JPS61235813A - マルチ光源装置 - Google Patents
マルチ光源装置Info
- Publication number
- JPS61235813A JPS61235813A JP7720785A JP7720785A JPS61235813A JP S61235813 A JPS61235813 A JP S61235813A JP 7720785 A JP7720785 A JP 7720785A JP 7720785 A JP7720785 A JP 7720785A JP S61235813 A JPS61235813 A JP S61235813A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- beams
- lens
- point
- light source
- Prior art date
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- Pending
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の分野）
本発明はレーザビームを発する複数のレーザ光源を備え
たマルチ光ｒＡ装置に関するものであり、特に詳細には
複数のレーザビームを、容易に１本のビームに合成する
ことのできるマルチ光源装置に関するものである。
たマルチ光ｒＡ装置に関するものであり、特に詳細には
複数のレーザビームを、容易に１本のビームに合成する
ことのできるマルチ光源装置に関するものである。
（発明の技術的背景および先行技術）
従来より、光ビームを光偏向器により偏向して走査を行
なわしめる各種走査記録装置、走査読取装置等の光ビー
ム走査装置等において、光ビームを発生ざ゛せる手段と
して種々のレーザ光源が用いられている。これらのレー
ザ光源のうちでも特に半導体レーザは、ガスレーザ等に
比べて小型、安価で消費電力が少なく、また駆動電流を
変えることによって直接変調を行なうことが可能である
等、数々の長所を有している。しかしながら、その反面
この半導体レーザは、連続発振させる場合には、現状で
は発光レーザの波長が１８０ｎｍのもので、出力がたか
だか２０〜３０ｍｗと小さく、従って高エネルギーの走
査光を必要とする光ビーム走査装置、例えば感度の低い
記録材料（金属膜、アモルファス膜等のＤＲＡＷ材料等
）に記録する走査記録装置や高速記録を行なう走査記録
装置等に用いるのは極めて困難である。
なわしめる各種走査記録装置、走査読取装置等の光ビー
ム走査装置等において、光ビームを発生ざ゛せる手段と
して種々のレーザ光源が用いられている。これらのレー
ザ光源のうちでも特に半導体レーザは、ガスレーザ等に
比べて小型、安価で消費電力が少なく、また駆動電流を
変えることによって直接変調を行なうことが可能である
等、数々の長所を有している。しかしながら、その反面
この半導体レーザは、連続発振させる場合には、現状で
は発光レーザの波長が１８０ｎｍのもので、出力がたか
だか２０〜３０ｍｗと小さく、従って高エネルギーの走
査光を必要とする光ビーム走査装置、例えば感度の低い
記録材料（金属膜、アモルファス膜等のＤＲＡＷ材料等
）に記録する走査記録装置や高速記録を行なう走査記録
装置等に用いるのは極めて困難である。
また、ある種の蛍光体に放射線（Ｘ線、α線。
β線、γ線、電子線、紫外線等）を照射すると、この放
射線エネルギーの一部が蛍光体中に蓄積され、この蛍光
体に可視光等の励起光を照射すると、蓄積されたエネル
ギーに応じて蛍光体が輝尽発光を示すことが知られてお
り、このような蓄積性蛍光体を利用して、人体等の被写
体の放射線画像情報を一旦蓄積性蛍光体からなる層を有
する蓄積性蛍光体シートに記録し、この蓄積性蛍光体シ
ートをレーザ光等の励起光で走査して輝尽発光光を生ぜ
しめ、得られた輝尽発光光を光電的に読み取って画像信
号を得、この画像信号に基づき被写体の放射線画像を写
真感光材料等の記録材料、ＣＲＴ等に可視像として出力
させる放射線画像情報記録再生システムが本出願人によ
り既に提案されている（特開昭５５−１２４２９号１．
同５５−１１６３４０号、同５５−１６３４７２号、同
５ｅ−ｉｉａ９ｓ号、同５６−１０４６４５号など）。
射線エネルギーの一部が蛍光体中に蓄積され、この蛍光
体に可視光等の励起光を照射すると、蓄積されたエネル
ギーに応じて蛍光体が輝尽発光を示すことが知られてお
り、このような蓄積性蛍光体を利用して、人体等の被写
体の放射線画像情報を一旦蓄積性蛍光体からなる層を有
する蓄積性蛍光体シートに記録し、この蓄積性蛍光体シ
ートをレーザ光等の励起光で走査して輝尽発光光を生ぜ
しめ、得られた輝尽発光光を光電的に読み取って画像信
号を得、この画像信号に基づき被写体の放射線画像を写
真感光材料等の記録材料、ＣＲＴ等に可視像として出力
させる放射線画像情報記録再生システムが本出願人によ
り既に提案されている（特開昭５５−１２４２９号１．
同５５−１１６３４０号、同５５−１６３４７２号、同
５ｅ−ｉｉａ９ｓ号、同５６−１０４６４５号など）。
このシステムにおいて、放射線画像情報が蓄積記録され
た蓄積性蛍光体シートを走査して蓄積性蛍光体を輝尽発
光させ、画像情報の読取りを行なうためには十分に高エ
ネルギーの励起光を前記蛍光体に照射する必要がある。
た蓄積性蛍光体シートを走査して蓄積性蛍光体を輝尽発
光させ、画像情報の読取りを行なうためには十分に高エ
ネルギーの励起光を前記蛍光体に照射する必要がある。
このため、この放射線画像情報記録再生システムにおい
て、励起光を発する光源として上記のように光出力の小
さい半導体レーザ等を用いることは極めて難しい。
て、励起光を発する光源として上記のように光出力の小
さい半導体レーザ等を用いることは極めて難しい。
そこで光出力の低い半導体レーザから十分高エネルギー
の走査ビームを得たり、他のレーザ光源を用いた場合で
も、光出力をさらに増加させたりする際には、複数のレ
ーザ光源を使用し、これらのレーザ光源から射出された
光ビームを１本に合成することが考えられる。このため
、複数のレーザビームを所望の位置において最終的に１
本のレーザビームに合成するのに先立って、レーザビー
ムの最終的な合成が容易なように各レーザビームを調整
する機構を備えたマルチ光源装置が望まれている。
の走査ビームを得たり、他のレーザ光源を用いた場合で
も、光出力をさらに増加させたりする際には、複数のレ
ーザ光源を使用し、これらのレーザ光源から射出された
光ビームを１本に合成することが考えられる。このため
、複数のレーザビームを所望の位置において最終的に１
本のレーザビームに合成するのに先立って、レーザビー
ムの最終的な合成が容易なように各レーザビームを調整
する機構を備えたマルチ光源装置が望まれている。
（発明の目的）
本発明は上記のような要望に基づいてなされたものであ
り、複数のレーザ光源から発せられたレーザビームを互
いに近接した平行ビームとし、容易に１本のレーザビー
ムに合成されることの可能な状態とするマルチ光源装置
を提供することを目的とするものである。
り、複数のレーザ光源から発せられたレーザビームを互
いに近接した平行ビームとし、容易に１本のレーザビー
ムに合成されることの可能な状態とするマルチ光源装置
を提供することを目的とするものである。
（発明の構成）
本発明のマルチ光源装置は、レーザビームを発する複数
のレーザ光源の各々に対して、各レーザ光源から発せら
れるレーザビームをそれぞれ同一点に集束せしめる結合
レンズを設け、複数のレーザビームを同一点に集束せし
めるとともに、前記同一点から自らの焦点距離だけ離れ
た位置にコリメータレンズを設け、レーザビームを、前
記同一点で集束した後にコリメータレンズに入射せしめ
、互いに近接して平行なレーザビームを得ることを特徴
とするものである。ここでコリメータレンズを通過した
レーザビームの［互いに近接して平行」な状態とは、わ
ずかのｍ隙を介して互いに平行である状態と、間隙を介
さずに連続して接している状態の両方を意味するものと
する。
のレーザ光源の各々に対して、各レーザ光源から発せら
れるレーザビームをそれぞれ同一点に集束せしめる結合
レンズを設け、複数のレーザビームを同一点に集束せし
めるとともに、前記同一点から自らの焦点距離だけ離れ
た位置にコリメータレンズを設け、レーザビームを、前
記同一点で集束した後にコリメータレンズに入射せしめ
、互いに近接して平行なレーザビームを得ることを特徴
とするものである。ここでコリメータレンズを通過した
レーザビームの［互いに近接して平行」な状態とは、わ
ずかのｍ隙を介して互いに平行である状態と、間隙を介
さずに連続して接している状態の両方を意味するものと
する。
（実ｍＭ様）
以下、図面を参照して本発明の実施態様について説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施態様によるマルチ光源装置の概
要を示す平面図である。
要を示す平面図である。
図示のように本実施態様による装置には、−例として３
つの半導体レーザ１．２．３が設けられており、これら
の半導体レーザ１．２．３からはそれぞれレーザビーム
１１ａ 、 １２ａ 、 １３ａが発せられる。また、
これらの半導体レーザ１．２．３のそれぞれに対向する
位置には前記レーザビーム１１ａ 、 １２ａ 、 １
３ａを空間上の任意の一点である点ＰＩにおいてそれぞ
れ集束せしめる結合レンズ２１゜２２、２３が設けられ
ている。すなわち、−例として本実施態様においては、
半導体レーザ１．２．３は前記点Ｐ１を中心とする同一
円周上に配置されており、各結合レンズ２１．２２．２
３は、互いに等しい焦点距離を有する同一のレンズであ
って、点Ｐ！と各半導体レーザとが共役の関係になるよ
うに配されている。
つの半導体レーザ１．２．３が設けられており、これら
の半導体レーザ１．２．３からはそれぞれレーザビーム
１１ａ 、 １２ａ 、 １３ａが発せられる。また、
これらの半導体レーザ１．２．３のそれぞれに対向する
位置には前記レーザビーム１１ａ 、 １２ａ 、 １
３ａを空間上の任意の一点である点ＰＩにおいてそれぞ
れ集束せしめる結合レンズ２１゜２２、２３が設けられ
ている。すなわち、−例として本実施態様においては、
半導体レーザ１．２．３は前記点Ｐ１を中心とする同一
円周上に配置されており、各結合レンズ２１．２２．２
３は、互いに等しい焦点距離を有する同一のレンズであ
って、点Ｐ！と各半導体レーザとが共役の関係になるよ
うに配されている。
前記点Ｐ１において集束し、再び広がったレーザビーム
の光路上には、点Ｐ１から自らの焦点距離ｆ３だけ離れ
てコリメータレンズ３０が設けられている。このため点
Ｐ１において集束した後再び広がってコリメータレンズ
３０に入射した各レーザビームはコリメータレンズ３０
を通過して互いに近接した平行ビーム１１ｂ 、 １２
ｂ 、 １３ｂとなる。
の光路上には、点Ｐ１から自らの焦点距離ｆ３だけ離れ
てコリメータレンズ３０が設けられている。このため点
Ｐ１において集束した後再び広がってコリメータレンズ
３０に入射した各レーザビームはコリメータレンズ３０
を通過して互いに近接した平行ビーム１１ｂ 、 １２
ｂ 、 １３ｂとなる。
上記のようなマルチ光源装置から得られた、互いに近接
した平行ビームはそのままの状態で各種の目的のために
用いることも可能であるが、さらにレンズを通過させる
だけで極めて容易に所望の位置において好ましいビーム
径を有する１本のレーザビームに合成されることが可能
である。すなわち、例えば本発明のマルチ光源装置を、
走査読取装置内において用いた場合には、平行ビーム１
１ｂ 、 １２ｂ 、 １３ｂは光偏向器等に入射せし
められた後、適当な走査レンズ４０を通過せしめられる
ことにより、走査位置であ・る所望の位置Ｐ２において
極めて容易に１本のレーザビームに合成されることがで
きる。従って走査位置においては、合成された高出力の
レーザビームにより、走査面上に記録された情報の読取
りを行なうことが可能になる。
した平行ビームはそのままの状態で各種の目的のために
用いることも可能であるが、さらにレンズを通過させる
だけで極めて容易に所望の位置において好ましいビーム
径を有する１本のレーザビームに合成されることが可能
である。すなわち、例えば本発明のマルチ光源装置を、
走査読取装置内において用いた場合には、平行ビーム１
１ｂ 、 １２ｂ 、 １３ｂは光偏向器等に入射せし
められた後、適当な走査レンズ４０を通過せしめられる
ことにより、走査位置であ・る所望の位置Ｐ２において
極めて容易に１本のレーザビームに合成されることがで
きる。従って走査位置においては、合成された高出力の
レーザビームにより、走査面上に記録された情報の読取
りを行なうことが可能になる。
またマルチ光源装置から得られた平行ビームの光路を変
えるに際しても、平行ビームは互いに近接していること
から、全ての平行ビームに対して１つの光学素子を設け
ればよく極めて効率的である。
えるに際しても、平行ビームは互いに近接していること
から、全ての平行ビームに対して１つの光学素子を設け
ればよく極めて効率的である。
なお、半導体レーザの位置は、上述した同一円周上の位
置に限らず任意に設定することが可能である。すなわち
、半導体レーザを前記同一円周上以外の任意の位置に配
置した場合には、各半導体レーザの位置に応じて、発せ
られたレーザビームを同一点において集束させるのに適
した焦点距離を有する結合レンズを、各半導体レーザに
対向する好ましい位置にそれぞれ設ければよい。また、
第２図に示すように各半導体レーザおよび各結合レンズ
の位置および大きさを調節し、３本の平行ビームｌｌｂ
、 １２ｂ、 １３ｂが互いに接するようにすること
も可能である。平行ビーム１１ｂ 、 １２ｂ 、 １
３ｂが互いに接している場合の、各ビームのＡ−Ａ線に
おける断面１１Ａ、 １２Ａ、 １３Ａは第３図に示す
とおりである。各平行ビームが互いに接するようになせ
ば、各平行ビームを、一本のレーザビームに合成せずに
使用する場合等に好都合である。また平行ビームの配列
は縦一列の配列に限られるものではな（、数、位置とも
に様々な配列が可能であることは言うまでもない。例え
ば第４図に示すように、７本の平行ビームを用いて、そ
の１つの断面１１Ｂの周囲に他の断面１２３．１３８．
１４Ｂ、 １５Ｂ、 １６８．１７Ｂが近接して位置す
るようになしてもよい。この場合には７つの半導体レー
ザを、各レーザビームが集束する同一点を中心とする円
−球面上に配すれば装置の設計が容易となる。
置に限らず任意に設定することが可能である。すなわち
、半導体レーザを前記同一円周上以外の任意の位置に配
置した場合には、各半導体レーザの位置に応じて、発せ
られたレーザビームを同一点において集束させるのに適
した焦点距離を有する結合レンズを、各半導体レーザに
対向する好ましい位置にそれぞれ設ければよい。また、
第２図に示すように各半導体レーザおよび各結合レンズ
の位置および大きさを調節し、３本の平行ビームｌｌｂ
、 １２ｂ、 １３ｂが互いに接するようにすること
も可能である。平行ビーム１１ｂ 、 １２ｂ 、 １
３ｂが互いに接している場合の、各ビームのＡ−Ａ線に
おける断面１１Ａ、 １２Ａ、 １３Ａは第３図に示す
とおりである。各平行ビームが互いに接するようになせ
ば、各平行ビームを、一本のレーザビームに合成せずに
使用する場合等に好都合である。また平行ビームの配列
は縦一列の配列に限られるものではな（、数、位置とも
に様々な配列が可能であることは言うまでもない。例え
ば第４図に示すように、７本の平行ビームを用いて、そ
の１つの断面１１Ｂの周囲に他の断面１２３．１３８．
１４Ｂ、 １５Ｂ、 １６８．１７Ｂが近接して位置す
るようになしてもよい。この場合には７つの半導体レー
ザを、各レーザビームが集束する同一点を中心とする円
−球面上に配すれば装置の設計が容易となる。
なお、以上レーザ光源として半導体レーザを用いた場合
を例にとって説明したが、本発明の装置においては半導
体レーザ以外のレーザ光源を使用することもできること
は言うまでもない。
を例にとって説明したが、本発明の装置においては半導
体レーザ以外のレーザ光源を使用することもできること
は言うまでもない。
（発明の効果〉
以上説明したように本発明のマルチ光源装置によれば、
複数のレーザ光源から発せられたレーザビームを結合レ
ンズにより同一点に集束せしめた後、コリメータレンズ
に入射せしめて平行ビームとすることにより、互いに近
接した複数の平行ビームを得ることができ、このように
して得られた平行ビームは容易に１本のレーザビームに
合成されることが可能なものとなる。従って本発明の装
置を用いれば、高出力のレーザビームを容易に作り出す
ことが可能となる。
複数のレーザ光源から発せられたレーザビームを結合レ
ンズにより同一点に集束せしめた後、コリメータレンズ
に入射せしめて平行ビームとすることにより、互いに近
接した複数の平行ビームを得ることができ、このように
して得られた平行ビームは容易に１本のレーザビームに
合成されることが可能なものとなる。従って本発明の装
置を用いれば、高出力のレーザビームを容易に作り出す
ことが可能となる。
第１図は本発明の一実ｍ態様によるマルチ光源装置の概
要を示す平面図、 第２図は本発明の他の実１１Ｍ様によるマルチ光源装置
の概要を示す平面図、 第３図は第２図のＡ−ＡＩ！断面図、 第４１図は平行ビームの配列の一例を示す断面図である
。 １．２．３・・・半導体レーザ １１ａ 、 １２ａ 、 １３ａ・・・レーザビーム１
１ｂ 、 １２ｂ 、 １３ｂ・・・平行ビーム２１．
２２．２３・・・結合レンズ ３０・・・コリメータレンズ
要を示す平面図、 第２図は本発明の他の実１１Ｍ様によるマルチ光源装置
の概要を示す平面図、 第３図は第２図のＡ−ＡＩ！断面図、 第４１図は平行ビームの配列の一例を示す断面図である
。 １．２．３・・・半導体レーザ １１ａ 、 １２ａ 、 １３ａ・・・レーザビーム１
１ｂ 、 １２ｂ 、 １３ｂ・・・平行ビーム２１．
２２．２３・・・結合レンズ ３０・・・コリメータレンズ
Claims (1)
- レーザビームを発する複数のレーザ光源、該レーザ光源
の各々に対向して設けられ、各レーザ光源から発せられ
るレーザビームを同一点に集束せしめる複数の結合レン
ズ、および前記同一点から自らの焦点距離だけ離れて設
けられたコリメータレンズからなるマルチ光源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7720785A JPS61235813A (ja) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | マルチ光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7720785A JPS61235813A (ja) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | マルチ光源装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61235813A true JPS61235813A (ja) | 1986-10-21 |
Family
ID=13627379
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7720785A Pending JPS61235813A (ja) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | マルチ光源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61235813A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5115349A (en) * | 1989-05-25 | 1992-05-19 | Kabushiki Kaisha Machida Seisakusho | Projector system and system for detecting flaw |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4931326A (ja) * | 1972-07-19 | 1974-03-20 |
-
1985
- 1985-04-11 JP JP7720785A patent/JPS61235813A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4931326A (ja) * | 1972-07-19 | 1974-03-20 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5115349A (en) * | 1989-05-25 | 1992-05-19 | Kabushiki Kaisha Machida Seisakusho | Projector system and system for detecting flaw |
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