JPS61223028A - 芳香族ポリケトンの製造法 - Google Patents

芳香族ポリケトンの製造法

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JPS61223028A
JPS61223028A JP6428785A JP6428785A JPS61223028A JP S61223028 A JPS61223028 A JP S61223028A JP 6428785 A JP6428785 A JP 6428785A JP 6428785 A JP6428785 A JP 6428785A JP S61223028 A JPS61223028 A JP S61223028A
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JP
Japan
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bis
ether
acid
phosgene
benzene
Prior art date
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Pending
Application number
JP6428785A
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English (en)
Inventor
Norihiko Yoneda
米田 徳彦
Tsutomu Fukuhara
彊 福原
Seiichi Nozawa
清一 野沢
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Mitsubishi Kasei Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は芳香族ポリケトンの製造法に関する。
〔従来の技術〕
芳香族ポリケトンは耐熱性、機械的性質、電られている
。また、その製造法としてはダーツエノキシペンジイル
クロリドを7フ化水素溶媒中、三フフ化ホウ素の存在下
で反応させる方法およびビス−(l−フルオロ)ベンゾ
フェノンとビス−(4cmヒドロキシ)ベンゾフェノン
との反応あるいはビス−(≠−フルオロ)ペンツフェノ
ンとハイドロキノンとを炭酸カリウムの存在下でジフェ
ニルスルホン溶媒中で反応させる方法が知られているが
、いずれの方法も高価なモノマーが必要であり、また前
者は極めて腐蝕性が高いB Ps /HF系で反応を行
なうため、特殊材質を使用しなければならないし、後者
は360℃という高温でしかも、融点が比較的高いジフ
ェニルスルホンという溶媒を使用しなければならないこ
と、またいずれの場合にも不純物がポリマー中に残存し
やすいこと(前者の場合には三7ツ化ホウ素、後者の場
合にはフッ化カリウムが反応物に対して当量以上、反応
系に存在するため)等いずれにしても多くの難点がある
〔発明の目的〕
本発明者等はそのようなことを鑑み、不純物が残存せず
、しかも温和な条件下C1腐蝕性の少なく、しかも従来
法に比較して著しく安価な原料を用いて反応を行なうこ
とを鋭意検討した結果本発明に到達した。
即ち本発明の要旨は一般式(1) ((I)式中部〜R1zは水素原子、I・ロゲン原子、
炭化水素基またはアルコキシ基を示し、XI 、x意は
酸素原子または/および硫黄原子を示し、nはθ〜!の
整数である)で表わされる化合物とホスゲンとをフルオ
ロアルカンスルホン酸の存在下で反応させると七を特徴
とする芳香族ポリケトンの製造法に存する。
〔発明の構成〕
本発明をさらに詳細に説明するに、本発明に用いられる
前示一般式(1)で表わされる芳香族エーテル類として
は、ジフェニルエーテル、ビス(J−/口管フェニル)
エーテル、ビス(J−メチルフエエル)エーテル、ビス
(:f、! ジメチルフェニル)エーテル、ビス(J−
メトキシフェニル)エーテル、ビス(3,!シフ0ロフ
工二ル)エーテル、ビス(J−ブロモフェニル)エーテ
ル、ビス(J−フルオロフェニル)エーテル、ビス(3
,jジフルオロフェニル)エーテル、ビス(3−エチル
フェニル)エーテル、/、タージフェノキシベンゼン、
ビス(−−フェノキシ7エ二ル)エーテル、l、3−ジ
フェノキシベンゼン、ビス(J−yエノキシフェニル)
エーテル、参、参’−ビス(#−フェノキタフェニル)
−/フェニルエーテル、(参−フェノキシフェニル) 
−4C/−フェノキシジフェニルエーテル、/、4cm
ビス(3−メチルフエノキタ)ベンゼン、/、4t−ビ
ス(3−クロロフェノ午シ)ベンゼン、/、4C−ビス
(3−メトキシフェノキシ)ベンゼン、/、4’−ビス
(S、Zジメチルフェノキシ)ベンゼン、/、≠−ビス
(3−ブロモフェノキシ)′ベンゼン、l、≠ビス(3
,!tレジ−ルオロフェノキシ)ベンゼン、ジフェニル
サルファイド、ビス(3−クロロフェニル)サルファイ
ド、ビス(J−/?ルフエ二ル)サルファイド、ビス(
J、r−ジメチルフェニル)サルファイド、(3−メト
キシフェニル)サルファイド、ビス(3,2−シ/ロロ
フェニル)サルファイド、ヒス(J−プロそフェニル)
サルファイド、ビス(3−フルオロフェニル)サルファ
イド、ビス(S、Z−ジフルオロフェニル)サルファイ
ド、ビス(3−エテルフェニル)サルファイド、/、4
I−ビス(フェニルメルカプト)ベンゼン、ビス(参−
フェニルメルカプトフェニル)サルファイド、1.3−
ビス(フェニルメルカプト)ベンゼン、蓼、参′−ビス
(ターフェニルメルカプトフェニル)ジフェニルサルフ
ァイ)’、(4’−フェニルメルカプトフェニル)−参
′−フェニルメルカプトシフエールナルファイド、 /
、参−ビス(3−メチルフェニルメルカプト)ベンゼン
l−−ビス(j−/口oフェニルメルカプト)ベンゼン
、/、!−ビス(J−メトキシフェニルメルカプト)ベ
ンゼン、/、J−ビス(J、!−ジメチルフェニルメル
カプト)ベンゼン、/、4C−ビス(J、s−ジフルオ
ロフェニルメトカプト)ベンゼンなどが挙げられるが一
般式(1)で示されるものはいずれも使用可能であり、
これらに限定されるものではない。これらは単独もしく
は混合して使用してもよく、/、4Cまたは/、!構造
のものが好ましい。またこれらの中でコスト、の点カラ
ジフェニルエーテル、/、4’ジフエノキシベンゼン、
ジフェニルサルファイド、/、参−ジツエニルメルカブ
トベンゼンを用いることが最も好ましい。
本発明では前記一般式(1)で表わされる化合物にホス
ゲンを反応させるが、ホスゲンの使用量は前記一般式(
1)で表わされる化合物7モルに対して通常0,7モル
以上、好ましくは7モル以上の割合で使用される。
また本発明に用いられるフルオロアルカンスルホン酸と
しては/−it個の炭素原子を含むフルオロアルカンス
ルホン酸で、完全にフッ素化されていてもよく、あるい
は部分的にフッ素化されていてもよい。フルオロアルカ
ンスルホン酸の中で好ましいものとしてはトリフルオロ
メタンスルホン酸ジフルオロメタンスルホン酸1、  
  ペンタフルオロエタンスルホン酸が挙げられる。
またフルオロアルカンスルホン酸の使用量はこの酸が反
応溶剤として作用するように調節するのが便宜的である
。しかしながらより触媒量の(すなわちはるかに少量の
)フルオロアルカンスルホン酸の使用を含む反応系の利
用は本発明の範囲から除外される本のではない。またフ
リーデルクラフト反応に一般に用いられるルイス酸を併
用してもかまわない。
本発明はO℃以上JOO℃以下好ましくは50℃以上2
10℃以内で行なわれ、ホスゲンの使用量は一般式(1
)で示される化合物に対して0.1〜j 00 not
e好ましくは1〜200 noteである。また本発明
の際フルオロアルカンスルホン酸は蒸留により除去する
か、有機溶媒または水で洗滌することにより容易に除去
出来、不純分のない芳香族ポリケトンが容易に得られる
〔実施例〕
以下、本発明を実施例によ妙さらに詳細に説明する。
実施例1 toordの特殊合金“ハステロイC′(商標)で作ら
れたオートクレーブにジフェニルエーテル八70J f
 (/ OmmoAe )とトリフルオロメタンスルホ
ン酸/!、07 t (10(7mmole )を仕込
み、−71’C:、に冷却して減圧下でホスゲン係、?
jr(jOmmoze) を加え、常圧にもどし、室温
まで加温する。その後さらに130℃でコダ時間反応し
、ホスゲンおよび塩酸をパージし、メタノール100C
C中に加えてポリマーをV過後、熱メタノール10OC
Cで一回、熱−コチカ性ソーダー水溶液1ooccで一
回、熱ZS壇酸水溶液100ccで一回、蒸留水コOO
a:、で2回、メタノールコoocr、で7回洗滌後、
720℃で2参時間真空乾燥した。収率(ジフェニルエ
ーテル基準)は100%であり、27%硫酸中1f/d
lの濃度で溶解し、30℃で測定したWinh = 0
.33 di/ fであった。得られたポリマーの赤外
線吸収スペクトルは/J4’0C’jll  に芳香族
エーテル/l!Oan  に芳香族ケト/の吸収があっ
た。
実施例コ 反応温度をioo℃で20時間、さらに110℃でat
時間反応させた以外は実施例1と同様に反応を行なった
。得られたポリマーのWinhは0.コJ di/ f
であった。
〔発明の効果〕
本発明方法によれば、不純物が残存せず、しかも温和な
条件下で反応を行なうことができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼…( I ) (( I )式中R^1〜R^1^2は水素原子、ハロゲ
    ン原子、炭化水素基またはアルコキシ基を示し、X^1
    、X^2は酸素原子または/および硫黄原子を示し、n
    は0〜5の整数である)で表わされる化合物とホスゲン
    とをフルオロアルカンスルホン酸の存在下で反応させる
    ことを特徴とする芳香族ポリケトンの製造法。
JP6428785A 1984-12-11 1985-03-28 芳香族ポリケトンの製造法 Pending JPS61223028A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6428785A JPS61223028A (ja) 1985-03-28 1985-03-28 芳香族ポリケトンの製造法
DE19853542481 DE3542481A1 (de) 1984-12-11 1985-11-30 Verfahren zur herstellung aromatischer polyketone
US06/804,615 US4707536A (en) 1984-12-11 1985-12-05 Catalytic preparation of aromatic polyketone from phosgene and aromatic ether or sulfide
GB08530404A GB2168064B (en) 1984-12-11 1985-12-10 Process for producing aromatic polyketones

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6428785A JPS61223028A (ja) 1985-03-28 1985-03-28 芳香族ポリケトンの製造法

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JPS61223028A true JPS61223028A (ja) 1986-10-03

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JP (1) JPS61223028A (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3441538A (en) * 1965-08-04 1969-04-29 Du Pont Boron trifluoride - hydrogen fluoride catalyzed synthesis of poly(aromatic ketone) and poly(aromatic sulfone) polymers
JPS57182321A (en) * 1981-04-29 1982-11-10 Ici Ltd Manufacture of aromatic polyketone

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3441538A (en) * 1965-08-04 1969-04-29 Du Pont Boron trifluoride - hydrogen fluoride catalyzed synthesis of poly(aromatic ketone) and poly(aromatic sulfone) polymers
JPS57182321A (en) * 1981-04-29 1982-11-10 Ici Ltd Manufacture of aromatic polyketone

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