな
っていた。厳近では。
Conventionally, in the facsimile document reading section or image league, COD (Charge Coup
led 1) IC such as device (charge-coupled device)
The main method used was an image sensor. In this case, a document with a width exceeding 200wM can be handled with an I
A reduction optical system is always required for reading with a C image sensor, and this has been the main reason for preventing miniaturization of devices such as facsimiles and image readers. In close proximity.

このような問題点を解決するために、非晶質半導体を用
いた原稿幅とほぼ同一寸法の光センサアレイにより原稿
を読み取る方式が提案されている。
In order to solve these problems, a method has been proposed in which a document is read using an optical sensor array that uses an amorphous semiconductor and has approximately the same size as the width of the document.

このような方式によると、原稿と光センサアレイとはほ
ぼ密着して用いることができるので、装置の大幅な小形
化が実現できるようKなった。
According to this method, the document and the optical sensor array can be used in close contact with each other, so that the apparatus can be significantly downsized.

第3図は従来の光センサアレイを示す回路構成図であり
、例えば電子通信学会技術研究報告、CPM83−42
(昭58.10.21)に開示されているものである。
FIG. 3 is a circuit configuration diagram showing a conventional optical sensor array.
(October 21, 1982).

図において、101は光センサとしての水素を含んだ非
晶質シリコン(a−8i)にて構成されたフォトダイオ
ード、102はフォトダイオード101の容量、103
はゲイン1のバッファアンプ、104,105はスイッ
チ素子、106はスタートパルス入力端子、107はク
ロック入力端子、108は出力端子、109は電源、1
10はシフトレジスタである。
In the figure, 101 is a photodiode made of hydrogen-containing amorphous silicon (a-8i) as an optical sensor, 102 is the capacitance of the photodiode 101, and 103
is a buffer amplifier with a gain of 1, 104 and 105 are switch elements, 106 is a start pulse input terminal, 107 is a clock input terminal, 108 is an output terminal, 109 is a power supply, 1
10 is a shift register.

第4図は、第3図の元センサアレイの回路構成における
フォトダイオードの構成を示す図であり、第4図(a)
及び(b)はそれぞれフォトダイオード101の平面図
及び断面図を示している。各図において。
FIG. 4 is a diagram showing the configuration of a photodiode in the circuit configuration of the original sensor array in FIG. 3, and FIG. 4(a)
and (b) show a plan view and a cross-sectional view of the photodiode 101, respectively. In each figure.

201は水素を含んだ非晶質シリコン、202は透明電
極、203は金属電極、204は絶縁基板であり、非晶
質シリコン201は透明電極202と金属電極203と
の間にサンドイッチ状にはさまれており、絶縁基板24
上く形成されている。
201 is amorphous silicon containing hydrogen, 202 is a transparent electrode, 203 is a metal electrode, and 204 is an insulating substrate, and the amorphous silicon 201 is sandwiched between the transparent electrode 202 and the metal electrode 203. The insulating substrate 24
well formed.

第5図は、第3図の光センサアレイの回路構成における
動作を説明するための各部の波形を示すタイミング図で
ある。図において、501はクロック入力端子107へ
の入力、502はスタートパルス入力端子106への入
力、503はシフトレジスタ110のQ1出力、504
はシフトレジスタ110のQ2出力、505はシフトレ
ジスタ110のQ1728出力、506は出力端子10
8からの出力のそれぞれ波形を示している。
FIG. 5 is a timing diagram showing waveforms of various parts for explaining the operation of the circuit configuration of the optical sensor array of FIG. 3. FIG. In the figure, 501 is the input to the clock input terminal 107, 502 is the input to the start pulse input terminal 106, 503 is the Q1 output of the shift register 110, and 504
is the Q2 output of the shift register 110, 505 is the Q1728 output of the shift register 110, and 506 is the output terminal 10.
The waveforms of the outputs from 8 are shown.

次に、上記第3図に示す光センサアレイの回路構成につ
いての動作を、第5図を参照して説明する。まず、第1
番目のフォトダイオード101について注目する。この
フォトダイオード101のカソード側に接続されている
スイッチ素子104は、シフトレジスタ110のQ2出
力504がHレベルになった時に閉じられ、上記フォト
ダイオード101の両端部には電源109の電圧v8が
印加される。この時、フォトダイオード101の容量1
02には電荷qo (= CdVs )が充電される。
Next, the operation of the circuit configuration of the optical sensor array shown in FIG. 3 will be described with reference to FIG. 5. First, the first
Attention will be paid to the th photodiode 101. The switch element 104 connected to the cathode side of the photodiode 101 is closed when the Q2 output 504 of the shift register 110 becomes H level, and the voltage v8 of the power supply 109 is applied to both ends of the photodiode 101. be done. At this time, the capacity of the photodiode 101 is 1
02 is charged with charge qo (=CdVs).

次に、上記シフトレジスタ110のQ2出力504がL
レベルになると、フォトダイオード101のカソード側
は開放される。一方、フォトダイオード101には読み
取り原稿(図示しない)の濃淡に応じた光が入力され、
@3図に矢印で示す方向に元電流工、が流れる。この光
′1流工、により上記容量102に蓄積された電荷が放
電される。この状態で第5図に示す時間T、が経過した
後、上記フォトダイオード101の端子間電圧V、は次
式で表わされる。
Next, the Q2 output 504 of the shift register 110 is set to L.
When the level is reached, the cathode side of the photodiode 101 is opened. On the other hand, light corresponding to the density of a read document (not shown) is input to the photodiode 101.
@3 The former electrical engineer flows in the direction shown by the arrow in Figure 3. Due to this light flow, the charges accumulated in the capacitor 102 are discharged. After the time T shown in FIG. 5 has elapsed in this state, the voltage V between the terminals of the photodiode 101 is expressed by the following equation.

上記時間T8の経過後にシフトレジスタ110のQ1出
力503がHレベルになると、第1番目のバッファアン
プ103の出力に接続されているスイッチ素子105が
閉じられ、次式の出力電圧v0が出力端子108に出力
される。
When the Q1 output 503 of the shift register 110 becomes H level after the above-mentioned time T8 has elapsed, the switch element 105 connected to the output of the first buffer amplifier 103 is closed, and the output voltage v0 of the following equation is applied to the output terminal 108. is output to.

上記第(2)弐において、元電流工、はフォトダイオー
ド101の端子間′1.圧V、に依存しないと仮定する
と、光量が一定の場合に、上記第(2)式は次のように
なり、出力電圧V。は光量に比例することになる。
In the above item (2) 2, the former electrician is connected between the terminals of the photodiode 101 '1. Assuming that it does not depend on the voltage V, when the amount of light is constant, the above equation (2) becomes as follows, and the output voltage V. is proportional to the amount of light.

したがって、第5図に示すようにスタートパルスを一定
間隔で入力すると、第1番目a−ら第1728番目(A
4サイズの2161幅の原稿を8dot/關の走査密度
で絖み取る場合)まで、上記第(3)弐に対応する出力
電圧V。が時系列に出力端子108に出力される。
Therefore, if start pulses are input at regular intervals as shown in FIG.
The output voltage V corresponding to the above (3) 2. are output to the output terminal 108 in chronological order.

次に、上記第4図に示す光センサアレイの回路構成にお
けるフォトダイオード101の構成について詳細に説明
する。第4図(b)に示す非晶質シリコン201はノン
ドープ膜であり、透明電極202との境界面のショット
キーバリアを用いたフォトタイオード101を構成して
いる。また、非晶質シリコン201は各ビットには分離
されておらず、金属電極203だけによって分離されて
いる。このような構成は、上述したように非晶質シリコ
ン201の層が分離されていないために、■製造工程上
でマスクアライメントf111fが大幅に緩和される、
■非晶質シリコン201の4面が少ないためにパッシベ
ーションが容易である、という利点を持っている反面、
以下に述べるような欠点も有している。すなわち、第4
図(b)に矢印で示す電界ベクトル207において、第
1番目のフォトダイオード101の端部の電界ベクトル
207は、他のフォトダイオード101とは異なって絶
縁基板204の面に平行な成分を持ち、電気力線は「曲
り」を持つ。金属電極203のある領域に入射された各
党206a、206b、2Q6cにより非晶質シリコン
201内で発生したフォトキャリアは、絶縁基板204
の而に画直な電界ベクトル207に沿って透明電極20
2あるいは金属電極203に向って走行する。ここで、
電極間距離(非晶質シリコン201の膜厚)をdとする
と。
Next, the configuration of the photodiode 101 in the circuit configuration of the optical sensor array shown in FIG. 4 will be described in detail. The amorphous silicon 201 shown in FIG. 4(b) is a non-doped film, and constitutes the photodiode 101 using a Schottky barrier at the interface with the transparent electrode 202. Further, the amorphous silicon 201 is not separated into each bit, but is separated only by the metal electrode 203. In such a configuration, since the amorphous silicon 201 layer is not separated as described above, (1) the mask alignment f111f is significantly relaxed in the manufacturing process;
■While it has the advantage that passivation is easy because there are fewer four sides of amorphous silicon 201,
It also has drawbacks as described below. That is, the fourth
In the electric field vector 207 shown by the arrow in FIG. 2B, the electric field vector 207 at the end of the first photodiode 101 has a component parallel to the surface of the insulating substrate 204, unlike the other photodiodes 101. Electric lines of force have a "curvature". Photocarriers generated in the amorphous silicon 201 by each particle 206a, 206b, 2Q6c incident on a certain area of the metal electrode 203 are transferred to the insulating substrate 204.
Therefore, along the electric field vector 207, the transparent electrode 20
2 or toward the metal electrode 203. here,
Let d be the distance between the electrodes (thickness of the amorphous silicon 201).

キャリアの走行時間の最大値tmは次式で表わされる。The maximum value tm of carrier travel time is expressed by the following equation.

ただし、Vはキャリア速度、μはキャリア移動度。However, V is the carrier velocity and μ is the carrier mobility.

Eは電界強度である。通常、端子間電圧v、〉1ボルト
の領域ではtrn<τ(τはキャリアのライフタイム)
であるので1元電流工、は熾子間電圧V、に依存しない
ために上記第(3)式が成立する。しかるに、金属電極
203のない領域に入射する元206dによって生成さ
れたフォト牛ヤリアに対しては、電極間距離!が上記d
よ)も長くなり、1m<τなる条件が成り立几なくなり
、両端部のフォトダイオード101については下記の特
性が表われる。
E is the electric field strength. Normally, in the region of terminal voltage v, > 1 volt, trn < τ (τ is carrier lifetime)
Therefore, since the one-dimensional electric current does not depend on the electric current voltage V, the above equation (3) holds true. However, for the photocoat generated by the element 206d that is incident on the region where there is no metal electrode 203, the distance between the electrodes! is the above d
y) becomes longer, the condition 1m<τ no longer holds true, and the following characteristics appear for the photodiodes 101 at both ends.

(1)金属電極203のない領域に発生したフォトキャ
リアも元電流工、に寄与するために、受光面積が他のフ
ォトダイオードに比べて大きくなる。
(1) Photocarriers generated in areas where there is no metal electrode 203 also contribute to the original current flow, so the light-receiving area is larger than that of other photodiodes.

(2)金属電極203のない領域に発生したフォトキャ
リアによる元電流工、は、電圧依存性が大きくなり、出
力信号は入射光強度に比例しなくなる。
(2) The original current flow caused by the photocarriers generated in the area where there is no metal electrode 203 has a large voltage dependence, and the output signal is no longer proportional to the intensity of the incident light.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上記のような従来の光センサアレイでは1元センサアレ
イを構成する多数のフォトダイオード101のうちで1
両端部に配置されるフォトダイオード101の光電変換
特性が、その他のフォトダイオード101の光電変換特
性と異なるために、性能上で出力均一性が劣化するとい
う問題点があった。
In the conventional optical sensor array as described above, one of the many photodiodes 101 constituting the one-element sensor array is
Since the photoelectric conversion characteristics of the photodiodes 101 arranged at both ends are different from the photoelectric conversion characteristics of the other photodiodes 101, there is a problem in that output uniformity deteriorates in terms of performance.

この発明は、かかる問題点を解決するためになされたも
ので、光センチアレイとしての光電変換特性が、原稿の
全読み取り領域にわたって一様である元センサアレイを
得ることを目的とする。
The present invention has been made in order to solve such problems, and an object of the present invention is to obtain an original sensor array whose photoelectric conversion characteristics as an optical centimeter array are uniform over the entire reading area of a document.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明に係る光センサアレイは、光電変換を行う光セ
ンサの列の両端部に1元を変換を行わず、かつ前記光セ
ンサと同様の構成を持つ半導体素子から成るダミーセン
サを配設したものである。
The optical sensor array according to the present invention has dummy sensors that do not convert one element and are made of semiconductor elements having the same configuration as the optical sensor at both ends of a row of optical sensors that perform photoelectric conversion. It is.

〔作用〕[Effect]

この発明の光センサアレイにおいては、光電変換を行う
元センサの列の両端部に光電変換を行わない半導体素子
を配設することにより、光電変換を行う全光センサに対
して均一に電界が印加されるために、出力信号の均一化
が実現できる。
In the optical sensor array of the present invention, by arranging semiconductor elements that do not perform photoelectric conversion at both ends of the row of original sensors that perform photoelectric conversion, an electric field is uniformly applied to all optical sensors that perform photoelectric conversion. Therefore, the output signal can be made uniform.

〔実施例〕〔Example〕

第1図はこの発明の一実施例である元センサアレイを示
す回路構成図で、各符号101〜110は上記第3図に
示す従来例と同一のものである。
FIG. 1 is a circuit configuration diagram showing an original sensor array which is an embodiment of the present invention, and each reference numeral 101 to 110 is the same as the conventional example shown in FIG. 3 above.

図において、111は第1番目及び第1728番目の各
フォトダイオード101の外側に接続されたダイオード
(半導体素子)であり、また、112はダイオード11
1の容量である。
In the figure, 111 is a diode (semiconductor element) connected to the outside of each of the first and 1728th photodiodes 101, and 112 is a diode 11
It has a capacity of 1.

第2図は、第1図の光センサアレイの回路構成における
フォトダイオードとダイオードの構成を示す図であり、
第2図(a)及び(blはそれぞれフォトダイオード1
01とダイオード111の平面図及び断面図を示し、各
符号201〜204,206a〜206c 、207は
上記第4図に示す従来例と同一のものである0図におい
て、205は金属電極、206dは光である。ここで、
ダイオード111は透明電極202.非晶質シリコン2
01及び金属電極205により構成されている。
FIG. 2 is a diagram showing the configuration of photodiodes and diodes in the circuit configuration of the optical sensor array of FIG.
Figure 2 (a) and (bl) are photodiodes 1, respectively.
01 and a plan view and a cross-sectional view of the diode 111, each reference numeral 201 to 204, 206a to 206c, and 207 are the same as the conventional example shown in FIG. It is light. here,
The diode 111 has a transparent electrode 202. Amorphous silicon 2
01 and a metal electrode 205.

次に、上記第1図に示す元センサアレイの回路構成につ
いての動作を、第2図を参照して説明する。ダイオード
111は、そのカンード側が接地されており、ア、ノー
ド側が透明電極202により電源109の電圧V、に接
続されている。したがって、回路動作としては、上記第
3図に示す従来例と全く同じである。そして、ダイオー
ド111の構成は、第2図(b)に示すようになってい
るから、金属電極205と透明電極202間には電源1
09の電圧v8が印加されることになり、このため、電
界ベクトル207は第2図(b)に矢印で示すようにな
る。この結果、上記従来例で見られた電気力線の「曲り
」は、実際には光電変換を行わないダイオード111の
端部に移っている。このようなことからして1元センサ
アレイにおける光センサの全ビットに対して上記第(3
)式が成立することになり、これにより、一様な光電変
換特性を得ることができる。
Next, the operation of the circuit configuration of the original sensor array shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. 2. The diode 111 has its cand side grounded, and its node side connected to the voltage V of the power supply 109 through the transparent electrode 202. Therefore, the circuit operation is exactly the same as the conventional example shown in FIG. 3 above. Since the configuration of the diode 111 is as shown in FIG. 2(b), a power source 1 is connected between the metal electrode 205 and the transparent electrode 202.
Therefore, the electric field vector 207 becomes as shown by the arrow in FIG. 2(b). As a result, the "curvature" of the electric lines of force observed in the conventional example is shifted to the end of the diode 111 where photoelectric conversion is not actually performed. For this reason, for all the bits of the optical sensor in the one-dimensional sensor array, the
) formula holds true, and as a result, uniform photoelectric conversion characteristics can be obtained.

なお、上記実施例では、光センサの列の両端部にダイオ
ード111を1個ずつ配設した場合について説明したが
、配設する個数は複数個であっても良い。
In the above embodiment, a case has been described in which one diode 111 is provided at each end of the row of optical sensors, but a plurality of diodes 111 may be provided.

また、上記実施例では、金属1也205と金属電極20
3との各々の大きさを同一とした場合について示したが
、それぞれの大きさは同一としなくても良い。
Further, in the above embodiment, the metal 1ya 205 and the metal electrode 20
Although the case where each size is the same as that of 3 is shown, it is not necessary to make each size the same.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

この発明は以上説明したとおり、光センサアレイにおい
て、光電変換を行う光センサの列の両端部に光電変換を
行わない半導体素子を配設した構成としたので1元セン
サアレイとしての光電変換特性が原稿の全読み取シ領域
にわたって一様となシ、この結果、出力信号の均一化を
実現できるという優れた効果を奏するものである。
As explained above, this invention has a configuration in which semiconductor elements that do not perform photoelectric conversion are arranged at both ends of a row of optical sensors that perform photoelectric conversion in the optical sensor array, so that the photoelectric conversion characteristics as a one-element sensor array are improved. This provides an excellent effect in that the reading area of the document is uniformly scanned over the entire reading area, and as a result, the output signal can be made uniform.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例である光センサアレイを示
す回路構成図、第2図は、第1図の光センサアレイの回
路構成におけるフォトダイオードとダイオードの構成を
示す図、第3図は従来の光センサアレイを示す回路構成
図、第4図は、第3図の光センサアレイの回路構成にお
けるフォトダイオードの構成を示す図、第5図は、第3
図の光センサアレイの回路構成における動作を説明する
ための各部の波形を示すタイミング図である。 図において、101・・・フォトダイオード、101 
。 112・・・容量、103・・・バッファアンプ、10
4゜105・・・スイッチ素子、106・・・スタート
パルス入力端子、107・・・クロック入力端子、10
8・・・出力端子、109・・・電源、110・・・シ
フトレジスタ、】11−・・・ダイオード、20】・・
・非晶質シリコン、202・・・透明電極、203,2
05・・・金属電極、204・・・絶縁基板、206 
a 〜206 d −・・光、207・・・電界ベクト
ルである。 なお、各図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
FIG. 1 is a circuit configuration diagram showing a photosensor array that is an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing the configuration of photodiodes and diodes in the circuit configuration of the photosensor array shown in FIG. 1, and FIG. 4 is a circuit configuration diagram showing a conventional photosensor array, FIG. 4 is a diagram showing the configuration of a photodiode in the circuit configuration of the photosensor array shown in FIG. 3, and FIG.
FIG. 3 is a timing chart showing waveforms of various parts for explaining the operation of the circuit configuration of the optical sensor array shown in the figure. In the figure, 101...photodiode, 101
. 112... Capacity, 103... Buffer amplifier, 10
4゜105...Switch element, 106...Start pulse input terminal, 107...Clock input terminal, 10
8... Output terminal, 109... Power supply, 110... Shift register, ]11-... Diode, 20]...
・Amorphous silicon, 202...Transparent electrode, 203,2
05... Metal electrode, 204... Insulating substrate, 206
a to 206 d--light, 207... electric field vector. In each figure, the same reference numerals indicate the same or equivalent parts.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)半導体材料を、透明電極及び金属電極にてサンド
イッチ状にはさんだ構成から成る光センサを一線上に複
数個配設した光センサアレイにおいて、光電変換を行う
前記光センサの列の両端部に、光電変換を行わず、かつ
前記光センサと同様の構成を持つ半導体素子を1個又は
複数個配設したことを特徴とする光センサアレイ。
(1) In a photosensor array in which a plurality of photosensors consisting of a semiconductor material sandwiched between a transparent electrode and a metal electrode are arranged in a line, both ends of the row of photosensors perform photoelectric conversion. An optical sensor array characterized in that one or more semiconductor elements that do not perform photoelectric conversion and have the same configuration as the optical sensor are disposed.
(2)前記光センサ及び半導体素子は、共に前記透明電
極と前記半導体材料との境界面のショットキーバリアを
利用した素子であることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の光センサアレイ。
(2) The optical sensor array according to claim 1, wherein both the optical sensor and the semiconductor element are elements that utilize a Schottky barrier at the interface between the transparent electrode and the semiconductor material. .
(3)前記半導体材料は、水素を含んだ非晶質シリコン
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2
項記載の光センサアレイ。
(3) Claim 1 or 2, wherein the semiconductor material is amorphous silicon containing hydrogen.
Optical sensor array described in Section 1.
(4)前記半導体素子には、前記ショットキーバリアが
逆バイアスになるようにバイアス電圧が常時印加されて
いることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の光セ
ンサアレイ。
(4) The optical sensor array according to claim 2, wherein a bias voltage is constantly applied to the semiconductor element so that the Schottky barrier is reverse biased.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01239968A (en) * 1988-03-22 1989-09-25 Ricoh Co Ltd Contact type image sensor
US5128533A (en) * 1989-04-10 1992-07-07 Canon Kabushiki Kaisha Photoelectric converting apparatus
JPH04107858U (en) * 1991-03-01 1992-09-17 富士ゼロツクス株式会社 image sensor
WO2013018280A1 (en) * 2011-08-02 2013-02-07 パナソニック株式会社 Solid-state image pickup apparatus and method for manufacturing same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01239968A (en) * 1988-03-22 1989-09-25 Ricoh Co Ltd Contact type image sensor
US5128533A (en) * 1989-04-10 1992-07-07 Canon Kabushiki Kaisha Photoelectric converting apparatus
JPH04107858U (en) * 1991-03-01 1992-09-17 富士ゼロツクス株式会社 image sensor
WO2013018280A1 (en) * 2011-08-02 2013-02-07 パナソニック株式会社 Solid-state image pickup apparatus and method for manufacturing same
JPWO2013018280A1 (en) * 2011-08-02 2015-03-05 パナソニック株式会社 Solid-state imaging device and manufacturing method thereof
US9184316B2 (en) 2011-08-02 2015-11-10 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Solid-state imaging apparatus and method for manufacturing same

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