JPS61227864A - 静電噴霧方法および装置 - Google Patents

静電噴霧方法および装置

Info

Publication number
JPS61227864A
JPS61227864A JP61033106A JP3310686A JPS61227864A JP S61227864 A JPS61227864 A JP S61227864A JP 61033106 A JP61033106 A JP 61033106A JP 3310686 A JP3310686 A JP 3310686A JP S61227864 A JPS61227864 A JP S61227864A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
spray head
potential
electrode
electrostatic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP61033106A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0794022B2 (ja
Inventor
テイモテ・ジエームス・ノークス
ネビル・エドウイン・ヘウイツト
アレンド・リア・グロコツト
フイリツプ・クリストフアー・ウイリアム・フランクス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Imperial Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Imperial Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Imperial Chemical Industries Ltd filed Critical Imperial Chemical Industries Ltd
Publication of JPS61227864A publication Critical patent/JPS61227864A/ja
Publication of JPH0794022B2 publication Critical patent/JPH0794022B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B5/00Electrostatic spraying apparatus; Spraying apparatus with means for charging the spray electrically; Apparatus for spraying liquids or other fluent materials by other electric means
    • B05B5/025Discharge apparatus, e.g. electrostatic spray guns
    • B05B5/0255Discharge apparatus, e.g. electrostatic spray guns spraying and depositing by electrostatic forces only

Landscapes

  • Electrostatic Spraying Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Formation And Processing Of Food Products (AREA)
  • Confectionery (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Electrostatic Separation (AREA)
  • Catching Or Destruction (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、液体の静電噴霧に関するものである。
英国特許第1,569,707号明細書には、高電圧の
影響のもとで液体を帯電した小滴の雲に霧化するため高
電圧に帯電した噴霧ヘッドから液体粒子を噴霧すること
が提案されている。このような方法は多くの利点をもっ
ており、広範囲の動作条件において満足ではあるが、小
滴を小さくする必要がある場合には液体の流量が制限さ
れることになる。
この制限□の原因となる主な要員は噴霧ヘッドとターゲ
ラ1・どの間に形成される帯電した小滴の雲と組み合さ
った空間電荷である。この空間電荷は噴霧ヘッド付近の
電界を減少させ、その結果噴霧形′□態に悪影響を及ぼ
す。
空間電荷の影響は、噴霧ヘッドとターゲラ1〜との間の
電位差を増大さIるこどにより減少され得る。しかしな
がら、電圧を高く覆ると、作業者に 9 一 対づる危険や火花発生の危険が増す。また電圧を増大さ
せると、実質的なコロナ放電が発生し得ると共に比較的
高価な発生装置が要求され、もはや携帯型とできなくな
る。
空間電荷の影響の軽減は噴霧ヘッドとターゲラ1・との
距離を減少することによっても得られ得る。
しかしながら、農園芸のような多くの適用例においては
、この距離は他の考察により決まり、従って、噴霧ヘッ
ドとターゲットとの距離を減少することは実際的ではな
い。
本発明の目的は、噴霧ヘッドどターゲットとの間、特に
噴霧ヘッドの付近にお(フる空間電荷を減少さゼ、従っ
て所与液体流量で比較的小さな小滴を形成できまたは液
体流量を比較的高くできるようにすることにある。
本発明によれば、静電噴霧ヘッドと、上記静電噴霧ヘッ
ドに液体を供給する装置と、−上記噴霧ヘッドから出て
くる液体に十分に高い電界を(jえて、液体を上記噴霧
ヘッドから少なくとも一本の液糸の□形態で引き出し,
{の後不安定状態にさけ小満−  1 0  一 に分裂上\I!る装置ど、高電界領域を通ってガス流を
流れさ1!る装置とを有し、上記ガス流が液糸の形態を
分裂ざUるのには不十分であるが上記高電界領域から帯
電した液体の小滴をtJIIijのには十分であり、ぞ
れにJこり電界の大きさに影響を及ぼす空間型6bを減
少ざ1↓ることを特徴とする静電噴霧装置が提供される
好ましくは、噴霧ヘッドから液体の出ていく方向とガス
流の流れ方向どの成す角度は30°以下である。
好ましくは、高電界領域を通ってガス流を流れざUる装
置は、ガス流の速度がガス流のない時の小滴の速度と等
しいかまたはそれJ、り高いように構成される。
適当には、ガス流の少なくとも一部は噴霧ヘッドから液
体の出てくる位置または各位置の1 、5cmの範囲内
を流れ、そして好ましくはガス流は噴霧ヘッドから液体
の出てくる位置または各位置の5mmの範囲内を流れる
。好ましくは、ガス流は噴霧ヘッドから液体の出”Cく
る位置または各位置でよたはその近くで噴霧ヘッドと接
触する。
ガス流の流れる領域または各領域は比較的大きく、また
ガスは液体を遮断させる必要がないので、ガスは単に低
圧力ですなりら0. Qt8kg/ cn+2以下の圧
力で供給すればにい。]ンプレッリーのにうな高圧力源
は、高圧力源と高電界領域との間に減圧装置を設置ノれ
ば使用づることができる。
噴霧ヘッドから出てくる液体に電界を与える装置は、噴
霧ヘッドから出てくる液体に第1の電位を印加する装置
ど、fl −(<る液体の向うターゲットに第2のに電
イ0を印加する装置どを備えることができ、第1の電位
と第2の電位どの差は一本または複数本の液糸を形成さ
せるのに十分であるJ:うにされ1qる。
噴霧ヘッドに隣接しC電極を設けることができ、   
 □また噴霧ヘッドから出てくる液体に電界を与える装
置は上記電極をある電位に鞘持する装置と、噴霧ヘッド
とターゲホツ1へとの間の電荷の流れ用の帰路を形成す
る装置とを備え得る。
好ましくは、噴霧ヘッドに隣接して電極が設けられ、ヨ
1、た噴霧ヘッドから出てくる液体に電界を!−)える
装置は噴霧ヘッドから出てくる液体に第1の電位を印加
りる装置と、上記電極を第2の電位に紺持する装置とを
備え、第1の電位と第2の電位とのX:は−木または複
数本の液糸を形成させるのに一1分である。
液体の出てくる一つまたはそれ以上の小さな穴また。は
ポイントあるいは環状オリフィスを備えた噴霧ヘッドを
有する装置においては、電極は上記−′)またはぞれ以
、Lの穴またはポイン1−あるいは環状オリフィスの半
径方向外方に配置され得、またガス流は電極と上記一つ
またはそれ以−にの穴またはポイン1−あるいは環状オ
リフィスとの間の領域を通って流れるようにされ得る。
代りに、噴霧ヘッドが液体の出てくる一つまたはそれ以
上の穴またはポインI〜あるいは環状オリフィスを備え
ている場合には、電極は上記一つまたはそれ以−りの穴
またはポイントあるいは環状オリフィスの半径方向内方
に配置され、またガス流は電極と上記一つまた【よイれ
以]−の穴またはポイントあるいは環状オリフィスとの
1mの領域および(または)」−記一つまたはイれ以上
の穴またはポイン1−あるいは環状オリフィスの半径方
向外方に配回される同様な材料寸法の領域を通って流れ
るようにされ得る。
液体の出てくる直線状にのびるスロットまたは縁部と、
それぞれの対向側において上記スロットまたは縁部と平
行にのびた一対の相互に離間した直線状にのびる電極と
を備えた噴霧ヘッドを有する装置においては、ガス流は
スロットまたは縁部と各電極どの間の領域を通って流れ
るようにされる。噴霧ヘッドがスロワ]〜または縁部と
平行にのびた単一の直線状にのびる電極を備えている場
合には、ガス流は電極とスロットまたは縁部との間o*
t*ei°111°900・+ L、 T t 7.:
 m    。
極から離れたスロワI〜または縁部の側部における同様
な寸法の領域を通って流れるにうにされ得る。    
′装置が電極を備えてない場合には、ガス流は同様な寸
法の領域を通ってぞのJ:うな電極を備えた装置におい
てガスの流れる一つの領域または複数の領域へ流れるよ
うにされる。
ターゲラ1〜がアース電位にある場合、英国特許第1,
569,707号明細書に開示されているように、液体
に印加される第1の電4Ctは1〜20KVであること
ができ、J、た第2の電位はアース電位かまたはモの近
くであることができる。
代りに、英r!1特胎出願第8432274j3に開示
されているように、第1の電位は25〜50KVであり
、ま1、′:第2の電イ1′1410〜40KVである
ことができる。
代りに、ターゲットおよび第1の電位はアース電位であ
り、また第2の電位は5KV以上であることができる。
この場合、ガス流は電極から離れてターゲラ1〜に向う
帯電した小滴を掃引−づる。
好Jシ< l;L、電極Jたは各電極Cユ珊電1!1ま
Iこは半導電11月F1の、−lアを備え、このコアは
電極と噴霧ヘッドとの間の火花発1を用止するように−
1分高い絶縁耐力および体積抵抗率をもちしかも表面に
集へI)られた電荷をコ9電11Iまたは半ン9電竹月
利のコアへ導り」:うに十分低い体積抵抗率をもつ材料
で外装さる。適当には、外装1利の体積抵抗率はF) 
X 1011Q can 〜5 x 10130 Cl
11テアリ、外Hlt4 Fl(7)絶縁耐力は15K
V/m111以上であり、また外装相別の厚さは0.7
5mm 〜5 mm、好ましくは1.5111m〜31
11111である。この型式の外装された電極は英田特
許出願第8432274号に開示されている。
噴霧ヘッツドが液体の出てくる一つまたはそれ以上の穴
またはポイントを備えている場合には、各穴またはポイ
ントに単−液糸が形成される。代りに、噴霧ヘッツドは
少なくとも一つのスロットまたは縁部を備えることがで
き、その場合には、上記スロワI−または縁部あるいは
上記各スロットまたは縁部に多数の相方に離間した液糸
が形成される。
噴霧ヘッドの出口は出てくる液体と接触する導電性また
は半導電11月を備えることができ、その場合には、噴
霧ヘッドから出てくる液体に電界を与える装置は上記導
電性または半導電性材料に電位を印加する装置を備える
ことができる。代りに、噴霧ヘッドの出口は非導電竹材
料から成ることができ、そしてill霧ヘッドからの出
口の上流近くでしかも使用中に液体と接触するような位
置に電極が1QlJられ得、また噴霧ヘッドから出てく
る液体に電界を与える装置は上記電極に電位を印加づる
装置を備えている。
また、本発明によれば、静電噴霧ヘッドに液体を供給し
、−V記噴霧ヘッドから出てくる液体に十分にhい電界
を与えて、液体を上記llj!inヘッドから少なくと
も一本の液糸の形態で引き出し、イの後不安定状態にさ
け小滴に分裂させ、そして高電界領域を通ってガス流を
流れさゼることがら成り、上記ガス流が液糸の形態を分
裂させるのには不十分であるが上記高電界領域から帯電
した液体の小滴を離すのには十分であり、それにより電
界の大きさに影響を及ぼす空間電荷の形成を減少させる
ことを特徴とする液体の噴霧方法も提供される。
ターゲットの方向に動くガス流に帯電した小滴を乗せる
ことにより、噴霧ヘッドから離れてターゲットに向う小
満の速痕が増加され、従って、噴霧ヘッドどターゲット
との間の空気中における、特に噴霧ヘッドイ・1近にお
ける小滴の生成率と小滴の数との比が増加される。これ
により、小滴の生成率が一定の場合、空間電荷を減少さ
氾ることができ、または高い小滴の生成率を得ることが
できる。
空間電荷の影響を減少させるために留って霧化を改善さ
せるために、ガス流を用いることによって、ターゲット
の静電的に遮蔽された領域内への噴霧の浸透を改善さけ
ることができるという効果がもたらされる。
米国特許第4,356,528号明細書には、作物への
帯電した小滴の浸透を改善するために空気ブラストを用
いることが記載されている。このような空気ブラストは
第一に静電的に遮蔽された作物内に存在する間隙を通っ
て帯電した噴霧を運ぶことにある。第二に、高い空気速
爪で空気プラス1〜は作物を吹き分けて噴霧を作物内へ
浸透させる別の開口を作ることにある。しかしながら、
米国特許第4.356,528号明細書に記載されたも
のでは、空気プラス1〜は、小)^が噴霧ヘッドと電界
増強電極との間の霧化電界から離れた後、噴霧ヘッドか
らある距離の間小滴を乗せていく。霧化電界は噴霧へラ
ドどアースされIこ電界増強電極との間の電位差で発生
され、J:たこの型式の空気アシス]・手段はIII霧
ヘッドおJ:び電界増強電極付近の空間電荷を減少させ
ないので、霧化の改善は期待できず、そのような効果は
全く観察されなかった。
液体を霧化ざ1!るのに空気を用いまた液体を帯電させ
るのに高電圧を用いる静電噴霧ガンは公知である。液体
を霧化させるのに電気的力と空気の剪断力どを組み合せ
て用いた静電噴霧ガンも提案されている。しかしながら
、このガンでは、液糸は決して噴霧ヘッドからの出口に
形成されず、空気の剪断は静電的に形成さた尖端から落
15る。
空気アシスト手段は噴霧雲の形を&制御づるのにも用い
られ得る。
更に、静電噴霧ガンでの一つの問題は、噴霧ヘッド上J
、たは電極付近にあかおよび液体が付着し、霧化作用を
だめにすることにある。本発明による装置の場合のよう
に、噴霧ヘッドトおよび電極付近を空気またはある他の
ガスで掃引した場合には、あかや液体の付着は防止され
る。
空間電荷を減少させることにより、ガスまたは空気アシ
スト手段で広範囲の液体を噴霧させることができる。
静電霧化によって形成される小滴の電荷対質量比は小滴
の4法および液体の物理的性質に関係する。特に、電荷
対質量比は小滴が小さいほど高くまた液体の抵抗率が低
いほど高くなる。英国特許第1,569,707号明細
書に開示されたもののような普通の静電噴霧装置では、
5 X 107ΩC1以下の抵抗率をもつ液体で、空間
電荷が霧化できる流量を108〜1010ΩC11lの
抵抗率をもつ液体の場合より十分低く制限するように強
く帯電された小滴が形成される。空間電荷を実質的に減
少させるのにガス流を用いることにより、5×106Ω
cmまでの抵抗率の液体を許容流量で噴霧させることが
できる。
以下、例として添附図面を参照して本発明を説明する。
第1図の装置は筒中な環状静電噴霧ヘッド1であり、こ
の環状静電噴霧ヘッド1は支持部材19によって支持管
3の下方端部に装着されている。環状静電噴霧ヘッド1
はアルミニウムのような導電性または半導電性材料から
成る二つのほぼ管状の要素5.7を備えている。環状静
電噴霧ヘッド1に液体を供給づる管9は分配室11に連
結され、この分配室11は要素5.7間の環状ギトツブ
13に連結されている。要素7は要素5より下方にのび
て霧化縁部15の形状の出口を形成している。
環状静電噴霧ヘッド1の要素はケーブル17を介して高
電圧発生5A置(図示してない)に接続される。支持管
3および支持部材19は絶縁性材料から成っている。
支持管3の−L方端部にはポンプ(図示してない)の出
口が連結されでいる。
使用において、環状静電噴霧ヘッド1は、アース電位に
維持される水平ターゲットの上方僅かな距離に配置され
る。液体は管9を介して環状静電噴霧ヘッド1に供給さ
れ、また要素5には高電位が印加される。さらに0.0
28k(]/ Cm2以下好ましく ハ0.018kg
/ cm2以T’の圧力で空気が管3に供給され、環状
静電噴霧ヘッド1に動く突流が流れ、= 21− 霧化縁部15の位置またはその近くであるいは環状静電
噴霧ヘッド1から液体の出でくる位置またはその近くで
環状静電噴霧ヘッド1と接触するようにされる。
管9への液体の供給速瓜は低い。従って、要素5に高電
位が印加されてなければ、液体は霧化縁部15から滴下
するだ(プである。要素5に高電位を印加することによ
り、各々液体の連続した流れを含んでいる一連の帯電し
た液糸または噴流の形態で霧化縁部15から液体を放出
させるために十分高い電界が霧化縁部15に形成される
。液糸は環状静電噴霧ヘッド1の軸線のまわりに等角痕
に離間される。液糸における液体が霧化縁部15から僅
かに離れると、その液糸は不安定となり複数の帯電した
小滴に分裂する。
空気流は環状静電噴霧ヘッド1の出口の霧化縁部15に
隣接した領域(この領域に高電界が存在する)を通って
流れる。空気流の向ぎは下向ぎであり、すなわち環状静
電噴霧ヘッド1から液体の出てくる方向と平行または実
質的に平行であり、また空気の体積および速度は高電界
領域から蘭れて帯電した小滴を運びしかも空間電荷の形
成を減少するのに十分である。
第2図には本発明による第2の装置を示し、この装置は
噴霧ヘッド31を有し、この噴霧ヘッド31は、第1図
の装置の場合のように、管状要素35.37と、分配室
41ど、スロット43と、噴霧ヘッド31の出口オリフ
ィスを形成している霧化縁部45とを備えている。電界
増強型8i471Jl1m霧ヘッド31と同軸に霧化縁
部45の半仔方向内方にそれと隣接して配置されている
噴霧ヘッド31はほぼ管状の絶縁部材49の一端に装着
され、絶縁部材49の中央支持体51には電界増強電極
47が装着さiている。
分配室41には管53が連結され、噴霧ヘッド31の管
状型糸35には高電圧発生装置(図示してない)からの
ケーブル55が接続され、また電界増強電極47には高
電圧発生装置のタップからのケーブル57が接続されて
いる。
絶縁部材49の端部は電動機59のハウジングとして作
用し、電動機59の軸にはプロペラ61が装着されてい
る。電動機59はケーブル63を介して低電圧源(図示
してない)から給電される。
使用において、噴霧ヘッド31にはケーブル55を介し
て第1の電位が印加され、電界増強電極47にはケーブ
ル57を介して第1の電位より小ざい第2の電位が印加
され、また噴霧ヘッド31には管53を通って液体が供
給される。
液体の供給率は低く、電界増強電極41に電位がなけれ
ば、表面張力により液体は霧化縁部45から液体または
噴流の形態ではなく滴の形態で放出される。電界増強電
極47上の電位の作用および霧化縁部45における結果
どしての電界により、液体は霧化縁部45から一連の細
くて相互に離間した液体または噴流の形態で放出される
霧化縁部45から短い距離進んだ後、液体は不安定状態
となり帯電した小滴に分裂する。電動機59が付勢され
ると、絶縁部材49の外側に沿って軸方向にしかも電界
増強電極41と霧化縁部45どの間の領域(この領域に
高電界が存在する)を通って空気流が流れる。この空気
流は液体の小滴をターゲラI・に向って運ぶ。
第3図には絶縁Tアポツクスフ3内に装着された直線状
噴霧ヘッド11を横断面で示す。
噴霧ヘッド71は導電性または半導電性材料の二つの相
Uにllllt間ししかも平行に配列した板75.77
を有し、これらの根の間に液体の通路19が形成されて
いる。通路79の上方端部には分配室81が設置プられ
、この分配室81は管83を介してタンク(図示してな
い)に連結される。板75は板11より下方までのび、
直線状にのびた霧化縁部85を形成している。
噴霧ヘッド71には二つの相互に離間した直線状の電界
増強電極87が設けられ、電界増強電極87は霧化縁部
85それぞれの対向縁部、にでそれらと平行にのびてい
る。:J:だ電界増強電極81は霧化縁部85から僅か
に離れている。
各電界増強電極87は、導電性または半導電竹材1N1
のコア、および電極と噴霧ヘッドとの間の火花発生を防
ぐため十分高い絶縁耐力と体積抵抗率、表面に集まった
電荷をコアへ導くことがでさるように十分イ1(い体積
抵抗率とをもつ材料の外装を備えている。
ノズルの板75はケーブル89を介して高電圧発生装置
(図示してない)に接続され、また電界増強電極87は
別のケーブル(図示してない)を介して高電圧発生装置
(図示してない)に接続される。
使用において、液体は管83を介して噴霧ヘッド71に
供給され、そして分配室81および通路79を通って霧
化縁部85に下向きに流れる。電圧v1はすケーブル8
9を介して板75に印加され、電圧v1より低い′ai
汁V2は電界増強電極87に印加され、また噴霧ヘッド
71おJ、び電界増強電極87の下方に位置するターゲ
ット(図示してない)はアース電位に維持される。噴霧
ヘッド71の霧化縁部85から出てくる液体は、霧化縁
部85の長子方向に相互にllllt間した一連の液体
を形成する。各液体の液体は不安定状態となり、霧化縁
部85から離れて少し経過すると小滴に分裂する。
空気がエアボックス73内に供給されると、空気は霧化
縁部85ど各電界増強電極87どの間の領域(この領域
に高電界が存看Aる)を高速r1で通過する。高電界強
面のこの領域におGJる帯電した小滴は噴霧ヘッド71
から離れ−(ターゲラ(・に向って下向きに掃引される
第1図の装置に電界増強電極が包含され得ることが認め
られる。この電界増強電極は第2図の電界増強電極47
の場合のJ:うに霧化縁部15の半径方向内方に配置さ
れるかまたは霧化縁部15の半径方向外方に配置され得
る。ある場合には、霧化縁部の半径方向内方と半径方向
外方にそれぞれ一つづつ二つの電極を設けてもよい。
同様に、第3図に示ずように、直線状にのびる霧化縁部
を備えた装置では、ただ一つの直線状電界増強電極をm
Q 番−jてもあるいは第1図に示す噴霧ヘッドの場合
のJ:うに電界増強電極を設けなくてもJ:い。
上述の各装置において、噴霧ヘッドから出てくる液体は
、噴霧ヘッドの導電性または半導電性部分あるいは非1
1 fll祠利の噴霧ヘッドにおける電極に第1の電位
を印加1〕、そしてターゲットをある伯の電位、通常ア
ース電位に紺持することにより形成される電界にさらさ
れる。ある場合には、予定の電位に紺持される電界増強
電極が設(プられる。
噴霧ヘッドに空気流を通さない場合には、電界増強電極
に印加する電位は適当には−20KVであり、また噴霧
ヘッドに印加する電位は適当には−30KVである。h
に帯電した小滴は電極に引きつtJられるが、アースし
たターゲラI〜に向う非常に強い優位な吸引力が働いて
いる。電極にイ」着される僅かの小滴からの電荷は電位
を供給する発生装置の出力を電極に接続する高い値(例
えば1.0 GΩ)の抵抗器を通ってアースに流れる。
電位差を一定に保ちながら電極と噴霧ヘッドにお11る
電位を降下させると、電極の汚染は許容できない程度ま
で増す。
しかしながら、噴霧へ□ラドに空気を流すと、噴霧ヘッ
ド−10KV、電極OKVで満足な動作の得られ得るこ
とがわかった。
本発明による別の装置においては、電界増強電極は+1
0KVに相持され、また#4霧ヘッドは甲にアース電位
に接続される。噴霧ヘッドから出てくる液体に負の電動
が誘起され、そして噴霧ヘッドの霧化縁部」二の液体は
、霧化縁部に約−10KVの電位を印加することにより
発生される電荷にほぼ等しい゛イメージ″電荷をもつ。
負に帯電した小滴は正の電極に強く引きつけられ、通常
その電極上に全てイ1@されるが、しかし、小滴はガス
の高速流に乗ぜられているので、それらの小滴は電極付
近から離れて掃引される。運動にある自由度を与えるた
めガス流を十分に遅く覆ると、小滴はさらに十分に離れ
でゆき、アースしたターゲットに優先的に吸着される。
電界増強電極を一10KVに相持り゛るど、正に帯電し
た小滴が生じることが認められる。
上述の装置においで、空気は、各噴霧ヘッドから出てく
る液体の方向ど平行または実質的に平行に流れる。実際
には、空気流の方向と噴霧ヘッドから出てくる液体の方
向とは30°を成ずことができる。
上述の本発明による装置では、動いている空気流は液糸
の形成やそれに続く液糸の小滴への分裂を妨げない。形
成される小滴の大部分の直径が一定であり、しかも液糸
の直径に直接関係することは、液糸を分裂さゼる上での
重要な特徴である(Adrian G Ba1ley、
 Sci、Proq、、0xf(1974) 61.5
55−581参照)。さらに、主な小滴にり直径の非常
に小さい衛星のような小滴がしばしば形成される。
理論的には、本発明による静電噴霧装置は噴霧ヘッドの
霧化表面に沿って等しく離間した等しい径の液糸を形成
し、従って主な小滴サイズの単一分散スペク]−ルが形
成されるべきである。実際問題として、機械的許容誤差
の限度にJ:す、電界および液体の流量が噴霧ヘッドの
種々の位置において僅かに変動し、形成された主な小滴
は直径の細いスペクトルを形成することになる。
添附図面の第4a図には第3図に示す型式の噴霧装置に
おける小滴直径の代表的な体積分布を示し、また第41
1図には小滴直径の代表的な数分布を示す。
噴霧装置は長さ50CIllの直線状のノズルを備え、
こ−3〇 − のノズルはアース電位に維持され、液体の流量は1.8
cc/s、ぞして電界増強電極は一10KVに維持され
る。第5a図および第5b図には高電界領域に空気流を
通さない同様な噴霧装置の同様な分布を示し、ノズルは
一30KVに維持され、そして電界増強電極は−20K
Vに維持される。空気アシスト手段をもつ第4a図およ
び第4b図の分布と空気アシスト手段をもたない第5a
図おにび第5b図の分布とが同じようであるということ
は、動いている空気流が液糸の形成やその後の小滴への
分裂を妨げないことを意味している。これに対して、第
6a図および第6b図には液体を霧化させるのに空気剪
断作用を用いた噴霧装置の場合の代表的な体積および数
分布を示す。
小滴スペクl〜ルの分散の一つの測定は、VHDとNH
Dとの比である。ここで用、77 VHDおよびNHD
はそれぞれ、ある小滴の直径より大きい直径をもつ小滴
の全体の体積どその直径より小さい直径をもつ小滴の全
体の体積とが等しくなる時のその小滴の直径、おJ:び
ある小滴の直径より大きい直径をもつ小、滴の全体数と
その直径J:り小さい直径をもつ小滴の全体数とが等し
くなる時のその小滴の直径を意味するものとする。
液糸を電界で形成し、そしてその後の小滴への分裂を流
体力で行なう第1図〜第3図に示すJ:うな噴霧装置の
揚台、この比はしばしば11以下、一般的には1.5以
下である。静電力を利用したまたは利用しないほとんど
の空気剪断作用による噴霧装置の場合には、この比は一
般的には2以上でしばしば5以上となる。
動いている空気流が液糸の形成やその後の小滴への分裂
を妨げないことを保証するため、本発明による装置の噴
霧ヘッドは好ましくはターゲラ1〜の全般的な方向に優
勢的に噴霧するようにされ、また空気流はこの方向に優
勢的に平行に向られる。
しかしながら、噴霧へ′ラドを噴霧ヘッドからターゲッ
トに向う全般的な方向に対して径方向に噴霧するように
し、そして空気流をターゲットに向けるようにすること
もできる。これには、霧化過稈をだめにする噴霧ヘッド
付近おける乱れを避けることが回動であり、まlこ満足
な性能を達成Jるために空気のHBを注意深く調節しな
GJればならないという欠点が伴うことにイする。
本発明にJこる装置においては、空気流は霧化を改善ざ
Iるような31fffをもつ。空間電荷を相当に減少さ
lるために、空気流は噴霧ヘッドから出てくる小滴に対
して速度を相当に増加させるべきである。空気流の速度
が小満の速度より遅い場合には、空間電荷の減少はほん
の僅かであり、霧化はほとんど改善されイrい。空気流
のaIfが空気流の加えられない時の小滴の速度と同稈
度である場合には、空間電荷は大きく減少され、霧化は
相当に改善される。空気流の速度が空気流の加えられな
い時の小滴の速度より非常に速い場合には、霧化を抑え
ている空間電荷はほとんど除去され、霧化は最適に改善
される。
第7図には空気の流量を10m37分としたときの第3
図に示でものど同様な噴霧装置と空気アシス]へ手段を
もたない同様な噴霧装置とにおtJる所与液体流量に対
重る小滴υイズの関係を示す。各場合、噴霧装置の直線
状のノズルは40KVに維持されそしてターツトから4
0cm頗される。第8図には第2図に示す型式の装置に
おいて噴霧ヘッド付近での空気流の速度の増加に対する
小滴1ノ−イズの変化を示し、ノズルの電位は40KV
、電界増強電極の電位は20KV、またノズルとターゲ
ットどの間隔は4ocmである。
電界増強電極の設けられない第1図に示す装置のような
装置においては、噴霧ヘッドにおける第1の電位とター
ゲット電位、通常、アース電位どの差は噴霧ヘッドから
の出口に霧化電界を発生させるため十分大きく、それに
より液体は液糸形態で引き出され、小滴に分裂して空気
流中をターゲットに向って動いていく。代表的には、第
1の電位は50KVまたはそれ以上であり、正確な値は
噴霧ヘッドとターゲットとの間隔に関係4る。 第2図
および第3図に示す装置のような装置においては、電界
増強電極は噴霧ヘッドに隣接してRnされ、そしてこれ
らの電極に第2の電f17を印加する装置が設けられる
。そのような装置では、噴霧へラドに印加される第1の
電位と電界増強電極に印加される第2の電位どの差は噴
霧ヘッドからの出口に霧化電界を発生させるため十分大
きく、それにJ:り液体(ま霧化されぞして−V述のJ
、うにターグツ1〜に向って運ばれる。ターグツ1〜が
アースされている場合には、第1の電位は30KVであ
り、また第2の電位は20KVであり(qる。この場合
、小滴は静電ツノにより動いている空気流を通−)でタ
ーグツ1〜に向って加速される。代りに、第1の電位お
J、びターゲットをアースし、第2の電位を10KVに
してもよい。この場合には、小滴はターゲットに静電的
に引きつIJられるまで、動いている空気流によるター
グツ1−に向う静電力に逆らって粘性抗力によって運ば
れる。
第1図〜第3図の装置は下向きに噴霧するように示され
ているが、各装置は任意の方向に噴霧するにうに構成す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第3図は本発明による静電噴霧@置の軸方向断
面図、第4a図および第4b図は第3図の静電噴霧装囮
にお【ノるそれぞれVHrlおJ、びNODを示すグラ
フ、第5a図および第5h図は前に提案した静電噴霧装
置のそれぞれVHDおよび88口を示すグラフ、第6a
図および第6b図は霧化ざUるのに空気プラス1〜の剪
断作用を用いた噴霧%に置にお【ノるそれぞれVHDお
よびNODを示ずグラフ、第7図は第3図の装置におけ
る小滴ナイズと流量との関係を示すグラフ、第8図は第
2図の装置における空気流の速頂に対する小滴サイズの
変化を示ずグラフである。 図中、1  :噴霧ヘッド、 3  :支持管、 5.7:管状の要素、 9  :管、 11:分配室、 13:環状ギャップ、 15:霧化縁部、 17:ケーブル、 1つ:支持部材。 じ− 2QQ−

Claims (27)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)静電噴霧ヘッドと、上記静電噴霧ヘッドに液体を
    供給する装置と、上記噴霧ヘッドから出てくる液体に十
    分に高い電界を与えて、液体を上記噴霧ヘッドから少な
    くとも一本の液糸の形態で引き出し、その後不安定状態
    にさせ小滴に分裂させる装置と、高電界領域を通つてガ
    ス流を流れさせる装置とを有し、上記ガス流が液糸の形
    態を分裂させるのには不十分であるが上記高電界領域か
    ら帯電した液体の小滴を離すのには十分であり、それに
    より電界の大きさに影響を及ぼす空間電荷を減少させる
    ことを特徴とする静電噴霧装置。
  2. (2)噴霧ヘッドから液体の出ていく方向とガス流の流
    れ方向との成す角度が30°以下である特許請求の範囲
    第1項に記載の静電噴霧装置。
  3. (3)高電界領域を通つてガス流を流れさせる装置は、
    ガス流の速度がガス流のない時の小滴の速度と等しいか
    またはそれより高いように構成される特許請求の範囲第
    1項または第2項に記載の静電噴霧装置。
  4. (4)ガス流の少なくとも一部が噴霧ヘッドから液体の
    出てくる位置または各位置の1.5cmの範囲内を流れ
    る特許請求の範囲第1項〜第3項のいずれか一項に記載
    の静電噴霧装置。
  5. (5)ガス流の上記少なくとも一部が噴霧ヘッドから液
    体の出てくる位置または各位置の5mmの範囲内を流れ
    る特許請求の範囲第1項〜第4項のいずれか一項に記載
    の静電噴霧装置。
  6. (6)ガス流が噴霧ヘッドから液体の出てくる位置また
    は各位置でまたはその近くで噴霧ヘッドと接触する特許
    請求の範囲第1項〜第5項のいずれか一項に記載の静電
    噴霧装置。
  7. (7)ガスを供給する装置が0.018kg/cm^2
    以下の圧力でガスを供給するようにされる特許請求の範
    囲第1項〜第6項のいずれか一項に記載の静電噴霧装置
  8. (8)噴霧ヘッドから出てくる液体に電界を与える装置
    が噴霧ヘッドから出てくる液体に第1の電位を印加する
    装置と、出てくる液体の向うターゲットに第2のに電位
    を印加する装置とを備え、第1の電位と第2の電位との
    差が上記一本または複数本の液糸を形成させるのに十分
    である特許請求の範囲第1項〜第7項のいずれか一項に
    記載の静電噴霧装置。
  9. (9)噴霧ヘッドに隣接して電極が設けられ、また噴霧
    ヘッドから出てくる液体に電界を与える装置が上記電極
    をある電位に維持する装置と、噴霧ヘッドとターゲホッ
    トとの間の電荷の流れ用の帰路を形成する装置とを備え
    ている特許請求の範囲第1項〜第7項のいずれか一項に
    記載の静電噴霧装置。
  10. (10)噴霧ヘッドに隣接して電極が設けられ、また噴
    霧ヘッドから出てくる液体に電界を与える装置が噴霧ヘ
    ッドから出てくる液体に第1の電位を印加する装置と、
    上記電極を第2の電位に維持する装置とを備え、第1の
    電位と第2の電位との差が上記一本または複数本の液糸
    を形成させるのに十分である特許請求の範囲第1項〜第
    7項のいずれか一項に記載の静電噴霧装置。
  11. (11)噴霧ヘッドが液体の出てくる一つまたはそれ以
    上の穴またはポイントあるいは環状オリフィスを備え、
    電極が上記一つまたはそれ以上の穴またはポイントある
    いは環状オリフィスの半径方向外方に配置され、またガ
    ス流が電極と上記一つまたはそれ以上の穴またはポイン
    トあるいは環状オリフィスとの間の領域を通って流れる
    ようにされる特許請求の範囲第10項に記載の静電噴霧
    装置。
  12. (12)噴霧ヘッドが液体の出てくる一つまたはそれ以
    上の穴またはポイントあるいは環状オリフィスを備え、
    電極が上記一つまたはそれ以上の穴またはポイントある
    いは環状オリフィスの半径方向内方に配置され、またガ
    ス流が電極と上記一つまたはそれ以Lの穴またはポイン
    トあるいは環状オリフィスとの間の領域および(または
    )上記一つまたはそれ以上の穴またはポイントあるいは
    環状オリフィスの半径方向外方に配置される同様な寸法
    の領域を通って流れるようにされる特許請求の範囲第1
    0項または第11項に記載の静電噴霧装置。
  13. (13)噴霧ヘッドが液体の出てくる直線状にのびるス
    ロットまたは縁部と、それぞれの対向側において上記ス
    ロットよたは縁部と平行にのびた一対の相互に離間した
    直線状にのびる電極とを備え、ガス流がスロットまたは
    縁部と各電極との間の領域を通つて流れるようにされる
    特許請求の範囲第10項または第11項に記載の静電噴
    霧装置。
  14. (14)噴霧ヘッドが液体の出てくる直線状にのびるス
    ロットまたは縁部と、上記スロットまたは縁部と平行に
    のびた直線状にのびる電極とを備え、ガス流が電極とス
    ロットまたは縁部との間の領域を通って流れるようにさ
    れる特許請求の範囲第10項または第11項に記載の静
    電噴霧装置。
  15. (15)ガス流が電極から離れたスロットまたは縁部の
    側部における同様な寸法の領域を通つて流れるようにさ
    れる特許請求の範囲第14項に記載の静電噴霧装置。
  16. (16)アース電位のターゲットに噴霧するため、第1
    の電位が1〜20KVであり、また第2の電位がアース
    電位またはその近くである特許請求の範囲第10項〜第
    15項のいずれか一項に記載の静電噴霧装置。
  17. (17)アース電位のターゲットに噴霧するため、第1
    の電位が25〜50KVであり、また第2の電位が10
    〜40KVである特許請求の範囲第10項〜第15項の
    いずれか一項に記載の静電噴霧装置。
  18. (18)アース電位のターゲットに噴霧するため、第1
    の電位がアース電位であり、また第2の電位が5KV以
    上である特許請求の範囲第10項〜第15項のいずれか
    一項に記載の静電噴霧装置。
  19. (19)電極または各電極が導電性または半導電性材料
    のコアを備え、上記コアが電極と噴霧ヘッドとの間の火
    花発生を阻止するように十分高い絶縁耐力および体積抵
    抗率をもちしかも表面に集められた電荷を導電性または
    半導電性材料のコアへ導くように十分低い体積抵抗率を
    もつ材料で外装さる特許請求の範囲第10項〜第18項
    のいずれか一項に記載の静電噴霧装置。
  20. (20)外装材料の体積抵抗率が5×10^1^1Ωc
    m〜5×10^1^3Ωcmであり、外装材料の絶縁耐
    力が15KV/mm以上であり、また外装材料の厚さが
    0.75mm〜5mmである特許請求の範囲第19項に
    記載の静電噴霧装置。
  21. (21)外装材料の厚さが1.5mm〜3mmである特
    許請求の範囲第20項に記載の静電噴霧装置。
  22. (22)噴霧ヘッツドが液体の出てくる一つまたはそれ
    以上の穴またはポイントを備え、また各穴またはポイン
    トに単一液糸が形成される特許請求の範囲第1項〜第7
    項のいずれか一項に記載の静電噴霧装置。
  23. (23)噴霧ヘッツドが少なくとも一つのスロットまた
    は縁部を備え、上記スロットまたは縁部あるいは上記各
    スロットまたは縁部に多数の相れに離間した液糸が形成
    される特許請求の範囲第1項〜第7項のいずれか一項に
    記載の静電噴霧装置。
  24. (24)噴霧ヘッドの出口に出てくる液体と接触する導
    電性または半導電性材料を備え、また噴霧ヘッドから出
    てくる液体に電界を与える装置が上記導電付または半導
    電性材料に電位を印加する装置を備えている特許請求の
    範囲第1項〜第23項のいずれか一項に記載の静電噴霧
    装置。
  25. (25)噴霧ヘッドの出口が非導電性材料から成り、噴
    霧ヘッドからの出口の上流近くでしかも使用中に液体と
    接触するような位置に電極が設けられ、また噴霧ヘッド
    から出てくる液体に電界を与える装置が上記電極に電位
    を印加する装置を備えている特許請求の範囲第1項〜第
    23項のいずれか一項に記載の静電噴霧装置。
  26. (26)静電噴霧ヘッドに液体を供給し、上記噴霧ヘッ
    ドから出てくる液体に十分に高い電界を与えて、液体を
    上記噴霧ヘッドから少なくとも一本の液糸の形態で引き
    出し、その後不安定状態にさせ小滴に分裂させ、そして
    高電界領域を通つてガス流を流れさせることから成り、
    上記ガス流が液糸の形態を分裂させるのには不十分であ
    るが上記高電界領域から帯電した液体の小滴を離すのに
    は十分であり、それにより電界の大きさに影響を及ぼす
    空間電荷の形成を減少させることを特徴とする液体の噴
    霧方法。
  27. (27)ガス流が噴霧ヘッドから出てくる液体の方向と
    平行または実質的に平行である特許請求の範囲第1項ま
    たは第2項に記載の静電噴霧装置。
JP61033106A 1985-02-19 1986-02-19 静電噴霧方法および装置 Expired - Fee Related JPH0794022B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB8504253 1985-02-19
GB858504253A GB8504253D0 (en) 1985-02-19 1985-02-19 Electrostatic spraying apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61227864A true JPS61227864A (ja) 1986-10-09
JPH0794022B2 JPH0794022B2 (ja) 1995-10-11

Family

ID=10574731

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61033106A Expired - Fee Related JPH0794022B2 (ja) 1985-02-19 1986-02-19 静電噴霧方法および装置

Country Status (17)

Country Link
US (1) US4765539A (ja)
EP (1) EP0193348B1 (ja)
JP (1) JPH0794022B2 (ja)
AT (1) ATE51543T1 (ja)
AU (1) AU593541B2 (ja)
CA (1) CA1244298A (ja)
CZ (1) CZ112486A3 (ja)
DE (1) DE3670012D1 (ja)
DK (1) DK173093B1 (ja)
ES (1) ES8700970A1 (ja)
GB (1) GB8504253D0 (ja)
GR (1) GR860468B (ja)
HU (1) HU208093B (ja)
MX (1) MX160145A (ja)
NZ (1) NZ215182A (ja)
SK (1) SK112486A3 (ja)
ZA (1) ZA861187B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03143563A (ja) * 1989-10-30 1991-06-19 Oobekusu Kk 液体揮散装置
JP2013506114A (ja) * 2009-09-29 2013-02-21 サントル、ナショナール、ド、ラ、ルシェルシュ、シアンティフィク、(セーエヌエルエス) 液体を静電気的に噴霧する装置および方法、同装置を含む燃料噴射器、ならびに同装置の使用

Families Citing this family (93)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8621095D0 (en) * 1986-09-01 1986-10-08 Ici Plc Electrostatic spraying apparatus
US5042723A (en) * 1986-09-01 1991-08-27 Imperial Chemical Industries Plc Electrostatic spraying apparatus
EP0394222B1 (en) * 1987-09-22 1992-02-26 Imperial Chemical Industries Plc Electrostatic spraying apparatus
US5178330A (en) * 1991-05-17 1993-01-12 Ransburg Corporation Electrostatic high voltage, low pressure paint spray gun
US5605605A (en) * 1992-03-02 1997-02-25 Imperial Chemical Industries Plc Process for treating and sizing paper substrates
US5326598A (en) * 1992-10-02 1994-07-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Electrospray coating apparatus and process utilizing precise control of filament and mist generation
US5402945A (en) * 1993-01-22 1995-04-04 Gervan Company International Method for spraying plants and apparatus for its practice
US6703050B1 (en) * 1998-09-04 2004-03-09 The Regents Of The University Of Michigan Methods and compositions for the prevention or treatment of cancer
US6397838B1 (en) * 1998-12-23 2002-06-04 Battelle Pulmonary Therapeutics, Inc. Pulmonary aerosol delivery device and method
US6368562B1 (en) 1999-04-16 2002-04-09 Orchid Biosciences, Inc. Liquid transportation system for microfluidic device
IL146034A0 (en) 1999-04-23 2002-07-25 Battelle Memorial Institute High mass transfer electrosprayer
US6485690B1 (en) 1999-05-27 2002-11-26 Orchid Biosciences, Inc. Multiple fluid sample processor and system
US6339107B1 (en) 2000-08-02 2002-01-15 Syntex (U.S.A.) Llc Methods for treatment of Emphysema using 13-cis retinoic acid
EP1935869A1 (en) 2000-10-02 2008-06-25 F. Hoffmann-La Roche Ag Retinoids for the treatment of emphysema
US20040009953A1 (en) * 2002-01-10 2004-01-15 Comper Wayne D. Antimicrobial charged polymers that exhibit resistance to lysosomal degradation during kidney filtration and renal passage, compositions and method of use thereof
US20030181416A1 (en) * 2002-01-10 2003-09-25 Comper Wayne D. Antimicrobial charged polymers that exhibit resistance to lysosomal degradation during kidney filtration and renal passage, compositions and method of use thereof
CN1688303A (zh) 2002-07-23 2005-10-26 密歇根大学董事会 用于抗血管发生疗法的四硫代钼酸四丙铵及相关化合物
US7189865B2 (en) * 2002-07-23 2007-03-13 Attenuon, Llc Thiomolybdate analogues and uses thereof
AU2003276987B2 (en) * 2002-09-27 2009-07-30 Bioenvision, Inc. Methods and compositions for the treatment of lupus using clofarabine
AU2003276988B2 (en) * 2002-09-27 2009-11-05 Bioenvision, Inc. Methods and compositions for the treatment of autoimmune disorders using clofarabine
AU2003282534A1 (en) * 2002-10-07 2004-05-04 Radiorx, Inc. X-nitro compounds, pharmaceutical compositions thereof and uses therof
CA2507045A1 (en) * 2002-11-25 2004-06-10 Attenuon, Llc Peptides which inhibit angiogenesis, cell migration, cell invasion and cell proliferation, compositions and uses thereof
ZA200504940B (en) * 2003-01-28 2006-09-27 Xenoport Inc Amino acid derived prodrugs of propofol, compositions and uses thereof
ES2436606T3 (es) 2003-03-12 2014-01-03 Celgene Corporation Compuestos de 7-amido-isoindolilo y sus usos farmacéuticos
HUE059464T2 (hu) 2003-04-11 2022-11-28 Ptc Therapeutics Inc 1,2,4-Oxadiazolbenzoesav-vegyületek és ezek alkalmazása nonsense szuppresszióhoz és betegségek kezelésére
CA2527236A1 (en) * 2003-05-27 2004-12-23 Attenuon Llc Thiotungstate analogues and uses thereof
WO2005004882A1 (en) * 2003-07-09 2005-01-20 Monash University Antiviral charged polymers that exhibit resistance to lysosomal degradation during kidney filtration and renal passage, compositions and methods of use thereof
WO2005023204A2 (en) * 2003-09-09 2005-03-17 Xenoport, Inc. Aromatic prodrugs of propofol, compositions and uses thereof
NZ547689A (en) 2003-11-19 2009-05-31 Signal Pharm Llc Indazole compounds and methods of use thereof as protein kinase inhibitors
EP1729784A1 (en) * 2004-02-23 2006-12-13 Attenuon, LLC Formulations of thiomolybdate or thiotungstate compounds and uses thereof
WO2006017351A1 (en) * 2004-07-12 2006-02-16 Xenoport, Inc. Prodrugs of propofol, compositions and uses thereof
DE602005010270D1 (de) * 2004-07-12 2008-11-20 Xenoport Inc Von aminosäuren abgeleitete prodrugs von propofolzusammensetzungen und anwendungen davon
US20060128676A1 (en) * 2004-07-13 2006-06-15 Pharmacofore, Inc. Compositions of nicotinic agonists and therapeutic agents and methods for treating or preventing diseases or pain
CN102504001B (zh) 2004-12-17 2015-02-25 安那迪斯药品股份有限公司 3,5-二取代的和3,5,7-三取代的-3H-噁唑并以及3H-噻唑并[4,5-d]嘧啶-2-酮化合物及其前药
WO2006071995A1 (en) * 2004-12-23 2006-07-06 Xenoport, Inc. Serine amino acid derived prodrugs of propofol, compositions, uses and crystalline forms thereof
WO2006084016A1 (en) 2005-02-01 2006-08-10 Attenuon, Llc ACID ADDITION SALTS OF Ac-PHSCN-NH2
US20070135380A1 (en) 2005-08-12 2007-06-14 Radiorx, Inc. O-nitro compounds, pharmaceutical compositions thereof and uses thereof
US7507842B2 (en) * 2005-08-12 2009-03-24 Radiorx, Inc. Cyclic nitro compounds, pharmaceutical compositions thereof and uses thereof
EP1928881A2 (en) 2005-08-19 2008-06-11 Pharmacofore, Inc. Prodrugs of active agents
EP2004619A1 (en) * 2006-03-23 2008-12-24 Amgen Inc. 1-phenylsulfonyl-diaza heterocyclic amide compounds and their uses as modulators of hydroxsteroid dehydrogenases
SG172633A1 (en) 2006-05-26 2011-07-28 Pharmacofore Inc Controlled release of phenolic opioids
TW200808695A (en) 2006-06-08 2008-02-16 Amgen Inc Benzamide derivatives and uses related thereto
AU2007259143A1 (en) * 2006-06-08 2007-12-21 Amgen Inc. Benzamide derivatives and uses related thereto
MX2008016519A (es) 2006-06-22 2009-01-30 Anadys Pharmaceuticals Inc Compuestos de pirro[1,2,-b]piridazinona.
TWI418561B (zh) 2006-06-22 2013-12-11 Anadys Pharmaceuticals Inc 5-胺基-3-(3’-去氧-β-D-核糖呋喃糖基(ribofuranosyl))-噻唑并〔4,5-d〕嘧啶-2,7-二酮之前藥
US7528115B2 (en) 2006-07-18 2009-05-05 Anadys Pharmaceuticals, Inc. Carbonate and carbamate prodrugs of thiazolo[4,5-d]pyrimidines
CA2659155A1 (en) * 2006-07-20 2008-01-24 Amgen Inc. Substituted azole aromatic heterocycles as inhibitors of 11.beta.-hsd-1
US7673820B2 (en) * 2006-12-18 2010-03-09 Yehuda Ivri Subminiature thermoelectric fragrance dispenser
AU2007343726A1 (en) * 2006-12-26 2008-07-24 Amgen Inc. N-cyclohexyl benzamides and benzeneacetamides as inhibitors of 11-beta-hydroxysteroid dehydrogenases
US7928111B2 (en) * 2007-06-08 2011-04-19 Senomyx, Inc. Compounds including substituted thienopyrimidinone derivatives as ligands for modulating chemosensory receptors
US9603848B2 (en) * 2007-06-08 2017-03-28 Senomyx, Inc. Modulation of chemosensory receptors and ligands associated therewith
US8633186B2 (en) 2007-06-08 2014-01-21 Senomyx Inc. Modulation of chemosensory receptors and ligands associated therewith
US20080306076A1 (en) * 2007-06-08 2008-12-11 Senomyx, Inc. Modulation of chemosensory receptors and ligands associated therewith
EP2170356A1 (en) 2007-06-25 2010-04-07 Fred Hutchinson Cancer Research Center Methods and compositions regarding polychalcogenide compositions
SI2194783T1 (sl) 2007-08-10 2017-12-29 Vm Discovery, Inc. Sestavki in metode za modulatorje apoptose
US8586733B2 (en) 2008-07-31 2013-11-19 Senomyx, Inc. Processes and intermediates for making sweet taste enhancers
RU2511315C2 (ru) 2008-07-31 2014-04-10 Синомикс, Инк. Композиции, содержащие усилители сладкого вкуса, и способы их получения
WO2010042834A1 (en) 2008-10-09 2010-04-15 Anadys Pharmaceuticals, Inc. A method of inhibiting hepatitis c virus by combination of a 5,6-dihydro-1h-pyridin-2-one and one or more additional antiviral compounds
ES2782376T3 (es) 2008-10-10 2020-09-14 Vm Discovery Inc Composiciones y métodos para tratar trastornos de alcoholismo, dolor y otras enfermedades
CA2746220A1 (en) 2008-12-08 2010-07-08 Vm Pharma Llc Compositions of protein receptor tyrosine kinase inhibitors
US8471041B2 (en) * 2010-02-09 2013-06-25 Alliant Techsystems Inc. Methods of synthesizing and isolating N-(bromoacetyl)-3,3-dinitroazetidine and a composition including the same
RU2576451C2 (ru) 2010-08-12 2016-03-10 Синомикс, Инк. Способ улучшения стабильности усилителей сладкого вкуса и композиция, содержащая стабилизированный усилитель сладкого вкуса
US9327037B2 (en) 2011-02-08 2016-05-03 The Johns Hopkins University Mucus penetrating gene carriers
WO2012158271A1 (en) 2011-04-06 2012-11-22 Anadys Pharmaceuticals, Inc. Bridged polycyclic compounds as antiviral agents
US8664247B2 (en) 2011-08-26 2014-03-04 Radiorx, Inc. Acyclic organonitro compounds for use in treating cancer
ES2935573T3 (es) 2011-10-07 2023-03-08 Epicentrx Inc Compuestos de organonitro tioéter y usos médicos de estos
US20140308260A1 (en) 2011-10-07 2014-10-16 Radiorx, Inc. Methods and compositions comprising a nitrite-reductase promoter for treatment of medical disorders and preservation of blood products
US8586527B2 (en) 2011-10-20 2013-11-19 Jaipal Singh Cerivastatin to treat pulmonary disorders
US20140329913A1 (en) 2011-12-14 2014-11-06 The Johns Hopkins University Nanoparticles with enhanced mucosal penetration or decreased inflammation
AU2013271731A1 (en) 2012-06-07 2014-12-18 Georgia State University Research Foundation, Inc. SecA inhibitors and methods of making and using thereof
BR112015002380B1 (pt) 2012-08-06 2021-09-28 Firmenich Incorporated Composto, composições ingeríveis, processos para aumentar o sabor doce de composição e formulação flavorizante concentrada
AU2013323528B2 (en) 2012-09-27 2016-11-10 The Children's Medical Center Corporation Compounds for the treatment of obesity and methods of use thereof
JO3155B1 (ar) 2013-02-19 2017-09-20 Senomyx Inc معدِّل نكهة حلوة
DK3074033T3 (en) 2013-11-26 2019-02-11 Childrens Medical Ct Corp RELATIONSHIPS FOR TREATING ADIPOSITAS AND PROCEDURES FOR USING THEREOF
PL3102555T3 (pl) 2014-02-05 2021-12-20 VM Oncology LLC Kompozycje związków i ich zastosowania
US20170209408A1 (en) 2014-04-03 2017-07-27 The Children's Medical Center Corporation Hsp90 inhibitors for the treatment of obesity and methods of use thereof
US10335406B2 (en) 2015-10-01 2019-07-02 Elysium Therapeutics, Inc. Opioid compositions resistant to overdose and abuse
CA2998708C (en) 2015-10-01 2019-09-03 Elysium Therapeutics, Inc. Polysubunit opioid prodrugs resistant to overdose and abuse
US10342778B1 (en) 2015-10-20 2019-07-09 Epicentrx, Inc. Treatment of brain metastases using organonitro compound combination therapy
US9987270B1 (en) 2015-10-29 2018-06-05 Epicentrix, Inc. Treatment of gliomas using organonitro compound combination therapy
JP6931004B2 (ja) 2016-01-11 2021-09-01 エピセントアールエックス,インコーポレイテッド 2−ブロモ−1−(3,3−ジニトロアゼチジン−1−イル)エタノンの静脈内投与のための組成物および方法
WO2018071741A1 (en) 2016-10-14 2018-04-19 Epicentrix, Inc. Sulfoxyalkyl organonitro and related compounds and pharmaceutical compositions for use in medicine
EP3595663A4 (en) 2017-03-17 2021-01-13 Elysium Therapeutics, Inc. MULTI-UNIT OPIOID MEDICINES RESISTANT TO OVERDOSE AND ABUSE
MX2020000265A (es) 2017-07-07 2020-07-22 Epicentrx Inc Composiciones para la administración parenteral de agentes terapéuticos.
WO2019164593A2 (en) 2018-01-08 2019-08-29 Epicentrx, Inc. Methods and compositions utilizing rrx-001 combination therapy for radioprotection
WO2019200274A1 (en) 2018-04-12 2019-10-17 MatRx Therapeutics Corporation Compositions and methods for treating elastic fiber breakdown
EP3814344A1 (en) 2018-08-07 2021-05-05 Firmenich Incorporated 5-substituted 4-amino-1h-benzo[c][1,2,6]thiadiazine 2,2-dioxides and formulations and uses thereof
SG11202112717YA (en) * 2019-05-17 2021-12-30 Aether Inc Device and method for managing fine particle concentration
CN114308433B (zh) * 2021-12-20 2024-01-05 江苏大学 一种气力辅助静电喷头
WO2023178283A1 (en) 2022-03-18 2023-09-21 Epicentrx, Inc. Co-crystals of 2-bromo-1-(3,3-dinitroazetidin-1-yl)ethanone and methods
WO2023215227A1 (en) 2022-05-02 2023-11-09 Epicentrx, Inc. Systems and methods to improve exercise tolerance
WO2023215229A1 (en) 2022-05-02 2023-11-09 Epicentrx, Inc. Compositions and methods for treatment of pulmonary hypertension
WO2023244973A1 (en) 2022-06-13 2023-12-21 Epicentrx, Inc. Compositions and methods for reducing adverse side effects in cancer treatment

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5477650A (en) * 1977-12-03 1979-06-21 Nakaya Kougiyou Kk Spray apparatus
JPS6025564A (ja) * 1983-07-23 1985-02-08 Nippon Ranzubaagu Kk 静電噴霧装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3251551A (en) * 1966-01-19 1966-05-17 H G Fischer & Company Electrostatic coating system
GB1243634A (en) * 1967-11-24 1971-08-25 Volstatic Ltd Improvements in or relating to electrostatic spray heads
US3761941A (en) * 1972-10-13 1973-09-25 Mead Corp Phase control for a drop generating and charging system
US3905550A (en) * 1974-06-06 1975-09-16 Sota Inc De Avoidance of spattering in the supply of conductive liquids to charged reservoirs
DE2449848B2 (de) * 1974-10-19 1978-02-02 Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart Einrichtung zur elektrostatischen zerstaeubung von fluessigem brennstoff
IE45426B1 (en) * 1976-07-15 1982-08-25 Ici Ltd Atomisation of liquids
EP0020049B1 (en) * 1979-05-22 1983-03-02 Secretary of State for Industry in Her Britannic Majesty's Gov. of the United Kingdom of Great Britain and Northern Ireland Apparatus and method for the electrostatic dispersion of liquids
DE3379448D1 (en) * 1982-10-13 1989-04-27 Ici Plc Electrostatic sprayhead assembly
US4545525A (en) * 1983-07-11 1985-10-08 Micropure, Incorporated Producing liquid droplets bearing electrical charges

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5477650A (en) * 1977-12-03 1979-06-21 Nakaya Kougiyou Kk Spray apparatus
JPS6025564A (ja) * 1983-07-23 1985-02-08 Nippon Ranzubaagu Kk 静電噴霧装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03143563A (ja) * 1989-10-30 1991-06-19 Oobekusu Kk 液体揮散装置
JP2013506114A (ja) * 2009-09-29 2013-02-21 サントル、ナショナール、ド、ラ、ルシェルシュ、シアンティフィク、(セーエヌエルエス) 液体を静電気的に噴霧する装置および方法、同装置を含む燃料噴射器、ならびに同装置の使用

Also Published As

Publication number Publication date
DK173093B1 (da) 2000-01-10
SK278556B6 (en) 1997-09-10
CA1244298A (en) 1988-11-08
GB8504253D0 (en) 1985-03-20
ES8700970A1 (es) 1986-11-16
AU5365286A (en) 1986-08-28
HUT40934A (en) 1987-03-30
ES552175A0 (es) 1986-11-16
ATE51543T1 (de) 1990-04-15
US4765539A (en) 1988-08-23
DE3670012D1 (de) 1990-05-10
JPH0794022B2 (ja) 1995-10-11
AU593541B2 (en) 1990-02-15
DK77686A (da) 1986-08-20
HU208093B (en) 1993-08-30
CZ280813B6 (cs) 1996-04-17
GR860468B (en) 1986-06-02
DK77686D0 (da) 1986-02-19
ZA861187B (en) 1986-09-24
NZ215182A (en) 1989-11-28
EP0193348B1 (en) 1990-04-04
SK112486A3 (en) 1997-09-10
EP0193348A1 (en) 1986-09-03
MX160145A (es) 1989-12-11
CZ112486A3 (en) 1996-04-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS61227864A (ja) 静電噴霧方法および装置
US4343433A (en) Internal-atomizing spray head with secondary annulus suitable for use with induction charging electrode
US4215818A (en) Induction charging electrostatic spraying device and method
US4659012A (en) Electrostatic spraying process and apparatus
US4004733A (en) Electrostatic spray nozzle system
US5685482A (en) Induction spray charging apparatus
US4779805A (en) Electrostatic sprayhead assembly
US4545536A (en) Apparatus for electrostatic paint spraying
EP0230341B1 (en) Electrostatic spray nozzle
CN100460084C (zh) 静电喷涂用喷漆枪以及静电喷涂方法
JP6657505B2 (ja) 静電噴霧装置及び静電噴霧方法
JP2592948B2 (ja) スプレーガン用平スプレーノズル
KR20020003239A (ko) 방향제어식 수중방전충격 동적 에어러솔 분무기
KR830002194B1 (ko) 정전기식 분무기
US2894691A (en) Electrostatic deposition
CS205107B2 (en) Device for electrostatic coating the dyes part.the ones water diluted
US3692241A (en) Spray apparatus with atomization device
EP3737506B1 (en) Spray nozzle assembly and spray plume shaping method
EP2747892A1 (en) Spraying method and spray head comprising a laval nozzle and an annular induction electrode
US2855245A (en) Electrostatic deposition
US2913186A (en) Electrostatic spray coating apparatus and method
EP0222622B1 (en) Inductor nozzle assembly for crop sprayers
JPH08155350A (ja) 静電塗装装置
SU712133A1 (ru) Электростатический распылитель

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees